JPH08314067A - 画像形成要素 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磨耗およびスクラッチに対する抵抗性が向上
した写真要素を提供することである。 【解決手段】 支持体、少くとも1層の感光層並びにバ
インダーおよび減摩性粒子を含有する保護層を有する画
像形成要素であって、前記の減摩性粒子が、少くとも
0.085πt3 の体積(ここでtは前記保護層の乾燥
厚さである)を有する画像形成要素。
した写真要素を提供することである。 【解決手段】 支持体、少くとも1層の感光層並びにバ
インダーおよび減摩性粒子を含有する保護層を有する画
像形成要素であって、前記の減摩性粒子が、少くとも
0.085πt3 の体積(ここでtは前記保護層の乾燥
厚さである)を有する画像形成要素。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成要素、特
に耐表面スクラッチおよび耐磨耗性が大幅に改良された
写真要素に関する。写真要素の取扱い中、例えば、塗
布、乾燥、仕上げ、巻取り、巻返し、プリント等の際、
材料の表面が、装置部品との接触摩擦および要素の表面
と裏面の接触摩擦により損傷を受けることが多い。例え
ば、スクラッチまたは磨耗マークが、写真材料の乳剤お
よび裏側に発生することがある。これらのスクラッチお
よび磨耗マークは、プリントおよび投影プロセスの際、
画像を読みにくくすることがある。かけがえのないネガ
では、物理的スクラッチまたは表面損傷は、極めて高価
な修正を必要とする。
に耐表面スクラッチおよび耐磨耗性が大幅に改良された
写真要素に関する。写真要素の取扱い中、例えば、塗
布、乾燥、仕上げ、巻取り、巻返し、プリント等の際、
材料の表面が、装置部品との接触摩擦および要素の表面
と裏面の接触摩擦により損傷を受けることが多い。例え
ば、スクラッチまたは磨耗マークが、写真材料の乳剤お
よび裏側に発生することがある。これらのスクラッチお
よび磨耗マークは、プリントおよび投影プロセスの際、
画像を読みにくくすることがある。かけがえのないネガ
では、物理的スクラッチまたは表面損傷は、極めて高価
な修正を必要とする。
【0002】従来、オーバーコート層の磨耗およびスク
ラッチに対する抵抗性を高めることにより、または、写
真材料の他の表面への接触摩擦を減じて、製造、露光、
現像およびプリントまたは投影プロセスの際、損傷を受
けないようにすることにより、物理的に改良された写真
材料を得るための各種の提案がなされてきた。例えば、
スクラッチ抵抗性を向上するための方法としては、ゼラ
チンへのある種の硬化剤の添加;単独でまたはカルボン
酸基を有する水溶性ポリマーと組合わせてオーバーコー
ト層にコロイド状シリカを使用すること;上層がコロイ
ド状シリカを含有し、下層がポリマーラテックスを含有
する2層のオーバーコート層の使用;ポリマーアクリル
酸エステルおよび/またはポリマーメタクリレート酸エ
ステルおよびコロイド状シリカを含む複合体ラテックス
の使用が挙げられる。接触摩擦を減じるための方法とし
ては、シリコーン液体と表面活性剤を保護オーバーコー
ト中に包含せしめること;ジメチルシリコーンとジフェ
ニルシリコーンの混合物を支持体の裏側に使用するこ
と;トリフェニル末端メチルフェニルシリコーンを乳剤
保護オーバーコート中に包含せしめること;ジメチルシ
リコーンとβ−アラニン誘導界面活性剤の組合せを使用
すること;保護オーバーコート中に改質マッコウ鯨油を
使用すること;メチルおよびアルキルもしくはアリー
ル、またはアラルキル側基を有する液状オルガノポリシ
ロキサンを保護オーバーコートに使用すること;ポリエ
ーテル側鎖を有するポリシロキサンを支持体の裏側に使
用することが挙げられる。
ラッチに対する抵抗性を高めることにより、または、写
真材料の他の表面への接触摩擦を減じて、製造、露光、
現像およびプリントまたは投影プロセスの際、損傷を受
けないようにすることにより、物理的に改良された写真
材料を得るための各種の提案がなされてきた。例えば、
スクラッチ抵抗性を向上するための方法としては、ゼラ
チンへのある種の硬化剤の添加;単独でまたはカルボン
酸基を有する水溶性ポリマーと組合わせてオーバーコー
ト層にコロイド状シリカを使用すること;上層がコロイ
ド状シリカを含有し、下層がポリマーラテックスを含有
する2層のオーバーコート層の使用;ポリマーアクリル
酸エステルおよび/またはポリマーメタクリレート酸エ
ステルおよびコロイド状シリカを含む複合体ラテックス
の使用が挙げられる。接触摩擦を減じるための方法とし
ては、シリコーン液体と表面活性剤を保護オーバーコー
ト中に包含せしめること;ジメチルシリコーンとジフェ
ニルシリコーンの混合物を支持体の裏側に使用するこ
と;トリフェニル末端メチルフェニルシリコーンを乳剤
保護オーバーコート中に包含せしめること;ジメチルシ
リコーンとβ−アラニン誘導界面活性剤の組合せを使用
すること;保護オーバーコート中に改質マッコウ鯨油を
使用すること;メチルおよびアルキルもしくはアリー
ル、またはアラルキル側基を有する液状オルガノポリシ
ロキサンを保護オーバーコートに使用すること;ポリエ
ーテル側鎖を有するポリシロキサンを支持体の裏側に使
用することが挙げられる。
【0003】近年、写真材料の製造条件および利用条件
がさらに厳しくなっている。このことは、写真要素の用
途がさらに苛酷な条件、例えば、高湿度および高温まで
拡大されたが故であり、あるいは高速コーティング、高
速仕上げおよび裁断、並びにより迅速な処理をはじめと
して調製方法が進歩したが故である。さらに、乳剤層は
徐々に薄くなっている。これらの条件下では、写真要
素、写真材料はさらに深刻なスクラッチを受けるので、
前記方法を改質し、改良し、あるいは最良保護のために
最適化しなければならない。
がさらに厳しくなっている。このことは、写真要素の用
途がさらに苛酷な条件、例えば、高湿度および高温まで
拡大されたが故であり、あるいは高速コーティング、高
速仕上げおよび裁断、並びにより迅速な処理をはじめと
して調製方法が進歩したが故である。さらに、乳剤層は
徐々に薄くなっている。これらの条件下では、写真要
素、写真材料はさらに深刻なスクラッチを受けるので、
前記方法を改質し、改良し、あるいは最良保護のために
最適化しなければならない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】その結果、磨耗および
スクラッチに対する抵抗性が、向上した写真要素を提供
する必要がある。
スクラッチに対する抵抗性が、向上した写真要素を提供
する必要がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体、少く
とも1層の感光層並びにバインダーおよび減摩性(lubr
icant, 潤滑剤) 粒子を含有する保護層を有する画像形
成要素であって、前記の減摩性粒子が、少くとも0.0
85πt3 の体積(ここでtは前記保護層の乾燥厚さで
ある)を有する画像形成要素を提供する。
とも1層の感光層並びにバインダーおよび減摩性(lubr
icant, 潤滑剤) 粒子を含有する保護層を有する画像形
成要素であって、前記の減摩性粒子が、少くとも0.0
85πt3 の体積(ここでtは前記保護層の乾燥厚さで
ある)を有する画像形成要素を提供する。
【0006】保護層は、画像形成要素の任意の適切な位
置に配備してよい。しかしながら、保護層は一般にフィ
ルム支持体のいずれかの側の最外層である。すなわち、
支持体の感光層と同一面上にあるならば、最も離れた位
置にある感光層より、支持体からさらに離れている。保
護層が、支持体の感光層と反対面にあるならば、保護層
は一般に支持体から最も離れた層である。保護層は、
0.1〜5μm、好ましくは0.2〜3μmの厚さ範囲
を有する。保護層は、UV吸収層、帯電防止層等の上に
施してよい。
置に配備してよい。しかしながら、保護層は一般にフィ
ルム支持体のいずれかの側の最外層である。すなわち、
支持体の感光層と同一面上にあるならば、最も離れた位
置にある感光層より、支持体からさらに離れている。保
護層が、支持体の感光層と反対面にあるならば、保護層
は一般に支持体から最も離れた層である。保護層は、
0.1〜5μm、好ましくは0.2〜3μmの厚さ範囲
を有する。保護層は、UV吸収層、帯電防止層等の上に
施してよい。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明は、バインダー中に減摩剤
粒子を包含せしめた保護層を有する写真要素であって、
その減摩剤粒子は0.085πt3 と等しいかまたはそ
れ以上の平均体積を有するものである写真要素を意図す
る。保護層中の球状減摩剤粒子についての粒子平均体積
は、その平均直径から算出することができる。もし減摩
剤粒子形状が保護層において不規則ならば、平均粒子サ
イズは、周知の粒子サイズ測定法、例えばCoulter Mult
isizer、光散乱、顕微鏡、沈降法等により、塗布に先立
って溶液中または分散体中で測定することができる。次
に、乾燥コーティング中の粒子体積は、その溶液または
分散体中で測定した平均粒子サイズから算出することが
できる。
粒子を包含せしめた保護層を有する写真要素であって、
その減摩剤粒子は0.085πt3 と等しいかまたはそ
れ以上の平均体積を有するものである写真要素を意図す
る。保護層中の球状減摩剤粒子についての粒子平均体積
は、その平均直径から算出することができる。もし減摩
剤粒子形状が保護層において不規則ならば、平均粒子サ
イズは、周知の粒子サイズ測定法、例えばCoulter Mult
isizer、光散乱、顕微鏡、沈降法等により、塗布に先立
って溶液中または分散体中で測定することができる。次
に、乾燥コーティング中の粒子体積は、その溶液または
分散体中で測定した平均粒子サイズから算出することが
できる。
【0008】0.085πt3 未満の体積の減摩剤粒子
または保護層に溶解可能な減摩剤は、本発明実施用の
0.085πt3 より大きい体積を有する減摩剤粒子と
組合せて使用することができる。しかしながら、このよ
うな状況では、0.085πt 3 より大きい体積を有す
る減摩剤粒子の比率を重視して使用すべきである。保護
層中のバインダー量に基づく重量比としての減摩剤粒子
の塗布量は、好ましくは0.001〜1、さらに好まし
くは0.01〜0.5、最も好ましくは0.05〜0.
1である。
または保護層に溶解可能な減摩剤は、本発明実施用の
0.085πt3 より大きい体積を有する減摩剤粒子と
組合せて使用することができる。しかしながら、このよ
うな状況では、0.085πt 3 より大きい体積を有す
る減摩剤粒子の比率を重視して使用すべきである。保護
層中のバインダー量に基づく重量比としての減摩剤粒子
の塗布量は、好ましくは0.001〜1、さらに好まし
くは0.01〜0.5、最も好ましくは0.05〜0.
1である。
【0009】本発明の実施用の減摩剤のタイプには制限
はない。典型的な減摩剤としては、 (1)シリコーンベース材料、例えば、米国特許第3,
489,567号;第3,080,317号;第3,0
42,522号;第4,004,927号;第4,04
7,958号;並びに英国特許第955,061号およ
び第1,143,118号に開示されているもの;
(2)高級脂肪酸およびその誘導体、高級アルコールお
よびその誘導体、高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エス
テル、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸の多価アルコール
エステル等、例えば、米国特許第2,454,043
号;第2,732,305号;第2,976,148
号;第3,206,311号;第3,933,516
号;第2,588,765号;第3,121,060
号;第3,502,473号;第3,042,522
号;および第4,427,764号、英国特許第1,2
63,722号;第1,198,387号;第1,43
0,997号;第1,466,304号;第1,32
0,757号;第1,320,565号;第1,32
0,756号;ドイツ特許第1,284,295号;お
よび第1,284,294号に開示されているもの;
(3)液体パラフィンおよびパラフィンもしくはワック
ス様材料、例えば、カルナウバワックス、天然および合
成ワックス、石油ワックス、ミネラルワックス等;
(4)過フッ素−もしくはフッ素−またはフルオロクロ
ロ含有材料、例えば、ポリ(テトラフルオロエチレ
ン)、ポリ(トリフルオロクロロエチレン)、ポリ(ビ
ニリデンフルオライド)、ポリ(トリフルオロクロロエ
チレン−コ−ビニルクロライド)、過フルオロアルキル
側基を含有するポリ(メタ)アクリレートまたはポリ
(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。本発明に有用
な減摩剤はまたResearch Disclosure. No.308,
1989年12月、1006頁にさらに詳細に記述され
ており、前記のすべての文献は引用することにより本明
細書に包含する。
はない。典型的な減摩剤としては、 (1)シリコーンベース材料、例えば、米国特許第3,
489,567号;第3,080,317号;第3,0
42,522号;第4,004,927号;第4,04
7,958号;並びに英国特許第955,061号およ
び第1,143,118号に開示されているもの;
(2)高級脂肪酸およびその誘導体、高級アルコールお
よびその誘導体、高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エス
テル、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸の多価アルコール
エステル等、例えば、米国特許第2,454,043
号;第2,732,305号;第2,976,148
号;第3,206,311号;第3,933,516
号;第2,588,765号;第3,121,060
号;第3,502,473号;第3,042,522
号;および第4,427,764号、英国特許第1,2
63,722号;第1,198,387号;第1,43
0,997号;第1,466,304号;第1,32
0,757号;第1,320,565号;第1,32
0,756号;ドイツ特許第1,284,295号;お
よび第1,284,294号に開示されているもの;
(3)液体パラフィンおよびパラフィンもしくはワック
ス様材料、例えば、カルナウバワックス、天然および合
成ワックス、石油ワックス、ミネラルワックス等;
(4)過フッ素−もしくはフッ素−またはフルオロクロ
ロ含有材料、例えば、ポリ(テトラフルオロエチレ
ン)、ポリ(トリフルオロクロロエチレン)、ポリ(ビ
ニリデンフルオライド)、ポリ(トリフルオロクロロエ
チレン−コ−ビニルクロライド)、過フルオロアルキル
側基を含有するポリ(メタ)アクリレートまたはポリ
(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。本発明に有用
な減摩剤はまたResearch Disclosure. No.308,
1989年12月、1006頁にさらに詳細に記述され
ており、前記のすべての文献は引用することにより本明
細書に包含する。
【0010】前記減摩剤は、また反応性官能基、例え
ば、ヒドロキシ、チオール、カルボキシル、カルボジイ
ミド、エポキシ、アジリジン、ビニルスルホン、スルフ
ィン酸、活性メチレン、アミノおよびアミドを含有して
もよい。本発明に有用な化合物の典型例を以下に示す
が、本発明はこれらの化合物に限定されない:L−1.
カルナウバワックス、Michelube 160〔Michelman In
c.〕 L−2.パラフィンワックス 112/118 AM
P.m.p.=46.1℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−3.パラフィンワックス 125/130 AM
P.m.p.=53.3℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−4.パラフィンワックス 140/145 AM
P.m.p.=61.1℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−5.Ross Wax 140.m.p.=137.8℃〔Fran
k B. Ross Inc.〕 L−6.Teflon 120.フッ素化エチレンプロピレン
粒子〔E.I. du Pont deNemours & Co.〕 L−7.Teflon 30.ポリ(テトラフルオロエチレ
ン)粒子〔E.I. du Pontde Nemours & Co.〕 L−8.Teflon 335、ポリ(テトラフルオロエチレ
ン−過フッ素化(プロピルビニルエーテル)粒子〔E.I.
du Pont de Nemours & Co.〕 L−9.GP−218 シリコーンポリオールコポリマ
ー〔Genesee PolymersCo. 〕 L−10.GP−4 シリコーン液、アミン官能化〔Ge
nesee Polymers Co.〕 L−11.GP−7100 アミン官能性ペイント可能
シリコーン液〔GeneseePolymers Co.〕 L−12.GP−7200 シリコーン液、メルカプト
官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−13.EXP−58 シリコーンワックス〔Genese
e Polymers Co.〕 L−14.EXP−61 シリコーンワックス、アミン
官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−15.EXP−77 シリコーンワックス、メルカ
プト官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−16.GP−7101 シリコーンコポリマー〔Ge
nesee Polymers Co.〕 L−17.BYK−331 ポリエーテル改質ジ−メチ
ルポリシロキサンコポリマー〔BYK Chemie〕 L−18.BYK−371 反応性シリコーン添加剤、
アクリル官能性ポリエステル改質ジメチルポリシロキサ
ン〔BYK Chemie〕 L−19.DC−200 シリコーン液〔Dow Corning
Inc.〕 L−20.PS099 ジメチルシロキサン−ビスフェ
ノールA カーボネートブロックコポリマー〔Petrarch
Inc. 〕 L−21.PS130 ポリメチルオクタデシルシロキ
サン〔Petrarch Inc. 〕 L−22.PS135 ポリ(メチルヘキサデシルシロ
キサン)〔PetrarchInc.〕 L−23.PS−464 ポリジメチルシロキサン、ビ
ニルフェニル メチル末端化〔Petrarch Inc. 〕 L−24.ソルビタンモノステアレート L−25.エチレングリコールジステアレート L−26.エチレングリコールモノステアレート L−27.カリウムヘキサデシルホスフェート L−28.ナトリウムヘキサデカンスルホネート L−29.Lubracal 60、カルシウムステアレート L−30.ナトリウムステアレート L−31.リチウムステアレート L−32.グリセリルモノステアレート 減摩剤粒子は、各種の周知方法、例えば、適切な溶剤中
の減摩剤溶液から粒子をスプレー乾燥させることによ
り;その減摩剤が不溶の媒体中に減摩剤(その分散温度
で液状である)を直接分散させることにより;減摩剤お
よび溶剤の両者が不溶性の媒体に、補助溶剤中の減摩剤
溶液を分散させ、次いで分散体からその補助溶剤を蒸発
させる蒸発分散法により;固体状減摩剤粒子の粉砕およ
び級分けにより;そのポリマー粒子が減摩効果を有する
適切なモノマー(例えば、Teflon(商標名)粒子)の乳
化重合、懸濁重合または分散重合により;減摩剤または
減摩剤溶液を微粉砕安定化剤含有媒体に添加し、その混
合物を次に攪拌、均質化等による剪断力に付して粒子サ
イズを減じる制限凝集法(limited coalescence techni
que)により製造することができる。剪断停止後、液滴表
面を塗布する際の微粉砕安定剤の結果として液滴サイズ
に関する平衡状態が得られ、このことは同時係属出願
(米国特許出願番号第440,265号、表題:"Lubri
cant Particles,Method of Preparation and Photograp
hic Elements".T. Whitesides, B.L. Howell, および
R.E. Factor に対応し、本出願と同日出願であって、同
一人に譲渡されたもの)に記載されている(その内容は
引用することにより本明細書に包含する)。
ば、ヒドロキシ、チオール、カルボキシル、カルボジイ
ミド、エポキシ、アジリジン、ビニルスルホン、スルフ
ィン酸、活性メチレン、アミノおよびアミドを含有して
もよい。本発明に有用な化合物の典型例を以下に示す
が、本発明はこれらの化合物に限定されない:L−1.
カルナウバワックス、Michelube 160〔Michelman In
c.〕 L−2.パラフィンワックス 112/118 AM
P.m.p.=46.1℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−3.パラフィンワックス 125/130 AM
P.m.p.=53.3℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−4.パラフィンワックス 140/145 AM
P.m.p.=61.1℃〔Frank B. Ross Inc.〕 L−5.Ross Wax 140.m.p.=137.8℃〔Fran
k B. Ross Inc.〕 L−6.Teflon 120.フッ素化エチレンプロピレン
粒子〔E.I. du Pont deNemours & Co.〕 L−7.Teflon 30.ポリ(テトラフルオロエチレ
ン)粒子〔E.I. du Pontde Nemours & Co.〕 L−8.Teflon 335、ポリ(テトラフルオロエチレ
ン−過フッ素化(プロピルビニルエーテル)粒子〔E.I.
du Pont de Nemours & Co.〕 L−9.GP−218 シリコーンポリオールコポリマ
ー〔Genesee PolymersCo. 〕 L−10.GP−4 シリコーン液、アミン官能化〔Ge
nesee Polymers Co.〕 L−11.GP−7100 アミン官能性ペイント可能
シリコーン液〔GeneseePolymers Co.〕 L−12.GP−7200 シリコーン液、メルカプト
官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−13.EXP−58 シリコーンワックス〔Genese
e Polymers Co.〕 L−14.EXP−61 シリコーンワックス、アミン
官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−15.EXP−77 シリコーンワックス、メルカ
プト官能化〔Genesee Polymers Co.〕 L−16.GP−7101 シリコーンコポリマー〔Ge
nesee Polymers Co.〕 L−17.BYK−331 ポリエーテル改質ジ−メチ
ルポリシロキサンコポリマー〔BYK Chemie〕 L−18.BYK−371 反応性シリコーン添加剤、
アクリル官能性ポリエステル改質ジメチルポリシロキサ
ン〔BYK Chemie〕 L−19.DC−200 シリコーン液〔Dow Corning
Inc.〕 L−20.PS099 ジメチルシロキサン−ビスフェ
ノールA カーボネートブロックコポリマー〔Petrarch
Inc. 〕 L−21.PS130 ポリメチルオクタデシルシロキ
サン〔Petrarch Inc. 〕 L−22.PS135 ポリ(メチルヘキサデシルシロ
キサン)〔PetrarchInc.〕 L−23.PS−464 ポリジメチルシロキサン、ビ
ニルフェニル メチル末端化〔Petrarch Inc. 〕 L−24.ソルビタンモノステアレート L−25.エチレングリコールジステアレート L−26.エチレングリコールモノステアレート L−27.カリウムヘキサデシルホスフェート L−28.ナトリウムヘキサデカンスルホネート L−29.Lubracal 60、カルシウムステアレート L−30.ナトリウムステアレート L−31.リチウムステアレート L−32.グリセリルモノステアレート 減摩剤粒子は、各種の周知方法、例えば、適切な溶剤中
の減摩剤溶液から粒子をスプレー乾燥させることによ
り;その減摩剤が不溶の媒体中に減摩剤(その分散温度
で液状である)を直接分散させることにより;減摩剤お
よび溶剤の両者が不溶性の媒体に、補助溶剤中の減摩剤
溶液を分散させ、次いで分散体からその補助溶剤を蒸発
させる蒸発分散法により;固体状減摩剤粒子の粉砕およ
び級分けにより;そのポリマー粒子が減摩効果を有する
適切なモノマー(例えば、Teflon(商標名)粒子)の乳
化重合、懸濁重合または分散重合により;減摩剤または
減摩剤溶液を微粉砕安定化剤含有媒体に添加し、その混
合物を次に攪拌、均質化等による剪断力に付して粒子サ
イズを減じる制限凝集法(limited coalescence techni
que)により製造することができる。剪断停止後、液滴表
面を塗布する際の微粉砕安定剤の結果として液滴サイズ
に関する平衡状態が得られ、このことは同時係属出願
(米国特許出願番号第440,265号、表題:"Lubri
cant Particles,Method of Preparation and Photograp
hic Elements".T. Whitesides, B.L. Howell, および
R.E. Factor に対応し、本出願と同日出願であって、同
一人に譲渡されたもの)に記載されている(その内容は
引用することにより本明細書に包含する)。
【0011】適切な液状媒体中で減摩剤粒子分散体を形
成する際に、各種の分散助剤を用いることができる。液
状媒体が水であれば、分散助剤としては、例えば、各種
タイプの界面活性剤(非イオン性、アニオン性、カチオ
ン性、再性イオン性、ポリマー性)、各種水溶性ポリマ
ー、各種水性ポリマー分散体およびコロイド状ポリマー
粒子、ブロックコポリマーおよびブロックコポリマーミ
セル、並びに各種の無機コロイド状酸化物粒子が挙げら
れる。液状媒体が有機溶剤であれば、分散助剤として
は、各種の溶剤溶解性もしくは分散性材料が挙げられ
る。前記分散体において、共分散剤も、最適結果を得る
ために分散助剤と組合せて用いることもできる。
成する際に、各種の分散助剤を用いることができる。液
状媒体が水であれば、分散助剤としては、例えば、各種
タイプの界面活性剤(非イオン性、アニオン性、カチオ
ン性、再性イオン性、ポリマー性)、各種水溶性ポリマ
ー、各種水性ポリマー分散体およびコロイド状ポリマー
粒子、ブロックコポリマーおよびブロックコポリマーミ
セル、並びに各種の無機コロイド状酸化物粒子が挙げら
れる。液状媒体が有機溶剤であれば、分散助剤として
は、各種の溶剤溶解性もしくは分散性材料が挙げられ
る。前記分散体において、共分散剤も、最適結果を得る
ために分散助剤と組合せて用いることもできる。
【0012】本発明においては、減摩剤粒子が最終乾燥
コーティング中のバインダーと強力に相互反応して、例
えば、処理溶液への減摩剤粒子の脱落を防止し、そして
さらに保護層の粘着/接着力を高めることが望ましい。
可能な方法としては、例えば、反応性官能基を有する減
摩剤の使用、減摩剤粒子およびバインダーの両者と強力
に相互反応することができる分散助剤の使用が挙げられ
る。
コーティング中のバインダーと強力に相互反応して、例
えば、処理溶液への減摩剤粒子の脱落を防止し、そして
さらに保護層の粘着/接着力を高めることが望ましい。
可能な方法としては、例えば、反応性官能基を有する減
摩剤の使用、減摩剤粒子およびバインダーの両者と強力
に相互反応することができる分散助剤の使用が挙げられ
る。
【0013】親水性コロイド、例えば、ゼラチン、並び
に疎水性ポリマー樹脂バインダーをはじめとする任意の
適切なバインダーを本発明の実施に用いることができ
る。所望の表面物性を達成するためのバインダーの実際
の塗布量は、減摩剤粒子のサイズに依存するが、粒子を
要素表面に効果的に接着させるためには、バインダーは
0.1g/m2 より高い塗布量で塗布するのが好まし
い。
に疎水性ポリマー樹脂バインダーをはじめとする任意の
適切なバインダーを本発明の実施に用いることができ
る。所望の表面物性を達成するためのバインダーの実際
の塗布量は、減摩剤粒子のサイズに依存するが、粒子を
要素表面に効果的に接着させるためには、バインダーは
0.1g/m2 より高い塗布量で塗布するのが好まし
い。
【0014】適切な親水性バインダーとしては、天然物
質、例えば、プロティン、プロティン誘導体、セルロー
ス誘導体(例えば、セルロースエステル)、ゼラチンお
よびゼラチン誘導体、ポリサッカライド、カゼイン等;
並びに合成の水浸透性コロイド、例えば、ポリ(ビニル
ラクタム)、アクリルアミドポリマー、ポリ(ビニルア
ルコール)およびその誘導体、加水分解ポリビニルアセ
テート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレートお
よびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポリビニ
ルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン酸コポ
リマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルアミドコ
ポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイン酸コ
ポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル酸コポ
リマー、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸コポリ
マー、ビニルイミダゾールコポリマー、スチレンスルホ
ン酸含有ビニルスルフィドコポリマー、ホモポリマーま
たはコポリマー等の両者を挙げることができる。
質、例えば、プロティン、プロティン誘導体、セルロー
ス誘導体(例えば、セルロースエステル)、ゼラチンお
よびゼラチン誘導体、ポリサッカライド、カゼイン等;
並びに合成の水浸透性コロイド、例えば、ポリ(ビニル
ラクタム)、アクリルアミドポリマー、ポリ(ビニルア
ルコール)およびその誘導体、加水分解ポリビニルアセ
テート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレートお
よびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポリビニ
ルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン酸コポ
リマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルアミドコ
ポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイン酸コ
ポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル酸コポ
リマー、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸コポリ
マー、ビニルイミダゾールコポリマー、スチレンスルホ
ン酸含有ビニルスルフィドコポリマー、ホモポリマーま
たはコポリマー等の両者を挙げることができる。
【0015】有用な樹脂バインダーとしては、ポリウレ
タン(例えば、Neorez R960;ICTより市販)、
セルロースアセテート(例えば、セルロースジアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートプロピオネート)、ポリ(メチルメタクリレー
ト)、ポリエステル(例えば、Vitel R; Goodyear Tire
& Rubber Co. より市販) 、ポリアミド(例えば、Unir
ez;Union Camp. より市販、Vesamide;General Electr
ic Co.市販)、ポリカーボネート(例えば、Makrolon;
Mobay chemical Co.より市販、Lexan ; General Electr
ic Co.より市販)、ポリビニルアセテート等が挙げられ
る。
タン(例えば、Neorez R960;ICTより市販)、
セルロースアセテート(例えば、セルロースジアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートプロピオネート)、ポリ(メチルメタクリレー
ト)、ポリエステル(例えば、Vitel R; Goodyear Tire
& Rubber Co. より市販) 、ポリアミド(例えば、Unir
ez;Union Camp. より市販、Vesamide;General Electr
ic Co.市販)、ポリカーボネート(例えば、Makrolon;
Mobay chemical Co.より市販、Lexan ; General Electr
ic Co.より市販)、ポリビニルアセテート等が挙げられ
る。
【0016】バインダーは、減摩剤粒子を要素表面にバ
インダーレベルで効果的に接着させるように選択すべき
である。架橋可能なバインダー、例えば、ゼラチンおよ
びポリウレタンについては、バインダーは、高度の粘着
接着が得られるように架橋することが好ましい。本発明
のコーティング組成物に有効に用いることができる架橋
剤または硬化剤としては、アルデヒド、エポキシ化合
物、ポリ官能性アジリジン、ビニルスルホン、メトキシ
アルキルメラミン、トリアジン、ポリイソシアネート、
ジオキサン誘導体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、
カルボジイミド、クロムみようばん、硫酸ジルコニウム
等が挙げられる。
インダーレベルで効果的に接着させるように選択すべき
である。架橋可能なバインダー、例えば、ゼラチンおよ
びポリウレタンについては、バインダーは、高度の粘着
接着が得られるように架橋することが好ましい。本発明
のコーティング組成物に有効に用いることができる架橋
剤または硬化剤としては、アルデヒド、エポキシ化合
物、ポリ官能性アジリジン、ビニルスルホン、メトキシ
アルキルメラミン、トリアジン、ポリイソシアネート、
ジオキサン誘導体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、
カルボジイミド、クロムみようばん、硫酸ジルコニウム
等が挙げられる。
【0017】本発明の実施に有用な保護層は、場合によ
り界面活性剤、帯電防止剤、電荷制御剤、増量剤、紫外
線吸収剤、処理除去性色素、高沸点溶剤、ハロゲン化
銀、コロイド状無機粒子、磁性記録粒子、マット剤、ポ
リマーラテックス各種の他の添加物等を含有してもよ
い。本発明の実施に有用な保護層は、多くの周知技法、
例えば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレ
ードコーティング、エアナイフコーティング、グラビア
コーティングおよび反転ロールコーティング、押出しコ
ーティング、スライドコーティング、カーテンコーティ
ング等で施こすことができる。減摩剤粒子およびバイン
ダーは、液状媒体中で一緒に混合してコーティング組成
物を形成するのが好ましい。液状媒体は、親水性コロイ
ドを界面活性剤の存在下でもしくは不存在下で分散させ
る水または他の水溶液のような媒体であるか、または樹
脂バインダー(しかし本発明の減摩剤ではない)を溶解
する有機溶剤のような溶剤であってよい。コーティング
後、保護層を一般に単純な蒸発(既知技法、例えば、対
流加熱により促進化してもよい)により乾燥する。既知
の塗布方法および乾燥方法は、Research Disclosure.N
o.308,1989年12月、1007〜1008頁
にさらに詳述されている。
り界面活性剤、帯電防止剤、電荷制御剤、増量剤、紫外
線吸収剤、処理除去性色素、高沸点溶剤、ハロゲン化
銀、コロイド状無機粒子、磁性記録粒子、マット剤、ポ
リマーラテックス各種の他の添加物等を含有してもよ
い。本発明の実施に有用な保護層は、多くの周知技法、
例えば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレ
ードコーティング、エアナイフコーティング、グラビア
コーティングおよび反転ロールコーティング、押出しコ
ーティング、スライドコーティング、カーテンコーティ
ング等で施こすことができる。減摩剤粒子およびバイン
ダーは、液状媒体中で一緒に混合してコーティング組成
物を形成するのが好ましい。液状媒体は、親水性コロイ
ドを界面活性剤の存在下でもしくは不存在下で分散させ
る水または他の水溶液のような媒体であるか、または樹
脂バインダー(しかし本発明の減摩剤ではない)を溶解
する有機溶剤のような溶剤であってよい。コーティング
後、保護層を一般に単純な蒸発(既知技法、例えば、対
流加熱により促進化してもよい)により乾燥する。既知
の塗布方法および乾燥方法は、Research Disclosure.N
o.308,1989年12月、1007〜1008頁
にさらに詳述されている。
【0018】本発明は、またその中に前記の写真要素を
装填せしめた使い捨てカメラにも向けられている。使い
捨てカメラは、各種の名称の下に当該技術分野において
知られている:レンズ付きフィルム、感光性材料パッケ
ージユニット、ボックスカメラおよび写真フィルムパッ
ケージ。他の名称も用いられるが、その名称に拘らず、
その各々は多くの共通の特性を有する。各々は本質的に
露光機能を備え、かつ写真材料が事前装填された写真製
品(カメラ)である。この写真製品は、写真材料を装填
した内部カメラシェル、レンズ開口部およびレンズ並び
にある種の外側包装を含む。この写真材料は、任意の写
真材料がカメラ中で露光されるのと同様に露光し、次い
でその製品を現像者に送り、現像者はその写真材料を取
り出して現像する。その製品を消費へ送り返すことは通
常行われていない。
装填せしめた使い捨てカメラにも向けられている。使い
捨てカメラは、各種の名称の下に当該技術分野において
知られている:レンズ付きフィルム、感光性材料パッケ
ージユニット、ボックスカメラおよび写真フィルムパッ
ケージ。他の名称も用いられるが、その名称に拘らず、
その各々は多くの共通の特性を有する。各々は本質的に
露光機能を備え、かつ写真材料が事前装填された写真製
品(カメラ)である。この写真製品は、写真材料を装填
した内部カメラシェル、レンズ開口部およびレンズ並び
にある種の外側包装を含む。この写真材料は、任意の写
真材料がカメラ中で露光されるのと同様に露光し、次い
でその製品を現像者に送り、現像者はその写真材料を取
り出して現像する。その製品を消費へ送り返すことは通
常行われていない。
【0019】使い捨てカメラ並びにそれらの製造方法お
よび使用方法は、米国特許第4,801,957号;第
4,901,097号;第4,866,459号;第
4,849,325号;第4,751,536号;第
4,827,298号;ヨーロッパ特許出願第0 46
0 400号;第0 533 785号;第0 537
908号;および第0 578 225号に記載されて
おり、そのすべては引用することにより本明細書中に包
含する。
よび使用方法は、米国特許第4,801,957号;第
4,901,097号;第4,866,459号;第
4,849,325号;第4,751,536号;第
4,827,298号;ヨーロッパ特許出願第0 46
0 400号;第0 533 785号;第0 537
908号;および第0 578 225号に記載されて
おり、そのすべては引用することにより本明細書中に包
含する。
【0020】本発明を、以下の例により具体的に説明す
る;本例に用いる減摩剤(潤滑剤)粒子のタイプおよび
サイズを第1表に列挙する:
る;本例に用いる減摩剤(潤滑剤)粒子のタイプおよび
サイズを第1表に列挙する:
【0021】
【表1】
【0022】★ Ludox TM(E.I. de Pont de Nemour
s & Co.) は、約22nmの粒子サイズのコロイド状シリ
カ粒子である。実施例1〜5および比較試料A−H 一連の写真要素を以下のように製造した:一方の面にハ
レーション防止層そして他の面に帯電防止バッキング層
を有するセルローストリアセテートフィルム支持体(以
下に述べるような)のハレーション防止層上に、以下の
画像形成層をこの順序で塗布した(米国特許第5,28
8,598号の実施例2):低感度シアン色素形成層、
高感度シアン色素形成層、中間層、低感度マゼンタ色素
形成層、高感度マゼンタ色素形成層、中間層、低感度イ
エロー色素形成層、高感度イエロー色素形成層、および
UV層。ゼラチンバインダーを含有する保護層は前記の
UV層の頂部上に塗布し、第2表に示す組成を有した。
保護層は、約1μmの乾燥厚さを有した。したがって、
減摩剤粒子の平均体積は、本発明によれば少くとも0.
085π(13)もしくは0.27μm3 でなければなら
ない。
s & Co.) は、約22nmの粒子サイズのコロイド状シリ
カ粒子である。実施例1〜5および比較試料A−H 一連の写真要素を以下のように製造した:一方の面にハ
レーション防止層そして他の面に帯電防止バッキング層
を有するセルローストリアセテートフィルム支持体(以
下に述べるような)のハレーション防止層上に、以下の
画像形成層をこの順序で塗布した(米国特許第5,28
8,598号の実施例2):低感度シアン色素形成層、
高感度シアン色素形成層、中間層、低感度マゼンタ色素
形成層、高感度マゼンタ色素形成層、中間層、低感度イ
エロー色素形成層、高感度イエロー色素形成層、および
UV層。ゼラチンバインダーを含有する保護層は前記の
UV層の頂部上に塗布し、第2表に示す組成を有した。
保護層は、約1μmの乾燥厚さを有した。したがって、
減摩剤粒子の平均体積は、本発明によれば少くとも0.
085π(13)もしくは0.27μm3 でなければなら
ない。
【0023】
【表2】
【0024】保護層のスクラッチ抵抗性を以下のように
評価した:処理フィルムのディスクをTaber Abrader 上
に置き、ASTM法D1044に従って磨耗した。磨耗
ディスクを次に35mmのネガサイズに裁断し、Eastman
Kodak 3510A Printerの拡散法を用いて写真印画紙
上にプリントした。これらのプリントを処理し、スクラ
ッチマークのレベルについて目視試験を行った。フィル
ム保護層のスクラッチ抵抗性のランク付けに以下のスケ
ールを用いた:0−スクラッチ量がゼロ、1−極めて僅
かなスクラッチ、3−中程度量のスクラッチ、5−多く
のスクラッチ。結果を第3表に列挙する。
評価した:処理フィルムのディスクをTaber Abrader 上
に置き、ASTM法D1044に従って磨耗した。磨耗
ディスクを次に35mmのネガサイズに裁断し、Eastman
Kodak 3510A Printerの拡散法を用いて写真印画紙
上にプリントした。これらのプリントを処理し、スクラ
ッチマークのレベルについて目視試験を行った。フィル
ム保護層のスクラッチ抵抗性のランク付けに以下のスケ
ールを用いた:0−スクラッチ量がゼロ、1−極めて僅
かなスクラッチ、3−中程度量のスクラッチ、5−多く
のスクラッチ。結果を第3表に列挙する。
【0025】
【表3】
【0026】第3表からわかるように、0.085πt
3 より大きい体積を有する減摩剤(潤滑剤)粒子を保護
層に使用すると、プリントされうるスクラッチ量が有意
に低減する。実施例6〜11および比較試料I〜K これらの実施例および比較試料の写真要素は、保護層に
マット剤がない以外は前記の実施例1〜5およびA〜H
において述べたように製造した。保護層にマット粒子が
存在すると表面粗性、したがって表面曇りが増加する。
保護層からマット剤を除去すると、ASTM法D104
4によるその磨耗抵抗性の真の目安を与える。
3 より大きい体積を有する減摩剤(潤滑剤)粒子を保護
層に使用すると、プリントされうるスクラッチ量が有意
に低減する。実施例6〜11および比較試料I〜K これらの実施例および比較試料の写真要素は、保護層に
マット剤がない以外は前記の実施例1〜5およびA〜H
において述べたように製造した。保護層にマット粒子が
存在すると表面粗性、したがって表面曇りが増加する。
保護層からマット剤を除去すると、ASTM法D104
4によるその磨耗抵抗性の真の目安を与える。
【0027】保護オーバーコートの磨耗抵抗性を評価す
るために、コーティングディスクをTaber Abrader 上に
置き、ASTM法D1044に従って磨耗した。磨耗域
上の透過光量を測定した。Taber 磨耗の前後の透過光%
の差または測定曇りパーセントの差(デルタ曇り)を用
いてそのコーティングの磨耗抵抗性を測定した。結果を
第4表に列挙する。
るために、コーティングディスクをTaber Abrader 上に
置き、ASTM法D1044に従って磨耗した。磨耗域
上の透過光量を測定した。Taber 磨耗の前後の透過光%
の差または測定曇りパーセントの差(デルタ曇り)を用
いてそのコーティングの磨耗抵抗性を測定した。結果を
第4表に列挙する。
【0028】
【表4】
【0029】第4表の結果は、本発明による試料は、
0.085πt3 未満の体積の減摩剤(潤滑剤)粒子を
含有する試料と比較して優れた磨耗抵抗性を与えること
を明らかに実証するものである。生フィルムを付した写
真処理工程としては、以下が挙げられるが、これらに限
定されるものではない: 1)発色現像→漂白−定着→洗浄/安定化; 2)発色現像→漂白→定着→洗浄/安定化; 3)発色現像→漂白→漂白−定着→洗浄/安定化; 4)発色現像→停止→洗浄→漂白→洗浄→定着→洗浄/
安定化; 5)発色現像→漂白−定着→定着→洗浄/安定化; 6)発色現像→漂白→漂白−定着→定着→洗浄/安定
化; 前記処理工程中、工程1),2),3)および4)を施
こすのが好ましい。さらに、前記工程の各々を、Hahm.
米国特許第4,719,173号に記載されているよう
に、多段階プロセッサーの補充および作動のために共
流、向流およびコントラソ配列で、多段階適用して使用
することもできる。
0.085πt3 未満の体積の減摩剤(潤滑剤)粒子を
含有する試料と比較して優れた磨耗抵抗性を与えること
を明らかに実証するものである。生フィルムを付した写
真処理工程としては、以下が挙げられるが、これらに限
定されるものではない: 1)発色現像→漂白−定着→洗浄/安定化; 2)発色現像→漂白→定着→洗浄/安定化; 3)発色現像→漂白→漂白−定着→洗浄/安定化; 4)発色現像→停止→洗浄→漂白→洗浄→定着→洗浄/
安定化; 5)発色現像→漂白−定着→定着→洗浄/安定化; 6)発色現像→漂白→漂白−定着→定着→洗浄/安定
化; 前記処理工程中、工程1),2),3)および4)を施
こすのが好ましい。さらに、前記工程の各々を、Hahm.
米国特許第4,719,173号に記載されているよう
に、多段階プロセッサーの補充および作動のために共
流、向流およびコントラソ配列で、多段階適用して使用
することもできる。
【0030】当該技術分野において既知の任意の写真プ
ロセッサーを用いて本発明の感光性材料を処理すること
ができる。例えば、大容量プロセッサー、いわゆるミニ
ラボおよびマイクロラボプロセッサーを用いてもよい。
低容量薄型タンクプロセッサー、例えば、以下の文献:
国際特許92/10790号;92/17819号;9
3/04404号;92/17370号;91/192
26号;91/12567号;92/07302号;9
3/00612号;92/07301号;02/099
32;米国特許第5,294,956号;ヨーロッパ特
許第559,027号;米国特許第5,179,404
号;ヨーロッパ特許第559,025号;米国特許第
5,270,762号;ヨーロッパ特許第559,02
6号;米国特許第5,313,243号;米国特許第
5,339,131号に記載されているものの使用が特
に有利であろう。
ロセッサーを用いて本発明の感光性材料を処理すること
ができる。例えば、大容量プロセッサー、いわゆるミニ
ラボおよびマイクロラボプロセッサーを用いてもよい。
低容量薄型タンクプロセッサー、例えば、以下の文献:
国際特許92/10790号;92/17819号;9
3/04404号;92/17370号;91/192
26号;91/12567号;92/07302号;9
3/00612号;92/07301号;02/099
32;米国特許第5,294,956号;ヨーロッパ特
許第559,027号;米国特許第5,179,404
号;ヨーロッパ特許第559,025号;米国特許第
5,270,762号;ヨーロッパ特許第559,02
6号;米国特許第5,313,243号;米国特許第
5,339,131号に記載されているものの使用が特
に有利であろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 カート マイケル シュローダー アメリカ合衆国,ニューヨーク 14624, ロチェスター,レディック レーン 30 (72)発明者 ゲイリー ウィリアム ビスコンテ アメリカ合衆国,ニューヨーク 14626, ロチェスター,セダー ヒル ドライブ 20
Claims (2)
- 【請求項1】 支持体、少くとも1層の感光層並びにバ
インダーおよび減摩性粒子を含有する保護層を有する画
像形成要素であって、前記の減摩性粒子が、少くとも
0.085πt3 の体積(ここでtは前記保護層の乾燥
厚さである)を有する画像形成要素。 - 【請求項2】 使い捨てカメラに含まれている請求項1
記載の画像形成要素。
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