JPH08314101A - 感光材料を処理するための装置及び方法 - Google Patents
感光材料を処理するための装置及び方法Info
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- JPH08314101A JPH08314101A JP8116066A JP11606696A JPH08314101A JP H08314101 A JPH08314101 A JP H08314101A JP 8116066 A JP8116066 A JP 8116066A JP 11606696 A JP11606696 A JP 11606696A JP H08314101 A JPH08314101 A JP H08314101A
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- G03D2203/0675—Methods for supplying replenisher
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 写真処理装置において密閉再循環系、開放再
循環系のどちらの系においても、再循環溶液に対する添
加物の比率を制御する特定の設備はない。 【解決手段】 本発明は、添加材料と接触する処理溶液
の比率を制御するとともに成分を変化させる化学添加物
を写真処理装置に導入するための処理装置を提供するも
のである。
循環系のどちらの系においても、再循環溶液に対する添
加物の比率を制御する特定の設備はない。 【解決手段】 本発明は、添加材料と接触する処理溶液
の比率を制御するとともに成分を変化させる化学添加物
を写真処理装置に導入するための処理装置を提供するも
のである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は写真処理に関するも
のであり、特に再循環処理溶液の性質を変化させる手段
又は安定化させる手段を含む処理装置に関するものであ
る。
のであり、特に再循環処理溶液の性質を変化させる手段
又は安定化させる手段を含む処理装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】本技術分野において、再循環ポンプによ
って処理槽から流出し、溶液が補給されているマニホー
ルド、フィルター、ヒーターを循環した再循環処理溶液
を用いる写真材料装置が設けられていることは知られて
いる。再循環溶液と混合するため、補充溶液をマニホー
ルドに補給するのに在来型標準メーターリングベローズ
ポンプが用いられる。最近小規模な装置において、補充
溶液の補給は密閉再循環系で直接行われ、該補充液は再
循環ポンプの負圧側又は正圧側に導入される。
って処理槽から流出し、溶液が補給されているマニホー
ルド、フィルター、ヒーターを循環した再循環処理溶液
を用いる写真材料装置が設けられていることは知られて
いる。再循環溶液と混合するため、補充溶液をマニホー
ルドに補給するのに在来型標準メーターリングベローズ
ポンプが用いられる。最近小規模な装置において、補充
溶液の補給は密閉再循環系で直接行われ、該補充液は再
循環ポンプの負圧側又は正圧側に導入される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】固体、ペースト、液体
といった化学添加物を上記溶液の化学濃度を変化又は安
定化するために用いた場合、密閉再循環系、開放再循環
系のどちらの系においても、再循環溶液に対する添加物
の比率を制御する特定の設備はない。
といった化学添加物を上記溶液の化学濃度を変化又は安
定化するために用いた場合、密閉再循環系、開放再循環
系のどちらの系においても、再循環溶液に対する添加物
の比率を制御する特定の設備はない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、添加材料と接
触する処理溶液の比率を制御するとともに成分を変化さ
せる化学添加物を写真処理装置に導入するための処理装
置を提供するものである。混合する溶液の比率を制御す
ることにより、添加材料が処理溶液に加えられる量又は
処理溶液から汚染物を除去するために使用される量は化
学物と添加物の能力を最大限に使用できるよう制御され
る。
触する処理溶液の比率を制御するとともに成分を変化さ
せる化学添加物を写真処理装置に導入するための処理装
置を提供するものである。混合する溶液の比率を制御す
ることにより、添加材料が処理溶液に加えられる量又は
処理溶液から汚染物を除去するために使用される量は化
学物と添加物の能力を最大限に使用できるよう制御され
る。
【０００５】例えばイオン交換樹脂を処理装置の安定工
程から汚染を除去するために用いる場合、樹脂に対する
全面的な再循環流は望ましくないレベルまで汚染物を除
去し、急速にイオン交換樹脂が消耗してしまう。従属ル
ープ内で流量を制御することにより、写真処理に対する
撹拌に影響はなく、イオン交換樹脂は最良に活用され
る。処理装置の主ループ循環率と独立して、固体の導入
比率、溶解比率を制御することが必要なことも添加物に
とって事実である。
程から汚染を除去するために用いる場合、樹脂に対する
全面的な再循環流は望ましくないレベルまで汚染物を除
去し、急速にイオン交換樹脂が消耗してしまう。従属ル
ープ内で流量を制御することにより、写真処理に対する
撹拌に影響はなく、イオン交換樹脂は最良に活用され
る。処理装置の主ループ循環率と独立して、固体の導入
比率、溶解比率を制御することが必要なことも添加物に
とって事実である。
【０００６】上記従属ループは既存の補充．再循環シス
テムに付加されることができる。従属ループは単独で、
液体やペーストの導入、固体の溶解、イオン交換型溶液
補給、事前混合の制御に選択的に使用される。
テムに付加されることができる。従属ループは単独で、
液体やペーストの導入、固体の溶解、イオン交換型溶液
補給、事前混合の制御に選択的に使用される。
【０００７】上記の本発明に関する特徴と利点は、本発
明に関する以下の詳細な説明とそれに添付される図面に
よりさらに深く理解されるであろう。
明に関する以下の詳細な説明とそれに添付される図面に
よりさらに深く理解されるであろう。
【０００８】
【発明の実施の形態】最初に図１を引用する。番号２０
で総体的に示されるのは写真処理装置である。装置２０
は、その特徴が１９９３年１２月１４日に発行された米
国特許第５２７０７６２号において記述されている既知
装置２１を基礎とするものである。上記既知装置２１
は、再循環ポンプ２８を用いて処理溶液が流出口２４か
ら導管２６を介して処理槽２２へ流れるよう形成される
主ループを備えていることを特徴とするものである。
で総体的に示されるのは写真処理装置である。装置２０
は、その特徴が１９９３年１２月１４日に発行された米
国特許第５２７０７６２号において記述されている既知
装置２１を基礎とするものである。上記既知装置２１
は、再循環ポンプ２８を用いて処理溶液が流出口２４か
ら導管２６を介して処理槽２２へ流れるよう形成される
主ループを備えていることを特徴とするものである。
【０００９】上記ポンプ２８は、導管４０を介して上記
処理槽２２に還流する上記溶液を導管３０を経由しマニ
ホールド３２、導管３４、フィルター３６、熱交換器３
８を介して、再循環させるものである。
処理槽２２に還流する上記溶液を導管３０を経由しマニ
ホールド３２、導管３４、フィルター３６、熱交換器３
８を介して、再循環させるものである。
【００１０】電子制御器４２は熱交換器３８から処理槽
２２へ再循環する処理溶液の温度を検知し制御するよう
に接続されている。標準メーターリングベローズポンプ
４４は、制御された化学添加物をポンプ輸送によりマニ
ホールド３２に再循環溶液と混合するため、消費した溶
液を補充するために設けられる。オーバーフロー液排出
管４６は上記処理槽２２からの余剰溶液をオーバーフロ
ー液だめ４８へ導く。
２２へ再循環する処理溶液の温度を検知し制御するよう
に接続されている。標準メーターリングベローズポンプ
４４は、制御された化学添加物をポンプ輸送によりマニ
ホールド３２に再循環溶液と混合するため、消費した溶
液を補充するために設けられる。オーバーフロー液排出
管４６は上記処理槽２２からの余剰溶液をオーバーフロ
ー液だめ４８へ導く。
【００１１】本発明に基ずく、図１で示された実施の形
態は、番号５０で総括的に示された密閉型可変ループ追
加システムにかかる第１実施例を特徴づける従属ループ
をさらに含んでいる。システム５０は導管５２を含み、
流体は再循環システム内の導管３４からここを介し、レ
ギュレートバルブ５４と導管５５を介して、総括的に番
号５６で示される処理容器に導入される。
態は、番号５０で総括的に示された密閉型可変ループ追
加システムにかかる第１実施例を特徴づける従属ループ
をさらに含んでいる。システム５０は導管５２を含み、
流体は再循環システム内の導管３４からここを介し、レ
ギュレートバルブ５４と導管５５を介して、総括的に番
号５６で示される処理容器に導入される。
【００１２】容器５６において、処理溶液を長持ちさせ
たり汚染物を除去するため、固体、ペースト、液体であ
る幾種類かの化学処理物質５８を上記容器５６を流れる
上記処理溶液と混合し溶解、反応させる。既処理溶液は
上記容器５６から導管５９、シャットオフバルブ６０、
導管６１を介して、上記再循環ポンプ２８の吸入側導管
２６に戻る。
たり汚染物を除去するため、固体、ペースト、液体であ
る幾種類かの化学処理物質５８を上記容器５６を流れる
上記処理溶液と混合し溶解、反応させる。既処理溶液は
上記容器５６から導管５９、シャットオフバルブ６０、
導管６１を介して、上記再循環ポンプ２８の吸入側導管
２６に戻る。
【００１３】上記追加システムの実施例５０において、
従属ループ内の流体の循環は、再循環システム内の導管
３４での与圧箇所から再循環システム内の導管２６上で
の上記再循環ポンプ２８の吸入側の低圧力箇所又は圧力
が大気圧以下の箇所への圧力降下により惹起される。上
記付加システムにおいて流量は、化学処理物質５８を溶
液に所望の量のみを加えるため処理容器５６を流れる溶
液量を調整するレギュレートバルブ５４により制御され
るものであり、上記処理添加物の供給比率を制御するこ
とと所望の条件で再循環溶液を維持することは、添加物
を最小限に消費するよう行われる。
従属ループ内の流体の循環は、再循環システム内の導管
３４での与圧箇所から再循環システム内の導管２６上で
の上記再循環ポンプ２８の吸入側の低圧力箇所又は圧力
が大気圧以下の箇所への圧力降下により惹起される。上
記付加システムにおいて流量は、化学処理物質５８を溶
液に所望の量のみを加えるため処理容器５６を流れる溶
液量を調整するレギュレートバルブ５４により制御され
るものであり、上記処理添加物の供給比率を制御するこ
とと所望の条件で再循環溶液を維持することは、添加物
を最小限に消費するよう行われる。
【００１４】図２は図１の既知処理技術装置２１を含む
本発明に関する第２実施例６２示すものであり、図１と
同数字は図１と同部品を示す。図２の上記実施例は、処
理溶液が槽２２から導管６６を介し、最低１種類の処理
物質５８を保持する与圧処理容器５６に直接導かれると
いう点で図１の密閉系可変ループ追加システムとは異な
る従属ループを特徴とするものである。既処理溶液は上
記容器から導管６８、レギュレートバルブ５４、導管６
９を介し再循環ポンプ２８の吸入側又は引入側の導管２
６に導かれる。
本発明に関する第２実施例６２示すものであり、図１と
同数字は図１と同部品を示す。図２の上記実施例は、処
理溶液が槽２２から導管６６を介し、最低１種類の処理
物質５８を保持する与圧処理容器５６に直接導かれると
いう点で図１の密閉系可変ループ追加システムとは異な
る従属ループを特徴とするものである。既処理溶液は上
記容器から導管６８、レギュレートバルブ５４、導管６
９を介し再循環ポンプ２８の吸入側又は引入側の導管２
６に導かれる。
【００１５】この場合においてもまた、従属ループ内の
流れは、上記従属ループが接続されている処理槽と再循
環ポンプの引入側との間の圧力降下により惹起される。
前実施例同様、従属ループにおける流量の制御はレギュ
レートバルブ５４によるものである。
流れは、上記従属ループが接続されている処理槽と再循
環ポンプの引入側との間の圧力降下により惹起される。
前実施例同様、従属ループにおける流量の制御はレギュ
レートバルブ５４によるものである。
【００１６】図３は図１で示す既知装置２１を含む、本
発明に関する第３実施例７０を示す。図１と同番号は図
１と同部品を示す。第３実施例の相違点は、オーバーフ
ロー液排出管４６が付加処理物質５８を内包し開放型非
与圧容器７４に導かれる形態を特徴とする従属ループで
ある。既処理溶液は導管７５、レギュレートバルブ５
４、導管７６を介し再循環ポンプ２８の吸入側又は引入
側の導管２６に運ばれる。容器７４からのオーバーフロ
ー液は排出導管７７を経てオーバーフロー液だめ４８に
導かれる。
発明に関する第３実施例７０を示す。図１と同番号は図
１と同部品を示す。第３実施例の相違点は、オーバーフ
ロー液排出管４６が付加処理物質５８を内包し開放型非
与圧容器７４に導かれる形態を特徴とする従属ループで
ある。既処理溶液は導管７５、レギュレートバルブ５
４、導管７６を介し再循環ポンプ２８の吸入側又は引入
側の導管２６に運ばれる。容器７４からのオーバーフロ
ー液は排出導管７７を経てオーバーフロー液だめ４８に
導かれる。
【００１７】これらの全ての相違点は本発明の特徴に対
して重要な効果はない。図４を引用すると、本発明に関
する第４実施例７８は、１９９４年５月３日発行された
米国特許第５３０９１９１号に記載された既知装置８０
を基礎とする。上記既知装置８０は主ループを特徴とす
るものであり、前述した図１と同種であり、図１と同数
字は図１と同部品を示す。上記既知装置の相違点は、電
子制御器４２と接続されたオーバーフローセンサー８
２、再循環ポンプ２８の周囲に接続したバックフラシュ
バルブ８４、再循環ポンプの近傍に接続したフィリング
ポンプ８６を追加したことである。
して重要な効果はない。図４を引用すると、本発明に関
する第４実施例７８は、１９９４年５月３日発行された
米国特許第５３０９１９１号に記載された既知装置８０
を基礎とする。上記既知装置８０は主ループを特徴とす
るものであり、前述した図１と同種であり、図１と同数
字は図１と同部品を示す。上記既知装置の相違点は、電
子制御器４２と接続されたオーバーフローセンサー８
２、再循環ポンプ２８の周囲に接続したバックフラシュ
バルブ８４、再循環ポンプの近傍に接続したフィリング
ポンプ８６を追加したことである。
【００１８】密閉系可変ループ追加システム８８は、マ
ニホールド３２とフィルター３６を接続する導管３４を
介し再循環システムから処理溶液の流出入を行うことを
特徴とする従属ループによって構成される。システム８
８は溶液を導管９０、レギュレートバルブ５４、導管９
２を介し処理物質５８を内包する与圧処理容器５６に導
く。上記既処理溶液は容器５６から導管９４を介し、溶
液を再循環システム内の導管３４へ還流させるメーター
リングポンプ９６へ流れる。上記実施例において従属ル
ープ中の引入側と排出側の圧力差は重要ではない。従っ
て上記システム８８のループ内の流れは専ら、流れをつ
くるメーターリングバルブ９６と流れを制限し又は制御
するレギュレートバルブ５４で制御している。
ニホールド３２とフィルター３６を接続する導管３４を
介し再循環システムから処理溶液の流出入を行うことを
特徴とする従属ループによって構成される。システム８
８は溶液を導管９０、レギュレートバルブ５４、導管９
２を介し処理物質５８を内包する与圧処理容器５６に導
く。上記既処理溶液は容器５６から導管９４を介し、溶
液を再循環システム内の導管３４へ還流させるメーター
リングポンプ９６へ流れる。上記実施例において従属ル
ープ中の引入側と排出側の圧力差は重要ではない。従っ
て上記システム８８のループ内の流れは専ら、流れをつ
くるメーターリングバルブ９６と流れを制限し又は制御
するレギュレートバルブ５４で制御している。
【００１９】本発明に関して、図４と同様の第５実施例
９８を図５に示す。
９８を図５に示す。
【００２０】但し上記従属ループ付加システム１００に
は制御バルブ５４がなく、メーターリングポンプ９６の
位置が、図４においては制御バルブが位置していた、上
記与圧処理容器５６の引入側導管９２と導管９０との間
に移動している。
は制御バルブ５４がなく、メーターリングポンプ９６の
位置が、図４においては制御バルブが位置していた、上
記与圧処理容器５６の引入側導管９２と導管９０との間
に移動している。
【００２１】上記第５実施例において、導管９０、ポン
プ９６、密閉型容器５８、導管１０１を含む上記追加シ
ステムの従属ループ内の流れは専らメーターリングポン
プ９６で制御される。
プ９６、密閉型容器５８、導管１０１を含む上記追加シ
ステムの従属ループ内の流れは専らメーターリングポン
プ９６で制御される。
【００２２】図６は、図４に記載したものに関連する既
知装置８０に関する本発明の第６実施例１０２を表す。
本発明の追加システム１０４は図３で示すものとオーバ
ーフロー液排出口４６を通ったオーバーフロー液が処理
物質５８を保持する開放型処理容器７４に運ばれる点で
同様であり、既処理液は導管７５を介し再循環システム
内の導管２６に既処理液を循環させるメーターリングポ
ンプ９６を経由して導管７６を介して還流される。図３
の実施例のバルブ５４に代えて、追加システム１０４上
の流れはメーターリングポンプ９６により制御される。
上記実施例においても、処理槽７４からの排出流は排出
導管７７を介しオーバーフロー液だめ４８に流れ込む。
知装置８０に関する本発明の第６実施例１０２を表す。
本発明の追加システム１０４は図３で示すものとオーバ
ーフロー液排出口４６を通ったオーバーフロー液が処理
物質５８を保持する開放型処理容器７４に運ばれる点で
同様であり、既処理液は導管７５を介し再循環システム
内の導管２６に既処理液を循環させるメーターリングポ
ンプ９６を経由して導管７６を介して還流される。図３
の実施例のバルブ５４に代えて、追加システム１０４上
の流れはメーターリングポンプ９６により制御される。
上記実施例においても、処理槽７４からの排出流は排出
導管７７を介しオーバーフロー液だめ４８に流れ込む。
【００２３】図７〜図９は１９９４年１０月４日発行に
発行された米国特許第５３５３０８７号に記載され、主
ループを特徴とする第３既知写真処理装置１０６と関連
する発明にかかる従属ループ付加システムのもう一つの
実施例を示す。本装置１０６は先に記載された装置２
１、８０と基本的な類似点があるので、同じ番号は同じ
又は同様の部品を示す。図１〜６の処理槽と同様の処理
機能を有するモジュール２２は、付加処理物５８を保持
する容器１１０と導管１０８を介して接続されるオーバ
ーフロー液排出管１０７を有する。
発行された米国特許第５３５３０８７号に記載され、主
ループを特徴とする第３既知写真処理装置１０６と関連
する発明にかかる従属ループ付加システムのもう一つの
実施例を示す。本装置１０６は先に記載された装置２
１、８０と基本的な類似点があるので、同じ番号は同じ
又は同様の部品を示す。図１〜６の処理槽と同様の処理
機能を有するモジュール２２は、付加処理物５８を保持
する容器１１０と導管１０８を介して接続されるオーバ
ーフロー液排出管１０７を有する。
【００２４】上記容器１１０は図７〜９の実施例におい
て処理容器として用いられる。処理容器１１０からのオ
ーバーフロー液はオーバーフロー液排出導管７７を介し
オーバーフロー液だめ４８に流れ込む。本発明に関して
は影響がない上記処理装置のその他の特徴はメーターリ
ング容器１１２を有することである。槽１１８から再循
環システム内のマニホールド３２に溶液を補給するメー
ターリングポンプ１１７を駆動するモーター１１６を作
動させる電子制御器４２によって制御されるマイクロプ
ロセッサー１１４により上記メーターリング容器の液位
を検知する。
て処理容器として用いられる。処理容器１１０からのオ
ーバーフロー液はオーバーフロー液排出導管７７を介し
オーバーフロー液だめ４８に流れ込む。本発明に関して
は影響がない上記処理装置のその他の特徴はメーターリ
ング容器１１２を有することである。槽１１８から再循
環システム内のマニホールド３２に溶液を補給するメー
ターリングポンプ１１７を駆動するモーター１１６を作
動させる電子制御器４２によって制御されるマイクロプ
ロセッサー１１４により上記メーターリング容器の液位
を検知する。
【００２５】上記発明に関して、図７は追加システム１
２２を含む第７実施例１２０を示す。上記追加システム
において、処理容器１１０に固体、ペースト、又は液体
の処理物質を加えることにより生成された既処理溶液
は、主ループ内で再循環溶液と混合するため、メーター
リングポンプ９６により導管１２３を介しマニホールド
３２に強制的に導かれる。上記実施例において、容器１
１０からの既処理溶液の流れは専らメーターリングポン
プ９６によって制御される。
２２を含む第７実施例１２０を示す。上記追加システム
において、処理容器１１０に固体、ペースト、又は液体
の処理物質を加えることにより生成された既処理溶液
は、主ループ内で再循環溶液と混合するため、メーター
リングポンプ９６により導管１２３を介しマニホールド
３２に強制的に導かれる。上記実施例において、容器１
１０からの既処理溶液の流れは専らメーターリングポン
プ９６によって制御される。
【００２６】図８に従属ループ追加システム１２５を含
む第８実施例１２４を示す。上記付加システムにおい
て、処理溶液は再循環ポンプ２８の高圧力側から導管１
２６、レギュレートバルブ５４、導管１２７を介し処理
物質５８を内包する独立した与圧処理容器５６に導かれ
る。既処理溶液は容器５６から、導管１２８、シャット
オフバルブ６０、導管１２９を介し再循環ポンプ２８の
引入側に導かれる。上記追加システム１２５内の流れは
再循環ポンプ２８の流出側に対する引入側圧力の圧力降
下により惹起されているものであり、専ら従属ループ内
のレギュレートバルブ５４により制御される。
む第８実施例１２４を示す。上記付加システムにおい
て、処理溶液は再循環ポンプ２８の高圧力側から導管１
２６、レギュレートバルブ５４、導管１２７を介し処理
物質５８を内包する独立した与圧処理容器５６に導かれ
る。既処理溶液は容器５６から、導管１２８、シャット
オフバルブ６０、導管１２９を介し再循環ポンプ２８の
引入側に導かれる。上記追加システム１２５内の流れは
再循環ポンプ２８の流出側に対する引入側圧力の圧力降
下により惹起されているものであり、専ら従属ループ内
のレギュレートバルブ５４により制御される。
【００２７】図９は従属ループ付加システム１３２を含
む本発明の第９実施例の記載である。上記追加システム
においては、既処理溶液は付加処理物５８を保持する容
器１１０から導管１３３、レギュレートバルブ５４、導
管１３４を介して再循環ポンプ２８の引入側に導かれ
る。上記実施例において、流れは容器１１０内の大気圧
と再循環ポンプ２８の引入側の接続部分で大気圧以下の
圧力部分の圧力降下により生じ、レギュレートバルブ５
４により流れを制御される。
む本発明の第９実施例の記載である。上記追加システム
においては、既処理溶液は付加処理物５８を保持する容
器１１０から導管１３３、レギュレートバルブ５４、導
管１３４を介して再循環ポンプ２８の引入側に導かれ
る。上記実施例において、流れは容器１１０内の大気圧
と再循環ポンプ２８の引入側の接続部分で大気圧以下の
圧力部分の圧力降下により生じ、レギュレートバルブ５
４により流れを制御される。
【００２８】図１０に、図３と図６においては実施例と
して、図７と図９においては選択的な実施例として使用
されている上部開放処理容器７４の形態の一例を図解す
る。容器７４は一方の側面に引入導管１３６、別の側面
に排出導管１３８を有した上部が開放した本体で形成さ
れる。容器７４は付加処理物５８と上部下部センサー１
４２、１４４それぞれを用いて適当なシステムにより液
位が制御された流体１４０を保持する。
して、図７と図９においては選択的な実施例として使用
されている上部開放処理容器７４の形態の一例を図解す
る。容器７４は一方の側面に引入導管１３６、別の側面
に排出導管１３８を有した上部が開放した本体で形成さ
れる。容器７４は付加処理物５８と上部下部センサー１
４２、１４４それぞれを用いて適当なシステムにより液
位が制御された流体１４０を保持する。
【００２９】適度の液位を維持するため、上記上部下部
センサーは槽に流入出する流体を制御する別のシステム
の電子制御器に接続される。
センサーは槽に流入出する流体を制御する別のシステム
の電子制御器に接続される。
【００３０】図１１に図１、２、４、５、８の実施例に
用いられた密閉型与圧処理容器５６の形態を示す。容器
５６は上部が開放した本体１４６、付加処理物質５８を
含み、容器の上部を閉じる密閉蓋１４８を有する。前と
同じく、引入導管１３６と排出導管１３８を有する。加
えて細い付加導管１５０が容器の側部に設けられてい
る。上記導管を介し流体化した化学添加物５８は、導管
１３６を介して槽に流れ込み処理後は導管１３８を介し
て流出する処理溶液と混合するため槽に導かれるように
なる。
用いられた密閉型与圧処理容器５６の形態を示す。容器
５６は上部が開放した本体１４６、付加処理物質５８を
含み、容器の上部を閉じる密閉蓋１４８を有する。前と
同じく、引入導管１３６と排出導管１３８を有する。加
えて細い付加導管１５０が容器の側部に設けられてい
る。上記導管を介し流体化した化学添加物５８は、導管
１３６を介して槽に流れ込み処理後は導管１３８を介し
て流出する処理溶液と混合するため槽に導かれるように
なる。
【００３１】記載された従属ループ付加システムの様々
な実施例は、可変ループシステムの総括的な概念を再循
環溶液を用ている再循環ループ処理装置の幾種類かの形
態に適用した例証にすぎない。
な実施例は、可変ループシステムの総括的な概念を再循
環溶液を用ている再循環ループ処理装置の幾種類かの形
態に適用した例証にすぎない。
【００３２】本発明の特定の実施例により記述している
が、記述された独創的概念の意図と分野において多くの
改良がなされることが理解されるべきである。従って本
発明は記載された実施例により制限されるものではな
く、以下の請求項の文章で定義される全分野に対して有
効なものである。
が、記述された独創的概念の意図と分野において多くの
改良がなされることが理解されるべきである。従って本
発明は記載された実施例により制限されるものではな
く、以下の請求項の文章で定義される全分野に対して有
効なものである。
【図１】 本発明に関する密閉系可変ループ追加システ
ムの実施例１を構成するため変更された既知再循環、補
給システムの概略図である。
ムの実施例１を構成するため変更された既知再循環、補
給システムの概略図である。
【図２】 図１と同様の断片図であり本発明に関する密
閉系可変ループ排出圧力追加システムを示すものであ
る。
閉系可変ループ排出圧力追加システムを示すものであ
る。
【図３】 図２と同様の断片図であり開放系可変ループ
追加システムを示すものである。
追加システムを示すものである。
【図４】 本発明に関して、ポンプを用いて密閉系可変
ループシステムを循環させるように変更された別の既知
再循環、溶液補給システムの概略一覧図である。
ループシステムを循環させるように変更された別の既知
再循環、溶液補給システムの概略一覧図である。
【図５】 図４と同様の断片図であり選択的にポンプを
密閉系可変ループ追加システムに用いたことを示すもの
である。
密閉系可変ループ追加システムに用いたことを示すもの
である。
【図６】 ポンプを開放系可変ループ追加システムに用
いたことの示す、図５と同様の断片図である。
いたことの示す、図５と同様の断片図である。
【図７】 本発明に関して、ポンプを開放系可変ループ
追加システムを用いるもので構成される別の既再循環、
溶液補給システムの概略一覧図である。
追加システムを用いるもので構成される別の既再循環、
溶液補給システムの概略一覧図である。
【図８】 図７と同様の断片図であり密閉系可変ループ
追加システムを示すものである。
追加システムを示すものである。
【図９】 別の開放系可変ループ追加システムの実施例
を示す、図８と同様の断片図である。
を示す、図８と同様の断片図である。
【図１０】 本発明に関する、開放型容器の断面図の例
示である。
示である。
【図１１】 本発明に関する、与圧容器の断面図の例示
である。
である。
２０． 処理装置 ２１． 既知装置 ２２． 処理槽 ２４． 排出管 ２６． 導管 ２８． 再循環ポンプ ３０． 導管 ３２． マニホールド ３４． 導管 ３６． フィルター ３８． 熱交換器 ４０． 導管 ４２． 電子制御器 ４４． ベローズポンプ ４６． オーバーフロー液排出口 ４８． オーバーフロー液だめ ５０． 可変ループ付加システム ５２． 導管 ５４． レギュレートバルブ ５５． 導管 ５６． 処理容器（密閉型） ５８． 処理物質（付加型） ５９． 導管 ６０． シャットオフバルブ ６１． 導管 ６２． 第２実施例 ６４． システム ６６． 導管 ６８． 導管 ６９． 導管 ７０． 第３実施例 ７２． システム ７４． 処理容器 ７５． 導管 ７６． 導管 ７７． 排出導管 ７８． 第４実施例 ８０． 既知装置 ８２． オーバーフローセンサー ８４． バックフラッシュバルブ ８６． フィリングポンプ ８８． 付加システム ９０． 導管 ９２． 導管 ９４． 導管 ９６． メーターリングポンプ ９７． 導管 ９８． 第５実施例 ９９． 導管 １００．付加システム １０１．導管 １０２．第６実施例 １０４．付加システム １０６．既知装置 １０７．オーバーフロー液排出管 １０８．導管 １１０．容器 １１２．メーターリング容器 １１４．マイクロプロセッサー １１６．モーター １１７．ポンプ １１８．槽 １２０．第７実施例 １２２．付加システム １２３．導管 １２４．第８実施例 １２５．付加システム １２６．導管 １２７．導管 １２８．導管 １２９．導管 １３０．第９実施例 １３２．付加システム １３３．導管 １３４．導管 １３６．導入導管 １３８．流出導管 １４０．流体 １４２．センサー １４４．センサー １４６．本体 １４８．蓋 １５０．付加導管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラルフ・レオナルド・ピッチニーノ・ジュ ニア アメリカ合衆国14543ニューヨーク州ラッ シュ、ファイブ・ポインツ・ロード665番
Claims (2)
- 【請求項１】 処理槽、上記処理槽を含む主ループ、処
理溶液を処理槽を介して再循環させるポンプ、及び所定
の方法により処理溶液を補充する手段を含む、感光性材
料を処理するための装置において、上記処理溶液の状態
を変化させるために処理物質を保持する処理容器と、引
入部は処理溶液を処理するよう上記処理容器に導くため
主ループの第１地点に接続され、流出部は既処理溶液を
主ループに還流させるため主ループの第２地点に接続さ
れるように形成されている、処理溶液を含みかつ引入部
と流出部とを有している従属ループと、処理溶液を従属
ループを介して上記処理容器において処理するために循
環させる手段が設けられていることを特徴とする感光性
材料を処理するための装置。 - 【請求項２】 写真プロセス装置の主ループの写真処理
溶液の再循環流への化学添加物の供給を制御する方法に
おいて、引入端、流出端がともに上記主ループに接続さ
れた従属ループを設け、従属ループの両端に接続された
処理容器を設け、少なくとも１種類の化学添加物を上記
容器に供給し、上記添加物と混合させるため処理溶液を
主ループから従属ループを介して循環させ、さらに上記
添加物との混合速度を所望の値に制御するために、上記
従属ループを介する処理溶液の流れを調整することを特
徴とする化学添加物の供給を制御する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/438,288 US5561491A (en) | 1995-05-10 | 1995-05-10 | Variable loop additive control for a photographic processor |
| US08/438288 | 1995-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08314101A true JPH08314101A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=23740045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8116066A Pending JPH08314101A (ja) | 1995-05-10 | 1996-05-10 | 感光材料を処理するための装置及び方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5561491A (ja) |
| JP (1) | JPH08314101A (ja) |
| DE (1) | DE19617682A1 (ja) |
| GB (1) | GB2300730B (ja) |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3000288A (en) * | 1957-05-15 | 1961-09-19 | Autolab Corp | Apparatus and method for processing photographic elements |
| US3623418A (en) * | 1969-08-11 | 1971-11-30 | Clarence S Ost | Photographic developer replenishment |
| US4174169A (en) * | 1978-03-02 | 1979-11-13 | Pako Corporation | Anti-oxidation fluid replenisher control system for processor of photosensitive material |
| US4857950A (en) * | 1987-02-13 | 1989-08-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Wash water reservoiring method and apparatus therefore |
| JPH02269339A (ja) * | 1989-04-11 | 1990-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料の処理装置 |
| US5237360A (en) * | 1991-06-12 | 1993-08-17 | Eastman Kodak Company | Apparatus for processing photosensitive materials |
| US5196878A (en) * | 1991-09-27 | 1993-03-23 | Eastman Kodak Company | Processor for photosensitive material |
| US5309191A (en) * | 1992-03-02 | 1994-05-03 | Eastman Kodak Company | Recirculation, replenishment, refresh, recharge and backflush for a photographic processing apparatus |
| US5270762A (en) * | 1992-03-02 | 1993-12-14 | Eastman Kodak Company | Slot impingement for a photographic processing apparatus |
| US5353087A (en) * | 1993-05-03 | 1994-10-04 | Eastman Kodak Company | Automatic replenishment, calibration and metering system for an automatic tray processor |
| US5379086A (en) * | 1993-06-16 | 1995-01-03 | Kuzyk; Roman | Automatic photo-chemical replenishment with batch processing |
-
1995
- 1995-05-10 US US08/438,288 patent/US5561491A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-05-03 DE DE19617682A patent/DE19617682A1/de not_active Withdrawn
- 1996-05-08 GB GB9609564A patent/GB2300730B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-10 JP JP8116066A patent/JPH08314101A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2300730B (en) | 1999-05-19 |
| GB2300730A (en) | 1996-11-13 |
| GB9609564D0 (en) | 1996-07-10 |
| DE19617682A1 (de) | 1996-11-14 |
| US5561491A (en) | 1996-10-01 |
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