JPH08335493A - 電磁誘導加熱装置の防爆装置 - Google Patents

電磁誘導加熱装置の防爆装置

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JPH08335493A
JPH08335493A JP16480695A JP16480695A JPH08335493A JP H08335493 A JPH08335493 A JP H08335493A JP 16480695 A JP16480695 A JP 16480695A JP 16480695 A JP16480695 A JP 16480695A JP H08335493 A JPH08335493 A JP H08335493A
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JP
Japan
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explosion
coil
proof
heating element
electromagnetic induction
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Application number
JP16480695A
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English (en)
Inventor
Taizo Kawamura
泰三 川村
Yoshitaka Uchibori
義隆 内堀
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Omron Corp
Seta Giken KK
Original Assignee
Omron Corp
Seta Giken KK
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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  • General Induction Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 化学プラント等のパイプラインに組み込まれ
る電磁誘導加熱装置の防爆装置であって、大型化するこ
とを抑え、また使いやすい防爆装置を提供することを目
的とする。 【構成】 流体通路に設けられた導電性物質の発熱体1
2と、該発熱体12の周囲に設けられたコイル13と、
該コイル13に対する高周波電流発生器5とを備えた電
磁誘導流体加熱装置に対して設けられる防爆装置であっ
て、前記コイル13と前記高周波電流発生器5とを近接
配置して、これらを防爆ケース51,53内に収納し、
一緒にまとめたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液体や気体等の流体に
浸された発熱体を電磁誘導加熱で加熱し、前記流体を直
接的な熱移動で加熱する電磁誘導加熱装置の防爆装置に
関し、特に化学プラントなどにおけるパイプラインに組
み込み可能なものに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、化学プラントにおける反応・分
離工程では、蒸留塔が必ず必要である。この蒸留塔は、
蒸留液を構成する液体がそれぞれ持つ沸騰点の温度差に
より、混合している液体を分離する装置である。この蒸
留塔には蒸留液を加熱する装置が付設されている。この
加熱装置としては例えばシーズヒータ方式の如き間接加
熱によるものが採用されている。このシーズヒータ方式
は、電源をシーズヒータに投入して熱媒油を加熱し、熱
交換器で熱媒油と蒸留液との熱交換を行わせる方式であ
る。
【0003】間接加熱によるシーズヒータ方式は、まず
熱媒体をシーズヒータで加熱するために、立ち上がり時
間が長くかかり、加熱装置も大掛かりになる傾向があっ
た。そこで、特開平3−98286号公報などに開示さ
れるように、流体が通過するコラム又はケースを絶縁体
で構成し、このコラム又はケース内に収納され流体が浸
かる発熱体を電磁誘導で加熱する直接加熱の電磁誘導加
熱装置をパイプラインに組み込むことが提案されてい
る。この直接加熱による電磁誘導加熱装置によると、流
体が浸かる発熱体の伝熱面積を大きくすることなどによ
り、発熱体から流体への伝熱効率を90%前後まで向上
させることができるため、立ち上がり時間が短縮でき
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
3−98286号公報などで提案される電磁誘導加熱装
置は小型で局部加熱が可能であるものの、電気加熱によ
るため、化学プラントに使用する場合には防爆仕様が求
められるが、コイルの部分と、電力素子を使ったインバ
ータ部のような高周波電流発生器とを普通に防爆ケース
に覆うと、折角の小型機器が防爆のために大型化した
り、また操作しにくくなったりするという問題点があっ
た。
【0005】本発明は上述した問題点を解決するために
なされたものであり、その目的とするところは、化学プ
ラント等のパイプラインに組み込まれる電磁誘導加熱装
置の防爆装置であって、大型化することを抑え、また使
いやすい防爆装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明における電磁誘導加熱装置の防爆装置は、流体通路に
設けられた導電性物質の発熱体と、該発熱体の周囲に設
けられたコイルと、該コイルに対する高周波電流発生器
とを備えた電磁誘導流体加熱装置に対して設けられる防
爆装置であって、前記コイルと前記高周波電流発生器と
を近接配置して、これらを防爆ケース内に収納してなる
ものである。この防爆ケース内に、少なくとも前記コイ
ルを覆う磁気シールドを設けることが好ましい。
【0007】他の電磁誘導加熱装置の防爆装置は、流体
通路に設けられた導電性物質の発熱体と、該発熱体の周
囲に設けられたコイルと、該コイルに対する高周波電流
発生器と、該高周波電流発生器の制御部と、前記発熱体
に対する温度制御部とを備えた電磁誘導流体加熱装置に
対して設けられる防爆装置であって、前記コイルと前記
高周波電流発生器とを近接配置して、これらを防爆ケー
ス内に収納した第1ユニットと、前記制御部と前記温度
制御部とを近接配置し、前記防爆ケースから離れて遠隔
操作可能な位置に設置した第2ユニットとからなるもの
である。この第1ユニットと前記第2ユニット間の信号
線に光ファイバーを用いたものが好ましい。
【0008】
【作用】電気的火花を発する可能性のあるコイルとイン
バータ部等の高周波電流発生器とを一緒に防爆ケース内
に納めてまとめる。特にコイルからの磁束の影響から周
囲を遮断するために磁気シールドが有効である。
【0009】防爆ケース内の電力部分と、電力部分に対
する制御のための制御部とを分けると、遠隔操作が可能
になる。特に、両者を接続する信号線としては電気を使
用しない光ファイバーが有効である。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は防爆装置50の構造図である。
【0011】図1において、防爆装置50は、コイル1
3とインバータ部(高周波電流発生器)5とが近接配置
された第1ユニットU1を覆う防爆ケース51と、防爆
ケース51の中に配設され、特にコイル13の部分を覆
う電磁波シールド板52と、必要に応じて前記第1防爆
ケース51を二重に囲う第2防爆ケース53と、温度調
節部2と位相シフト制御部3とが近接配置された第2ユ
ニットU2を覆うケース54と、第1ユニットU1と第
2ユニットU2とを接続する信号線としての光ファイバ
55とからなっている。
【0012】また、前記第1防爆ケース51に対して窒
素封入のための配管56が設けられ、配管56の一方の
先端56aは電磁波シールド52内に開口し、配管56
の他方の先端56bは第1防爆ケース51内に開口して
いる。また、最初の封入時の空気と窒素の置換のため
に、図示されないバルブ付きの排出口も設けられてい
る。そして、この排出口を閉じた状態で、第1防爆ケー
ス51内及び第2防爆ケース53内を水圧で十ミリメー
トル程度のプラス圧にして窒素が外に漏れ出ても空気が
侵入しない構造になっている。すなわち、第1防爆ケー
ス51及び第2防爆ケース53は完全密閉に近い構造に
なっており、扉などの開口部にはシール材が設けられて
いる。特に、二重の防爆ケース51,53にすると、個
々のケースの密閉構造が一重の場合より簡単なものです
む。
【0013】電気的火花が発生する可能性の大きい部位
は、インバータ部(高周波電流発生器)5とコイル13
の部分である。コイル13は高周波磁界を発生させるた
めのものであり、インバータ部5は高周波電流を発生さ
せるためのものであり、通常両者は離れた所に設置され
る。例えばコイル13はパイプラインの適所に設置さ
れ、インバータ部5は地上のメンテナンスし易い所に設
置される。しかし、本発明ではインバータ部5をコイル
13に対して近接配置して一体にし、これらを合わせて
一つの防爆ケース51,53内に収納する構造になって
いる。
【0014】加熱容量が大きい場合にはコイル13に大
電力が流れるため、コイル13の周囲に強力な高周波磁
界が発生する。そのため、コイル13の周囲に配設され
る導電性金属に渦電流が発生し、電気的火花が発生する
可能性がある。特に、コイル13にインバータ部5を近
接配置すると、その危険性が大きくなる。そのため、コ
イル13の部分を磁気シールド板52で覆う構造にして
いる。磁気シールド板52は導電性金属又は炭素繊維入
り強化プラスチックのような材質で形成されたものであ
る。コイル13の高周波磁界は磁気シールド板52で閉
じ込められ、磁気シールド板52より外に漏れ出ない。
この磁気シールド板52は磁束を封じ込めるためのもの
であるため、密閉構造にする必要がない。
【0015】インバータ部5は電力素子のスイッチング
動作によって大電流のオンオフを行うためロスが熱とな
って発生する。また、コイル13も銅損によって熱が発
生し、磁気シールド板52も多少発熱することがある。
しかし、上述したように防爆ケース51,53内に、コ
イル13やインバータ部5を閉じ込めているため、発生
した熱がケース内に籠もることになる。そのため、ケー
ス51,53内外に通じる冷却装置が設けられる。この
冷却装置の好ましい例として、加熱される流体を媒体と
して用い、インバータ部5への分岐配管57やコイル1
3への分岐配管58を設けるものがある。外部放出の熱
ロスが少なくなるという利点がある。
【0016】上述したコイル3とインバータ部5は化学
プラントのサイトに設置されることになるが、温度制御
部2や位相シフト制御部3は例えばコントロール室に設
置することが可能である。その場合、温度制御部2や位
相シフト制御部3を収納するケース54は普通の制御盤
でよい。この温度制御部2や位相シフト制御部3もサイ
トに置く場合には、防爆仕様のケースにすることもでき
る。このケース54と防爆ケース51,53との間は、
制御のための信号線である光ファイバー55で接続され
る。光ファイバ55は電気を使用しないため、防爆仕様
にする必要がなく、線径も細くなって好ましい。
【0017】つぎに、制御部2と位相シフト制御部3と
インバータ部5の具体的構成を図2及び図3により説明
する。図2において、1は電磁誘導加熱装置の本体、2
は2自由度PID温度制御部、3はPWMコントロール
IC(3a)とドライバー3bとからなる位相シフト制
御部、5はセンサレス高力率高周波インバータ部であ
る。
【0018】高周波インバータ部5は、交流電源21に
対する整流部22と、非平滑フィルタ23と、高周波イ
ンバータ部24とからなっている。高周波インバータ部
24の出力電力と周波数は、位相シフト制御部3によっ
て制御され、商用の交流電源21を効率的に高周波電流
に変換して電気エネルギーが有効利用される。
【0019】温度制御部2は、ファジー+オートチュー
ニング2自由度PID温度制御器で構成され、出力電圧
制御信号を位相シフト制御部3に出力する。ここで、出
力制御のための温度センサ17がパイプ11の出口に設
けられているため、インバータ部5やコイル13の損失
を考慮した出力の制御が可能である。
【0020】図示のように、インバータ部5と電磁誘導
加熱装置本体1とが、防爆ケース51で覆われる。そし
て、温度制御部2と位相シフト制御部3が普通のケース
54内に納められ、防爆が求められないエリアに設置さ
れる。そして、防爆ケース51とケース54との間が光
ファイバー55で接続される。
【0021】図3にはより詳細な高周波インバータ部2
4の回路が示されている。コイル13が巻かれた非金属
パイプ11と導電性金属の発熱体12からなる加熱体系
は、漏れインダクタンスの大きいトランス回路モデルで
表すことができ、L1,R1からなる単純なR−L回路
で表示することができる。このR−L回路に補償コンデ
ンサC1を直列に接続すると、電気回路定数が殆ど変化
しない不時変回路系とすることができる。そのため、共
振コンデンサC1でR−L負荷系のL分を補償した同調
が取りやすく、作動周波数と共振コンデンサC1の最適
設計回路が行える。
【0022】高周波インバータ部24は、4個のスイッ
チング素子Q1〜Q4を用いたものであり、Q1とQ2
とを直列に接続したものと、Q3とQ4とを直列に接続
したものを並列に接続してなっている。このスイッチン
グ素子Q1〜Q4はスイッチS1〜S4とダイオードD
1〜D4とを並列に接続した回路で表され、SIT(S
tatic Induction Transisto
r)、B−SIT、MOSFET(Metal−Oxi
de Semiconductor FET)、IGB
T、MCT等の半導体パワーデバイスを用いて形成され
る。
【0023】スイッチS1,S4が閉じると、a点から
負荷L1,R1を経てb点に至る回路に電流が流れ、ス
イッチS2,S3が閉じると、b点から負荷L1,R1
を経てa点に至る回路に電流が流れる。すなわち、負荷
L1,R1から見ると、正又は逆に電流が流れたことに
なる。各スイッチS1〜S4はそれぞれ50%弱のデュ
ーディサイクルの電圧パルスで駆動する。スイッチS
1,S2の電圧駆動パルスを基準相パルスとし、スイッ
チS3,S4の電圧駆動パルスを制御相パルスとする。
基準相と制御相との電圧駆動パルスの位相差φを0〜1
80°まで連続的に変化させることにより出力電圧をP
WM(Pulse Width Modulatio
n)によって制御することができ、理論的には出力電力
を0から負荷回路定数とインバータ動作周波数で決まる
最大出力まで連続的に変化させることができる。
【0024】このように、漏れインダクタンスの大きい
トランス回路モデルで表せる装置本体1や、スイッチン
グ素子S1〜S4によるインバータ部24は防爆仕様を
満足させるためには、所定の防爆ケース51内に納める
必要がある。
【0025】図2に戻り、装置本体1は、流体通路を形
成する非金属パイプ11内に、発熱体12を収納し、パ
イプ11の外周にワーキングコイル13を巻き付けたも
のである。パイプ11の下側から入る低温流体14は発
熱体12内の流体通路を通過することで混合流体15と
なって均一加熱された後、パイプ11の上側の出口から
高温流体16となって流出する。この高温流体の温度は
温度センサ17で検出され、温度センサ17は温度制御
部2に接続されている。この部分が磁気シールド板52
で覆われている。
【0026】パイプラインに組み込み可能な装置本体1
の詳細構造は図4に示される。パイプ11の両端には、
管51,52、短管53,54、フランジ55,56と
が順に接続されている。
【0027】フランジ55,56及び短管53,54の
素材は、化学プラントで扱われる種々の流体に対して耐
蝕性を有することが必要であり、また後述するコイル1
3が形成する磁束の影響を受けにくいように、非磁性の
SUS316の如きオーステナイト系ステンレスが用い
られる。このオーステナイト系ステンレスは一般には非
磁性であるとされるものの、完全な非磁性ではなく磁束
の影響を多少受ける。フランジ55と短管53は溶接等
で短管付きフランジに形成され、フランジ56と短管5
4も溶接等で短管付きフランジに形成される。特に流体
16の出口側に位置する短管54には、同じSUS31
6製のソケット54aが溶接等で固定され、温度センサ
17を取り付けるためのフィティング17aがねじ込め
るようになっている。そして、押さえ金具17bをフィ
ティング17aに対してねじ込むと、温度センサ17の
先端が短管54の中心付近に位置する状態で固定するこ
とができる。
【0028】そして、パイプ11の両端と短管53,5
4とは直接接合するのではなく、管51,52を介して
接合している。管51,52の素材には、Fe−Ni−
Co合金のように、高力耐熱合金が選定される。また、
一般にセラミックの熱膨張係数は小さく、オーステナイ
ト系ステンレスの熱膨張係数は大きい。したがって、パ
イプ11にセラミックを使用し、短管53,54にオー
ステナイト系ステンレスを使用し、パイプ11と短管5
3,54とを直接接合すると大きな熱応力が発生する。
そのため、パイプ11と短管53,54の間に介在させ
る管51,52の熱膨張係数は、セラミックとオーステ
ナイト系ステンレスの熱膨張係数の中間になるものを選
定する。また、短管53,54と管51,52との間の
接合及び管51,52とパイプ11との間の接合は、銀
ろうやニッケルろうを用いた融着により行う。
【0029】管52はストレートであるが、管51はコ
ルゲート状に波うっており、軸方向に伸縮可能になって
いる。装置本体1で流体を加熱すると、熱膨張によって
装置本体1のみならずパイプラインも軸方向に延びる。
そのため、パイプラインにフランジ接合で装置本体1を
組み込んだ場合、装置本体1の最も弱い部分に予想外の
熱応力を生じさせる恐れがあるため、装置本体1内に熱
膨張の逃げのためのコルゲート状の管51を設けた。
【0030】なお、コイル13はリッツ線を撚り合わせ
たものであり、パイプ11の外周に巻回されるか、又は
パイプ11の肉厚内に巻回して埋設される。パイプ11
はコイル13を保持し、流体通路を区画し、その通路内
に発熱体12を収納するものであるため、耐蝕性、耐熱
性、耐圧性があって非磁性体の材質で形成される。具体
的には、セラミック等の無機質材料、FRP(繊維強化
プラスチック)、フッ素樹脂等の樹脂材料、ステンレス
等の非磁性金属等が用いられるが、セラミックが最も好
ましい。
【0031】上述したフランジ55,56はオーステナ
イト系ステンレスであっても、磁束の影響を受けて発熱
するため、フランジ55,56の手前まで磁気シールド
板52を設けることが望ましい。
【0032】図5はパイプ11内に組み込まれる発熱体
12の構造を示してる。ジグザグの山型に折り曲げられ
た第1金属板22と平たい第2金属板21とを交互に積
層し、全体として円筒状の積層体12に形成したもので
ある。この第1金属板22や第2金属板21の材質とし
ては、SUS447J1の如きマルテンサイト系ステン
レスが用いられる。そして、第1金属板22の山(又は
谷)は中心軸24に対して角度αだけ傾くように配設さ
れ、第2金属板21を挟んで隣り合う第1金属板22の
山(又は谷)は交差するように配設されている。そし
て、隣り合う第1金属板22における山(又は谷)の交
差点において、第1金属板22と第2金属板21がスポ
ット溶接で溶着され、電気的に導通可能になっている。
【0033】結局、手前側の第2金属板21と第1金属
板22との間には、角度αだけ傾いた第1小流路27が
形成され、次の第2金属板21と第1金属板22との間
には、角度−αだけ傾いた第2小流路28が形成され、
この第1小流路27と第2小流路28は角度2×αで交
差している。また、第1金属板22や第2金属板21の
表面には、流体の乱流を生じさせるための第3小流路と
しての孔26が設けられている。さらに、第1金属板2
2や第2金属板21の表面は平滑ではなく、梨地加工又
はエンボス加工によって微小な凹凸が施されている。こ
の凹凸は山(又は谷)の高さに比較して無視できる程度
に小さい。
【0034】積層体12に高周波磁界を作用させると、
第1金属板22と第2金属板21の全体に渦電流が生
じ、積層体12が発熱する。このときの温度分布は、第
1金属板22と第2金属板21の長手方向に延びた目玉
型となり、周辺部より中心部の方が発熱し、中央部を流
れようとする流体の加熱に有利になっている。
【0035】また、積層体12内には交差する第1小流
路27と第2小流路28が形成され、周辺と中央との拡
散が行われ、加えて第3小通路を形成する孔26の存在
によって、第1小流路27と第2小流路28間の厚み方
向の拡散も行われる。したがって、これらの小流路2
7,28,29によって積層体12の全体にわたる流体
のマクロ的な分散、放散、揮散が生じる。加えて、表面
の微小な凹凸によってミクロ的な拡散、放散、揮散も生
じる。その結果、積層体12を通過する流体は略均一な
流れになって、第1金属板22及び第2金属板21と流
体との均一な接触機会が得られる。
【0036】なお、図4のように、発熱体12は、その
外周面とパイプ11の内周面との間に環状隙間Rsを形
成するような直径Dとされて、パイプ11内にその軸心
と発熱体12の軸心を一致させるように遊嵌して、パイ
プ11内に挿入されて保持部材30で保持されている。
そして、発熱体12の直径Dは、装置本体1で流体16
を加熱した際、パイプ11がその径方向に熱膨張する量
と発熱体12がその径方向に熱膨張する量との熱膨張差
以上の環状隙間Rsを、発熱体12とパイプ11間に有
するように決定されている。また、保持部材30は、流
入側Aの短管53に溶接等で溶着され径内方向に延びる
金属製バー31と、この金属製バー31の先端に発熱体
12の軸心と一致するように固定され非磁性体の保持棒
32とで構成されている。そして、この保持棒32は、
非磁性、耐熱性及び耐蝕性に優れたセラミック等で製作
されて流入側Aから流出側Bに向かって延びており、そ
の先端で発熱体12をコイル13に対する位置に位置決
めして保持している。35はリング状ストッパであっ
て、非磁性、耐熱性及び耐蝕性の優れたセラミック等で
製作されており、流体16の流出側Bからパイプ11内
に嵌合され、発熱体12との間に当該発熱体12の軸方
向の熱膨張の量と同一、又は多少少ない隙間Vsを有し
て固定されている。また、リング状ストッパ35は、流
出側Bから環状隙間Rsを径方向に横切って発熱体12
上に位置しており、発熱体12の熱膨張でこの発熱体1
2と係合して、環状隙間Rsを流出側Bから閉塞する。
【0037】そして、装置本体1の流入側Aから流出側
Bに流体16を流すと共に、コイル13による電磁誘導
でパイプ11、発熱体12を介して流体16を加熱する
と、パイプ11及び発熱体12とにその径方向の熱膨張
に差が生じるが、パイプ11と発熱体12間にはその熱
膨張差以上の環状隙間Rsが形成されているので、この
環状隙間Rsを狭めつつ熱膨張差を吸収して、発熱体1
2がパイプ11に当接して押すことによる応力の作用を
防止され、また、発熱体12はその軸方向にも熱膨張す
るが、この熱膨張はリング状ストッパ35との間に形成
された隙間Vsにより吸収される。
【0038】このとき、パイプライン104から装置1
の流入側Aに流入した流体16は、発熱体12内に流入
して加熱されて流入側Bに流れると共に、流体16の一
部は、流入側Aから直接的に、又は発熱体12から環状
隙間Rsに流入して環状隙間Rsを通過して流入側Bに
流れようとするが、発熱体12が軸方向の熱膨張により
リング状ストッパ35に係合することで環状隙間Rsの
流出側Bを閉塞して流体16が直接に流出側Bに流れる
ことを阻止するので、環状隙間Rs内には流入側Aから
の流体16の流れにより流出側Bに押すような圧力が発
生し、環状隙間Rs内に流れ込んだ流体16をこの圧力
により発熱体12内に流れ込ませることができる。
【0039】これにより、コイル13による電磁誘導で
発熱体12を加熱しても、発熱体12の熱膨張に起因す
るパイプ11の破損が防止できると共に、発熱体12の
熱膨張を吸収するための環状隙間Rsを形成したとして
も、発熱体12が熱膨張してリング状ストッパ35に係
合することにより環状隙間Rsを流出側Bから閉塞し
て、この環状隙間Rsに流れ出す流体16を発熱体12
内に流れ込ませることができるので、流体16を発熱体
12で均一に加熱することが可能となる。
【0040】
【発明の効果】本発明における電磁誘導加熱装置の防爆
装置にあっては、電気的火花を発する可能性のあるコイ
ルとインバータ部等の高周波電流発生器とを一緒に防爆
ケース内に納めてまとめたため、別々に防爆ケースに納
める場合に比較して機器の小型化が実現できる。
【0041】また、防爆ケースに納められた電力部分に
対する制御部を別にすることで、制御部を例えばコント
ロール室に設置し、安全に使用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の防爆装置の構造図である。
【図2】高周波電流発生器の機器構成図である。
【図3】インバータ部の回路図である。
【図4】電磁誘導加熱装置本体の断面図である。
【図5】発熱体の構造図である。
【符号の説明】
2 温度制御部 3 位相シフト制御部(インバータ部の制御部) 5 インバータ部 11 パイプ(流体通路) 12 発熱体 13 コイル 50 防爆装置 51 第1防爆ケース 52 磁気シールド板 53 第2防爆ケース 54 ケース 55 光ファイバー 56 窒素封入用配管 U1 第1ユニット U2 第2ユニット

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流体通路に設けられた導電性物質の発熱
    体と、該発熱体の周囲に設けられたコイルと、該コイル
    に対する高周波電流発生器とを備えた電磁誘導流体加熱
    装置に対して設けられる防爆装置であって、 前記コイルと前記高周波電流発生器とを近接配置して、
    これらを防爆ケース内に収納してなる電磁誘導加熱装置
    の防爆装置。
  2. 【請求項2】 前記防爆ケース内に、少なくとも前記コ
    イルを覆う磁気シールドを設けた請求項1記載の電磁誘
    導加熱装置の防爆装置。
  3. 【請求項3】 流体通路に設けられた導電性物質の発熱
    体と、該発熱体の周囲に設けられたコイルと、該コイル
    に対する高周波電流発生器と、該高周波電流発生器の制
    御部と、前記発熱体に対する温度制御部とを備えた電磁
    誘導流体加熱装置に対して設けられる防爆装置であっ
    て、 前記コイルと前記高周波電流発生器とを近接配置して、
    これらを防爆ケース内に収納した第1ユニットと、 前記制御部と前記温度制御部とを近接配置し、前記防爆
    ケースから離れて遠隔操作可能な位置に設置した第2ユ
    ニットと、 からなる電磁誘導加熱装置の防爆装置。
  4. 【請求項4】 前記第1ユニットと前記第2ユニット間
    の信号線に光ファイバーを用いた請求項3記載の電磁誘
    導加熱装置の防爆装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007178089A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Fuji Electric Systems Co Ltd 誘導加熱式蒸気発生装置
JP2015102203A (ja) * 2013-11-27 2015-06-04 矢崎エナジーシステム株式会社 液化燃料ガス気化装置
JP2024062105A (ja) * 2022-10-24 2024-05-09 日本製鉄株式会社 流体の電気加熱装置
JP2024062104A (ja) * 2022-10-24 2024-05-09 日本製鉄株式会社 流体の電気加熱装置

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