JPH08313702A - Antireflection body and its production - Google Patents

Antireflection body and its production

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JPH08313702A
JPH08313702A JP7137527A JP13752795A JPH08313702A JP H08313702 A JPH08313702 A JP H08313702A JP 7137527 A JP7137527 A JP 7137527A JP 13752795 A JP13752795 A JP 13752795A JP H08313702 A JPH08313702 A JP H08313702A
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JP
Japan
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film
substrate
antireflection
compound
fluorine compound
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Application number
JP7137527A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Tanaka
興一 田中
Shigeo Furuhashi
樹雄 古橋
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To provide antireflection body having an antireflection effect by carrying out a polymn. reaction on a substrate without, requiring complicated operation for synthesis. CONSTITUTION: A coating film of a fluorine compd. is formed on at least one side of a substrate such as a film by allowing a fluorine compd. having at least one isocyanato group in one molecule to react with a compd. having a functional group which reacts with the isocyanato group. Since a low refractive index layer as the coating film is formed on the substrate, the reflection of outdoor daylight can be suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、外光、蛍光灯等による
基板表面での反射を防止するにあたり、薄膜の光干渉に
よる反射防止性を付与した反射防止体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection body having an antireflection property due to light interference of a thin film for preventing reflection on the substrate surface by external light, fluorescent light or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】基板上に反射防止層を形成する方法とし
ては、例えば、蒸着法、及びコート法等が挙げられる。
蒸着法は基板上にMgF2 またはSiO2 等の低屈折率
の物質を1層、または基板側より、TiO2 またはZr
2 等の高屈折率の物質とMgF2 またはSiO2 等の
低屈折率の物質を複数層、真空蒸着により所定の膜厚で
形成した薄膜を積層することにより反射防止性を付与す
るものである。ここで所定の膜厚とは、薄膜の干渉によ
って反射防止効果を発現するのに必要な厚さであって、
例えば、1層で反射防止を行う場合、その厚さは膜内に
入射する光の波長の1/4となるようにすることが最も
好ましく、具体的には0.1μm程度となるようにする
ことが好ましい。しかしながら、蒸着法の場合はコスト
的に高くなることから、安価なコート法が要望されてい
る。また、コート法は金属アルコキサイドやフッ素ポリ
マー等を適当な溶剤に溶解または分散させ、所定の膜厚
になるよう基板上に蒸着法と同様、1層または複数層コ
ーティングすることにより反射防止性を付与するもので
ある。
2. Description of the Related Art As a method for forming an antireflection layer on a substrate, for example, a vapor deposition method, a coating method and the like can be mentioned.
The evaporation method is one layer of a low refractive index material such as MgF 2 or SiO 2 on the substrate, or TiO 2 or Zr from the substrate side.
The antireflection property is imparted by laminating a plurality of layers of a substance having a high refractive index such as O 2 and a substance having a low refractive index such as MgF 2 or SiO 2 and a thin film having a predetermined thickness formed by vacuum vapor deposition. is there. Here, the predetermined film thickness is a thickness required to exert an antireflection effect by interference of the thin film,
For example, when antireflection is performed by one layer, it is most preferable that the thickness thereof be ¼ of the wavelength of the light incident on the film, specifically about 0.1 μm. It is preferable. However, since the cost is high in the case of the vapor deposition method, an inexpensive coating method is required. In addition, the coating method dissolves or disperses a metal alkoxide, a fluoropolymer or the like in an appropriate solvent, and coats the substrate with a single layer or a plurality of layers to give an antireflection property so that a predetermined film thickness is obtained. To do.

【0003】基板上に1層で反射防止層を形成する場
合、反射防止層の屈折率は低いほど好ましく、例えば、
基板の屈折率が1.50〜1.70の場合、反射防止層
の屈折率は1.45〜1.20が好ましく、さらに好ま
しくは1.35〜1.25が好ましい。そのような低屈
折率を有する薄膜を形成する化合物としては例えばTE
FLON AF(デュポン製、屈折率1.30)、CY
TOP(旭ガラス製、屈折率1.35)、17FM(三
菱レイヨン製、屈折率1.34)等が挙げられる。これ
らのフッ素系ポリマーを用いて反射防止フィルムを得る
には、これらのフッ素系ポリマーを溶解できる溶剤に溶
解して溶液状とし、これをフィルム上に成膜時に所定の
膜厚になるよう塗布した後、溶剤を除去することにより
得ることができる。
When the antireflection layer is formed as a single layer on the substrate, the lower the refractive index of the antireflection layer is, the better, for example,
When the refractive index of the substrate is 1.50 to 1.70, the refractive index of the antireflection layer is preferably 1.45 to 1.20, more preferably 1.35 to 1.25. As a compound forming such a thin film having a low refractive index, for example, TE
FLON AF (made by DuPont, refractive index 1.30), CY
TOP (made by Asahi Glass, refractive index 1.35), 17FM (made by Mitsubishi Rayon, refractive index 1.34), etc. are mentioned. In order to obtain an antireflection film using these fluoropolymers, these fluoropolymers are dissolved in a solvent capable of dissolving them to form a solution, and this is applied onto the film to a predetermined film thickness at the time of film formation. After that, it can be obtained by removing the solvent.

【0004】しかしながら、従来、上記のフッ素ポリマ
ーを用いる場合、まずフッ素ポリマーを合成するための
装置、さらに合成反応においては、試薬の添加、反応温
度、反応速度の制御、反応後の後処理、生成物の精製等
様々な工程が必要であり、非常なコストと労力を要す
る。さらに、基板上で反応を行うことにより反射防止性
のフッ素化合物層を形成することは、反射防止性の発現
に必要な屈折率、膜厚のフッ素化合物を得るように反応
を制御することが非常に困難であること、薄膜のため酸
素の影響を受け易く重合反応が抑制され、ポリマーが生
成しにくくなる等困難な面が多く、そのようにして得ら
れた反射防止体は知られていない。
However, conventionally, when the above-mentioned fluoropolymer is used, first, an apparatus for synthesizing the fluoropolymer, and in the synthetic reaction, addition of reagents, control of reaction temperature, reaction rate, post-treatment after reaction, production Various processes such as product refining are required, which requires great cost and labor. Further, forming the antireflective fluorine compound layer by carrying out the reaction on the substrate makes it very important to control the reaction so as to obtain a fluorine compound having a refractive index and a film thickness necessary for exhibiting the antireflective property. In many cases, it is difficult to obtain, and because it is a thin film, it is easily affected by oxygen, the polymerization reaction is suppressed, and it is difficult to form a polymer. Thus, the antireflection body obtained in this way is not known.

【0005】[0005]

【発明の解決しようとする課題】本発明は、従来困難と
されていた基板上での反応によりフッ素化合物の皮膜を
生成し、さらに、そのフッ素化合物の皮膜によって反射
防止効果を有する反射防止体を提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides an antireflective body having an antireflective effect by forming a film of a fluorine compound by a reaction on a substrate, which has hitherto been considered difficult, and having the antireflection effect by the film of the fluorine compound. It is provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記問題点について鋭意
検討を重ねた結果、基板上で一分子中に少なくとも1個
のイソシアネート基を有するフッ素化合物と、イソシア
ネート基と反応する官能基を有する化合物が穏和な条件
で反応してフッ素化合物の皮膜を形成し、さらに生成し
たフッ素化合物の皮膜が反射防止フィルムとして実用上
十分に機能する性質を有していることを新規に見いだ
し、本発明に至った。即ち本発明は、反射防止性に優
れ、生産性に優れた、(1)基板上の少なくとも一面
に、一分子中に少なくとも1個のイソシアネート基を有
するフッ素化合物と、イソシアネート基と反応する官能
基を有する化合物との反応によって生成したフッ素化合
物の皮膜が施されていることを特徴とする反射防止体、
(2)基板がフィルムである(1)の反射防止体、
(3)フィルムが光学フィルムである(2)の反射防止
体、(4)光学フィルムが偏光フィルム、位相差フィル
ム、光集光フィルムまたは光拡散フィルムである(3)
の反射防止体、(5)フィルムが表示体用カバーフィル
ムである(2)の反射防止体、(6)基板上の少なくと
も一面で、一分子中に少なくとも1個のイソシアネート
基を有するフッ素化合物と、イソシアネート基と反応す
る官能基を有する化合物とを反応させて、フッ素化合物
の皮膜を生成させることを特徴とする反射防止体の製造
方法、に関する。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations on the above problems, a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule on a substrate and a compound having a functional group capable of reacting with the isocyanate group have been identified. The present invention has been newly found out that it reacts under mild conditions to form a film of a fluorine compound, and the film of the resulting fluorine compound has a property of sufficiently functioning as an antireflection film in practice. . That is, the present invention has excellent antireflection properties and excellent productivity (1) a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule on at least one surface of a substrate, and a functional group reactive with the isocyanate group. An antireflective body characterized by being coated with a film of a fluorine compound produced by reaction with a compound having
(2) The antireflection body of (1), wherein the substrate is a film,
(3) The antireflection body of (2), wherein the film is an optical film, and (4) the optical film is a polarizing film, a retardation film, a light condensing film or a light diffusing film (3).
An antireflection body of (2), wherein the film is a cover film for a display body (2), and (6) a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule on at least one surface of the substrate. The present invention relates to a method for producing an antireflection body, which comprises reacting a compound having a functional group that reacts with an isocyanate group to form a film of a fluorine compound.

【0007】上記の反射防止層を形成するために用いら
れる一分子中に少なくとも1個のイソシアネート基を有
するフッ素化合物、およびそれと反応させる化合物は、
基板が劣化、変色等を起こさない反応条件で反応し、反
応後に生成するフッ素化合物が皮膜を形成し、反射防止
効果を発現するのに十分な屈折率を有していれば、いか
なるものであっても良い。一分子中に少なくとも1個の
イソシアネート基を有するフッ素化合物としては、平均
分子量が100以上の高分子、好ましくは500〜20
000程度の高分子がよく、例えば、4フッ化エチレン
と酸素を光化学反応により重合させたパーフルオロポリ
エーテルに2個の芳香族イソシアネート基を導入したF
OMBLIN Z DISOC(アウジモント製)、F
LUOROLINK B(フッ素含量54%:アウジモ
ント製)等が挙げられる。
The fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule used for forming the above antireflection layer, and the compound reacted therewith are
Any substance can be used as long as the substrate reacts under a reaction condition that does not cause deterioration, discoloration, etc., the fluorine compound formed after the reaction forms a film, and has a refractive index sufficient to exert an antireflection effect. May be. As the fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule, a polymer having an average molecular weight of 100 or more, preferably 500 to 20.
A polymer of about 000 is preferable, for example, F in which two aromatic isocyanate groups are introduced into perfluoropolyether obtained by polymerizing tetrafluoroethylene and oxygen by a photochemical reaction.
OMBLIN Z DISOC (made by Ausimont), F
LUOROLINK B (fluorine content 54%: made by Ausimont) and the like can be mentioned.

【0008】一分子中に少なくとも1個のイソシアネー
ト基を有するフッ素化合物と重合反応させる化合物とし
ては、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基等のイソシアネート基と反応する官能基を有する化
合物が好ましく、例えばメチルアミン、エチルアミン、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、メチルエチルアミン
等のアルキルアミン、エチレンジアミン等のアルキレン
ジアミン、メチルアミノエチルアミン等のアルキルアミ
ノアルキルアミン、アニリン、エチルアニリン等の芳香
族アミン、水、メタノール、エタノール、エチレングリ
コール、ポリエチレングリコール等の脂肪族アルコール
類、フェノール、レゾルシノール等の芳香族アルコール
類、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸、乳酸、クエン酸等
のオキシ酸、フタル酸等の芳香族カルボン酸、アミノ酸
等があげられる。さらに好ましくは上記イソシアネート
基を有するフッ素化合物との相溶性、生成したフッ素化
合物の屈折率を低下させるために、アミノ基、ヒドロキ
シル基、カルボキシル基等の官能基を有するフッ素化合
物が良い。そのような化合物としては、4フッ化エチレ
ンと酸素を光化学反応により重合させたパーフルオロポ
リエーテルに4個のヒドロキシル基を導入したFOMB
LIN Z TETRAOL(アウジモント製)、FL
UOROLINK T(平均分子量2300:フッ素含
量58%:アウジモント製)、2個のヒドロキシル基を
導入したFOMBLIN Z DOL(平均分子量20
00:アウジモント製)、FLUOROLINK D
(平均分子量2000:フッ素含量62%:アウジモン
ト製)、FLUOROLINKE(平均分子量210
0:アウジモント製)、2個のカルボキシル基を導入し
たFOMBLIN Z DIAC(平均分子量200
0:アウジモント製)等が挙げられる。
The compound to be polymerized with a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule is preferably a compound having a functional group capable of reacting with an isocyanate group such as an amino group, a hydroxyl group and a carboxyl group. For example, methylamine, ethylamine,
Alkylamines such as dimethylamine, diethylamine and methylethylamine, alkylenediamines such as ethylenediamine, alkylaminoalkylamines such as methylaminoethylamine, aromatic amines such as aniline and ethylaniline, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, etc. Examples thereof include aliphatic alcohols, aromatic alcohols such as phenol and resorcinol, fatty acids such as acetic acid and propionic acid, oxyacids such as lactic acid and citric acid, aromatic carboxylic acids such as phthalic acid, and amino acids. More preferably, a fluorine compound having a functional group such as an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable in order to reduce the compatibility with the fluorine compound having an isocyanate group and the refractive index of the generated fluorine compound. As such a compound, FOMB obtained by introducing four hydroxyl groups into perfluoropolyether obtained by polymerizing ethylene tetrafluoride and oxygen by a photochemical reaction.
LIN Z TETRAOL (made by Ausimont), FL
UORLINK T (average molecular weight 2300: fluorine content 58%: made by Ausimont) FOMBLIN Z DOL (average molecular weight 20 with two hydroxyl groups introduced
00: made by Ausimont), FLUORLINK D
(Average molecular weight 2000: fluorine content 62%: made by Ausimont), FLUOROLLINKE (average molecular weight 210
0: made by Ausimont) FOMBLIN Z DIAC (average molecular weight 200) in which two carboxyl groups are introduced.
0: made by Ausimont) and the like.

【0009】本発明において、基板表面に反射防止層を
形成するには、上記の化合物を単独、あるいは混合物の
状態で溶剤を用いて適当な濃度に希釈した後、基板上に
塗布し、その後溶剤を除去、さらに基板が劣化、変色等
を起こさない条件で加熱(例えば40〜200℃)、湿
熱処理(例えば30〜100℃、湿度30〜95%)を
行い、重合反応を完結させることにより得ることができ
る。また、イソシアネート化フッ素化合物もしくは官能
基を有する化合物の一方を塗布した後、他方を塗布して
反応させてもよい。両者の使用割合は、反応後にフッ素
化合物の皮膜が生成する割合であれば特に制限はなく、
例えばイソシアネート化フッ素化合物としてFOMBL
IN Z DISOC、官能基を有する化合物としてF
OMBLIN Z TETRAOLを使用した場合、後
者1重量部に対して、前者を好ましくは1〜100重量
部、より好ましくは2〜50重量部、さらに好ましくは
3〜20重量部とするのがよい。
In the present invention, in order to form an antireflection layer on the surface of a substrate, the above compounds are diluted alone or in a mixture with a solvent to an appropriate concentration, and then coated on the substrate and then the solvent is used. And heat treatment (for example, 40 to 200 ° C.) and moist heat treatment (for example, 30 to 100 ° C. and humidity 30 to 95%) under conditions that do not cause deterioration or discoloration of the substrate to complete the polymerization reaction. be able to. In addition, after coating one of the isocyanate compound and the compound having a functional group, the other may be coated and reacted. The use ratio of both is not particularly limited as long as a film of a fluorine compound is formed after the reaction,
For example, as the isocyanated fluorine compound, FOMBL
IN Z DISOC, F as a compound having a functional group
When OMBLIN Z TETRAOL is used, the former is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 2 to 50 parts by weight, still more preferably 3 to 20 parts by weight, relative to 1 part by weight of the latter.

【0010】また、反応速度を速めるために触媒を添加
することも可能である。触媒としては、有機金属化合物
が好適に用いられ、より好ましくは、例えばジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫(IV)等の有機錫化合物が用いられ
る。その使用量は、皮膜が生成する割合であれば特に制
限はなく、例えばイソシアネート化フッ素化合物として
FOMBLIN Z DISOCを80重量部、官能基
を有する化合物としてFOMBLIN Z TETRA
OLを20重量部使用した場合、触媒としてジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫(IV)を好ましくは0.001〜10
重量部、より好ましくは0.005〜10重量部、さら
に好ましくは0.01〜1重量部とするのがよい。
It is also possible to add a catalyst to accelerate the reaction rate. As the catalyst, an organometallic compound is preferably used, and more preferably, an organotin compound such as di-n-butyltin (IV) dilaurate is used. The amount used is not particularly limited as long as a film is formed. For example, 80 parts by weight of FOMBLIN Z DISOC as the isocyanated fluorine compound and FOMBLIN Z TETRA as the compound having a functional group are used.
When 20 parts by weight of OL is used, di-n-butyltin (IV) dilaurate is preferably used as a catalyst in an amount of 0.001-10.
The amount is preferably 0.005 to 10 parts by weight, more preferably 0.01 to 1 part by weight.

【0011】本発明において、基板表面に上記化合物を
塗布する方法は特に制限はないが、例えば、ディップコ
ート法、グラビアコート法、リップコート法、スピンコ
ート法、ロールコート法、スプレーコート法等が挙げら
れる。しかしながら、生産性、及び十分な反射防止性を
発現させるために膜厚を0.1μm程度に制御する必要
がある等の面から、リップコート法あるいはディップコ
ート法が好ましい。
In the present invention, the method of applying the above compound to the surface of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a dip coating method, a gravure coating method, a lip coating method, a spin coating method, a roll coating method and a spray coating method. Can be mentioned. However, the lip coating method or the dip coating method is preferable in terms of productivity and the need to control the film thickness to about 0.1 μm in order to exhibit sufficient antireflection property.

【0012】本発明において、基板の反射防止機能を高
めるため、反応によって生成したフッ素化合物によって
形成された低屈折率層と基板との間に、高屈折率層を形
成することも可能である。高屈折率層としては、例え
ば、TiO2 またはZrO2 等の金属酸化物を所定の膜
厚に蒸着法、あるいはコート法によって形成されたもの
等が挙げられる。また、反射防止層の密着性を高めるた
めに、プライマー処理したフィルム上に塗布することも
可能である。
In the present invention, in order to enhance the antireflection function of the substrate, it is possible to form a high refractive index layer between the substrate and the low refractive index layer formed of the fluorine compound produced by the reaction. Examples of the high refractive index layer include those formed by depositing a metal oxide such as TiO 2 or ZrO 2 to a predetermined thickness by a vapor deposition method or a coating method. Further, in order to improve the adhesion of the antireflection layer, it is possible to apply it on a film which has been treated with a primer.

【0013】本発明において、基板としては反射防止を
必要とするものであれば特に制限なく、その材質として
は、例えばガラス板、金属板(箔)、プラスチック板、
プラスチックフィルム等があげられる。プラスチックと
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、塩化ビ
ニル、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アク
リレート系樹脂等が挙げられる。また、表面にプリズム
加工やフレネルレンズ加工、あるいはエンボス加工等の
各種処理が施されたプラスチックフィルムなどにも使用
可能である。
In the present invention, the substrate is not particularly limited as long as it requires antireflection, and its material is, for example, a glass plate, a metal plate (foil), a plastic plate,
Examples include plastic films. Examples of plastics include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polystyrene, polyurethane, vinyl chloride, acrylic resins, polycarbonate resins, acrylate resins and the like. Further, it can be used for a plastic film whose surface is subjected to various treatments such as prism processing, Fresnel lens processing, or embossing.

【0014】本発明において、基板の好適な例として
は、偏光フィルム、位相差フィルム、光集光フィルム、
光拡散フィルム等の光学フィルムや表示体用カバーフィ
ルムが挙げられる。
In the present invention, suitable examples of the substrate include a polarizing film, a retardation film, a light condensing film,
Examples thereof include an optical film such as a light diffusion film and a cover film for a display.

【0015】偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニ
ルアルコール等のフィルムを延伸処理した後、ヨウ素、
二色性染料で染色方法、あるいはヨウ素、二色性染料で
染色後延伸処理する方法等により、偏光素子を形成し、
さらにトリアセチルセルロース、アクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂等により保護層が形成されたものが挙げ
られる。また、偏光フィルムは、表面に微細な凸凹処理
(ノングレア処理)を施したものであってもよいし、シ
リコーン系、アクリル系などのハードコート層が形成さ
れたものでもよい。
As the polarizing film, for example, after a film of polyvinyl alcohol or the like is stretched, iodine,
A polarizing element is formed by a method of dyeing with a dichroic dye, or a method of dyeing with iodine or a dichroic dye and then stretching.
Further, those in which a protective layer is formed of triacetyl cellulose, acrylic resin, polycarbonate resin or the like can be mentioned. Further, the polarizing film may have a surface subjected to fine unevenness treatment (non-glare treatment), or may have a hard coat layer such as a silicone type or acrylic type formed thereon.

【0016】位相差フィルムとしては、例えば、ポリビ
ニルアルコールやポリカーボネート等のフィルムを延伸
処理したものが挙げられる。また、位相差フィルムは、
トリアセチルセルロース、アクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂等の保護層が形成されたものであってもよい。
Examples of the retardation film include those obtained by stretching a film of polyvinyl alcohol, polycarbonate or the like. Also, the retardation film,
A protective layer such as triacetyl cellulose, acrylic resin or polycarbonate resin may be formed.

【0017】光集光フィルムとしては、例えば、透明な
プラスチックフィルムの表面に平行配列した複数のプリ
ズム部が形成されたものなどが挙げられる。
Examples of the light condensing film include a transparent plastic film having a plurality of prisms arranged in parallel on the surface thereof.

【0018】光拡散フィルムとしては、例えば、透明な
プラスチックフィルムの表面にエンボス加工を施したも
の、フィルムの内部または表面近くにフィルム基材と屈
折率の異なる光拡散材を埋設したものなどが挙げられ
る。
Examples of the light diffusing film include a transparent plastic film having an embossed surface, and a film having a light diffusing material having a different refractive index from that of the film base material embedded in or near the surface of the film. To be

【0019】表示体用カバーフィルムとしては、例え
ば、透明なプラスチックフィルムの表面にシリコーン
系、アクリル系などのハードコート層が形成されたもの
等が挙げられる。
Examples of the cover film for a display include a transparent plastic film having a hard coat layer such as silicone or acrylic formed on the surface thereof.

【0020】また、本発明で使用するフィルムは上記の
偏光フィルム、位相差フィルム、光集光フィルム、光拡
散フィルムに限られず、導電性フィルム、フレネルレン
ズフィルム、レンチキュラーフィルム等であってもよ
い。
The film used in the present invention is not limited to the above polarizing film, retardation film, light condensing film and light diffusing film, and may be a conductive film, Fresnel lens film, lenticular film or the like.

【0021】本発明の反射防止体の用途として、液晶表
示装置の偏光フィルム、位相差フィルムまたは、光集光
フィルムとして用いた場合、光線透過率が向上し、輝度
を向上させることができるため、液晶表示装置の光源の
消費電力を低減することができる。また、様々な表示装
置の表面に該フィルムを貼り合わせた場合、外光による
反射を低減させ、表示を見やすくすることができる。但
し、これらの用途例示が本発明を限定するものでないこ
とは言うまでもない。
When the antireflection member of the present invention is used as a polarizing film, a retardation film or a light condensing film of a liquid crystal display device, the light transmittance can be improved and the brightness can be improved. The power consumption of the light source of the liquid crystal display device can be reduced. Further, when the film is attached to the surface of various display devices, reflection due to external light can be reduced and the display can be easily viewed. However, it goes without saying that these application examples do not limit the present invention.

【0022】[0022]

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに具体的に説
明するが、これらの実施例が本発明を限定するものでな
いことは言うまでもない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically by way of examples, but it goes without saying that these examples do not limit the present invention.

【0023】コート液の調製例1 FOMBLIN Z DISOC(アウジモント製)
0.4g、FOMBLIN Z TETRAOL(アウ
ジモント製)0.1gを1,4−ビス(トリフルオロメ
チル)ベンゼン20gおよび、フロリナートFC−75
(住友3M製)60gに溶解させた。この溶液に0.1
%のジラウリン酸ジ−n−ブチル錫(VI)のトリフルオ
ロトルエン溶液0.5gを加えた溶液Aを調製した。
Preparation Example 1 of coating liquid FOMBLIN Z DISOC (manufactured by Ausimont)
0.4 g, FOMBLIN Z TETRAOL (manufactured by Ausimont), 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene 20 g, and Fluorinert FC-75
It was dissolved in 60 g (Sumitomo 3M). 0.1 to this solution
% A solution A was prepared by adding 0.5 g of a trifluorotoluene solution of di-n-butyltin (VI) dilaurate.

【0024】コート液の調製例2 FOMBLIN Z DISOC(アウジモント製)
0.4g、FOMBLIN Z DOL(アウジモント
製)0.2gを1,4−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゼン20gおよび、フロリナートFC−75(住友3
M製)60gに溶解させた。この溶液に0.1%のジラ
ウリン酸ジ−n−ブチル錫(VI)のトリフルオロトルエ
ン溶液0.6gを加えた溶液Bを調製した。
Preparation Example 2 of coating liquid FOMBLIN Z DISOC (manufactured by Ausimont)
0.4 g, FOMBLIN Z DOL (manufactured by Ausimont), 20 g of 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene, and Fluorinert FC-75 (Sumitomo 3
It was dissolved in 60 g. A solution B was prepared by adding 0.6 g of a 0.1% solution of di-n-butyltin dilaurate (VI) in trifluorotoluene to this solution.

【0025】実施例1 アクリル系樹脂でハードコート層を形成した偏光フィル
ムに溶液Aをディップコート法により塗布した後、10
0℃で1時間加熱することによって該フィルムの表面に
反応生成物の薄膜を形成した。この薄膜の屈折率を測定
したところ、1.349であった。また、このフィルム
の550nmにおける反射率および、可視光領域におけ
る光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
Example 1 Solution A was applied by a dip coating method to a polarizing film having a hard coat layer formed of an acrylic resin, and then 10
A thin film of the reaction product was formed on the surface of the film by heating at 0 ° C. for 1 hour. The refractive index of this thin film was 1.349. Further, the reflectance of this film at 550 nm and the light transmittance in the visible light region were measured. The results are shown in Table 1.

【0026】実施例2 表面にノングレア処理を施した偏光フィルムに溶液Aを
ディップコート法により塗布した後、100℃で1時間
加熱することによって該フィルムの表面に反応生成物の
薄膜を形成した。このフィルムの550nmにおける反
射率および、可視光領域における光線透過率を測定し
た。結果を表1に示す。
Example 2 Solution A was applied by a dip coating method to a polarizing film having its surface subjected to a non-glare treatment, and then heated at 100 ° C. for 1 hour to form a thin film of a reaction product on the surface of the film. The reflectance of this film at 550 nm and the light transmittance in the visible light region were measured. The results are shown in Table 1.

【0027】実施例3 ポリエチレンテレフタレート製透明フィルムに溶液Aを
ディップコート法により塗布した後、100℃で1時間
加熱することによって該フィルムの表面に反応生成物の
薄膜を形成した。このフィルムの550nmにおける反
射率および、可視光領域における光線透過率を測定し
た。結果を表1に示す。
Example 3 Solution A was applied to a transparent film made of polyethylene terephthalate by a dip coating method, and then heated at 100 ° C. for 1 hour to form a thin film of a reaction product on the surface of the film. The reflectance of this film at 550 nm and the light transmittance in the visible light region were measured. The results are shown in Table 1.

【0028】実施例4 アクリル系樹脂でハードコート層を形成した偏光フィル
ムに溶液Bをディップコート法により塗布した後、10
0℃で1時間加熱することによって該フィルムの表面に
反応生成物の薄膜を形成した。この薄膜の屈折率を測定
したところ、1.349であった。また、このフィルム
の550nmにおける反射率および、可視光領域におけ
る光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
Example 4 Solution B was applied to a polarizing film having a hard coat layer formed of an acrylic resin by a dip coating method, and then 10
A thin film of the reaction product was formed on the surface of the film by heating at 0 ° C. for 1 hour. The refractive index of this thin film was 1.349. Further, the reflectance of this film at 550 nm and the light transmittance in the visible light region were measured. The results are shown in Table 1.

【0029】[0029]

【表1】 表1 実施例 反射率(%) 可視光線透過率(%) 1 コート前 4.3 41.5 コート後 1.1 43.5 2 コート前 4.2 43.5 コート後 1.1 45.5 3 コート前 6.5 88.7 コート後 1.7 92.3 4 コート前 4.3 41.7 コート後 1.1 43.4[Table 1] Table 1 Examples Reflectance (%) Visible light transmittance (%) 1 Before coating 4.3 41.5 After coating 1.1 43.5 2 Before coating 4.2 43.5 After coating 1. 1 45.5 3 Before coating 6.5 88.7 After coating 1.7 92.3 4 Before coating 4.3 41.7 After coating 1.1 43.4

【0030】この表から、本発明の方法で反射防止コー
トが施されたフィルムは、未処理のものに比し、反射率
が低く、なおかつ可視光領域における光線透過率が高く
なっており、優れた反射防止フィルムが得られたことが
判る。
From this table, the film coated with the antireflection coating by the method of the present invention has a low reflectance and a high light transmittance in the visible light region as compared with the untreated film, which is excellent. It can be seen that an excellent antireflection film was obtained.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、合成にともなう複雑な操作を
必要とせず、基板上で反応を行うことによって得られる
反射防止フィルムを提唱するものである。また、この反
射防止フィルムを用いて、光学物品の表面に簡便な方法
で反射防止性を付与することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION The present invention proposes an antireflection film obtained by carrying out a reaction on a substrate without requiring a complicated operation for synthesis. Further, by using this antireflection film, the antireflection property can be imparted to the surface of the optical article by a simple method.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上の少なくとも一面に、一分子中に少
なくとも1個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物
との反応によって生成したフッ素化合物の皮膜が存在す
ることを特徴とする反射防止体。
1. A film of a fluorine compound formed by the reaction of a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule with a compound having a functional group capable of reacting with an isocyanate group is present on at least one surface of a substrate. An antireflection body characterized by being.
【請求項2】基板がフィルムである請求項1の反射防止
体。
2. The antireflection body according to claim 1, wherein the substrate is a film.
【請求項3】フィルムが光学フィルムである請求項2の
反射防止体。
3. The antireflection body according to claim 2, wherein the film is an optical film.
【請求項4】光学フィルムが偏光フィルム、位相差フィ
ルム、光集光フィルムまたは光拡散フィルムである請求
項3の反射防止体。
4. The antireflection body according to claim 3, wherein the optical film is a polarizing film, a retardation film, a light condensing film or a light diffusing film.
【請求項5】フィルムが表示体用カバーフィルムである
請求項2の反射防止体。
5. The antireflection body according to claim 2, wherein the film is a display cover film.
【請求項6】基板上の少なくとも一面で、一分子中に少
なくとも1個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物
とを反応させて、フッ素化合物の皮膜を生成させること
を特徴とする反射防止体の製造方法。
6. A fluorine compound film is formed by reacting a fluorine compound having at least one isocyanate group in one molecule with a compound having a functional group capable of reacting with an isocyanate group on at least one surface of a substrate. A method of manufacturing an antireflection body, comprising:
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006109618A1 (en) 2005-04-05 2006-10-19 Adeka Corporation Cyanine compounds, optical filters and optical recording materials
WO2007129503A1 (en) 2006-05-08 2007-11-15 Adeka Corporation Novel compound, optical filter using the compound, and optical recording material
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WO2008123404A1 (en) 2007-03-30 2008-10-16 Adeka Corporation Cyanine compound, optical filter using the compound and optical recording material
WO2009145057A1 (en) 2008-05-27 2009-12-03 株式会社Adeka Color correction material, film-forming composition, and optical filter
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