JPH08306995A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents

ガスレーザ発振装置

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Publication number
JPH08306995A
JPH08306995A JP7105504A JP10550495A JPH08306995A JP H08306995 A JPH08306995 A JP H08306995A JP 7105504 A JP7105504 A JP 7105504A JP 10550495 A JP10550495 A JP 10550495A JP H08306995 A JPH08306995 A JP H08306995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas laser
voltage
laser
smoothing capacitor
choke coil
Prior art date
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Pending
Application number
JP7105504A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Yamashita
隆之 山下
Hiroyuki Hayashikawa
洋之 林川
Satoshi Eguchi
聡 江口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Priority to PCT/JP1996/001161 priority patent/WO1996034437A1/ja
Priority to EP96912264A priority patent/EP0798829B1/en
Priority to US08/765,148 priority patent/US5825795A/en
Priority to DE69611227T priority patent/DE69611227T2/de
Publication of JPH08306995A publication Critical patent/JPH08306995A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザ管に流れる電流のリップルを小さく
し、安定したレーザ出力を得るガスレーザ発振装置を提
供する。 【構成】 ガスレーザ発振装置は、高圧直流電源とレー
ザ管５と直列に接続されたチョークコイル６から構成さ
れたものである。 【効果】 レーザ管に流れる電流のリップルを小さくす
ることができ、安定したレーザ出力が得られることか
ら、安定した加工性能が実現でき、実用上きわめて有利
なものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガス放電励起によるガス
レーザ発振装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来のガスレーザ発振装置の高電
圧直流電源の回路を示すものである。図４において、１
はインバータ部、２は昇圧トランス、３は整流ダイオー
ド、５はレーザ管、７は平滑コンデンサである。
【０００３】以上のように構成された高電圧直流電源の
回路について以下その動作について説明する。まずイン
バータ部１により高周波電圧を発生し、昇圧トランス２
により前記高周波電圧を高周波高電圧に昇圧する。次に
整流ダイオード３により前記高周波高電圧を整流し、平
滑コンデンサ７により整流後の高電圧を平滑し、レーザ
管５に直流高電圧を供給し、前記レーザ管５内に満たさ
れたレーザガス媒質を放電励起し、レーザ光を得る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、レーザ光をパルス状に動作すると放電電流
が乱れるという問題を有していた。すなわち、図４のよ
うに、動作周波数ｆの値によっては、放電電流が不安定
になる領域が存在することとなり、ある動作周波数ｆの
パルス発振時にレーザ出力が不安定となってしまうとい
う問題点があった。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決したもの
で、安定したレーザ出力を得るガスレーザ発振装置を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明のガスレーザ発振装置は平滑コンデンサ容
量Ｃを
【０００７】
【数２】
【０００８】とした高電圧直流電源と、ガスレーザ媒質
と直列に接続したチョークコイルの構成を有している。
【０００９】
【作用】この構成によって、前記平滑コンデンサの容量
Ｃを、（数２）に設定しても、レーザ管に流れる電流の
リップルは従来より小さくなり、安定したレーザ出力を
得ることができる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
【００１１】図１において、４は容量Ｃを、（数２）と
設定した平滑コンデンサ、６はチョークコイルで、高電
圧直流電源とレーザ管５と直列に接続されている。
【００１２】以上のように構成されたガスレーザ発振装
置についてその動作を説明する。整流ダイオード３まで
の動作は従来例と同一である。平滑コンデンサ４は（数
２）と設定しているため、電流のリップルが大きくなり
充分な平滑度が得られない。そこでチョークコイル６を
接続することにより電流のリップルを小さくしている。
【００１３】本実施例によるガスレーザ発振装置のレー
ザ出力の時間変化と従来のガスレーザ発振装置のレーザ
出力の時間変化を図２で比較している。この図２から明
らかなように、本実施例によるガスレーザ発振装置は、
レーザ出力の安定性の点で優れた効果が得られる。
【００１４】
【発明の効果】以上のように本発明は、容量Ｃを（数
２）とした平滑コンデンサとレーザ媒質と直列にチョー
クコイルを設けることにより、安定したレーザ出力が得
られ、安定した加工が実現できる優れたガスレーザ発振
装置を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例におけるガスレーザ発振装置
の高電圧電流電源の回路図
【図２】本発明のガスレーザー発振装置と従来のガスレ
ーザ発振装置のレーザ出力の時間変化の比較を示す図
【図３】平滑コンデンサ容量と放電が乱れる周波数との
関係を示す図
【図４】従来のガスレーザ発振装置の高電圧直流電源の
回路図
【符号の説明】
１ インバータ部 ２ 昇圧トランス ３ 整流ダイオード ４ 平滑コンデンサ ５ レーザ管 ６ チョークコイル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガスレーザ媒質を、高周波電圧を発生す
    るインバータ部と前記高周波電圧を昇圧する昇圧トラン
    スと昇圧した高周波高電圧を整流するための整流ダイオ
    ードと整流後の高電圧を平滑する平滑コンデンサから成
    る高電圧直流電源で放電励起し、連続またはパルス状に
    レーザ光を発するガスレーザ発振装置において、レーザ
    光をパルス状に動作する動作周波数ｆと前記昇圧トラン
    スの固有インダクタンスＬから容量Ｃを 【数１】 とした前記平滑コンデンサと、直流電圧を平滑するため
    に、ガスレーザ媒質と直列に接続したチョークコイルを
    具備したガスレーザ発振装置。
JP7105504A 1995-04-28 1995-04-28 ガスレーザ発振装置 Pending JPH08306995A (ja)

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JP7105504A JPH08306995A (ja) 1995-04-28 1995-04-28 ガスレーザ発振装置
PCT/JP1996/001161 WO1996034437A1 (en) 1995-04-28 1996-04-26 Gas laser oscillation apparatus
EP96912264A EP0798829B1 (en) 1995-04-28 1996-04-26 Gas laser oscillation apparatus
US08/765,148 US5825795A (en) 1995-04-28 1996-04-26 Gas laser oscillator apparatus
DE69611227T DE69611227T2 (de) 1995-04-28 1996-04-26 Oszillatorvorrichtung für einen Gaslaser

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US (1) US5825795A (ja)
EP (1) EP0798829B1 (ja)
JP (1) JPH08306995A (ja)
DE (1) DE69611227T2 (ja)
WO (1) WO1996034437A1 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3815578B2 (ja) * 1996-07-19 2006-08-30 忠弘 大見 エキシマレーザー発振装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59232474A (ja) * 1983-06-15 1984-12-27 Toshiba Corp 炭酸ガスレ−ザ装置
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JPH01260873A (ja) * 1988-04-12 1989-10-18 Toshiba Corp ガスレーザ装置
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JPH0456367A (ja) * 1990-06-26 1992-02-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレーザ発振装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO1996034437A1 (en) 1996-10-31
EP0798829B1 (en) 2000-12-13
US5825795A (en) 1998-10-20
EP0798829A4 (en) 1998-07-29
DE69611227D1 (de) 2001-01-18
DE69611227T2 (de) 2001-05-31
EP0798829A1 (en) 1997-10-01

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