JPH08301921A - α−オレフィン低重合体の製造方法 - Google Patents
α−オレフィン低重合体の製造方法Info
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クロム系触媒を用いるα−オレフィン低重合
反応の反応生成液から触媒成分を除去する方法を提供す
る。 【構成】 少くとも(a)クロム化合物、(b)アミ
ン、アミド及びイミドからなる群から選ばれた含窒素化
合物、並びに(c)アルキルアルミニウム化合物から成
る組合せ、乃至はこれに(d)ハロゲン含有化合物を組
合せた触媒を用いて、溶媒中でα−オレフィンの低重合
を行ない、反応生成液をこれに不溶のカルボン酸と接触
させて液中の触媒成分を除去する。 【効果】 簡単な操作で効率よく触媒が除去できる。
反応の反応生成液から触媒成分を除去する方法を提供す
る。 【構成】 少くとも(a)クロム化合物、(b)アミ
ン、アミド及びイミドからなる群から選ばれた含窒素化
合物、並びに(c)アルキルアルミニウム化合物から成
る組合せ、乃至はこれに(d)ハロゲン含有化合物を組
合せた触媒を用いて、溶媒中でα−オレフィンの低重合
を行ない、反応生成液をこれに不溶のカルボン酸と接触
させて液中の触媒成分を除去する。 【効果】 簡単な操作で効率よく触媒が除去できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、α−オレフィン、特に
エチレンを液相で低重合して、α−オレフィン低重合
体、特に1−ヘキセンを製造する方法に関するものであ
る。詳しくは本発明は、低重合反応により生成した反応
生成液から触媒成分を除去する方法に関するものであ
る。
エチレンを液相で低重合して、α−オレフィン低重合
体、特に1−ヘキセンを製造する方法に関するものであ
る。詳しくは本発明は、低重合反応により生成した反応
生成液から触媒成分を除去する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】少くとも、クロム化合物と有機アルミニ
ウム化合物とから成るクロム系触媒を用いて、エチレン
等のα−オレフィンを低重合することは公知である。例
えば特公昭43−18707号には、クロムを含むVIB
族の遷移金属化合物とポリ(ヒドロカルビルアルミニウ
ムオキシド)からなる触媒を用いて、エチレンを低重合
して1−ヘキセンを製造する方法が記載されている。ま
た、特開平3−128904号には、クロム−ピロリル
結合を有するクロム化合物と金属アルキル化合物又はル
イス酸とを反応させて得られた触媒を用いてα−オレフ
ィンを三量化する方法が記載されている。さらに、US
P5,376,612には、クロム化合物、ピロール含
有化合物、金属アルキル化合物及びハロゲン含有化合物
を溶媒中で混合して得られた触媒を用いて、α−オレフ
ィンを低重合する方法が記載されている。
ウム化合物とから成るクロム系触媒を用いて、エチレン
等のα−オレフィンを低重合することは公知である。例
えば特公昭43−18707号には、クロムを含むVIB
族の遷移金属化合物とポリ(ヒドロカルビルアルミニウ
ムオキシド)からなる触媒を用いて、エチレンを低重合
して1−ヘキセンを製造する方法が記載されている。ま
た、特開平3−128904号には、クロム−ピロリル
結合を有するクロム化合物と金属アルキル化合物又はル
イス酸とを反応させて得られた触媒を用いてα−オレフ
ィンを三量化する方法が記載されている。さらに、US
P5,376,612には、クロム化合物、ピロール含
有化合物、金属アルキル化合物及びハロゲン含有化合物
を溶媒中で混合して得られた触媒を用いて、α−オレフ
ィンを低重合する方法が記載されている。
【0003】一方、本発明者らの一部は、少くとも、ク
ロム化合物とアミン又は金属アミドとアルキルアルミニ
ウム化合物の組み合わせから成る触媒系を使用し、クロ
ム化合物とアルキルアルミニウム化合物とが、予め接触
しない態様でα−オレフィンとクロム系触媒とを接触さ
せることにより、α−オレフィン低重合体を高活性で得
ることができる方法を提案した(特願平5−28007
号)。
ロム化合物とアミン又は金属アミドとアルキルアルミニ
ウム化合物の組み合わせから成る触媒系を使用し、クロ
ム化合物とアルキルアルミニウム化合物とが、予め接触
しない態様でα−オレフィンとクロム系触媒とを接触さ
せることにより、α−オレフィン低重合体を高活性で得
ることができる方法を提案した(特願平5−28007
号)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】α−オレフィンの低重
合により得られる反応生成液は、次いで蒸留により各成
分に分離される。しかし反応生成液中の触媒成分は比較
的不安定であり、触媒成分を含む反応生成液をそのまま
蒸留すると、触媒成分、とりわけクロム成分が析出して
蒸留装置に付着するおそれがある。従って、蒸留に先立
ち反応生成液中から触媒成分、とりわけクロム成分を除
去しておくのが望ましい。
合により得られる反応生成液は、次いで蒸留により各成
分に分離される。しかし反応生成液中の触媒成分は比較
的不安定であり、触媒成分を含む反応生成液をそのまま
蒸留すると、触媒成分、とりわけクロム成分が析出して
蒸留装置に付着するおそれがある。従って、蒸留に先立
ち反応生成液中から触媒成分、とりわけクロム成分を除
去しておくのが望ましい。
【0005】本発明者らは、先に反応生成液を酸または
アルカリ水溶液で処理して、触媒成分を除去する方法を
提案した(特願平5−329668号参照)。この方法
は優れた方法であるが、水溶液を用いるので反応生成液
中に水が混入し、反応溶媒を再使用する際に脱水を必要
とするという問題がある。また、酸やアルカリを含む廃
液が発生するという問題もある。本発明はこれらの問題
の無い触媒成分の除去方法を提供するものである。
アルカリ水溶液で処理して、触媒成分を除去する方法を
提案した(特願平5−329668号参照)。この方法
は優れた方法であるが、水溶液を用いるので反応生成液
中に水が混入し、反応溶媒を再使用する際に脱水を必要
とするという問題がある。また、酸やアルカリを含む廃
液が発生するという問題もある。本発明はこれらの問題
の無い触媒成分の除去方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、少くと
も(a)クロム化合物、(b)アミン、アミド及びイミ
ドからなる群から選ばれる含窒素化合物、並びに(c)
アルキルアルミニウム化合物から成るクロム系触媒の存
在下に、溶媒中でα−オレフィンを低重合させ、生成し
た触媒成分を含む反応生成液をこれに不溶なカルボン酸
と接触させることにより、反応生成液中の触媒成分を除
去する方法、が提供される。以下、本発明について詳細
に説明する。
も(a)クロム化合物、(b)アミン、アミド及びイミ
ドからなる群から選ばれる含窒素化合物、並びに(c)
アルキルアルミニウム化合物から成るクロム系触媒の存
在下に、溶媒中でα−オレフィンを低重合させ、生成し
た触媒成分を含む反応生成液をこれに不溶なカルボン酸
と接触させることにより、反応生成液中の触媒成分を除
去する方法、が提供される。以下、本発明について詳細
に説明する。
【0007】本発明で用いるクロム系触媒は、少くとも
(a)クロム化合物、(b)アミン、アミド及びイミド
からなる群から選ばれる含窒素化合物、並びに(c)ア
ルキルアルミニウム化合物の組合せから成るものであ
る。これに更に(d)ハロゲン含有化合物を組合せる
と、触媒性能が更に優れたものとなるので好ましい。本
発明で使用するクロム化合物は0〜6価のクロム化合物
であり、一般式
(a)クロム化合物、(b)アミン、アミド及びイミド
からなる群から選ばれる含窒素化合物、並びに(c)ア
ルキルアルミニウム化合物の組合せから成るものであ
る。これに更に(d)ハロゲン含有化合物を組合せる
と、触媒性能が更に優れたものとなるので好ましい。本
発明で使用するクロム化合物は0〜6価のクロム化合物
であり、一般式
【化1】 CrXn …(1) で表わされる。上記式において、Xは任意の有機もしく
は無機の基、陰性原子または配位性分子を示す。nは1
〜6の整数を示すが2以上であることが好ましい。また
nが2以上の場合にはXは相互に異なっていてもよい。
上記の有機基としては通常炭素数が1〜30の各種の基
が挙げられる。例えばアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルキルアリール基、アラルキル基、シク
ロペンタジエニル基などの炭化水素基、カルボニル基及
びアルコキシ基が挙げられる。また、カルボキシル基、
β−ジケトナート基、β−ケトカルボキシル基、β−ケ
トエステル基又はアミド基などを有する炭化水素基も挙
げられる。無機の基としては硝酸基、硫酸基などのクロ
ム塩形成基が挙げられる。陰性原子としては、酸素、ハ
ロゲンなどが挙げられる。
は無機の基、陰性原子または配位性分子を示す。nは1
〜6の整数を示すが2以上であることが好ましい。また
nが2以上の場合にはXは相互に異なっていてもよい。
上記の有機基としては通常炭素数が1〜30の各種の基
が挙げられる。例えばアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルキルアリール基、アラルキル基、シク
ロペンタジエニル基などの炭化水素基、カルボニル基及
びアルコキシ基が挙げられる。また、カルボキシル基、
β−ジケトナート基、β−ケトカルボキシル基、β−ケ
トエステル基又はアミド基などを有する炭化水素基も挙
げられる。無機の基としては硝酸基、硫酸基などのクロ
ム塩形成基が挙げられる。陰性原子としては、酸素、ハ
ロゲンなどが挙げられる。
【0008】好ましいクロム化合物としては、クロムの
アルコキシ塩、カルボキシル塩、β−ジケトナート塩、
β−ケトエステルのアニオンとの塩、または、クロムハ
ロゲン化物が挙げられ、具体的には、クロム(IV)−t
−ブトキシド、クロム(III)アセチルアセトナート、
クロム(III )トリフルオロアセチルアセトナート、ク
ロム(III )ヘキサフルオロアセチルアセトナート、ク
ロム(III )(2,2,6,6−テトラメチル−3,5
−ヘプタンジオナート)、Cr(PhCOCHCOP
h)3 (ここでPhはフェニル基を示す。)、クロム
(II)アセテート、クロム(III )アセテート、クロム
(III )−2−エチルヘキサノエート、クロム(III )
ベンゾエート、クロム(III )ナフテネート、Cr(C
H3 COCHCOOCH3 )3 、塩化第一クロム、塩化
第二クロム、臭化第一クロム、臭化第二クロム、ヨウ化
第一クロム、ヨウ化第二クロム、フッ化第一クロム、フ
ッ化第二クロム等が挙げられる。
アルコキシ塩、カルボキシル塩、β−ジケトナート塩、
β−ケトエステルのアニオンとの塩、または、クロムハ
ロゲン化物が挙げられ、具体的には、クロム(IV)−t
−ブトキシド、クロム(III)アセチルアセトナート、
クロム(III )トリフルオロアセチルアセトナート、ク
ロム(III )ヘキサフルオロアセチルアセトナート、ク
ロム(III )(2,2,6,6−テトラメチル−3,5
−ヘプタンジオナート)、Cr(PhCOCHCOP
h)3 (ここでPhはフェニル基を示す。)、クロム
(II)アセテート、クロム(III )アセテート、クロム
(III )−2−エチルヘキサノエート、クロム(III )
ベンゾエート、クロム(III )ナフテネート、Cr(C
H3 COCHCOOCH3 )3 、塩化第一クロム、塩化
第二クロム、臭化第一クロム、臭化第二クロム、ヨウ化
第一クロム、ヨウ化第二クロム、フッ化第一クロム、フ
ッ化第二クロム等が挙げられる。
【0009】また、上記のクロム化合物と電子供与体か
ら成る錯体も好適に使用することが出来る。電子供与体
としては、窒素、酸素、リン又は硫黄を含有する化合物
の中から選択される。窒素を含有する電子供与体として
は、ニトリル、アミン、アミド、ニトロ化合物等が挙げ
られ、具体的には、アセトニトリル、ピリジン、ジメチ
ルピリジン、ジメチルホルムアミド、N−メチルホルム
アミド、アニリン、ニトロベンゼン、テトラメチルエチ
レンジアミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、
ヘキサメチルジシラザン、ピロリドン等が挙げられる。
ら成る錯体も好適に使用することが出来る。電子供与体
としては、窒素、酸素、リン又は硫黄を含有する化合物
の中から選択される。窒素を含有する電子供与体として
は、ニトリル、アミン、アミド、ニトロ化合物等が挙げ
られ、具体的には、アセトニトリル、ピリジン、ジメチ
ルピリジン、ジメチルホルムアミド、N−メチルホルム
アミド、アニリン、ニトロベンゼン、テトラメチルエチ
レンジアミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、
ヘキサメチルジシラザン、ピロリドン等が挙げられる。
【0010】酸素を含有する電子供与体としては、エス
テル、エーテル、ケトン、アルコール、アルデヒド等が
挙げられ、具体的には、エチルアセテート、メチルアセ
テート、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライ
ム、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、アセトアルデヒド等が挙げられる。リンを含有
する電子供与体としては、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、ヘキサメチルホスホラストリアミド、トリエチルホ
スファイト、トリブチルホスフィンオキシド、トリエチ
ルホスフィン等が例示される。また、硫黄を含有する電
子供与体としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシ
ド、テトラメチレンスルホン、チオフェン、ジメチルス
ルフィド等が例示される。
テル、エーテル、ケトン、アルコール、アルデヒド等が
挙げられ、具体的には、エチルアセテート、メチルアセ
テート、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライ
ム、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、アセトアルデヒド等が挙げられる。リンを含有
する電子供与体としては、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、ヘキサメチルホスホラストリアミド、トリエチルホ
スファイト、トリブチルホスフィンオキシド、トリエチ
ルホスフィン等が例示される。また、硫黄を含有する電
子供与体としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシ
ド、テトラメチレンスルホン、チオフェン、ジメチルス
ルフィド等が例示される。
【0011】このような電子供与体とクロム化合物との
錯体の例としては、ハロゲン化クロムのエーテル錯体、
エステル錯体、ケトン錯体、アルデヒド錯体、アルコー
ル錯体、アミン錯体、ニトリル錯体、ホスフィン錯体、
チオエーテル錯体などが挙げられる。具体的には、Cr
Cl3 ・3THF、CrCl3 ・3dioxane、C
rCl3 ・(CH3 CO2 n−C4 H9 )、CrCl3
・(CH3 CO2 C2H5 )、CrCl3 ・3(i−C
3 H7 OH)、CrCl3 ・3〔CH3 (CH 2 )3 C
H(C2 H5 )CH2 OH〕、CrCl3 ・3pyri
dine、CrCl3 ・2(i−C3 H7 NH2 )、
〔CrCl3 ・3CH3 CN〕・CH3 CN、CrCl
3 ・3PPh3 、CrCl2 ・2THF、CrCl2 ・
2pyridine、CrCl2 ・2〔(C2 H5 )2
NH〕、CrCl2 ・2CH3 CN、CrCl2 ・2
〔P(CH3 )2 Ph〕等が挙げられる。(ここで、T
HFはテトラヒドロフラン、Phはフェニル基を表
す。)
錯体の例としては、ハロゲン化クロムのエーテル錯体、
エステル錯体、ケトン錯体、アルデヒド錯体、アルコー
ル錯体、アミン錯体、ニトリル錯体、ホスフィン錯体、
チオエーテル錯体などが挙げられる。具体的には、Cr
Cl3 ・3THF、CrCl3 ・3dioxane、C
rCl3 ・(CH3 CO2 n−C4 H9 )、CrCl3
・(CH3 CO2 C2H5 )、CrCl3 ・3(i−C
3 H7 OH)、CrCl3 ・3〔CH3 (CH 2 )3 C
H(C2 H5 )CH2 OH〕、CrCl3 ・3pyri
dine、CrCl3 ・2(i−C3 H7 NH2 )、
〔CrCl3 ・3CH3 CN〕・CH3 CN、CrCl
3 ・3PPh3 、CrCl2 ・2THF、CrCl2 ・
2pyridine、CrCl2 ・2〔(C2 H5 )2
NH〕、CrCl2 ・2CH3 CN、CrCl2 ・2
〔P(CH3 )2 Ph〕等が挙げられる。(ここで、T
HFはテトラヒドロフラン、Phはフェニル基を表
す。)
【0012】クロム化合物は、炭化水素溶媒に可溶な形
態で用いるのが好ましく、このような可溶性のものとし
てはクロムのβ−ジケトナート塩、カルボン酸塩、β−
ケトエステルのアニオンとの塩、β−ケトカルボン酸
塩、アミド錯体、カルボニル錯体、カルベン錯体、各種
シクロペンタジエニル錯体、アルキル錯体、フェニル錯
体などが挙げられる。クロムの各種カルボニル錯体、カ
ルベン錯体、シクロペンタジエニル錯体、アルキル錯
体、フェニル錯体としては、具体的には、Cr(CO)
6 、(C6 H6 )Cr(CO)3 、(CO)5 Cr(=
CCH3 (OCH3))、(CO)5 Cr(=CC6 H
5 (OCH3 ))、CpCrCl2 (ここでCpはシク
ロペンタジエニル基を示す。)、(Cp*CrClCH
3 )2 (ここでCp*はペンタメチルシクロペンタジエ
ニル基を示す。)、(CH3 )2 CrCl等が例示され
る。
態で用いるのが好ましく、このような可溶性のものとし
てはクロムのβ−ジケトナート塩、カルボン酸塩、β−
ケトエステルのアニオンとの塩、β−ケトカルボン酸
塩、アミド錯体、カルボニル錯体、カルベン錯体、各種
シクロペンタジエニル錯体、アルキル錯体、フェニル錯
体などが挙げられる。クロムの各種カルボニル錯体、カ
ルベン錯体、シクロペンタジエニル錯体、アルキル錯
体、フェニル錯体としては、具体的には、Cr(CO)
6 、(C6 H6 )Cr(CO)3 、(CO)5 Cr(=
CCH3 (OCH3))、(CO)5 Cr(=CC6 H
5 (OCH3 ))、CpCrCl2 (ここでCpはシク
ロペンタジエニル基を示す。)、(Cp*CrClCH
3 )2 (ここでCp*はペンタメチルシクロペンタジエ
ニル基を示す。)、(CH3 )2 CrCl等が例示され
る。
【0013】クロム化合物は、無機酸化物などの担体に
担持して使用することも出来るが、通常は担体に担持さ
せずに、他の触媒成分と組み合わせて使用する。すなわ
ち、本発明においては、触媒を構成するクロム化合物と
アルキルアルミニウム化合物とは後述する特定の接触態
様で使用するのが好ましいが、斯かる態様によれば、ク
ロム化合物の担体への担持を行わなくとも高い触媒活性
が得られる。本発明で使用するアミンは、1級または2
級のアミン、またはこれらの混合物である。1級アミン
としては、エチルアミン、イソプロピルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アニリン、ナフチル
アミン等が例示され、2級アミンとしては、ジエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ジベンジルアミン、ビス(トリメチルシリル)アミ
ン、モルホリン、イミダゾール、インドリン、インドー
ル、ピロール、2,5−ジメチルピロール、3,4−ジ
メチルピロール、3,4−ジエチルピロール、2,3,
4−トリメチルピロール、3,4−ジクロロピロール、
2,3,4,5−テトラクロロピロール、2−アセチル
ピロール、3,3′,4,4′−テトラメチルジピロロ
メタン、ピラゾール、ピロリジン等が例示される。
担持して使用することも出来るが、通常は担体に担持さ
せずに、他の触媒成分と組み合わせて使用する。すなわ
ち、本発明においては、触媒を構成するクロム化合物と
アルキルアルミニウム化合物とは後述する特定の接触態
様で使用するのが好ましいが、斯かる態様によれば、ク
ロム化合物の担体への担持を行わなくとも高い触媒活性
が得られる。本発明で使用するアミンは、1級または2
級のアミン、またはこれらの混合物である。1級アミン
としては、エチルアミン、イソプロピルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アニリン、ナフチル
アミン等が例示され、2級アミンとしては、ジエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ジベンジルアミン、ビス(トリメチルシリル)アミ
ン、モルホリン、イミダゾール、インドリン、インドー
ル、ピロール、2,5−ジメチルピロール、3,4−ジ
メチルピロール、3,4−ジエチルピロール、2,3,
4−トリメチルピロール、3,4−ジクロロピロール、
2,3,4,5−テトラクロロピロール、2−アセチル
ピロール、3,3′,4,4′−テトラメチルジピロロ
メタン、ピラゾール、ピロリジン等が例示される。
【0014】本発明で使用するアミドとしては、金属ア
ミド及び酸アミドが挙げられる。金属アミドとしては1
級または2級のアミンから誘導される金属アミド、また
はこれらの混合物が挙げられ、例えば、上記の1級また
は2級のアミンとIA族、IIA族、III A族およびIVB
族から選択される金属との反応により得られるアミドが
挙げられる。斯かる金属アミドとしては、具体的には、
リチウムアミド、ナトリウムエチルアミド、カルシウム
ジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、カリ
ウムベンジルアミド、ナトリウムビス(トリメチルシリ
ル)アミド、リチウムインドリド、ナトリウムピロリ
ド、リチウムピロリド、カリウムピロリド、カリウムピ
ロリジド、アルミニウムジエチルピロリド、エチルアル
ミニウムジピロリド、アルミニウムトリピロリド、リチ
ウム(2,5−ジメチルピロリド)等が挙げられる。
ミド及び酸アミドが挙げられる。金属アミドとしては1
級または2級のアミンから誘導される金属アミド、また
はこれらの混合物が挙げられ、例えば、上記の1級また
は2級のアミンとIA族、IIA族、III A族およびIVB
族から選択される金属との反応により得られるアミドが
挙げられる。斯かる金属アミドとしては、具体的には、
リチウムアミド、ナトリウムエチルアミド、カルシウム
ジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、カリ
ウムベンジルアミド、ナトリウムビス(トリメチルシリ
ル)アミド、リチウムインドリド、ナトリウムピロリ
ド、リチウムピロリド、カリウムピロリド、カリウムピ
ロリジド、アルミニウムジエチルピロリド、エチルアル
ミニウムジピロリド、アルミニウムトリピロリド、リチ
ウム(2,5−ジメチルピロリド)等が挙げられる。
【0015】本発明においては、上記のアミン、金属ア
ミドのうち2級のアミン、もしくは2級のアミンから誘
導される金属アミド又はこれらの混合物が好適に使用さ
れる。特に、ピロールもしくは2,5−ジメチルピロー
ル、3,4−ジメチルピロール、2,3,4−トリメチ
ルピロール、3,4−ジクロロピロール、2,3,4,
5−テトラクロロピロール、2−アセチルピロール、
3,3′,4,4′−テトラメチルジピロロメタン等の
ピロール誘導体、又はこれらから誘導される金属アミ
ド、例えばアルミニウムピロリド、エチルアルミニウム
ジピロリド、アルミニウムトリピロリド、ナトリウムピ
ロリド、リチウムピロリド、カリウムピロリド、アルミ
ニウム(2,5−ジメチルピロリド)、エチルアルミニ
ウムビス(2,5−ジメチルピロリド)、アルミニウム
トリス(2,5−ジメチルピロリド)、ナトリウム
(2,5−ジメチルピロリド)、リチウム(2,5−ジ
メチルピロリド)、カリウム(2,5−ジメチルピロリ
ド)等が好適である。なかでも、ピロール環に炭化水素
基を有するピロール誘導体が特に好ましい。
ミドのうち2級のアミン、もしくは2級のアミンから誘
導される金属アミド又はこれらの混合物が好適に使用さ
れる。特に、ピロールもしくは2,5−ジメチルピロー
ル、3,4−ジメチルピロール、2,3,4−トリメチ
ルピロール、3,4−ジクロロピロール、2,3,4,
5−テトラクロロピロール、2−アセチルピロール、
3,3′,4,4′−テトラメチルジピロロメタン等の
ピロール誘導体、又はこれらから誘導される金属アミ
ド、例えばアルミニウムピロリド、エチルアルミニウム
ジピロリド、アルミニウムトリピロリド、ナトリウムピ
ロリド、リチウムピロリド、カリウムピロリド、アルミ
ニウム(2,5−ジメチルピロリド)、エチルアルミニ
ウムビス(2,5−ジメチルピロリド)、アルミニウム
トリス(2,5−ジメチルピロリド)、ナトリウム
(2,5−ジメチルピロリド)、リチウム(2,5−ジ
メチルピロリド)、カリウム(2,5−ジメチルピロリ
ド)等が好適である。なかでも、ピロール環に炭化水素
基を有するピロール誘導体が特に好ましい。
【0016】本発明で使用する前記以外の酸アミド又は
イミドとしては、下記一般式(2)〜(4)で表される
化合物が挙げられる。
イミドとしては、下記一般式(2)〜(4)で表される
化合物が挙げられる。
【化2】
【0017】一般式(2)中、M1 は、水素原子または
周期律表(本明細書では、周期律表はCAS vers
ionに基づいている。従ってIII A族はIUPACの
3B族である。)のIA、IIA、IB、III A族から選
ばれる金属元素であり、R1は、水素原子、炭素数1〜
30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、または、ヘテロ元素
を含んでいてもよいアリール基を表し、R2 は、水素原
子、炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテ
ロ元素を含んでいてもよいアリール基、または、アシル
基COR3 (R3 の定義はR1 と同じであり、R1 と異
なっていてもよい)を表し、R1 とR2 は環を形成して
もよい。
周期律表(本明細書では、周期律表はCAS vers
ionに基づいている。従ってIII A族はIUPACの
3B族である。)のIA、IIA、IB、III A族から選
ばれる金属元素であり、R1は、水素原子、炭素数1〜
30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、または、ヘテロ元素
を含んでいてもよいアリール基を表し、R2 は、水素原
子、炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテ
ロ元素を含んでいてもよいアリール基、または、アシル
基COR3 (R3 の定義はR1 と同じであり、R1 と異
なっていてもよい)を表し、R1 とR2 は環を形成して
もよい。
【0018】一般式(3)中、M2 及びM3 は、水素原
子または周期律表のIA、IIA、IB、III A族から選
ばれる金属元素であり、R4 及びR5 は、水素原子、炭
素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、または、ヘ
テロ元素を含んでいてもよいアリール基を表し、R4と
R5 は環を形成していてもよく、Aは不飽和結合を含ん
でいてもよいアルキレン基を表す。
子または周期律表のIA、IIA、IB、III A族から選
ばれる金属元素であり、R4 及びR5 は、水素原子、炭
素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、または、ヘ
テロ元素を含んでいてもよいアリール基を表し、R4と
R5 は環を形成していてもよく、Aは不飽和結合を含ん
でいてもよいアルキレン基を表す。
【0019】一般式(2)又は一般式(3)で表される
酸アミド類としては、例えば、アセトアミド、N−メチ
ルヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、N−
メチルベンズアミド、イミダゾール−2−カルボンアミ
ド、ジ−2−テノイルアミン、β−ラクタム、δ−ラク
タム、ε−カプロラクタム、および、これらと周期律表
のIA、IIA、IBまたはIII A族の金属との塩が挙げ
られる。イミド類としては、例えば、1,2−シクロヘ
キサンジカルボンイミド、スクシンイミド、フタルイミ
ド、マレイミド、2,4,6−ピペリジントリオン、ペ
ルヒドロアゼシン−2,10−ジオン、および、これら
と周期律表のIA、IIA、IBまたはIII A族の金属と
の塩が挙げられる。
酸アミド類としては、例えば、アセトアミド、N−メチ
ルヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、N−
メチルベンズアミド、イミダゾール−2−カルボンアミ
ド、ジ−2−テノイルアミン、β−ラクタム、δ−ラク
タム、ε−カプロラクタム、および、これらと周期律表
のIA、IIA、IBまたはIII A族の金属との塩が挙げ
られる。イミド類としては、例えば、1,2−シクロヘ
キサンジカルボンイミド、スクシンイミド、フタルイミ
ド、マレイミド、2,4,6−ピペリジントリオン、ペ
ルヒドロアゼシン−2,10−ジオン、および、これら
と周期律表のIA、IIA、IBまたはIII A族の金属と
の塩が挙げられる。
【0020】一般式(4)中、M4 は、水素原子または
周期律表のIA、IIA、IB、およびIII A族から選ば
れる金属元素であり、R6 は、水素原子、炭素数1〜3
0のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、または、ヘテロ元素を
含んでいてもよいアリール基を表し、R7 は、水素原
子、炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテ
ロ元素を含んでいてもよいアリール基、または、SO2
R8 基(R8 の定義はR6 と同じであり、R6 と異なっ
ていてもよい)を表し、R6 とR7 は環を形成していて
もよい。
周期律表のIA、IIA、IB、およびIII A族から選ば
れる金属元素であり、R6 は、水素原子、炭素数1〜3
0のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、または、ヘテロ元素を
含んでいてもよいアリール基を表し、R7 は、水素原
子、炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテ
ロ元素を含んでいてもよいアリール基、または、SO2
R8 基(R8 の定義はR6 と同じであり、R6 と異なっ
ていてもよい)を表し、R6 とR7 は環を形成していて
もよい。
【0021】一般式(4)で示されるスルホンアミド類
およびスルホンイミド類としては、例えば、ベンゼンス
ルホンアミド、N−メチルメタンスルホンアミド、N−
メチルトリフルオロメタンスルホンアミド、および、こ
れらと周期律表のIA、IIA、IBまたはIII A族の金
属との塩が挙げられる。これらのアミド又はイミド化合
物の中では、一般式(2)で表される化合物が好まし
く、特に、一般式(2)中のR2 がアシル基COR3 を
表し、R1 とR2が環を形成しているイミド化合物が好
ましい。本発明において使用されるアルキルアルミニウ
ム化合物としては、下記一般式(5)で示されるアルキ
ルアルミニウム化合物が好適に使用される。
およびスルホンイミド類としては、例えば、ベンゼンス
ルホンアミド、N−メチルメタンスルホンアミド、N−
メチルトリフルオロメタンスルホンアミド、および、こ
れらと周期律表のIA、IIA、IBまたはIII A族の金
属との塩が挙げられる。これらのアミド又はイミド化合
物の中では、一般式(2)で表される化合物が好まし
く、特に、一般式(2)中のR2 がアシル基COR3 を
表し、R1 とR2が環を形成しているイミド化合物が好
ましい。本発明において使用されるアルキルアルミニウ
ム化合物としては、下記一般式(5)で示されるアルキ
ルアルミニウム化合物が好適に使用される。
【0022】
【化3】 R1 m Al(OR2 )n Hp Xq …(5)
【0023】一般式(5)中、R1 及びR2 は、炭素数
が通常1〜15、好ましくは1〜8の炭化水素基であっ
て互いに同一であっても異なっていてもよく、Xはハロ
ゲン原子を表し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、p
は0≦p<3、qは0≦q<3のそれぞれの数であっ
て、しかも、m+n+p+q=3である数を表す。上記
のアルキルアルミニウム化合物としては、例えば、下記
一般式(6)で示されるトリアルキルアルミニウム化合
物、一般式(7)で示されるハロゲン化アルキルアルミ
ニウム化合物、一般式(8)で示されるアルコキシアル
キルアルミニウム化合物、一般式(9)で示される水素
化アルキルアルミニウム化合物などが挙げられる。な
お、各式中のR1 、XおよびR2 の定義は上記一般式
(5)の場合と同じである。
が通常1〜15、好ましくは1〜8の炭化水素基であっ
て互いに同一であっても異なっていてもよく、Xはハロ
ゲン原子を表し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、p
は0≦p<3、qは0≦q<3のそれぞれの数であっ
て、しかも、m+n+p+q=3である数を表す。上記
のアルキルアルミニウム化合物としては、例えば、下記
一般式(6)で示されるトリアルキルアルミニウム化合
物、一般式(7)で示されるハロゲン化アルキルアルミ
ニウム化合物、一般式(8)で示されるアルコキシアル
キルアルミニウム化合物、一般式(9)で示される水素
化アルキルアルミニウム化合物などが挙げられる。な
お、各式中のR1 、XおよびR2 の定義は上記一般式
(5)の場合と同じである。
【0024】
【化4】 R1 3 Al …(6) R1 m AlX3-m …(7) (mは1.5≦m<3) R1 m Al(OR2 )3-m …(8) (mは0<m<3、好ましくは1.5≦m<3) R1 m AlH3-m …(9) (mは0<m<3、好ましくは1.5≦m<3)
【0025】上記のアルキルアルミニウム化合物の具体
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムモノクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。こ
れらの中、ポリマーの副生が少ないと言う点でトリアル
キルアルミニウムが特に好ましい。アルキルアルミニウ
ム化合物は、2種以上の混合物であってもよい。本発明
で使用するハロゲン含有化合物としては、周期律表のII
I A、III B、IVA、IVB、VA、VB及びVIB族から
なる群から選ばれる元素を含むハロゲン含有化合物が好
適に使用される。そして、ハロゲンとしては、塩素また
は臭素が好ましい。
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムモノクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。こ
れらの中、ポリマーの副生が少ないと言う点でトリアル
キルアルミニウムが特に好ましい。アルキルアルミニウ
ム化合物は、2種以上の混合物であってもよい。本発明
で使用するハロゲン含有化合物としては、周期律表のII
I A、III B、IVA、IVB、VA、VB及びVIB族から
なる群から選ばれる元素を含むハロゲン含有化合物が好
適に使用される。そして、ハロゲンとしては、塩素また
は臭素が好ましい。
【0026】上記のハロゲン含有化合物の具体例として
は、塩化スカンジウム、塩化イットリウム、塩化ランタ
ン、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニ
ウム、三塩化ホウ素、塩化アルミニウム、ジエチルアル
ミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、塩化ガリウム、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、ヘキサクロロベンゼン、1,
1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエ
タン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタク
ロロエタン、ヘキサクロロエタン、1,1,1−トリク
ロロプロパン、1,1,2,2−テトラクロロプロパ
ン、1,1,1−トリクロロブタン、1,1,2,2−
テトラクロロブタン、1,1,1−トリクロロペンタ
ン、1,1,2,2−テトラクロロペンタン、1,1,
1−トリブロモエタン、1,1,2,2−テトラブロモ
エタン、1,2,3,4,5,6−ヘキサクロロシクロ
ヘキサン、1,3,5−トリクロロベンゼン、トリチル
クロリド、四塩化ケイ素、トリメチルクロロシラン、四
塩化ゲルマニウム、四塩化スズ、トリブチルスズクロリ
ド、三塩化リン、三塩化アンチモン、トリチルヘキサク
ロロアンチモネート、五塩化アンチモン、三塩化ビスマ
ス、三臭化ホウ素、三臭化アルミニウム、四臭化炭素、
ブロモホルム、ブロモベンゼン、ヨードメタン、四臭化
ケイ素、ヘキサフルオロベンゼン、フッ化アルミニウム
等が挙げられる。
は、塩化スカンジウム、塩化イットリウム、塩化ランタ
ン、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニ
ウム、三塩化ホウ素、塩化アルミニウム、ジエチルアル
ミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、塩化ガリウム、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、ヘキサクロロベンゼン、1,
1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエ
タン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタク
ロロエタン、ヘキサクロロエタン、1,1,1−トリク
ロロプロパン、1,1,2,2−テトラクロロプロパ
ン、1,1,1−トリクロロブタン、1,1,2,2−
テトラクロロブタン、1,1,1−トリクロロペンタ
ン、1,1,2,2−テトラクロロペンタン、1,1,
1−トリブロモエタン、1,1,2,2−テトラブロモ
エタン、1,2,3,4,5,6−ヘキサクロロシクロ
ヘキサン、1,3,5−トリクロロベンゼン、トリチル
クロリド、四塩化ケイ素、トリメチルクロロシラン、四
塩化ゲルマニウム、四塩化スズ、トリブチルスズクロリ
ド、三塩化リン、三塩化アンチモン、トリチルヘキサク
ロロアンチモネート、五塩化アンチモン、三塩化ビスマ
ス、三臭化ホウ素、三臭化アルミニウム、四臭化炭素、
ブロモホルム、ブロモベンゼン、ヨードメタン、四臭化
ケイ素、ヘキサフルオロベンゼン、フッ化アルミニウム
等が挙げられる。
【0027】上記のハロゲン含有化合物の中、ハロゲン
原子の数が多いものが好ましく、また、反応溶媒に可溶
の化合物が好ましい。特に好ましいハロゲン含有化合物
の例としては、四塩化炭素、クロロホルム、1,1,1
−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエ
タン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1,
2,3,4,5,6−ヘキサクロロシクロヘキサン、四
塩化チタン、四塩化ゲルマニウム、四塩化スズ等が挙げ
られる。なお、ハロゲン含有化合物は、2種以上の混合
物として使用することも出来る。
原子の数が多いものが好ましく、また、反応溶媒に可溶
の化合物が好ましい。特に好ましいハロゲン含有化合物
の例としては、四塩化炭素、クロロホルム、1,1,1
−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエ
タン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1,
2,3,4,5,6−ヘキサクロロシクロヘキサン、四
塩化チタン、四塩化ゲルマニウム、四塩化スズ等が挙げ
られる。なお、ハロゲン含有化合物は、2種以上の混合
物として使用することも出来る。
【0028】本発明においては、上記の各触媒成分から
成る触媒系を使用し、反応溶媒中でα−オレフィンの低
重合を行う。そして、クロム化合物(a)とアルキルア
ルミニウム化合物(c)とが予め接触しない態様でα−
オレフィンとクロム系触媒とを接触させるのが好まし
い。これにより、選択的に三量化反応を行わせ、原料エ
チレンから1−ヘキセンを高収率で得ることが出来る。
成る触媒系を使用し、反応溶媒中でα−オレフィンの低
重合を行う。そして、クロム化合物(a)とアルキルア
ルミニウム化合物(c)とが予め接触しない態様でα−
オレフィンとクロム系触媒とを接触させるのが好まし
い。これにより、選択的に三量化反応を行わせ、原料エ
チレンから1−ヘキセンを高収率で得ることが出来る。
【0029】このような接触態様の具体例としては、
(1)触媒成分(b)及び(c)を含む溶液中にα−オ
レフィン及び触媒成分(a)を導入する方法、(2)触
媒成分(a)および(b)を含む溶液中にα−オレフィ
ン及び触媒成分(c)を導入する方法、(3)触媒成分
(a)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分(b)
及び(c)を導入する方法、(4)触媒成分(c)を含
む溶液中にα−オレフィン、触媒成分(a)および
(b)を導入する方法、(5)触媒成分(a)〜(c)
およびα−オレフィンをそれぞれ同時かつ独立に反応器
に導入する方法などによって行うことが出来る。そし
て、上記の各溶液は、通常、反応溶媒を使用して調製さ
れる。
(1)触媒成分(b)及び(c)を含む溶液中にα−オ
レフィン及び触媒成分(a)を導入する方法、(2)触
媒成分(a)および(b)を含む溶液中にα−オレフィ
ン及び触媒成分(c)を導入する方法、(3)触媒成分
(a)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分(b)
及び(c)を導入する方法、(4)触媒成分(c)を含
む溶液中にα−オレフィン、触媒成分(a)および
(b)を導入する方法、(5)触媒成分(a)〜(c)
およびα−オレフィンをそれぞれ同時かつ独立に反応器
に導入する方法などによって行うことが出来る。そし
て、上記の各溶液は、通常、反応溶媒を使用して調製さ
れる。
【0030】また、ハロゲン含有化合物を使用する場合
の上記の接触態様としては、具体的には、(1)触媒成
分(b)〜(d)を含む溶液中にα−オレフィン及び触
媒成分(a)を導入する方法、(2)触媒成分(a)、
(b)及び(d)を含む溶液中にα−オレフィン及び触
媒成分(c)を導入する方法、(3)触媒成分(a)及
び(d)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分
(b)及び(c)を導入する方法、(4)触媒成分
(c)及び(d)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒
成分(a)及び(b)を導入する方法、(5)触媒成分
(a)及び(b)を含む溶液中に、α−オレフィン、触
媒成分(c)及び(d)を導入する方法、(6)触媒成
分(b)及び(c)を含む溶液中にα−オレフィン、触
媒成分(a)及び(d)を導入する方法、(7)触媒成
分(c)を含む溶液中に、α−オレフィン、触媒成分
(a)、(b)及び(d)を導入する方法、(8)触媒
成分(a)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分
(b)〜(d)を導入する方法、(9)α−オレフィン
及び各触媒成分(a)〜(d)をそれぞれ同時かつ独立
に反応系に導入する方法などによって行うことが出来
る。そして、上記の各溶液は、通常、反応溶媒を使用し
て調製される。
の上記の接触態様としては、具体的には、(1)触媒成
分(b)〜(d)を含む溶液中にα−オレフィン及び触
媒成分(a)を導入する方法、(2)触媒成分(a)、
(b)及び(d)を含む溶液中にα−オレフィン及び触
媒成分(c)を導入する方法、(3)触媒成分(a)及
び(d)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分
(b)及び(c)を導入する方法、(4)触媒成分
(c)及び(d)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒
成分(a)及び(b)を導入する方法、(5)触媒成分
(a)及び(b)を含む溶液中に、α−オレフィン、触
媒成分(c)及び(d)を導入する方法、(6)触媒成
分(b)及び(c)を含む溶液中にα−オレフィン、触
媒成分(a)及び(d)を導入する方法、(7)触媒成
分(c)を含む溶液中に、α−オレフィン、触媒成分
(a)、(b)及び(d)を導入する方法、(8)触媒
成分(a)を含む溶液中にα−オレフィン、触媒成分
(b)〜(d)を導入する方法、(9)α−オレフィン
及び各触媒成分(a)〜(d)をそれぞれ同時かつ独立
に反応系に導入する方法などによって行うことが出来
る。そして、上記の各溶液は、通常、反応溶媒を使用し
て調製される。
【0031】これらのうちでも、クロム化合物(a)と
アルキルアルミニウム化合物(c)とを予め接触しない
態様に維持し、且つ、クロム化合物(a)とアルキルア
ルミニウム化合物(c)とを低重合反応時にα−オレフ
ィンに同時に接触させる方法を採用することが好まし
い。
アルキルアルミニウム化合物(c)とを予め接触しない
態様に維持し、且つ、クロム化合物(a)とアルキルア
ルミニウム化合物(c)とを低重合反応時にα−オレフ
ィンに同時に接触させる方法を採用することが好まし
い。
【0032】なお、本発明において、「クロム化合物と
アルキルアルミニウム化合物とが予め接触しない態様」
とは、反応の開始時のみならず、その後の追加的なα−
オレフィン及び触媒成分の反応器への供給においても斯
かる態様が維持されることを意味する。しかし、これ
は、触媒成分からの触媒系の形成の際に要求される好ま
しい態様であり、触媒系が形成された後は無関係であ
る。従って、上記の態様による触媒系の形成を経た後に
反応系から回収された触媒液を反応系に循環させること
は、上記の好ましい態様に反することではない。
アルキルアルミニウム化合物とが予め接触しない態様」
とは、反応の開始時のみならず、その後の追加的なα−
オレフィン及び触媒成分の反応器への供給においても斯
かる態様が維持されることを意味する。しかし、これ
は、触媒成分からの触媒系の形成の際に要求される好ま
しい態様であり、触媒系が形成された後は無関係であ
る。従って、上記の態様による触媒系の形成を経た後に
反応系から回収された触媒液を反応系に循環させること
は、上記の好ましい態様に反することではない。
【0033】クロム化合物とアルキルアルミニウム化合
物とが予め接触する態様でクロム系触媒を使用した場合
にα−オレフィンの低重合反応の活性が低くなる理由
は、未だ明らかではないが、次の様に推定される。すな
わち、クロム化合物とアルキルアルミニウム化合物とを
接触させた場合、クロム化合物に配位している配位子と
アルキルアルミニウム化合物中のアルキル基との間で配
位子交換反応が進行すると考えられる。そして、斯かる
反応によって生成するアルキル−クロム化合物は、通常
の方法で得られるアルキル−クロム化合物と異なり、そ
れ自身不安定である。そのため、アルキル−クロム化合
物の分解還元反応が優先して進行し、その結果、α−オ
レフィンの低重合反応に不適当な脱メタル化が惹起さ
れ、α−オレフィンの低重合反応の活性が低下すると推
定される。
物とが予め接触する態様でクロム系触媒を使用した場合
にα−オレフィンの低重合反応の活性が低くなる理由
は、未だ明らかではないが、次の様に推定される。すな
わち、クロム化合物とアルキルアルミニウム化合物とを
接触させた場合、クロム化合物に配位している配位子と
アルキルアルミニウム化合物中のアルキル基との間で配
位子交換反応が進行すると考えられる。そして、斯かる
反応によって生成するアルキル−クロム化合物は、通常
の方法で得られるアルキル−クロム化合物と異なり、そ
れ自身不安定である。そのため、アルキル−クロム化合
物の分解還元反応が優先して進行し、その結果、α−オ
レフィンの低重合反応に不適当な脱メタル化が惹起さ
れ、α−オレフィンの低重合反応の活性が低下すると推
定される。
【0034】本発明において、原料α−オレフィンとし
ては、炭素数が2〜30の置換または非置換のα−オレ
フィンが使用される。具体的には、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3−メ
チル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等が挙げ
られる。特に、原料α−オレフィンとしてエチレンが好
適であり、本発明によれば、エチレンからその三量体で
ある1−ヘキセンを高収率かつ高選択率で得ることが出
来る。
ては、炭素数が2〜30の置換または非置換のα−オレ
フィンが使用される。具体的には、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3−メ
チル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等が挙げ
られる。特に、原料α−オレフィンとしてエチレンが好
適であり、本発明によれば、エチレンからその三量体で
ある1−ヘキセンを高収率かつ高選択率で得ることが出
来る。
【0035】本発明において、反応溶媒としては、ブタ
ン、ペンタン、3−メチルペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、2−メチルヘキサン、オクタン、2,2,4−トリ
メチルペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、デカリン等の炭素数3〜20の鎖状または脂環式の
飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素
などが使用される。これらは、単独で使用する他、混合
溶媒として使用することも出来る。
ン、ペンタン、3−メチルペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、2−メチルヘキサン、オクタン、2,2,4−トリ
メチルペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、デカリン等の炭素数3〜20の鎖状または脂環式の
飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素
などが使用される。これらは、単独で使用する他、混合
溶媒として使用することも出来る。
【0036】また、反応溶媒として、反応原料のα−オ
レフィンそれ自体または主原料以外のα−オレフィンを
使用することも出来、例えば、炭素数が4〜30のα−
オレフィンが使用されるが、常温で液状のα−オレフィ
ンが特に好ましい。反応溶媒として特に好ましいのは、
炭素数が4〜10の鎖状飽和炭化水素または脂環式飽和
炭化水素である。これらの溶媒を使用することにより、
ポリマーの副生を抑制することが出来、更に、脂環式炭
化水素を使用した場合は、高い触媒活性が得られると言
う利点がある。
レフィンそれ自体または主原料以外のα−オレフィンを
使用することも出来、例えば、炭素数が4〜30のα−
オレフィンが使用されるが、常温で液状のα−オレフィ
ンが特に好ましい。反応溶媒として特に好ましいのは、
炭素数が4〜10の鎖状飽和炭化水素または脂環式飽和
炭化水素である。これらの溶媒を使用することにより、
ポリマーの副生を抑制することが出来、更に、脂環式炭
化水素を使用した場合は、高い触媒活性が得られると言
う利点がある。
【0037】本発明において、クロム化合物の使用量
は、反応溶媒1リットル当たり、通常1.0×10-7〜
0.5molである。好ましくは1.0×10-6〜0.
2mol、特に1.0×10-5〜0.05molの範囲
である。一方、アルキルアルミニウム化合物の使用量
は、クロム化合物1mol当たり、通常50mmol以
上であるが、触媒活性および三量体の選択率の観点か
ら、0.1mol以上とするのがよい。そして、上限
は、通常1.0×104 molである。また、アミン、
アミド又はイミドの使用量及びハロゲン含有化合物の使
用量は、クロム化合物1mol当たり、通常0.001
mol以上である。好ましくは0.005〜1000m
ol、特に0.01〜100molの範囲である。
は、反応溶媒1リットル当たり、通常1.0×10-7〜
0.5molである。好ましくは1.0×10-6〜0.
2mol、特に1.0×10-5〜0.05molの範囲
である。一方、アルキルアルミニウム化合物の使用量
は、クロム化合物1mol当たり、通常50mmol以
上であるが、触媒活性および三量体の選択率の観点か
ら、0.1mol以上とするのがよい。そして、上限
は、通常1.0×104 molである。また、アミン、
アミド又はイミドの使用量及びハロゲン含有化合物の使
用量は、クロム化合物1mol当たり、通常0.001
mol以上である。好ましくは0.005〜1000m
ol、特に0.01〜100molの範囲である。
【0038】本発明においては、(a)クロム化合物、
(b)アミン、アミド及びイミドからなる群から選ばれ
る含窒素化合物及び(c)アルキルアルミニウム化合
物、更には収率、選択率向上のために使用する(d)ハ
ロゲン含有化合物のモル比は、1:0.1〜10:1〜
100:0.1〜20が好ましく、1:1〜5:5〜5
0:1〜10が特に好ましい。斯かる特定条件の採用に
より、例えばエチレン低重合体として、ヘキセンを90
%以上の収率(全生成量に対する割合)で製造すること
が出来、しかも、ヘキセン中の1−ヘキセンの含有量を
99%以上に高めることが出来る。
(b)アミン、アミド及びイミドからなる群から選ばれ
る含窒素化合物及び(c)アルキルアルミニウム化合
物、更には収率、選択率向上のために使用する(d)ハ
ロゲン含有化合物のモル比は、1:0.1〜10:1〜
100:0.1〜20が好ましく、1:1〜5:5〜5
0:1〜10が特に好ましい。斯かる特定条件の採用に
より、例えばエチレン低重合体として、ヘキセンを90
%以上の収率(全生成量に対する割合)で製造すること
が出来、しかも、ヘキセン中の1−ヘキセンの含有量を
99%以上に高めることが出来る。
【0039】本発明の低重合反応は、通常0〜250℃
で行われる。好適な反応温度は0〜150℃、特に20
〜100℃である。一方、反応圧力は、常圧ないし25
0kg/cm2 の範囲から選択し得るが、通常は、10
0kg/cm2 までの圧力で十分である。そして、反応
時間は、通常1分から20時間、好ましくは0.5〜6
時間の範囲である。反応形式は、回分式、半回分式また
は連続式のいずれであってもよい。また、反応系に水素
を共存させるならば、副生するポリマーの形状を粉末状
にすることができるため、装置へのポリマーの付着を防
ぐことができる。共存させる水素の量は、水素分圧とし
て、通常0.1〜100kg/cm2 、好ましくは1.
0〜80kg/cm2 の範囲である。
で行われる。好適な反応温度は0〜150℃、特に20
〜100℃である。一方、反応圧力は、常圧ないし25
0kg/cm2 の範囲から選択し得るが、通常は、10
0kg/cm2 までの圧力で十分である。そして、反応
時間は、通常1分から20時間、好ましくは0.5〜6
時間の範囲である。反応形式は、回分式、半回分式また
は連続式のいずれであってもよい。また、反応系に水素
を共存させるならば、副生するポリマーの形状を粉末状
にすることができるため、装置へのポリマーの付着を防
ぐことができる。共存させる水素の量は、水素分圧とし
て、通常0.1〜100kg/cm2 、好ましくは1.
0〜80kg/cm2 の範囲である。
【0040】本発明においては、このようにして得た反
応生成液を、これに不溶なカルボン酸と接触させ、溶解
している触媒成分を除去する。カルボン酸としては公知
の種々のものが使用でき、例えば、シュウ酸、ギ酸等が
挙げられる。反応生成液とカルボン酸との接触は、反応
生成液にカルボン酸の粉末を添加し、窒素等の不活性ガ
ス雰囲気下、0〜100℃、好ましくは0〜80℃で、
0.1〜120分、好ましくは5〜60分程度撹拌する
ことにより行うのがよい。
応生成液を、これに不溶なカルボン酸と接触させ、溶解
している触媒成分を除去する。カルボン酸としては公知
の種々のものが使用でき、例えば、シュウ酸、ギ酸等が
挙げられる。反応生成液とカルボン酸との接触は、反応
生成液にカルボン酸の粉末を添加し、窒素等の不活性ガ
ス雰囲気下、0〜100℃、好ましくは0〜80℃で、
0.1〜120分、好ましくは5〜60分程度撹拌する
ことにより行うのがよい。
【0041】これにより触媒成分を含む固体が生成する
ので、濾過、遠心分離など常法の固液分離手段により除
去する。反応生成液中には副生ポリマーが存在している
が、固液分離はこの副生ポリマーの除去を兼ねて行なう
ようにしてもよい。また、別法として反応生成液に不溶
なカルボン酸を充填した充填塔に反応生成液を通過さ
せ、カルボン酸上に触媒成分を捕集するようにしてもよ
い。
ので、濾過、遠心分離など常法の固液分離手段により除
去する。反応生成液中には副生ポリマーが存在している
が、固液分離はこの副生ポリマーの除去を兼ねて行なう
ようにしてもよい。また、別法として反応生成液に不溶
なカルボン酸を充填した充填塔に反応生成液を通過さ
せ、カルボン酸上に触媒成分を捕集するようにしてもよ
い。
【0042】回収されたα−オレフィン低重合体は、必
要に応じて精製される。精製には、通常、蒸留精製が採
用され、目的とする成分を高純度で回収することができ
る。本発明においては、特に、エチレンから高純度の1
−ヘキセンを工業的有利に製造することができる。
要に応じて精製される。精製には、通常、蒸留精製が採
用され、目的とする成分を高純度で回収することができ
る。本発明においては、特に、エチレンから高純度の1
−ヘキセンを工業的有利に製造することができる。
【0043】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例により更
に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り以下の実施例によって限定されるものではない。 実施例1 150℃の乾燥器で乾燥した2Lオートクレーブを熱時
に組み立てた後、真空窒素置換した。このオートクレー
ブには破裂板を備えた触媒フィード管を取り付けておい
た。n−ヘプタン(486ml)、2,5−ジメチルピ
ロール(0.30mmol)のn−ヘプタン溶液、トリ
エチルアルミニウム(1.52mmol)のn−ヘプタ
ン溶液、1,1,2,2−テトラクロロエタン(0.5
0mmol)のn−ヘプタン溶液をオートクレーブに仕
込み、一方、触媒フィード管にCr(III )−2−エチ
ルヘキサノエート(0.10mmol)のn−ヘプタン
溶液を仕込んだ。n−ヘプタンの全体量は500mlで
あった。
に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り以下の実施例によって限定されるものではない。 実施例1 150℃の乾燥器で乾燥した2Lオートクレーブを熱時
に組み立てた後、真空窒素置換した。このオートクレー
ブには破裂板を備えた触媒フィード管を取り付けておい
た。n−ヘプタン(486ml)、2,5−ジメチルピ
ロール(0.30mmol)のn−ヘプタン溶液、トリ
エチルアルミニウム(1.52mmol)のn−ヘプタ
ン溶液、1,1,2,2−テトラクロロエタン(0.5
0mmol)のn−ヘプタン溶液をオートクレーブに仕
込み、一方、触媒フィード管にCr(III )−2−エチ
ルヘキサノエート(0.10mmol)のn−ヘプタン
溶液を仕込んだ。n−ヘプタンの全体量は500mlで
あった。
【0044】先ず、オートクレーブを80℃に加熱し、
次いで80℃でエチレンを触媒フィード管に導入した。
エチレン圧により破裂板が破裂し、クロム化合物がオー
トクレーブ内に導入されてエチレンの低重合反応が開始
された。全圧が35kg/cm2 となるようにエチレン
を導入した。全圧35kg/cm2 に、温度80℃で3
0分間反応させた。次いで反応器を冷却し、オートクレ
ーブを解放して脱ガスを行なった。ガスクロマトグラフ
により生成α−オレフィン低重合体の組成分析をした結
果、触媒活性(g−α−オレフィン/g−Cr・hr)
は130,433、全生成物中のC6 体の含有量は9
0.1(wt%)、C6 体中の1−ヘキセンの含有量は
98.0(wt%)であった。
次いで80℃でエチレンを触媒フィード管に導入した。
エチレン圧により破裂板が破裂し、クロム化合物がオー
トクレーブ内に導入されてエチレンの低重合反応が開始
された。全圧が35kg/cm2 となるようにエチレン
を導入した。全圧35kg/cm2 に、温度80℃で3
0分間反応させた。次いで反応器を冷却し、オートクレ
ーブを解放して脱ガスを行なった。ガスクロマトグラフ
により生成α−オレフィン低重合体の組成分析をした結
果、触媒活性(g−α−オレフィン/g−Cr・hr)
は130,433、全生成物中のC6 体の含有量は9
0.1(wt%)、C6 体中の1−ヘキセンの含有量は
98.0(wt%)であった。
【0045】反応生成液(960ml)の一部(100
ml)を窒素下で採取し、これにシュウ酸の粉末1gを
添加して、窒素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。静置
して固体を沈降させ、上澄み液を窒素下で採取し、5%
硝酸で抽出した後、抽出液及び抽残の上澄み液を高周波
プラズマ発光分光装置「ICAP−88」(日本ジャー
レルアッシュ製)で測定したところ、いずれの液中にも
Cr及びAlは全く検出されなかった。
ml)を窒素下で採取し、これにシュウ酸の粉末1gを
添加して、窒素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。静置
して固体を沈降させ、上澄み液を窒素下で採取し、5%
硝酸で抽出した後、抽出液及び抽残の上澄み液を高周波
プラズマ発光分光装置「ICAP−88」(日本ジャー
レルアッシュ製)で測定したところ、いずれの液中にも
Cr及びAlは全く検出されなかった。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、少くとも(a)クロム
化合物、(b)アミン、アミド及びイミドからなる群か
ら選ばれる含窒素の化合物及び(c)アルキルアルミニ
ウム化合物の組み合わせ、更にはこれに(d)ハロゲン
含有化合物を組み合わせて成るクロム系触媒を使用する
α−オレフィンの低重合方法において、反応生成液中に
含有される触媒成分を容易に除去することができる。
化合物、(b)アミン、アミド及びイミドからなる群か
ら選ばれる含窒素の化合物及び(c)アルキルアルミニ
ウム化合物の組み合わせ、更にはこれに(d)ハロゲン
含有化合物を組み合わせて成るクロム系触媒を使用する
α−オレフィンの低重合方法において、反応生成液中に
含有される触媒成分を容易に除去することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡野 丈志 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島開発研究所内 (72)発明者 岩出 慎二 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島開発研究所内
Claims (6)
- 【請求項1】 クロム系触媒の存在下に溶媒中でα−オ
レフィンを低重合させてα−オレフィン低重合体を製造
する方法において、クロム系触媒として、少くとも、
(a)クロム化合物、(b)アミン、アミド及びイミド
からなる群から選ばれる含窒素化合物、並びに(c)ア
ルキルアルミニウム化合物から成るものを用い、かつ触
媒成分を含む反応生成液をこれに不溶なカルボン酸と接
触させて、触媒成分を反応生成液から除去することを特
徴とするα−オレフィン低重合体の製造方法。 - 【請求項2】 クロム系触媒が、少くとも、(a)クロ
ム化合物、(b)アミン、アミド及びイミドからなる群
から選ばれる含窒素化合物、(c)アルキルアルミニウ
ム化合物、並びに(d)ハロゲン含有化合物から成るも
のである請求項1に記載のα−オレフィン低重合体の製
造方法。 - 【請求項3】 ハロゲン含有化合物が、周期律表のIII
A、III B、IVA、IVB、VA、VB及びVIB族からな
る群から選ばれる元素を含むものである請求項2に記載
のα−オレフィン低重合体の製造方法。 - 【請求項4】 クロム化合物とアルキルアルミニウム化
合物とを予め接触させることなく、α−オレフィンとク
ロム系触媒とを接触させる請求項1〜3のいずれかに記
載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 - 【請求項5】 α−オレフィンがエチレンであり、α−
オレフィン低重合体が1−ヘキセンを主体とするもので
ある請求項1〜4のいずれかに記載のα−オレフィン低
重合体の製造方法。 - 【請求項6】 触媒成分を含む反応生成液に、これに不
溶なカルボン酸を固体で添加し、両者をよく接触させた
のち反応生成液から触媒成分を含む固体を分離する請求
項1〜5のいずれかに記載のα−オレフィン低重合体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074295A JPH08301921A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074295A JPH08301921A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08301921A true JPH08301921A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14543386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11074295A Pending JPH08301921A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08301921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8344198B2 (en) | 2003-03-14 | 2013-01-01 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Process to decrease or eliminate corrosion from the decomposition of halide containing olefin catalysts |
-
1995
- 1995-05-09 JP JP11074295A patent/JPH08301921A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8344198B2 (en) | 2003-03-14 | 2013-01-01 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Process to decrease or eliminate corrosion from the decomposition of halide containing olefin catalysts |
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