JPH08330470A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH08330470A
JPH08330470A JP7136356A JP13635695A JPH08330470A JP H08330470 A JPH08330470 A JP H08330470A JP 7136356 A JP7136356 A JP 7136356A JP 13635695 A JP13635695 A JP 13635695A JP H08330470 A JPH08330470 A JP H08330470A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pad
semiconductor device
external lead
lead
shrinkage stress
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7136356A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Maeda
剛 前田
Toshiyuki Shintani
俊幸 新谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP7136356A priority Critical patent/JPH08330470A/ja
Publication of JPH08330470A publication Critical patent/JPH08330470A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5522Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/726Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】ワイヤー、あるいは導電性のろう剤や接着剤を
用いずに電気的接続を図り、半導体装置の高集積化、高
密度実装化を実現可能な技術を提供すること。 【構成】外部導出リード3と電極パッド6との電気的接
続を、外部導出リード3を配線基板4に固定するための
接着用樹脂8の硬化収縮応力を利用して行っている。す
なわち、接着用樹脂8の硬化収縮応力により突起部3a
と配線基板4の電極パッド6とが互いに押圧しあうこと
により直接電気的接続がなされる。これによると、ワイ
ヤボンディング技術を用いていないことにより金属ワイ
ヤのループが存在しないので、半導体装置の薄型化を図
ることができる。また、接点にろう剤や導電性接着剤等
を用いていないので、隣接しあう電極パッド同志が、熱
で溶融したろう剤によって電気的短絡を起こすことがな
くなる。従って、半導体装置の薄型化、小型化、高密度
実装化を実現することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造分野に関する
ものであり、特に半導体チップをリードフレーム等の配
線基板にマウントして電気的接続をする半導体装置の組
立技術に利用して有効なものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の組立技術、特に半導体チッ
プの電極パッドと外部導出リードとの電気的接続を行う
方法として、例えば図6(a)に示すような半導体装置
25は、従来から金線等の金属ワイヤ28を熱圧着技術
や超音波技術を用いてボンディングする方法が用いられ
ている。また、接地電極の引出しについては、上記のよ
うなワイヤボンディング技術の他に、半導体チップの裏
面から導電性接着剤を介してダイパッドと一体化された
外部導出リードで接地する方法も用いられている。
【0003】近年、高密度実装等の観点から、図6
(b)に示すように、半導体チップ31の電極パッドに
金属バンプ32を形成し、配線基板33にフェイスダウ
ンボンディングする技術が使用されるようになってきて
いる。
【0004】尚、フェイスダウンボンディングに関して
は、例えば特開昭62−90938号公報に記載されて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなワイヤボ
ンディングによって半導体チップの電極パッドと外部導
出リードとの電気的接続を図る場合、半導体装置はワイ
ヤーループの高さ等によってその厚さに制約を受ける。
従って、半導体装置の薄型化を図る場合、ワイヤールー
プの高さがネックとなっている。
【0006】また、金属バンプによるフェイスダウンボ
ンディング、例えば半田バンプを用いた場合は、熱によ
って半田が溶融し、隣接した電極同志がショートする可
能性がある。バンプの先端に導電性接着剤を付着させて
ボンディングを行う場合も、導電性接着剤の平面的な広
がりを考慮しなければならず、半導体装置の高集積化、
高密度実装化に図る上でのネックとなっている。
【0007】本発明者は、上記のような電気的接続方法
が、半導体チップの電極パッドと基板の電極との間に、
ワイヤー、あるいは導電性のろう剤や接着剤を介して電
気的接続を図っており、これらの介在物が半導体装置の
薄型化、小型化を制約していることに着目し、鋭意検討
した。
【0008】そこで本発明の目的は、ワイヤー、あるい
は導電性のろう剤や接着剤を用いずに電気的接続を図
り、半導体装置の薄型化、小型化を実現可能な技術を提
供することにある。
【0009】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになる
であろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば次の
とおりである。すなわち、外部導出リードを、硬化収縮
応力を発生させる樹脂によって電極パッドの周辺部に固
定し、樹脂の硬化収縮応力によって外部導出リードと電
極パッドとを互いに押圧させることにより電気的接続を
図るものである。
【0011】
【作用】樹脂の硬化収縮応力によって外部導出リードと
電極パッドとを互いに押圧するので、ワイヤー、あるい
は導電性のろう剤や接着剤を用いずに電気的接続を図る
ことができる。従って、半導体パッケージの薄型化、小
型化を図ることができ、半導体装置の高密度実装化を実
現することができる。
【0012】
【実施例1】以下、本発明の一実施例を図面に従い説明
する。図1(a)は本発明の半導体装置の横断面図、
(b)はそのA−A′断面図である。半導体装置1は、
半導体チップ2をエポキシ等からなる配線基板4にマウ
ントし、配線基板4に設けられた電極パッド6と外部導
出リード3とを電気的に接続している。半導体チップ2
は、その電極パッドと配線基板4の外部接続用端子と
を、金や銅あるいは硬質の半田からなるバンプ9で電気
的に接続されている。バンプ9はリソグラフィ技術ある
いはワイヤボンディング技術を用いて、半導体チップ2
の電極パッドに形成される。この場合、配線基板4の外
部接続用端子に形成してもよい。配線基板4の外部接続
用端子は、配線基板4上に形成された配線7によって電
極パッド6に接続されている。
【0013】外部導出リード3は、電極パッド6の周辺
で絶縁性の接着用樹脂8によって配線基板4に固定され
ている。外部導出リード3の電極パッド6との接続部に
は突起部形成しており、例えば本実施例では外部導出リ
ード3のインナーリード先端部を屈曲させて突起部3a
を形成している。本発明では、図2に示すように、外部
導出リード3と電極パッド6との電気的接続を、外部導
出リード3を配線基板4に固定するための接着用樹脂8
の硬化収縮応力を利用して行っている。すなわち、接着
用樹脂8の硬化収縮応力により突起部3aと配線基板4
の電極パッド6とが互いに押圧しあうことにより直接電
気的接続がなされる。これによると、ワイヤボンディン
グ技術を用いていないことにより金属ワイヤのループが
存在しないので、半導体装置の薄型化を図ることができ
る。また、接点にろう剤や導電性接着剤等を用いていな
いので、隣接しあう電極パッド同志が、熱で溶融したろ
う剤によって電気的短絡を起こすことがなくなる。従っ
て、半導体装置の薄型化、小型化、高密度実装化を実現
することができる。
【0014】尚、本実施例では、半導体チップ2の電極
パッドに形成されたバンプ9と配線基板4のとの電気的
接続も、図3に示すように、上記のような硬化収縮応力
を有する樹脂を用いて行っている。この場合も樹脂10
の硬化収縮応力により半導体チップ2と配線基板4とが
互いに引き合うため、バンプ9が配線7に押圧されるこ
とにより電気的接続がなされる。
【0015】
【実施例2】上記実施例では、本発明を、配線基板上に
半導体チップをマウントした半導体装置に利用した例に
ついて説明したが、本実施例では、外部導出リードを半
導体チップの電極パッドに直接接続する例について説明
する。
【0016】図4(a)に本実施例の半導体装置の横断
面図、(b)にそのB−B′断面図を示す。半導体チッ
プ12の電極パッド周辺部には、外部導出リード13の
インナーリードを接着・固定するための絶縁性の接着用
樹脂15が形成されている。この接着用樹脂15には、
硬化収縮応力を有するものを用いる。外部導出リード1
3のインナーリードの先端部には、半導体チップ12の
電極パッドへ向かって突起13aが設けられている。本
実施例では、接着用樹脂15で外部導出リード13のイ
ンナーリードを半導体チップ12に接着・固定するとと
もに、接着用樹脂15の硬化収縮応力を利用して突起1
3aを電極パッドへ押圧させている。これにより、外部
導出リード13は、半導体チップ12の電極パッドに直
接接続される。従って半導体装置の小型化、薄型化、お
よび高密度実装化を実現することができる。
【0017】尚、本実施例では、外部導出リード13側
に突起13aを設けているが、電極パッド上にバンプ電
極を形成し、それを突起13aの代わりとしてもよい。
バンプ電極は、ウエハ状態においてリソグラフィ技術を
用いて形成する方法の他、ワイヤボンディング技術を応
用し、金属ワイヤの先端部に放電によってボールを形成
してそのボールのみを電極パッドにボンディングするこ
とで形成する方法も用いることができる。この方法によ
ると簡易にバンプ電極を電極パッドに形成することがで
きる。
【0018】
【実施例3】本実施例では、従来のワイヤボンディング
技術と本発明とを併用させた例について説明する。図5
(a)に本実施例の横断面図、(b)にC−C′断面図
を示す。22は放熱のためのヒートスプレッダであり、
ダイパッドも兼ねている。半導体チップ17は、Agペ
ースト等の導電性接着剤24によってヒートスプレッダ
22に接着されている。この場合、Au−Si共晶方式
のダイボンディングでも良い。外部導出リード18は、
そのインナーリード部でペースト状又はフィルム状の絶
縁性の接着用樹脂23によってヒートスプレッダ22の
周縁部に接着・固定されている。接着用樹脂23には、
硬化収縮応力を有するものを用いている。半導体チップ
17の電極パッドと外部導出リード18とは、ワイヤボ
ンディング技術により、金や銅、あるいはアルミニウム
等からなる金属ワイヤ20で電気的接続がなされてい
る。本実施例では、半導体チップ17の裏面電極から接
地電位を取り出すために、接地電位用リード19をヒー
トスプレッダ22に電気的に接続している。接地電位用
リード19のインナーリード先端部にはヒートスプレッ
ダ22へ向かって突出部19aが設けられており、接地
電位用リード19をヒートスプレッダ22に接着・固定
している接着用樹脂23の硬化収縮応力によって、突出
部19aがヒートスプレッダ22を押圧する状態で電気
的接続がなされている。これにより、半導体チップの裏
面電極からヒートスプレッダ22を介して接地電位用リ
ード19への電気的接続が容易となる。
【0019】以下、本発明の作用効果について説明す
る。
【0020】(1)外部導出リードを、硬化収縮応力を
発生させる樹脂によって電極パッドの周辺部に固定し、
樹脂の硬化収縮応力によって外部導出リードと電極パッ
ドとを互いに押圧することにより電気的接続を図ること
により、ワイヤー、あるいは導電性のろう剤や接着剤を
用いずに電気的接続を図ることができる。従って、半導
体パッケージの薄型化及び小型化を図ることができるの
で、半導体装置の更なる高密度実装化を実現することが
できる。
【0021】(2)外部導出リードの他端部を電極パッ
ド側に予め屈曲させることにより、外部導出リードと電
極パッドとを直接接触させることができる。
【0022】(3)電極パッドに外部導出リードに向か
ってバンプ電極が設けられ、外部導出リードとバンプ電
極とは樹脂の硬化収縮応力によって互いに押圧すること
により電気的接続を図ることにより、ワイヤー、あるい
は導電性のろう剤や接着剤を用いずに電気的接続を図る
ことができる。従って、半導体パッケージの薄型化及び
小型化を図ることができるので、半導体装置の更なる高
密度実装化を実現することができる。
【0023】(4)バンプ電極を金属ワイヤの先端に形
成した放電ボールを電極パッド上にボンディングして形
成することにより、簡易にバンプ電極を形成することが
できる。
【0024】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、
上記実施例では、外部導出リードと電極パッドとの接触
部にはろう剤や導電性接着剤を用いていなかったが、接
触部にごく少量のろう剤や導電性接着剤をもちいて本発
明と併用させることにより、その電気的接続を確実なも
のにできる。
【0025】また、上記実施例では、半導体パッケージ
内のインナーリードと電極パッドとの電気的接続につい
て述べたが、半導体装置を外部配線基板へ実装する際の
アウターリードの接続に利用しても効果を奏するもので
ある。
【0026】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0027】すなわち、外部導出リードを、硬化収縮応
力を発生させる樹脂によって電極パッドの周辺部に固定
し、樹脂の硬化収縮応力によって外部導出リードと電極
パッドとを互いに押圧することにより電気的接続を図る
ことにより、ワイヤー、あるいは導電性のろう剤や接着
剤を用いずに電気的接続を図ることができる。従って、
半導体パッケージの薄型化及び小型化を図ることができ
るので、半導体装置の更なる高密度実装化を実現するこ
とができるものである。
【0028】
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施例である半導体装置の
横断面図、(b)はA−A′断面図である。
【図2】本発明の一実施例である半導体装置の外部導出
リードと電極パッドとの接点部分の拡大図である。
【図3】本発明の一実施例である半導体装置の半導体チ
ップ実装部の拡大図である。
【図4】(a)は本発明の他の実施例である半導体装置
の横断面図、(b)はB−B′断面図である。
【図5】(a)は本発明の他の実施例である半導体装置
の横断面図、(b)はC−C′断面図である。
【図6】(a)はワイヤボンディング技術を用いた従来
の半導体装置の縦断面図、(b)はフェイスダウンボン
ディング技術を用いた半導体装置の部分断面図である。
【符号の説明】
1……半導体装置,2……半導体チップ,3……外部導
出リード,3a……突出部,4……配線基板,5……パ
ッケージ,6……配線,7……電極パッド,8……接着
用樹脂,9……バンプ,10……接着用樹脂,11……
半導体装置,12……半導体チップ,13……外部導出
リード,13a……突出部,14……パッケージ,15
……接着用樹脂,16……半導体装置,17……半導体
チップ,18……外部導出用リード,19……接地電位
用リード,20……ワイヤ,21……パッケージ,22
……ヒートスプレッダ,23……絶縁性接着用樹脂,2
4……導電性接着剤,25……半導体装置,26……半
導体チップ,27……外部導出リード,28……金属ワ
イヤ,29……パッケージ,30……ダイパッド,31
……半導体チップ,32……バンプ,33……配線基
板,34……配線

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】パッケージ内で半導体チップ又は配線基板
    に形成された電極パッドと、一端が前記パッケージ外部
    側、他端が前記電極パッド上に延在した外部導出リード
    とが電気的に接続された半導体装置であって、前記外部
    導出リードは、硬化収縮応力を発生させる絶縁性の樹脂
    によって前記電極パッドの周辺部に固定されており、前
    記外部導出リードの前記電極パッドとの接続部は、前記
    電極パッドに向かって突出部が設けられ、前記電極パッ
    ドと前記突出部とは前記樹脂の硬化収縮応力によって互
    いに押圧することにより電気的接続を図っていることを
    特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】前記突出部は、前記外部導出リードの他端
    部を前記電極パッド側に予め屈曲させたものであること
    を特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】半導体チップ又は配線基板に形成された電
    極パッドと外部導出リードとが電気的に接続された半導
    体装置であって、前記外部導出リードは、硬化収縮応力
    を発生させる絶縁性の樹脂によって前記電極パッドの周
    辺部に固定されており、前記電極パッドには、バンプ電
    極が設けられ、前記外部導出リードと前記バンプ電極と
    は前記樹脂の硬化収縮応力によって互いに押圧すること
    により電気的接続を図っていることを特徴とする半導体
    装置。
  4. 【請求項4】前記バンプ電極は、金属ワイヤの先端に形
    成した放電ボールを前記電極パッド上にボンディングし
    たものであることを特徴とする請求項3記載の半導体装
    置。
JP7136356A 1995-06-02 1995-06-02 半導体装置 Pending JPH08330470A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7136356A JPH08330470A (ja) 1995-06-02 1995-06-02 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7136356A JPH08330470A (ja) 1995-06-02 1995-06-02 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08330470A true JPH08330470A (ja) 1996-12-13

Family

ID=15173274

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7136356A Pending JPH08330470A (ja) 1995-06-02 1995-06-02 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08330470A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016162905A (ja) * 2015-03-03 2016-09-05 株式会社東海理化電機製作所 リード接続構造
JP2017068960A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 京セラ株式会社 ヒータ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016162905A (ja) * 2015-03-03 2016-09-05 株式会社東海理化電機製作所 リード接続構造
JP2017068960A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 京セラ株式会社 ヒータ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2840316B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3526788B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US5770888A (en) Integrated chip package with reduced dimensions and leads exposed from the top and bottom of the package
JPH09260552A (ja) 半導体チップの実装構造
JP2001024135A (ja) 半導体装置の製造方法
KR19990083550A (ko) 수지밀봉형반도체장치및그제조방법,리드프레임
JPH1065054A (ja) チップサイズ半導体パッケージ及びその製造方法
JPH0964247A (ja) 金属の回路基板を有するチップスケールのパッケージ
KR100265566B1 (ko) 칩 스택 패키지
JPH0547958A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2002134685A (ja) 集積回路装置
JP3947750B2 (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP3072291B1 (ja) リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3129169B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH11150440A (ja) フリップチップ実装型表面弾性波素子の樹脂封止構造
KR20090098076A (ko) 플립 칩 패키지
JPH10335366A (ja) 半導体装置
JP3501281B2 (ja) 半導体装置
JPH10275887A (ja) 半導体装置
JPH11260850A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2004039815A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置
KR20000035215A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP2830221B2 (ja) ハイブリッド集積回路のマウント構造
JP2003234427A (ja) 配線基板、それを用いた半導体装置、それらの製造方法
JP2007150372A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置