JPH08337406A - 高純度硫酸の製造方法 - Google Patents
高純度硫酸の製造方法Info
- Publication number
- JPH08337406A JPH08337406A JP7149033A JP14903395A JPH08337406A JP H08337406 A JPH08337406 A JP H08337406A JP 7149033 A JP7149033 A JP 7149033A JP 14903395 A JP14903395 A JP 14903395A JP H08337406 A JPH08337406 A JP H08337406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfuric acid
- stripping
- liquid
- crude
- circulation pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
- C01B17/90—Separation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
- C01B17/90—Separation; Purification
- C01B17/901—Recovery from spent acids containing metallic ions, e.g. hydrolysis acids, pickling acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
- C01B17/74—Preparation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 不純物としての亜硫酸ガスを含有する気体状
の無水硫酸１と水２から高純度硫酸３を製造する方法で
あって、工程を含み、循環ポンプ４入口の液の温度が０
〜３０℃であり、ストリッピング工程へ供給される液の
温度が６０〜１２０℃である高純度硫酸の製造方法。 吸収工程：吸収塔５において、水で希釈された硫酸水６
と気体状の無水硫酸１とを接触させて不純物としての亜
硫酸ガスを含有する粗硫酸７を得る工程 輸送工程：粗硫酸７の一部分をストリッピング工程へ供
給する工程。 ストリッピング工程：ストリッピング塔８において、輸
送工程から供給される粗硫酸７を空気９でストリッピン
ングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸から分離除去する
ことにより高純度硫酸３を得る工程 【効果】 不純物である金属分及び亜硫酸ガスが高度に
除去された高純度な硫酸の製造方法が得られる。
の無水硫酸１と水２から高純度硫酸３を製造する方法で
あって、工程を含み、循環ポンプ４入口の液の温度が０
〜３０℃であり、ストリッピング工程へ供給される液の
温度が６０〜１２０℃である高純度硫酸の製造方法。 吸収工程：吸収塔５において、水で希釈された硫酸水６
と気体状の無水硫酸１とを接触させて不純物としての亜
硫酸ガスを含有する粗硫酸７を得る工程 輸送工程：粗硫酸７の一部分をストリッピング工程へ供
給する工程。 ストリッピング工程：ストリッピング塔８において、輸
送工程から供給される粗硫酸７を空気９でストリッピン
ングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸から分離除去する
ことにより高純度硫酸３を得る工程 【効果】 不純物である金属分及び亜硫酸ガスが高度に
除去された高純度な硫酸の製造方法が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高純度硫酸の製造方法
に関するものである。更に詳しくは、本発明は、不純物
である金属分及び亜硫酸ガス（二酸化イオウ ＳＯ2 ）
が高度に除去さた高純度な硫酸の製造方法に関するもの
である。
に関するものである。更に詳しくは、本発明は、不純物
である金属分及び亜硫酸ガス（二酸化イオウ ＳＯ2 ）
が高度に除去さた高純度な硫酸の製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】半導体工場において用いられるシリコン
ウエハーの洗浄液として、硫酸が使用される。この用途
に使用される硫酸に不純物としての金属分が存在すると
シリコンウエハーの電気特性を低下させるという不都合
を生じる。また、硫酸中に不純物としての亜硫酸ガスが
存在すると上記と同様の不都合を生じる。よって、かか
る用途に供される硫酸は、金属濃度が低く、かつ亜硫酸
ガス濃度が低いことが要求される。しかしながら、かか
る要求を満足し、かつ工業的観点からも効率的に実施で
きる高純度硫酸の製造方法は見出されていない。
ウエハーの洗浄液として、硫酸が使用される。この用途
に使用される硫酸に不純物としての金属分が存在すると
シリコンウエハーの電気特性を低下させるという不都合
を生じる。また、硫酸中に不純物としての亜硫酸ガスが
存在すると上記と同様の不都合を生じる。よって、かか
る用途に供される硫酸は、金属濃度が低く、かつ亜硫酸
ガス濃度が低いことが要求される。しかしながら、かか
る要求を満足し、かつ工業的観点からも効率的に実施で
きる高純度硫酸の製造方法は見出されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状に鑑み、本
発明が解決しようとする課題は、不純物である金属分及
び亜硫酸ガスが高度に除去された高純度な硫酸の製造方
法を提供する点に存する。
発明が解決しようとする課題は、不純物である金属分及
び亜硫酸ガスが高度に除去された高純度な硫酸の製造方
法を提供する点に存する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、不
純物としての亜硫酸ガスを含有する気体状の無水硫酸
（１）と水（２）から高純度硫酸（３）を製造する方法
であって、下記工程を含み、下記循環ポンプ（４）入口
の液の温度が０〜３０℃であり、下記ストリッピング工
程へ供給される液の温度が６０〜１２０℃である高純度
硫酸の製造方法に係るものである。 吸収工程：吸収塔（５）において、水で希釈された硫酸
水（６）と気体状の無水硫酸（１）とを接触させて気体
状の無水硫酸を硫酸水に吸収させることにより不純物と
しての亜硫酸ガスを含有する粗硫酸（７）を得る工程 輸送工程：粗硫酸（７）の少なくとも一部分を下記スト
リッピング工程へ供給する工程であって、循環ポンプ
（４）により液輸送を行う工程 ストリッピング工程：ストリッピング塔（８）におい
て、輸送工程から供給される粗硫酸（７）を空気（９）
でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸か
ら分離除去することにりより高純度硫酸（３）を得る工
程
純物としての亜硫酸ガスを含有する気体状の無水硫酸
（１）と水（２）から高純度硫酸（３）を製造する方法
であって、下記工程を含み、下記循環ポンプ（４）入口
の液の温度が０〜３０℃であり、下記ストリッピング工
程へ供給される液の温度が６０〜１２０℃である高純度
硫酸の製造方法に係るものである。 吸収工程：吸収塔（５）において、水で希釈された硫酸
水（６）と気体状の無水硫酸（１）とを接触させて気体
状の無水硫酸を硫酸水に吸収させることにより不純物と
しての亜硫酸ガスを含有する粗硫酸（７）を得る工程 輸送工程：粗硫酸（７）の少なくとも一部分を下記スト
リッピング工程へ供給する工程であって、循環ポンプ
（４）により液輸送を行う工程 ストリッピング工程：ストリッピング塔（８）におい
て、輸送工程から供給される粗硫酸（７）を空気（９）
でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸か
ら分離除去することにりより高純度硫酸（３）を得る工
程
【０００５】以下、詳細に説明する。
【０００６】原料として用いられる気体状の無水硫酸
（ＳＯ3 ）は、通常市販されているものであって、通常
１０〜１００重量ｐｐｍ程度の亜硫酸ガスが含有されて
いる。また、原料として用いられる水としては、いわゆ
る超純水が好ましい。
（ＳＯ3 ）は、通常市販されているものであって、通常
１０〜１００重量ｐｐｍ程度の亜硫酸ガスが含有されて
いる。また、原料として用いられる水としては、いわゆ
る超純水が好ましい。
【０００７】本発明の吸収工程は、吸収塔（５）におい
て、水で希釈された硫酸水（６）と気体状の無水硫酸
（１）とを接触させて気体状の無水硫酸を硫酸水に吸収
させることにより不純物としての亜硫酸ガスを含有する
粗硫酸（７）を得る工程である。吸収塔としては充填塔
など、通常のものを使用することができ、吸収塔にはラ
シヒリングなどの充填物が充填されているのが一般であ
る。本工程としては、たとえば吸収塔の下部から気体状
の無水硫酸を供給し、充填塔の上部から超純水を供給
し、両者を吸収塔内で接触させる方法が行われる。ここ
で、亜硫酸ガスを除去する目的で、吸収塔の下部から空
気を供給してもよい。なお、本工程の吸収塔には、後記
の輸送工程からリサイクルされる硫酸も供給され、上記
超純水と合一して気体状の無水硫酸と接触させられる。
て、水で希釈された硫酸水（６）と気体状の無水硫酸
（１）とを接触させて気体状の無水硫酸を硫酸水に吸収
させることにより不純物としての亜硫酸ガスを含有する
粗硫酸（７）を得る工程である。吸収塔としては充填塔
など、通常のものを使用することができ、吸収塔にはラ
シヒリングなどの充填物が充填されているのが一般であ
る。本工程としては、たとえば吸収塔の下部から気体状
の無水硫酸を供給し、充填塔の上部から超純水を供給
し、両者を吸収塔内で接触させる方法が行われる。ここ
で、亜硫酸ガスを除去する目的で、吸収塔の下部から空
気を供給してもよい。なお、本工程の吸収塔には、後記
の輸送工程からリサイクルされる硫酸も供給され、上記
超純水と合一して気体状の無水硫酸と接触させられる。
【０００８】本発明の輸送工程は、粗硫酸（７）の少な
くとも一部分を下記ストリッピング工程へ供給する工程
であって、循環ポンプ（４）により液輸送を行い、かつ
該循環ポンプ（４）入口の液の温度が０〜３０℃、好ま
しくは２０〜３０℃であり、ストリッピング工程へ供給
される液の温度が６０〜１２０℃、好ましくは８０〜１
２０℃である工程である。
くとも一部分を下記ストリッピング工程へ供給する工程
であって、循環ポンプ（４）により液輸送を行い、かつ
該循環ポンプ（４）入口の液の温度が０〜３０℃、好ま
しくは２０〜３０℃であり、ストリッピング工程へ供給
される液の温度が６０〜１２０℃、好ましくは８０〜１
２０℃である工程である。
【０００９】循環ポンプ入口の硫酸の温度が低過ぎると
粘度が上昇して輸送の効率が低下し、更に亜硫酸ガスの
除去が困難になる。一方、該温度が高過ぎると循環ポン
プを構成する金属から金属分が硫酸中に溶けだし、製品
である硫酸中の金属分の濃度が高くなる。該温度を上記
の範囲に制御する方法としては、循環ポンプの入口に冷
却器を設置し、硫酸を冷却する方法をあげることができ
る。
粘度が上昇して輸送の効率が低下し、更に亜硫酸ガスの
除去が困難になる。一方、該温度が高過ぎると循環ポン
プを構成する金属から金属分が硫酸中に溶けだし、製品
である硫酸中の金属分の濃度が高くなる。該温度を上記
の範囲に制御する方法としては、循環ポンプの入口に冷
却器を設置し、硫酸を冷却する方法をあげることができ
る。
【００１０】ストリッピング工程へ供給される液の温度
が低過ぎるとストリッピング塔におけるストリッピング
の効果が不十分となり、製品である硫酸中に亜硫酸ガス
が残留して不都合となる。一方、該温度が高過ぎると循
環ポンプ入口熱交換器の能力を非常に大きなものにする
必要があり、経済性が悪い。該温度を上記の範囲に制御
する方法としては、ストリッピング工程へ供給される硫
酸をスチーム又は電気ヒーターなどを用いた加熱器で加
熱する方法、ストリッピング工程で得られる硫酸と循環
ポンプの出口の硫酸とを熱交換させる方法（図２）など
をあげることができるが、特に後者は熱経済上好ましい
方法である。
が低過ぎるとストリッピング塔におけるストリッピング
の効果が不十分となり、製品である硫酸中に亜硫酸ガス
が残留して不都合となる。一方、該温度が高過ぎると循
環ポンプ入口熱交換器の能力を非常に大きなものにする
必要があり、経済性が悪い。該温度を上記の範囲に制御
する方法としては、ストリッピング工程へ供給される硫
酸をスチーム又は電気ヒーターなどを用いた加熱器で加
熱する方法、ストリッピング工程で得られる硫酸と循環
ポンプの出口の硫酸とを熱交換させる方法（図２）など
をあげることができるが、特に後者は熱経済上好ましい
方法である。
【００１１】本工程においては粗硫酸の少なくとも一部
分がストリッピング工程へ供給されるが、粗硫酸の残部
分は吸収工程へリサイクルされる。
分がストリッピング工程へ供給されるが、粗硫酸の残部
分は吸収工程へリサイクルされる。
【００１２】本発明のストリッピング工程は、ストリッ
ピング塔（８）において、輸送工程から供給される粗硫
酸（７）を空気（９）でストリッピンングして粗硫酸中
の亜硫酸ガスを硫酸から分離除去することにりより高純
度硫酸（３）を得る工程である。ストリッピング塔とし
ては、前記吸収工程において説明した吸収塔と同様のも
のを用いることができる。本工程としては、たとえばス
トリッピング塔の上部からストリッピングすべき硫酸を
供給し、ストリッピング塔の下部から空気を供給し、両
者をストリッピング塔内で接触させる方法をあげること
ができる。
ピング塔（８）において、輸送工程から供給される粗硫
酸（７）を空気（９）でストリッピンングして粗硫酸中
の亜硫酸ガスを硫酸から分離除去することにりより高純
度硫酸（３）を得る工程である。ストリッピング塔とし
ては、前記吸収工程において説明した吸収塔と同様のも
のを用いることができる。本工程としては、たとえばス
トリッピング塔の上部からストリッピングすべき硫酸を
供給し、ストリッピング塔の下部から空気を供給し、両
者をストリッピング塔内で接触させる方法をあげること
ができる。
【００１３】本発明においては、上記の変形として、ス
トリッピング工程及び輸送工程を下記のとおりとしても
よい（図３、図４）。
トリッピング工程及び輸送工程を下記のとおりとしても
よい（図３、図４）。
【００１４】ストリッピング工程：ストリッピング塔
（８）において、吸収工程から供給される粗硫酸（７）
を空気（９）でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸
ガスを硫酸から分離除去することにりより高純度硫酸
（３）を得る工程
（８）において、吸収工程から供給される粗硫酸（７）
を空気（９）でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸
ガスを硫酸から分離除去することにりより高純度硫酸
（３）を得る工程
【００１５】輸送工程：ストリッピング工程から供給さ
れる高純度硫酸（３）少なくとも一部分を製品硫酸とし
て分岐採取する工程であって、循環ポンプ（４）により
液輸送を行う工程
れる高純度硫酸（３）少なくとも一部分を製品硫酸とし
て分岐採取する工程であって、循環ポンプ（４）により
液輸送を行う工程
【００１６】上記の方法の詳細については、前記説明し
た方法を準用できる。
た方法を準用できる。
【００１７】本発明の製造方法により得られる高純度硫
酸は、金属分濃度２０重量ｐｐｔ以下、亜硫酸ガス濃度
１重量ｐｐｍ以下とすることができ、半導体工場におい
て用いられるシリコンウエハーの洗浄液として最適に使
用され得る。
酸は、金属分濃度２０重量ｐｐｔ以下、亜硫酸ガス濃度
１重量ｐｐｍ以下とすることができ、半導体工場におい
て用いられるシリコンウエハーの洗浄液として最適に使
用され得る。
【００１８】
【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。す
なわち、循環ポンプを通過する液の温度と該液中の金属
分の濃度の関係を調べた。
なわち、循環ポンプを通過する液の温度と該液中の金属
分の濃度の関係を調べた。
【００１９】実施例１及び比較例１ テフロン製タンク（２００ｌ）中に８９重量％硫酸２０
０ｋｇを仕込み、テフロン遠心ポンプにより２４時間液
循環を行なった。結果を表１に示した。
０ｋｇを仕込み、テフロン遠心ポンプにより２４時間液
循環を行なった。結果を表１に示した。
【００２０】
【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 比較例１ 参 考 循環硫酸温度 ℃ 25 80 （循環前） 循環後硫酸中の金属分 ppt アルミニウム 166 1100 10 銅 158 1200 2 マグネシウム 17 112 5 鉄 254 2175 14 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００２１】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、不
純物である金属分及び亜硫酸ガスが高度に除去された高
純度な硫酸の製造方法を提供することができた。
純物である金属分及び亜硫酸ガスが高度に除去された高
純度な硫酸の製造方法を提供することができた。
【図１】本発明のフローの例を示す図である。
【図２】本発明のフローの例を示す図である。
【図３】本発明のフローの例を示す図である。
【図４】本発明のフローの例を示す図である。
１ 気体状の無水硫酸 ２ 水 ３ 高純度硫酸 ４ 循環ポンプ ５ 吸収塔 ６ 硫酸水 ７ 粗硫酸 ８ ストリッピング塔 ９ 空気 10 冷却器 11 熱交換器 12 循環タンク 13 ベント 14 空気
Claims (4)
- 【請求項１】 不純物としての亜硫酸ガスを含有する気
体状の無水硫酸（１）と水（２）から高純度硫酸（３）
を製造する方法であって、下記工程を含み、下記循環ポ
ンプ（４）入口の液の温度が０〜３０℃であり、下記ス
トリッピング工程へ供給される液の温度が６０〜１２０
℃である高純度硫酸の製造方法。 吸収工程：吸収塔（５）において、水で希釈された硫酸
水（６）と気体状の無水硫酸（１）とを接触させて気体
状の無水硫酸を硫酸水に吸収させることにより不純物と
しての亜硫酸ガスを含有する粗硫酸（７）を得る工程 輸送工程：粗硫酸（７）の少なくとも一部分を下記スト
リッピング工程へ供給する工程であって、循環ポンプ
（４）により液輸送を行う工程 ストリッピング工程：ストリッピング塔（８）におい
て、輸送工程から供給される粗硫酸（７）を空気（９）
でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸か
ら分離除去することにりより高純度硫酸（３）を得る工
程 - 【請求項２】 輸送工程及びストリッピング工程が下記
工程である請求項１記載の製造方法。 ストリッピング工程：ストリッピング塔（８）におい
て、吸収工程から供給される粗硫酸（７）を空気（９）
でストリッピンングして粗硫酸中の亜硫酸ガスを硫酸か
ら分離除去することにりより高純度硫酸（３）を得る工
程 輸送工程：ストリッピング工程から供給される高純度硫
酸（３）少なくとも一部分を製品硫酸として分岐採取す
る工程であって、循環ポンプ（４）により液輸送を行う
工程 - 【請求項３】 循環ポンプ（４）の入口に設置された冷
却器（１０）により液を冷却する請求項１又は請求項２
記載の製造方法。 - 【請求項４】 循環ポンプ（４）の出口の液と循環ポン
プの入口の液の間で熱交換器（１１）により熱交換を行
う請求項１又は請求項２記載の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7149033A JPH08337406A (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | 高純度硫酸の製造方法 |
| US08/776,914 US5711928A (en) | 1995-06-15 | 1996-06-17 | Process for producing high-purity sulfuric acid |
| KR1019970700935A KR970704630A (ko) | 1995-06-15 | 1996-06-17 | 고순도 황산의 제조 방법(process for producing high-purity sulfuric acid) |
| PCT/JP1996/001649 WO1997000228A1 (en) | 1995-06-15 | 1996-06-17 | Process for producing high-purity sulfuric acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7149033A JPH08337406A (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | 高純度硫酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08337406A true JPH08337406A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15466204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7149033A Pending JPH08337406A (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | 高純度硫酸の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5711928A (ja) |
| JP (1) | JPH08337406A (ja) |
| KR (1) | KR970704630A (ja) |
| WO (1) | WO1997000228A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003519066A (ja) * | 1999-12-28 | 2003-06-17 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 高純度硫酸の製法 |
| JP2006169106A (ja) * | 2006-02-20 | 2006-06-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高純度硫酸の製造方法 |
| JP2011219331A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Japan Atomic Energy Agency | 熱化学水素製造方法 |
| KR101675947B1 (ko) * | 2016-05-03 | 2016-11-16 | 현대피.에프산업 (주) | 고순도 황산 제조 장치 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| OA12344A (en) | 2000-07-25 | 2006-05-15 | Phelps Dodge Corp | Processing elemental sulfur-bearing materials using high temperature pressure leaching for sulfuric acid production and metal recovery. |
| US6279514B1 (en) * | 2000-08-07 | 2001-08-28 | Timothy J. Browder | Method of recovering heat in sulfuric acid production plant |
| CN101372320B (zh) * | 2007-08-20 | 2011-09-07 | 普林克有限责任公司 | 用于提纯废硫酸的设备 |
| CN102424369B (zh) * | 2011-10-17 | 2013-01-02 | 上海奥格利环保工程有限公司 | 试剂级高纯硫酸生产工艺 |
| CN114804036B (zh) * | 2022-04-12 | 2022-12-13 | 南京佳华工程技术有限公司 | 一种生产g1-g5电子级硫酸的方法及系统 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA577324A (en) * | 1959-06-09 | American Cyanamid Company | Separation of mercury from sulfuric acid | |
| US2730431A (en) * | 1949-06-08 | 1956-01-10 | Bayer Ag | Manufacture of sulfuric acid |
| JPS5622608A (en) * | 1979-07-30 | 1981-03-03 | Nissan Chem Ind Ltd | Manufacture of high purity sulfuric acid |
| DE3315263C2 (de) * | 1983-04-27 | 1987-04-30 | Moskovskij institut chimičeskogo mašinostroenija | Verfahren zur Herstellung von Schwefelsäure |
| US5164049A (en) * | 1986-10-06 | 1992-11-17 | Athens Corporation | Method for making ultrapure sulfuric acid |
| DK168701B1 (da) * | 1988-06-09 | 1994-05-24 | Topsoe Haldor As | Fremgangsmåde til ved fremstilling af svovlsyre at udkondensere svovlsyredampe |
| US5194239A (en) * | 1991-02-26 | 1993-03-16 | The Ralph M. Parsons Company | Oxygen-based noncatalytic sulfuric acid process |
-
1995
- 1995-06-15 JP JP7149033A patent/JPH08337406A/ja active Pending
-
1996
- 1996-06-17 WO PCT/JP1996/001649 patent/WO1997000228A1/ja not_active Ceased
- 1996-06-17 US US08/776,914 patent/US5711928A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-17 KR KR1019970700935A patent/KR970704630A/ko not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003519066A (ja) * | 1999-12-28 | 2003-06-17 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 高純度硫酸の製法 |
| JP2006169106A (ja) * | 2006-02-20 | 2006-06-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高純度硫酸の製造方法 |
| JP2011219331A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Japan Atomic Energy Agency | 熱化学水素製造方法 |
| KR101675947B1 (ko) * | 2016-05-03 | 2016-11-16 | 현대피.에프산업 (주) | 고순도 황산 제조 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5711928A (en) | 1998-01-27 |
| KR970704630A (ko) | 1997-09-06 |
| WO1997000228A1 (en) | 1997-01-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4686093B2 (ja) | 高純度硫酸の製法 | |
| KR101598401B1 (ko) | 고순도 황산을 제조하는 방법 및 시스템 | |
| US4349524A (en) | Process for producing purified hydrochloric acid | |
| CN217418195U (zh) | 一种电子级硫酸生产装置 | |
| CA2431544C (en) | Method for the concentration of spent acid | |
| CA1244228A (en) | Process and apparatus for the concentration and purification of sulfuric acid which contains organic impurities | |
| JP4576312B2 (ja) | 四フッ化ケイ素の製造方法、及びそれに用いる製造装置 | |
| US5711928A (en) | Process for producing high-purity sulfuric acid | |
| CN118515286A (zh) | 一种无水氟化氢联产四氟化硅的方法 | |
| US2081189A (en) | Dehydrating alcohols | |
| JPS604127B2 (ja) | 四弗化珪素ガスの精製法 | |
| CN208694295U (zh) | 一种多晶硅生产线尾气回收系统 | |
| JP7040512B2 (ja) | 精製過酸化水素水溶液の製造方法および製造システム | |
| CN115321486A (zh) | 电子级别三氟化氯纯化方法 | |
| CN211871381U (zh) | 一种高纯硫酸生产系统 | |
| JP4132614B2 (ja) | 高純度ｎｆ３ガスの精製方法 | |
| JPS61151002A (ja) | フツ化水素酸の精製法 | |
| KR102326287B1 (ko) | 다결정 실리콘의 제조 방법 | |
| CN101257964B (zh) | 同位素浓缩方法 | |
| US4150102A (en) | Purifying hydrofluoric acid | |
| JPH06345410A (ja) | 高純度塩酸の製造方法 | |
| JPH0930803A (ja) | 高純度硫酸の製造方法 | |
| CN116553557B (zh) | 一种氟硅酸的浓缩工艺 | |
| KR860000556B1 (ko) | 정제염산의 제조방법 | |
| JPH0421604B2 (ja) |