JPH08314361A - ホログラフィ装置 - Google Patents
ホログラフィ装置Info
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- JPH08314361A JPH08314361A JP7145478A JP14547895A JPH08314361A JP H08314361 A JPH08314361 A JP H08314361A JP 7145478 A JP7145478 A JP 7145478A JP 14547895 A JP14547895 A JP 14547895A JP H08314361 A JPH08314361 A JP H08314361A
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- hologram
- mask
- spatial filter
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H1/0408—Total internal reflection [TIR] holograms, e.g. edge lit or substrate mode holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0486—Improving or monitoring the quality of the record, e.g. by compensating distortions, aberrations
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2210/00—Object characteristics
- G03H2210/20—2D object
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/20—Coherence of the light source
- G03H2222/22—Spatial coherence
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2223/00—Optical components
- G03H2223/18—Prism
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ホログラムへの記録に際して、これに重畳する
ノイズが少ないホログラム記録装置をし、またホログラ
ムの再生に際して、これに重畳するノイズが少ないホロ
グラム再生装置を提供する。 【構成】ホログラム１に対向してマスク３を配置し、同
一の光源から射出された光を物体照射光５と参照光６と
に分割し、物体照射光５によってマスク３を照射し、参
照光６によってホログラム１を照射し、マスク３から射
出される物体光９と参照光６とによって、マスク３に記
録されたパターンをホログラム１に転写するホログラフ
ィ記録装置において、物体照射光５の光路中にスペイシ
ャル・フィルター８を配置し、該スペイシャル・フィル
ター８より射出される発散光によって、マスク３を直接
照射したことを特徴とする。
ノイズが少ないホログラム記録装置をし、またホログラ
ムの再生に際して、これに重畳するノイズが少ないホロ
グラム再生装置を提供する。 【構成】ホログラム１に対向してマスク３を配置し、同
一の光源から射出された光を物体照射光５と参照光６と
に分割し、物体照射光５によってマスク３を照射し、参
照光６によってホログラム１を照射し、マスク３から射
出される物体光９と参照光６とによって、マスク３に記
録されたパターンをホログラム１に転写するホログラフ
ィ記録装置において、物体照射光５の光路中にスペイシ
ャル・フィルター８を配置し、該スペイシャル・フィル
ター８より射出される発散光によって、マスク３を直接
照射したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、画像メモリー、リソ
グラフィなどの２次元画像をホログラムに記録するホロ
グラフィ記録装置と、ホログラムに記録された干渉縞を
半導体ウエハなどの被記録部材に再生するホログラフィ
再生装置に関する。
グラフィなどの２次元画像をホログラムに記録するホロ
グラフィ記録装置と、ホログラムに記録された干渉縞を
半導体ウエハなどの被記録部材に再生するホログラフィ
再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】２次元画像を高い分解能で記録、再生す
る方法として、全反射ホログラフィが知られている。全
反射ホログラフィでは、記録しようとする画像の描かれ
たマスクをホログラムの近傍に配置することができる。
全反射ホログラフィへの２次元画像の記録は、従来、図
６に示すように次の様に行われていた。レーザ光源（図
示せず）から出射した光は、ハーフミラー４で物体照射
光５と参照光６に分割される。物体照射光５は、スペイ
シャル・フィルター８によりノイズを除去され、コリメ
ータ・レンズ２０で平行光になった後マスク３に照射さ
れ、マスク３からの物体光９がホログラム１に入射して
いた。また、ハーフミラー４で分割された参照光６も同
様に、スペイシャル・フィルター１１によりノイズを除
去され、コリメータ・レンズ２１で平行光になり、ホロ
グラム１を支持するプリズム２に入射した後、ホログラ
ム１に入射していた。光学系の配置によっては、コリメ
ータ・レンズからの出射光をミラー２２によって反射さ
せて、マスク３或いはプリズム２に照射することもあっ
た。全反射ホログラフィに記録された干渉縞の再生につ
いても同様であり、レーザ光源から出射した再生光は、
スペイシャル・フィルターによりノイズを除去され、コ
リメータ・レンズで平行光になり、プリズムを介してホ
ログラムに入射していた。
る方法として、全反射ホログラフィが知られている。全
反射ホログラフィでは、記録しようとする画像の描かれ
たマスクをホログラムの近傍に配置することができる。
全反射ホログラフィへの２次元画像の記録は、従来、図
６に示すように次の様に行われていた。レーザ光源（図
示せず）から出射した光は、ハーフミラー４で物体照射
光５と参照光６に分割される。物体照射光５は、スペイ
シャル・フィルター８によりノイズを除去され、コリメ
ータ・レンズ２０で平行光になった後マスク３に照射さ
れ、マスク３からの物体光９がホログラム１に入射して
いた。また、ハーフミラー４で分割された参照光６も同
様に、スペイシャル・フィルター１１によりノイズを除
去され、コリメータ・レンズ２１で平行光になり、ホロ
グラム１を支持するプリズム２に入射した後、ホログラ
ム１に入射していた。光学系の配置によっては、コリメ
ータ・レンズからの出射光をミラー２２によって反射さ
せて、マスク３或いはプリズム２に照射することもあっ
た。全反射ホログラフィに記録された干渉縞の再生につ
いても同様であり、レーザ光源から出射した再生光は、
スペイシャル・フィルターによりノイズを除去され、コ
リメータ・レンズで平行光になり、プリズムを介してホ
ログラムに入射していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】全反射ホログラフィで
は解像度の高い画像記録を実現できるが、一方ではノイ
ズ光までも記録されてしまい、画像の質を低下させてし
まうという問題もある。すなわちレーザ光源からホログ
ラム１にレーザ光５，６を導く過程で発生する散乱光の
うち、スペイシャル・フィルター８，１１よりも手前に
配置された光学系で発生した散乱光は、スペイシャル・
フィルター８，１１のピンホール８ｂ，１１ｂによって
カットされるが、スペイシャル・フィルター８，１１の
後に配置されたコリメータ・レンズ２０，２１やミラー
２２などの光学系で散乱された光は、ホログラム１に達
してしまい、ホログラム１に記録すべき干渉縞に、ノイ
ズとして重畳して記録されていた。
は解像度の高い画像記録を実現できるが、一方ではノイ
ズ光までも記録されてしまい、画像の質を低下させてし
まうという問題もある。すなわちレーザ光源からホログ
ラム１にレーザ光５，６を導く過程で発生する散乱光の
うち、スペイシャル・フィルター８，１１よりも手前に
配置された光学系で発生した散乱光は、スペイシャル・
フィルター８，１１のピンホール８ｂ，１１ｂによって
カットされるが、スペイシャル・フィルター８，１１の
後に配置されたコリメータ・レンズ２０，２１やミラー
２２などの光学系で散乱された光は、ホログラム１に達
してしまい、ホログラム１に記録すべき干渉縞に、ノイ
ズとして重畳して記録されていた。
【０００４】また、再生時においても、レーザ光源から
ホログラムにレーザ光を導く過程で発生する散乱光のう
ち、スペイシャル・フィルターよりも手前の光学系で発
生した散乱光は、スペイシャル・フィルターのピンホー
ルによってカットされるが、その後のコリメータ・レン
ズやミラーで散乱された光はホログラムに達してしま
い、ウエハに再生すべき画像に、ノイズとして重畳して
記録されていた。したがって本発明は、ホログラムへの
記録に際して、これに重畳するノイズが少ないホログラ
ム記録装置を提供することを目的とし、またホログラム
の再生に際して、これに重畳するノイズが少ないホログ
ラム再生装置を提供することを目的とする。
ホログラムにレーザ光を導く過程で発生する散乱光のう
ち、スペイシャル・フィルターよりも手前の光学系で発
生した散乱光は、スペイシャル・フィルターのピンホー
ルによってカットされるが、その後のコリメータ・レン
ズやミラーで散乱された光はホログラムに達してしま
い、ウエハに再生すべき画像に、ノイズとして重畳して
記録されていた。したがって本発明は、ホログラムへの
記録に際して、これに重畳するノイズが少ないホログラ
ム記録装置を提供することを目的とし、またホログラム
の再生に際して、これに重畳するノイズが少ないホログ
ラム再生装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたものであり、すなわち、物体照射光
の光路中にスペイシャル・フィルターを配置し、該スペ
イシャル・フィルターより射出される発散光によってマ
スクを直接照射し、あるいは参照光の光路中にスペイシ
ャル・フィルターを配置し、該スペイシャル・フィルタ
ーより射出される発散光を、ホログラム支持部材に直接
入射させたホログラフィ記録装置である。本発明はま
た、再生光の光路中にスペイシャル・フィルターを配置
し、該スペイシャル・フィルターより射出される発散光
を、ホログラム支持部材に直接入射させたホログラフィ
再生装置である。
するためになされたものであり、すなわち、物体照射光
の光路中にスペイシャル・フィルターを配置し、該スペ
イシャル・フィルターより射出される発散光によってマ
スクを直接照射し、あるいは参照光の光路中にスペイシ
ャル・フィルターを配置し、該スペイシャル・フィルタ
ーより射出される発散光を、ホログラム支持部材に直接
入射させたホログラフィ記録装置である。本発明はま
た、再生光の光路中にスペイシャル・フィルターを配置
し、該スペイシャル・フィルターより射出される発散光
を、ホログラム支持部材に直接入射させたホログラフィ
再生装置である。
【０００６】
【作用】本発明では、スペイシャル・フィルター以降の
光学系に、コリメータ・レンズやミラーなどの散乱源が
存在しない。それ故、光学系によって発生する散乱光は
すべてスペイシャル・フィルターによってカットされ
て、記録時にも再生時にもホログラムには到達せず、ノ
イズのない良質な像が記録、再生できる。しかしてマス
ク上の画像のホログラムへの記録と、ホログラムに記録
された情報のウエハへの再生においては、マスクに記録
された画像がウエハに忠実に再現される必要がある。以
下に本発明の構成によっても、マスクに記録された画像
がウエハに忠実に再現されることを説明する。
光学系に、コリメータ・レンズやミラーなどの散乱源が
存在しない。それ故、光学系によって発生する散乱光は
すべてスペイシャル・フィルターによってカットされ
て、記録時にも再生時にもホログラムには到達せず、ノ
イズのない良質な像が記録、再生できる。しかしてマス
ク上の画像のホログラムへの記録と、ホログラムに記録
された情報のウエハへの再生においては、マスクに記録
された画像がウエハに忠実に再現される必要がある。以
下に本発明の構成によっても、マスクに記録された画像
がウエハに忠実に再現されることを説明する。
【０００７】ホログラムに記録した画像の実像を完全に
結像するには、参照光と共役な光をホログラムに照射し
なければならない。したがって参照光が発散球面波のと
きには、再生光は収束球面波でなければならないし、ま
た再生光が発散球面波のときには、参照光は収束球面波
でなければならない。しかし収束球面波を作るには、ス
ペイシャル・フィルター以降にレンズを入れる必要があ
り、このレンズが新たな散乱源になってしまう。新たな
散乱源をもたらすことなしに収束光を作る方法として
は、ホログラム支持部材の入射面、或いは反射面を球面
加工する方法があるが、全反射ホログラフィの場合に
は、参照光と再生光とを共に発散球面波としても問題が
ないことが、結像理論により証明される。
結像するには、参照光と共役な光をホログラムに照射し
なければならない。したがって参照光が発散球面波のと
きには、再生光は収束球面波でなければならないし、ま
た再生光が発散球面波のときには、参照光は収束球面波
でなければならない。しかし収束球面波を作るには、ス
ペイシャル・フィルター以降にレンズを入れる必要があ
り、このレンズが新たな散乱源になってしまう。新たな
散乱源をもたらすことなしに収束光を作る方法として
は、ホログラム支持部材の入射面、或いは反射面を球面
加工する方法があるが、全反射ホログラフィの場合に
は、参照光と再生光とを共に発散球面波としても問題が
ないことが、結像理論により証明される。
【０００８】いま図５に示すようにｘ，ｙ，ｚ直交座標
系を設け、ホログラム面がｚ＝０にあり、物体波、参照
波及び再生波の各光源Ｏ，Ｓr及びＳcがすべて同一平面
（ｘ−ｚ面）上にあるとき、サジタル像、メリディオナ
ル像の結像式は、 １／ＲIS＝１／Ｒc±μ／ｍ2・（１／Ｒo−１／Ｒr） ‥‥（Ａ0） cos2αI／ＲIM＝cos2αc／Ｒc±μ／ｍ2・（cos2αo／Ｒo−cos2αr／Ｒr） ‥‥（Ｂ0） で与えられる。また像のできる方向は、 sinαI＝sinαc±μ／ｍ・（sinαo−sinαr） ‥‥（Ｃ0） で表される。なお参照波の光源Ｓrの位置は、ホログラ
ム表面で全反射した後の光波の発散原点として扱う。こ
こでＲは、ホログラム原点と、物体波の光源Ｏすなわち
マスク上の物点、参照波の光源Ｓr、再生波の光源Ｓc、
又は回折波の光源Ｉすなわちレジスト上の像点との距離
であり、ｚ＞０にあるときを（＋）、ｚ＜０にあるとき
を（−）とする。αは、各波の光源Ｏ，Ｓr，Ｓc又はＩ
の方向であり、ｚ軸となす鋭角で定義し、符号は反時計
廻りを（＋）とする。したがって、−９０°＜α≦＋９
０°である。ｍはホログラムの倍率の変化であり、μは
再生波長の記録波長に対する比（λc／λo）である。添
字ｏ，ｒ，ｃ，Ｉは、それぞれ物体波、参照波、再生
波、回折波を表し、また添字Ｓ，Ｍは、それぞれサジタ
ル像とメリディオナル像を表す。
系を設け、ホログラム面がｚ＝０にあり、物体波、参照
波及び再生波の各光源Ｏ，Ｓr及びＳcがすべて同一平面
（ｘ−ｚ面）上にあるとき、サジタル像、メリディオナ
ル像の結像式は、 １／ＲIS＝１／Ｒc±μ／ｍ2・（１／Ｒo−１／Ｒr） ‥‥（Ａ0） cos2αI／ＲIM＝cos2αc／Ｒc±μ／ｍ2・（cos2αo／Ｒo−cos2αr／Ｒr） ‥‥（Ｂ0） で与えられる。また像のできる方向は、 sinαI＝sinαc±μ／ｍ・（sinαo−sinαr） ‥‥（Ｃ0） で表される。なお参照波の光源Ｓrの位置は、ホログラ
ム表面で全反射した後の光波の発散原点として扱う。こ
こでＲは、ホログラム原点と、物体波の光源Ｏすなわち
マスク上の物点、参照波の光源Ｓr、再生波の光源Ｓc、
又は回折波の光源Ｉすなわちレジスト上の像点との距離
であり、ｚ＞０にあるときを（＋）、ｚ＜０にあるとき
を（−）とする。αは、各波の光源Ｏ，Ｓr，Ｓc又はＩ
の方向であり、ｚ軸となす鋭角で定義し、符号は反時計
廻りを（＋）とする。したがって、−９０°＜α≦＋９
０°である。ｍはホログラムの倍率の変化であり、μは
再生波長の記録波長に対する比（λc／λo）である。添
字ｏ，ｒ，ｃ，Ｉは、それぞれ物体波、参照波、再生
波、回折波を表し、また添字Ｓ，Ｍは、それぞれサジタ
ル像とメリディオナル像を表す。
【０００９】各式の符号±は、通常の再生の場合には＋
が虚像に対応し、−が実像に対応する。参照光と逆向き
に再生光を入射する共役再生の場合には、＋が実像に対
応し、−が虚像に対応する。ここで考えているのは共役
実像再生であるから、各式の符号±のうち＋を取ること
になる。したがって式（Ａ0）、（Ｂ0）、（Ｃ0）はそ
れぞれ、 １／ＲIS＝１／Ｒc＋μ／ｍ2・（１／Ｒo−１／Ｒr） ‥‥（Ａ1） cos2αI／ＲIM＝cos2αc／Ｒc＋μ／ｍ2・（cos2αo／Ｒo−cos2αr／Ｒr） ‥‥（Ｂ1） sinαI＝sinαc＋μ／ｍ・（sinαo−sinαr） ‥‥（Ｃ1） となる。
が虚像に対応し、−が実像に対応する。参照光と逆向き
に再生光を入射する共役再生の場合には、＋が実像に対
応し、−が虚像に対応する。ここで考えているのは共役
実像再生であるから、各式の符号±のうち＋を取ること
になる。したがって式（Ａ0）、（Ｂ0）、（Ｃ0）はそ
れぞれ、 １／ＲIS＝１／Ｒc＋μ／ｍ2・（１／Ｒo−１／Ｒr） ‥‥（Ａ1） cos2αI／ＲIM＝cos2αc／Ｒc＋μ／ｍ2・（cos2αo／Ｒo−cos2αr／Ｒr） ‥‥（Ｂ1） sinαI＝sinαc＋μ／ｍ・（sinαo−sinαr） ‥‥（Ｃ1） となる。
【００１０】ここで、 μ＝ｍ＝１、αc＝αr ‥‥（Ｄ1） とすれば、式（Ｃ1）より、 αI＝αo となる。したがって式（Ａ1）と（Ｂ1）はそれぞれ、 １／ＲIS＝ １／Ｒc＋１／Ｒo− １／Ｒr ‥‥（Ａ2） １／ＲIM＝ｋ2／Ｒc＋１／Ｒo−ｋ2／Ｒr ‥‥（Ｂ2） となる。但し、 ｋ≡cosαr／cosαo である。
【００１１】全反射ホログラフィの特徴は、マスクをホ
ログラムの極めて近傍（例えば１００μｍ）に設置でき
ることにある。この場合には、 Ｒo≪Ｒr、Ｒo≪Ｒc なので、式（Ａ2）と（Ｂ2）はそれぞれ、 １／ＲIS＝１／Ｒo ‥‥（Ａ3） １／ＲIM＝１／Ｒo ‥‥（Ｂ3） となる。すなわち、 ＲIS＝ＲIM＝Ｒo となり、完全な実像再生が実現されることがわかる。こ
うして全反射ホログラフィでは、参照波と再生波の曲率
半径が、ホログラムとマスクの距離に比べて十分大きけ
れば、参照波と再生波が共に発散波であっても完全な実
像再生が実現される。
ログラムの極めて近傍（例えば１００μｍ）に設置でき
ることにある。この場合には、 Ｒo≪Ｒr、Ｒo≪Ｒc なので、式（Ａ2）と（Ｂ2）はそれぞれ、 １／ＲIS＝１／Ｒo ‥‥（Ａ3） １／ＲIM＝１／Ｒo ‥‥（Ｂ3） となる。すなわち、 ＲIS＝ＲIM＝Ｒo となり、完全な実像再生が実現されることがわかる。こ
うして全反射ホログラフィでは、参照波と再生波の曲率
半径が、ホログラムとマスクの距離に比べて十分大きけ
れば、参照波と再生波が共に発散波であっても完全な実
像再生が実現される。
【００１２】次に、式（Ａ2）、（Ｂ2）から式
（Ａ3）、（Ｂ3）への変形では、１次の微小量（Ｒo／
Ｒr）、（Ｒo／Ｒc）以降を無視していたが、１次の微
小量（Ｒo／Ｒr）、（Ｒo／Ｒc）は採用し、２次の微小
量（Ｒo／Ｒr）2、（Ｒo／Ｒc）2以降を無視することに
よって、式（Ａ2）、（Ｂ2）をより詳細に変形する。式
（Ａ2）より、 ＲIS＝Ｒo／｛１−（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ＝Ｒo｛１＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc） ＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）2＋‥‥｝ ≒Ｒo｛１＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ‥‥（Ａ4） となる。同様に式（Ｂ2）より、 ＲIM＝Ｒo／｛１−ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ＝Ｒo｛１＋ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc） ＋ｋ4・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）2＋‥‥｝ ≒Ｒo｛１＋ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ‥‥（Ｂ4） となる。
（Ａ3）、（Ｂ3）への変形では、１次の微小量（Ｒo／
Ｒr）、（Ｒo／Ｒc）以降を無視していたが、１次の微
小量（Ｒo／Ｒr）、（Ｒo／Ｒc）は採用し、２次の微小
量（Ｒo／Ｒr）2、（Ｒo／Ｒc）2以降を無視することに
よって、式（Ａ2）、（Ｂ2）をより詳細に変形する。式
（Ａ2）より、 ＲIS＝Ｒo／｛１−（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ＝Ｒo｛１＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc） ＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）2＋‥‥｝ ≒Ｒo｛１＋（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ‥‥（Ａ4） となる。同様に式（Ｂ2）より、 ＲIM＝Ｒo／｛１−ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ＝Ｒo｛１＋ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc） ＋ｋ4・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）2＋‥‥｝ ≒Ｒo｛１＋ｋ2・（Ｒo／Ｒr−Ｒo／Ｒc）｝ ‥‥（Ｂ4） となる。
【００１３】よって、サジタル像とメリディオナル像の
結像位置の差ΔＲSMは、 ΔＲSM≡｜ＲIS−ＲIM｜ ＝（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc）・｜１−ｋ2｜ ‥‥（Ｅ1） となり、ΔＲSMについての許容限度をεとすれば、 （Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc）・｜１−ｋ2｜＜ε ‥‥（Ｆ） が成立すれば良いことになる。他方、ホログラム露光時
のマスクの位置から、ホログラム再生時の結像位置まで
の移動量ｚは、式（Ａ4）より、 ｚ≡ＲIS−Ｒo ＝（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc） ‥‥（Ｇ） となる。
結像位置の差ΔＲSMは、 ΔＲSM≡｜ＲIS−ＲIM｜ ＝（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc）・｜１−ｋ2｜ ‥‥（Ｅ1） となり、ΔＲSMについての許容限度をεとすれば、 （Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc）・｜１−ｋ2｜＜ε ‥‥（Ｆ） が成立すれば良いことになる。他方、ホログラム露光時
のマスクの位置から、ホログラム再生時の結像位置まで
の移動量ｚは、式（Ａ4）より、 ｚ≡ＲIS−Ｒo ＝（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc） ‥‥（Ｇ） となる。
【００１４】ここで、 ｜１−ｋ2｜＜１ を解くと、 ０＜ｋ＜２1/2 すなわち、 ０＜cosαr／cosαo＜２1/2 ‥‥（Ｈ） となる。全反射ホログラフィでは、物体照明光の光源Ｓ
oはマスクの直上に配置されるのに対して、再生光はホ
ログラム表面で全反射するように斜入射するから、物体
照明光Ｓoの光源を極端にマスクの近くに配置しない限
り、 ｜αr｜＞｜αo｜ であり、したがって通常、式（Ｈ）が成立しており、 ｜１−ｋ2｜＜１ となっている。よって式（Ｅ1）は、 ΔＲSM＜（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc） ‥‥（Ｅ2） となる。
oはマスクの直上に配置されるのに対して、再生光はホ
ログラム表面で全反射するように斜入射するから、物体
照明光Ｓoの光源を極端にマスクの近くに配置しない限
り、 ｜αr｜＞｜αo｜ であり、したがって通常、式（Ｈ）が成立しており、 ｜１−ｋ2｜＜１ となっている。よって式（Ｅ1）は、 ΔＲSM＜（Ｒo）2（１／Ｒr−１／Ｒc） ‥‥（Ｅ2） となる。
【００１５】例えば、Ｒo＝１００μｍとし、ΔＲSMに
ついての許容限度εをε＝０．１μｍとし、 Ｒr＝−Ｒc ‥‥（Ｄ2） とすると、式（Ｅ2）より、Ｒr＝−Ｒc＞２００ｍｍで
ある限り、ΔＲSM＜εとなる。またこのとき、マスクの
位置から再生時の結像位置までの移動量ｚもｚ＜εとな
っている。条件（Ｄ1）と（Ｄ2）とは、参照波（発散
波）と同じ曲率半径の再生波（発散波）を、参照波と逆
向きから照射することに相当する。即ち、２次元画像を
記録したマスクをホログラムから１００μｍの位置に置
いたときには、参照波と再生波の曲率半径がそれぞれ２
００ｍｍ以上であれば、発散波を用いても全く問題がな
く、デフォーカスに関しても問題ないことがわかる。な
お、ここでの解析は薄いホログラムに関する近軸結像理
論に基づいているが、ボリュームホログラムの場合に適
応しても問題ない。
ついての許容限度εをε＝０．１μｍとし、 Ｒr＝−Ｒc ‥‥（Ｄ2） とすると、式（Ｅ2）より、Ｒr＝−Ｒc＞２００ｍｍで
ある限り、ΔＲSM＜εとなる。またこのとき、マスクの
位置から再生時の結像位置までの移動量ｚもｚ＜εとな
っている。条件（Ｄ1）と（Ｄ2）とは、参照波（発散
波）と同じ曲率半径の再生波（発散波）を、参照波と逆
向きから照射することに相当する。即ち、２次元画像を
記録したマスクをホログラムから１００μｍの位置に置
いたときには、参照波と再生波の曲率半径がそれぞれ２
００ｍｍ以上であれば、発散波を用いても全く問題がな
く、デフォーカスに関しても問題ないことがわかる。な
お、ここでの解析は薄いホログラムに関する近軸結像理
論に基づいているが、ボリュームホログラムの場合に適
応しても問題ない。
【００１６】
【実施例】本発明を図面によって説明する。図１は本発
明によるホログラフィ記録装置の第１実施例を示し、全
反射ホログラム１がプリズム２上に配置されており、ホ
ログラム１との間に微細な間隔をあけて、画像パターン
を記録したマスク３が配置されている。レーザー光源
（図示せず）によって発生したレーザー光は、ハーフミ
ラー４によって物体照射光５と参照光６とに分割されて
いる。ハーフミラー４を透過した物体照射光５は、ミラ
ー７によってマスク３平面に対して垂直な方向に転向し
た後、顕微鏡対物レンズ８ａとピンホール８ｂとからな
るスペイシャル・フィルター８を透過している。物体照
射光５は対物レンズ８ａの焦点に集光し、この点に置か
れたピンホール８ｂを透過するが、対物レンズ８ａ以前
のレーザー光源、ハーフミラー４、ミラー７などの光学
系で生じた散乱光や、対物レンズ８ａ内で生じた散乱光
のうち、光軸に対して傾いた成分は、対物レンズ８ａの
焦点には結像しないため、ピンホール８ｂを透過するこ
とが出来ない。この様にしてスペイシャル・フィルター
８によりノイズ光がカットされる。スペイシャル・フィ
ルター８を透過した発散光の物体照明光５は、発散光の
まま直接マスク３に入射し、マスク３を透過した物体光
９は、ホログラム１に入射している。
明によるホログラフィ記録装置の第１実施例を示し、全
反射ホログラム１がプリズム２上に配置されており、ホ
ログラム１との間に微細な間隔をあけて、画像パターン
を記録したマスク３が配置されている。レーザー光源
（図示せず）によって発生したレーザー光は、ハーフミ
ラー４によって物体照射光５と参照光６とに分割されて
いる。ハーフミラー４を透過した物体照射光５は、ミラ
ー７によってマスク３平面に対して垂直な方向に転向し
た後、顕微鏡対物レンズ８ａとピンホール８ｂとからな
るスペイシャル・フィルター８を透過している。物体照
射光５は対物レンズ８ａの焦点に集光し、この点に置か
れたピンホール８ｂを透過するが、対物レンズ８ａ以前
のレーザー光源、ハーフミラー４、ミラー７などの光学
系で生じた散乱光や、対物レンズ８ａ内で生じた散乱光
のうち、光軸に対して傾いた成分は、対物レンズ８ａの
焦点には結像しないため、ピンホール８ｂを透過するこ
とが出来ない。この様にしてスペイシャル・フィルター
８によりノイズ光がカットされる。スペイシャル・フィ
ルター８を透過した発散光の物体照明光５は、発散光の
まま直接マスク３に入射し、マスク３を透過した物体光
９は、ホログラム１に入射している。
【００１７】同様にハーフミラー４によって反射した参
照光６は、ミラー１０によってプリズム２の斜面に対し
て垂直な方向に転向した後、顕微鏡対物レンズ１１ａと
ピンホール１１ｂとからなるスペイシャル・フィルター
１１を透過している。スペイシャル・フィルター１１を
透過した発散光の参照光６は、発散光のまま直接プリズ
ム２の斜面に入射し、更にプリズム２上に配置したホロ
グラム１に全反射するように入射している。ホログラム
１に入射した物体光９と参照光６は互いに干渉して干渉
縞を形成し、こうしてマスク３に記録された画像パター
ンに対応した干渉縞パターンが、ホログラム１に記録さ
れる。
照光６は、ミラー１０によってプリズム２の斜面に対し
て垂直な方向に転向した後、顕微鏡対物レンズ１１ａと
ピンホール１１ｂとからなるスペイシャル・フィルター
１１を透過している。スペイシャル・フィルター１１を
透過した発散光の参照光６は、発散光のまま直接プリズ
ム２の斜面に入射し、更にプリズム２上に配置したホロ
グラム１に全反射するように入射している。ホログラム
１に入射した物体光９と参照光６は互いに干渉して干渉
縞を形成し、こうしてマスク３に記録された画像パター
ンに対応した干渉縞パターンが、ホログラム１に記録さ
れる。
【００１８】本実施例は以上のように構成されており、
物体光９と参照光６とは共に発散光ではあるが、マスク
３はホログラム１に著しく接近して配置されているか
ら、この間隔に比して、物体光９の光波の発散原点、す
なわち物体照射光５用のピンホール８ｂの位置からホロ
グラム１までの距離は、無限大と見なすことができ、同
様に参照光６の光波の発散原点、すなわち参照光６用の
ピンホール１１ｂの位置からホログラム１までの距離も
無限大と見なすことができる。すなわちホログラム１と
マスク３との間隔に比して、物体光９と参照光６とは共
に平行光束と見なすことができるから、ホログラム１に
は、物体光９と参照光６とが共に平行光束である場合に
得られる干渉縞パターンと同じ干渉縞パターンが記録さ
れる。
物体光９と参照光６とは共に発散光ではあるが、マスク
３はホログラム１に著しく接近して配置されているか
ら、この間隔に比して、物体光９の光波の発散原点、す
なわち物体照射光５用のピンホール８ｂの位置からホロ
グラム１までの距離は、無限大と見なすことができ、同
様に参照光６の光波の発散原点、すなわち参照光６用の
ピンホール１１ｂの位置からホログラム１までの距離も
無限大と見なすことができる。すなわちホログラム１と
マスク３との間隔に比して、物体光９と参照光６とは共
に平行光束と見なすことができるから、ホログラム１に
は、物体光９と参照光６とが共に平行光束である場合に
得られる干渉縞パターンと同じ干渉縞パターンが記録さ
れる。
【００１９】しかしてスペイシャル・フィルター８を透
過した物体照明光５は、直接マスク３に入射しているか
ら、マスク３より射出する物体光９には、マスク３の表
面で発生するノイズしか重畳しない。またスペイシャル
・フィルター１１を透過した参照光６は、直接プリズム
２に入射しているから、ホログラム１に入射する参照光
６には、プリズム２の表面で発生するノイズしか重畳し
ない。したがってホログラム１に記録される干渉縞パタ
ーンに重畳するノイズは、著しく軽減される。
過した物体照明光５は、直接マスク３に入射しているか
ら、マスク３より射出する物体光９には、マスク３の表
面で発生するノイズしか重畳しない。またスペイシャル
・フィルター１１を透過した参照光６は、直接プリズム
２に入射しているから、ホログラム１に入射する参照光
６には、プリズム２の表面で発生するノイズしか重畳し
ない。したがってホログラム１に記録される干渉縞パタ
ーンに重畳するノイズは、著しく軽減される。
【００２０】なおスペイシャル・フィルターのピンホー
ル８ｂ，１１ｂのピンホール径は、顕微鏡対物レンズ８
ａ，１１ａによって集光されるスポット径に合わせなけ
ればならない。スポット径よりも大きなピンホール径の
ピンホール８ｂ，１１ｂを用いた場合には、散乱光が若
干ピンホール８ｂ，１１ｂを透過してしまう。逆にピン
ホール径がスポット径よりも小さい場合には、散乱光は
カットされるが、物体照射光５又は参照光６がピンホー
ル８ｂ，１１ｂで回折される。回折光の中央部を用いれ
ば回折は問題にならないので、散乱光を確実にカットで
きるように、ピンホール８ｂ，１１ｂのピンホール径を
小さめに設定することが望ましい。また対物レンズ８
ａ，１１ａでの散乱光が問題となる場合には、対物レン
ズ８ａ，１１ａを設けずに、物体照射光５又は参照光６
を直接ピンホール８ｂ，１１ｂに照射して、回折光を用
いることも可能である。
ル８ｂ，１１ｂのピンホール径は、顕微鏡対物レンズ８
ａ，１１ａによって集光されるスポット径に合わせなけ
ればならない。スポット径よりも大きなピンホール径の
ピンホール８ｂ，１１ｂを用いた場合には、散乱光が若
干ピンホール８ｂ，１１ｂを透過してしまう。逆にピン
ホール径がスポット径よりも小さい場合には、散乱光は
カットされるが、物体照射光５又は参照光６がピンホー
ル８ｂ，１１ｂで回折される。回折光の中央部を用いれ
ば回折は問題にならないので、散乱光を確実にカットで
きるように、ピンホール８ｂ，１１ｂのピンホール径を
小さめに設定することが望ましい。また対物レンズ８
ａ，１１ａでの散乱光が問題となる場合には、対物レン
ズ８ａ，１１ａを設けずに、物体照射光５又は参照光６
を直接ピンホール８ｂ，１１ｂに照射して、回折光を用
いることも可能である。
【００２１】物体光９にはマスク３表面で発生する散乱
光だけが重畳するから、この散乱光の低減を図るため
に、表面粗さが小さく、パターン面、裏面とも反射防止
がなされたマスク３を用いることが好ましく、且つ傷、
ゴミ等の散乱源がない状態でマスク３を用いることが肝
要である。他方、参照光６にはプリズム２の入射面と、
ホログラム１とプリズム２との境界面での散乱光だけが
重畳するから、この散乱光の低減を図るために、表面粗
さが小さいプリズム２を用い、且つ傷、ゴミなどの散乱
源が付かない状態でプリズム２を用いることが肝要であ
る。
光だけが重畳するから、この散乱光の低減を図るため
に、表面粗さが小さく、パターン面、裏面とも反射防止
がなされたマスク３を用いることが好ましく、且つ傷、
ゴミ等の散乱源がない状態でマスク３を用いることが肝
要である。他方、参照光６にはプリズム２の入射面と、
ホログラム１とプリズム２との境界面での散乱光だけが
重畳するから、この散乱光の低減を図るために、表面粗
さが小さいプリズム２を用い、且つ傷、ゴミなどの散乱
源が付かない状態でプリズム２を用いることが肝要であ
る。
【００２２】またホログラム１は、通常、平面基板上に
ホログラム記録材料を塗布して形成され、インデックス
マッチング液を介してプリズム２上に設置される。した
がってインデックスマッチング液としては、散乱が小さ
く、蛍光を発しないものを選ぶことが好ましい。ホログ
ラム１の基板とプリズム２との境界面での散乱や、イン
デックスマッチング液での散乱が問題となる場合には、
ホログラム記録材料を直接プリズム２上に塗布すること
も可能である。参照光６はホログラム記録材料の表面で
全反射するため、反射の時に散乱光が生じない様に、記
録材料の表面は可能な限り均一に保ち、且つ傷、ゴミな
どの付着を可能な限り防止することが肝要である。
ホログラム記録材料を塗布して形成され、インデックス
マッチング液を介してプリズム２上に設置される。した
がってインデックスマッチング液としては、散乱が小さ
く、蛍光を発しないものを選ぶことが好ましい。ホログ
ラム１の基板とプリズム２との境界面での散乱や、イン
デックスマッチング液での散乱が問題となる場合には、
ホログラム記録材料を直接プリズム２上に塗布すること
も可能である。参照光６はホログラム記録材料の表面で
全反射するため、反射の時に散乱光が生じない様に、記
録材料の表面は可能な限り均一に保ち、且つ傷、ゴミな
どの付着を可能な限り防止することが肝要である。
【００２３】次に図２は本発明によるホログラフィ記録
装置の第２実施例を示し、この実施例では、プリズム２
面上に参照光６用のピンホール１１ｂを設けたものであ
る。この構成により、プリズム２の入射面での散乱光の
発生を軽減することができる。
装置の第２実施例を示し、この実施例では、プリズム２
面上に参照光６用のピンホール１１ｂを設けたものであ
る。この構成により、プリズム２の入射面での散乱光の
発生を軽減することができる。
【００２４】次に図３は本発明によるホログラフィ記録
装置の第３実施例を示す。上記第２実施例では、プリズ
ム２面上に参照光６用のピンホール１１ｂを設けている
から、ホログラム１とマスク３との間隔に比して、参照
光６の光波の発散原点、すなわち参照光６用のピンホー
ル１１ｂの位置からホログラム１までの距離を無限大と
見なせないことも生じる。そこでこの第３実施例では、
プリズム２を、参照光６の入射面からホログラム設置面
までの距離が長くなるように形成して、参照光６を平行
光束と見なせるようにしたものである。
装置の第３実施例を示す。上記第２実施例では、プリズ
ム２面上に参照光６用のピンホール１１ｂを設けている
から、ホログラム１とマスク３との間隔に比して、参照
光６の光波の発散原点、すなわち参照光６用のピンホー
ル１１ｂの位置からホログラム１までの距離を無限大と
見なせないことも生じる。そこでこの第３実施例では、
プリズム２を、参照光６の入射面からホログラム設置面
までの距離が長くなるように形成して、参照光６を平行
光束と見なせるようにしたものである。
【００２５】次に図４は本発明によるホログラフィ再生
装置の一実施例を示す。マスクの画像パターンに対応し
た干渉縞パターンを記録した全反射ホログラム１がプリ
ズム２上に配置されており、ホログラム１との間に微細
な間隔をあけて、下面にレジストを塗布したウエハ１２
が配置されている。レーザー光源（図示せず）によって
発生した再生光１３は、顕微鏡対物レンズ１４ａとピン
ホール１４ｂとからなるスペイシャル・フィルター１４
を透過した後、発散光のまま直接プリズム２の斜面に入
射し、更にプリズム２上に配置したホログラム１に全反
射するように入射している。ホログラム１に入射した再
生光１３の一部は、ホログラム１の表面において全反射
して再度プリズム２内に戻るが、再生光１３の他の部分
は、ホログラム１に記録された干渉縞パターンによって
回折して再生像を形成し、その再生像の位置にレジスト
が配置されている。こうしてホログラム１に記録された
干渉縞パターンに対応した画像パターンが、レジストに
再生される。
装置の一実施例を示す。マスクの画像パターンに対応し
た干渉縞パターンを記録した全反射ホログラム１がプリ
ズム２上に配置されており、ホログラム１との間に微細
な間隔をあけて、下面にレジストを塗布したウエハ１２
が配置されている。レーザー光源（図示せず）によって
発生した再生光１３は、顕微鏡対物レンズ１４ａとピン
ホール１４ｂとからなるスペイシャル・フィルター１４
を透過した後、発散光のまま直接プリズム２の斜面に入
射し、更にプリズム２上に配置したホログラム１に全反
射するように入射している。ホログラム１に入射した再
生光１３の一部は、ホログラム１の表面において全反射
して再度プリズム２内に戻るが、再生光１３の他の部分
は、ホログラム１に記録された干渉縞パターンによって
回折して再生像を形成し、その再生像の位置にレジスト
が配置されている。こうしてホログラム１に記録された
干渉縞パターンに対応した画像パターンが、レジストに
再生される。
【００２６】本実施例は以上のように構成されており、
再生光１３は発散光ではあるが、ウエハ１２はホログラ
ム１に著しく接近して配置されているから、この間隔に
比して、再生光１３の光波の発散原点、すなわち再生光
５用のピンホール１４ｂの位置からホログラム１までの
距離は、無限大と見なすことができる。すなわちホログ
ラム１とウエハ１２との間隔に比して、再生光１３は平
行光束と見なすことができるから、ウエハ１２には、再
生光１３が平行光束である場合に得られる画像パターン
と同じ画像パターンが再生される。しかしてスペイシャ
ル・フィルター１４を透過した再生光１３は、直接プリ
ズム２に入射しているから、ホログラム１に入射する再
生光１３には、プリズム２の表面で発生するノイズしか
重畳しない。したがってウエハ１２に記録される画像パ
ターンに重畳するノイズは、著しく軽減される。プリズ
ム２での散乱を防ぐには、入射面、反射面での散乱光が
生じない様な低散乱プリズムを用いることが好ましい。
再生光１３は発散光ではあるが、ウエハ１２はホログラ
ム１に著しく接近して配置されているから、この間隔に
比して、再生光１３の光波の発散原点、すなわち再生光
５用のピンホール１４ｂの位置からホログラム１までの
距離は、無限大と見なすことができる。すなわちホログ
ラム１とウエハ１２との間隔に比して、再生光１３は平
行光束と見なすことができるから、ウエハ１２には、再
生光１３が平行光束である場合に得られる画像パターン
と同じ画像パターンが再生される。しかしてスペイシャ
ル・フィルター１４を透過した再生光１３は、直接プリ
ズム２に入射しているから、ホログラム１に入射する再
生光１３には、プリズム２の表面で発生するノイズしか
重畳しない。したがってウエハ１２に記録される画像パ
ターンに重畳するノイズは、著しく軽減される。プリズ
ム２での散乱を防ぐには、入射面、反射面での散乱光が
生じない様な低散乱プリズムを用いることが好ましい。
【００２７】なお上記再生装置では、スペイシャル・フ
ィルター１４をプリズム２の入射面から離隔して配置し
ているが、記録装置における第２実施例の場合と同様
に、スペイシャル・フィルターのピンホール１４ｂを、
プリズム２面上に設けることもでき、この構成により、
プリズム２の入射面での散乱光の発生を防止することが
できる。またその際、記録装置における第３実施例の場
合と同様に、プリズム２を、再生光１３の入射面からホ
ログラム設置面までの距離が長くなる形状に形成するこ
ともできる。
ィルター１４をプリズム２の入射面から離隔して配置し
ているが、記録装置における第２実施例の場合と同様
に、スペイシャル・フィルターのピンホール１４ｂを、
プリズム２面上に設けることもでき、この構成により、
プリズム２の入射面での散乱光の発生を防止することが
できる。またその際、記録装置における第３実施例の場
合と同様に、プリズム２を、再生光１３の入射面からホ
ログラム設置面までの距離が長くなる形状に形成するこ
ともできる。
【００２８】また上記再生装置では、ホログラム１の全
面を一括して再生する場合について述べたが、ホログラ
ム１に記録された干渉縞パターンの一部分に細く絞った
再生ビームを照射して、一部分の干渉縞パターンに対応
した画像パターンをレジストに転写し、ホログラム１に
記録された一定範囲の干渉縞パターン、あるいは全干渉
縞パターンをカバーするように再生ビームを走査するこ
とによって、ホログラム１に記録された干渉縞パターン
をレジストに転写することができる。このビームスキャ
ンの方法によれば、任意の範囲の画像のみを再生するこ
とができる。またビームの入射角を変化させながらスキ
ャンすれば、サジタル像とメリディオナル像の結像位置
の差ΔＲSMがその許容限度ε以内となるための条件式
（Ｆ）を満足することが、一括露光の場合よりも容易に
なる。
面を一括して再生する場合について述べたが、ホログラ
ム１に記録された干渉縞パターンの一部分に細く絞った
再生ビームを照射して、一部分の干渉縞パターンに対応
した画像パターンをレジストに転写し、ホログラム１に
記録された一定範囲の干渉縞パターン、あるいは全干渉
縞パターンをカバーするように再生ビームを走査するこ
とによって、ホログラム１に記録された干渉縞パターン
をレジストに転写することができる。このビームスキャ
ンの方法によれば、任意の範囲の画像のみを再生するこ
とができる。またビームの入射角を変化させながらスキ
ャンすれば、サジタル像とメリディオナル像の結像位置
の差ΔＲSMがその許容限度ε以内となるための条件式
（Ｆ）を満足することが、一括露光の場合よりも容易に
なる。
【００２９】なお以上の説明では、スペイシャル・フィ
ルター８，１１，１４は、対物レンズ８ａ，１１ａ，１
４ａとピンホール８ｂ，１１ｂ，１４ｂとの組み合わせ
で構成されているものとして説明したが、別の構成でも
構わない。
ルター８，１１，１４は、対物レンズ８ａ，１１ａ，１
４ａとピンホール８ｂ，１１ｂ，１４ｂとの組み合わせ
で構成されているものとして説明したが、別の構成でも
構わない。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、スペイシャル・フィル
ター以降の光学系に、コリメータ・レンズやミラーなど
の散乱源が存在しないから、光学系によって発生する散
乱光はすべてスペイシャル・フィルターによって除去さ
れる。したがって記録時にも再生時にも散乱光はホログ
ラムに到達せず、散乱光によって生じるノイズのない良
質なパターンの記録、再生を行うことができる。
ター以降の光学系に、コリメータ・レンズやミラーなど
の散乱源が存在しないから、光学系によって発生する散
乱光はすべてスペイシャル・フィルターによって除去さ
れる。したがって記録時にも再生時にも散乱光はホログ
ラムに到達せず、散乱光によって生じるノイズのない良
質なパターンの記録、再生を行うことができる。
【図１】本発明によるホログラフィ記録装置の第１実施
例を示す構成図
例を示す構成図
【図２】同じく第２実施例を示す構成図
【図３】同じく第３実施例を示す構成図
【図４】本発明によるホログラフィ再生装置の一実施例
を示す構成図
を示す構成図
【図５】本発明の作用を示す説明図
【図６】従来例によるホログラフィ記録装置を示す構成
図
図
１…全反射ホログラム ２…プリズム ３…マスク ４…ハーフミラー ５…物体照射光 ６…参照光 ７，１０…ミラー ８，１１，１４…ス
ペイシャル・フィルター ８ａ，１１ａ，１４ａ…顕微鏡対物レンズ ８ｂ，１１ｂ，１４ｂ…ピンホール ９…物体光 １２…ウエハ １３…再生光
ペイシャル・フィルター ８ａ，１１ａ，１４ａ…顕微鏡対物レンズ ８ｂ，１１ｂ，１４ｂ…ピンホール ９…物体光 １２…ウエハ １３…再生光
Claims (4)
- 【請求項１】ホログラムに対向してマスクを配置し、同
一の光源から射出された光を物体照射光と参照光とに分
割し、前記物体照射光によって前記マスクを照射し、前
記参照光によって前記ホログラムを照射し、前記マスク
から射出される物体光と前記参照光とによって、マスク
に記録されたパターンをホログラムに転写するホログラ
フィ記録装置において、 前記物体照射光の光路中にスペイシャル・フィルターを
配置し、該スペイシャル・フィルターより射出される発
散光によって、前記マスクを直接照射したことを特徴と
するホログラフィ記録装置。 - 【請求項２】支持部材上に配置したホログラムに対向し
てマスクを配置し、同一の光源から射出された光を物体
照射光と参照光とに分割し、前記物体照射光によって前
記マスクを照射し、前記参照光によって前記支持部材を
介して前記ホログラムを照射し、前記マスクから射出さ
れる物体光と前記参照光とによって、マスクに記録され
たパターンをホログラムに転写するホログラフィ記録装
置において、 前記参照光の光路中にスペイシャル・フィルターを配置
し、該スペイシャル・フィルターより射出される発散光
を、前記支持部材に直接入射させたことを特徴とするホ
ログラフィ記録装置。 - 【請求項３】支持部材上に配置したホログラムに対向し
てレジストを塗布した被記録部材をを配置し、再生光に
よって前記支持部材を介して前記ホログラムを照射する
ことにより、前記ホログラムに記録されたパターンを前
記レジストに転写するホログラフィ再生装置において、 前記再生光の光路中にスペイシャル・フィルターを配置
し、該スペイシャル・フィルターより射出される発散光
を、前記支持部材に直接入射させたことを特徴とするホ
ログラフィ再生装置。 - 【請求項４】ホログラムに記録された前記パターンの一
部分に前記再生光を照射して該一部分のパターンを前記
レジストに転写し、前記ホログラムに記録された前記パ
ターンをカバーするように前記再生光を走査することに
よって、ホログラムに記録された前記パターンを前記レ
ジストに転写する、請求項３記載のホログラフィ再生装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7145478A JPH08314361A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ホログラフィ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7145478A JPH08314361A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ホログラフィ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08314361A true JPH08314361A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=15386189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7145478A Pending JPH08314361A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ホログラフィ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08314361A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001296810A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-10-26 | Sony Corp | フロントライト照明装置及び反射型ホログラムの製造方法 |
| KR20040018607A (ko) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | (주)나우스넷 | 홀로그램 기록 장치 및 홀로그램 기록 장치에 의해 제조된홀로그램 카드 |
| US7313072B2 (en) | 2003-03-03 | 2007-12-25 | Tdk Corporation | Method for recording and reproducing holographic data and holographic recording medium |
| US7916369B2 (en) | 2003-03-14 | 2011-03-29 | Tdk Corporation | Holographic recording and reproducing apparatus |
-
1995
- 1995-05-19 JP JP7145478A patent/JPH08314361A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001296810A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-10-26 | Sony Corp | フロントライト照明装置及び反射型ホログラムの製造方法 |
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