JPH0833877A - 超音波処理装置 - Google Patents
超音波処理装置Info
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- JPH0833877A JPH0833877A JP6191746A JP19174694A JPH0833877A JP H0833877 A JPH0833877 A JP H0833877A JP 6191746 A JP6191746 A JP 6191746A JP 19174694 A JP19174694 A JP 19174694A JP H0833877 A JPH0833877 A JP H0833877A
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- Japan
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- liquid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B2203/00—Details of cleaning machines or methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B2203/002—Details of cleaning machines or methods involving the use or presence of liquid or steam the liquid being a degassed liquid
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】超音波洗浄装置による洗浄槽内の溶存気体量を
少なくして洗浄を効率ようく行う。 【構成】洗浄槽10内に貯留された洗浄液Fは、超音波
振動子11のキャビテーション現象により、洗浄液F内
に浸漬した被処理物の洗浄を行う。この処理液Fは排液
ポンプP1によって排液パイプQ1から脱気槽20内に送
給し、給液ポンプP2によって給液パイプQ2から洗浄槽
10内に循環する。真空状態の脱気槽20により、洗浄
液中に溶存している気体が気泡となって脱気されるため
に、溶存気体の少ない洗浄液Fが洗浄槽10内に貯留さ
れる。このため、超音波振動子11によって洗浄液Fの
発泡が少なく、効率よく洗浄を行うことができる。
少なくして洗浄を効率ようく行う。 【構成】洗浄槽10内に貯留された洗浄液Fは、超音波
振動子11のキャビテーション現象により、洗浄液F内
に浸漬した被処理物の洗浄を行う。この処理液Fは排液
ポンプP1によって排液パイプQ1から脱気槽20内に送
給し、給液ポンプP2によって給液パイプQ2から洗浄槽
10内に循環する。真空状態の脱気槽20により、洗浄
液中に溶存している気体が気泡となって脱気されるため
に、溶存気体の少ない洗浄液Fが洗浄槽10内に貯留さ
れる。このため、超音波振動子11によって洗浄液Fの
発泡が少なく、効率よく洗浄を行うことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、処理槽に貯留された
処理液中に超音波の振動エネルギーを与えて、そのキャ
ビテーション現象によって浸漬された部品や部材等の洗
浄、すすぎ、バリ取り等の処理を行う超音波処理装置に
関する。
処理液中に超音波の振動エネルギーを与えて、そのキャ
ビテーション現象によって浸漬された部品や部材等の洗
浄、すすぎ、バリ取り等の処理を行う超音波処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】超音波の振動エネルギーによるキャビテ
ーション現象を利用して被処理物の表面の汚れ、バリ等
を除去する超音波処理装置が広く知られている。ここ
で、処理液中に気体が溶解していると、超音波の振動エ
ネルギーによって発泡して被処理物の表面に付着して前
述効果を妨げている。このため、処理液中に溶存する気
体濃度を下げて処理効率を上げるために、以下に示すよ
うな処理装置が知られている。第1の装置では、処理槽
を真空状態として脱気するものである。第2の装置で
は、処理液が溶剤系の場合に適した装置であって、処理
液を沸騰させることにより脱気するものである。また、
第3の装置では、気液分離膜を用いて脱気するものであ
る。
ーション現象を利用して被処理物の表面の汚れ、バリ等
を除去する超音波処理装置が広く知られている。ここ
で、処理液中に気体が溶解していると、超音波の振動エ
ネルギーによって発泡して被処理物の表面に付着して前
述効果を妨げている。このため、処理液中に溶存する気
体濃度を下げて処理効率を上げるために、以下に示すよ
うな処理装置が知られている。第1の装置では、処理槽
を真空状態として脱気するものである。第2の装置で
は、処理液が溶剤系の場合に適した装置であって、処理
液を沸騰させることにより脱気するものである。また、
第3の装置では、気液分離膜を用いて脱気するものであ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の第1の
装置では、被処理物を処理槽内に入れ毎に真空とする回
分式の処理となり、作業性が悪いという課題を有してい
る。また、第2の装置では連続式の処理となるが、その
適用は揮発性の溶剤系の処理液に限定され、特に環境衛
生上の観点から好ましい水や、沸点の高い炭化水素系洗
浄剤では、適用できないという課題を有している。さら
に、第3の装置では、連続式の処理となるが、気体除去
の処理速度が遅く、また、高価な気液分離膜を使用する
ためにコスト高となるいう課題を有している。
装置では、被処理物を処理槽内に入れ毎に真空とする回
分式の処理となり、作業性が悪いという課題を有してい
る。また、第2の装置では連続式の処理となるが、その
適用は揮発性の溶剤系の処理液に限定され、特に環境衛
生上の観点から好ましい水や、沸点の高い炭化水素系洗
浄剤では、適用できないという課題を有している。さら
に、第3の装置では、連続式の処理となるが、気体除去
の処理速度が遅く、また、高価な気液分離膜を使用する
ためにコスト高となるいう課題を有している。
【0004】そこで、この発明では、上述した課題を解
決するために、脱気槽との間で処理液を循環して脱気
し、処理槽内の処理液には溶存気体量が少ない状態とす
ることによって、連続的に効率よく処理することのでき
る超音波処理装置とすることを目的としている。
決するために、脱気槽との間で処理液を循環して脱気
し、処理槽内の処理液には溶存気体量が少ない状態とす
ることによって、連続的に効率よく処理することのでき
る超音波処理装置とすることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明では、超
音波発生手段を設けるとともに処理液を貯留する処理槽
と、真空容器からなる脱気槽とを備え、この処理槽内の
処理液を前記脱気槽との間に循環して、処理液中に溶存
する気体を真空雰囲気で脱気することとしている。
音波発生手段を設けるとともに処理液を貯留する処理槽
と、真空容器からなる脱気槽とを備え、この処理槽内の
処理液を前記脱気槽との間に循環して、処理液中に溶存
する気体を真空雰囲気で脱気することとしている。
【0006】請求項2の発明では、超音波発生手段を設
けるとともに処理液を貯留する処理槽と、この処理槽に
給液パイプと排液パイプにより連通された密閉容器から
なる脱気槽とを備え、脱気槽には、真空ポンプが設けら
れ、また、排液パイプに処理槽内の処理液を脱気槽へ送
り出す排液ポンプが設けられるとともに、給液パイプ
に、脱気槽内の処理液を処理槽に送り出す給液ポンプを
設けている。
けるとともに処理液を貯留する処理槽と、この処理槽に
給液パイプと排液パイプにより連通された密閉容器から
なる脱気槽とを備え、脱気槽には、真空ポンプが設けら
れ、また、排液パイプに処理槽内の処理液を脱気槽へ送
り出す排液ポンプが設けられるとともに、給液パイプ
に、脱気槽内の処理液を処理槽に送り出す給液ポンプを
設けている。
【0007】請求項3の発明では、請求項1または請求
項2の発明において、脱気槽には圧力測定手段が設けら
れ、この圧力測定手段の測定結果を受けて、圧力が設定
した上限値になると真空ポンプを作動させ、設定した下
限値になると前記真空ポンプの作動を停止させる真空ポ
ンプ駆動制御手段を設けている。
項2の発明において、脱気槽には圧力測定手段が設けら
れ、この圧力測定手段の測定結果を受けて、圧力が設定
した上限値になると真空ポンプを作動させ、設定した下
限値になると前記真空ポンプの作動を停止させる真空ポ
ンプ駆動制御手段を設けている。
【0008】請求項4の発明では、請求項1、請求項2
または請求項3の発明において、脱気槽には、この脱気
槽内の処理液面の上限位置と下限位置を検出する液面検
出手段とが設けられ、この液面検出手段による上限位置
検出結果に応じて、給液ポンプの液送り量を排液ポンプ
の液送り量より多くし、下限位置検出結果に応じて、給
液ポンプの液送り量を前記排液ポンプの液送り量より多
くするように排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御す
るポンプ駆動制御手段を設けている。
または請求項3の発明において、脱気槽には、この脱気
槽内の処理液面の上限位置と下限位置を検出する液面検
出手段とが設けられ、この液面検出手段による上限位置
検出結果に応じて、給液ポンプの液送り量を排液ポンプ
の液送り量より多くし、下限位置検出結果に応じて、給
液ポンプの液送り量を前記排液ポンプの液送り量より多
くするように排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御す
るポンプ駆動制御手段を設けている。
【0009】請求項5の発明では、請求項1から請求項
4の発明において、脱気槽内に超音波発生手段を設けら
れている。
4の発明において、脱気槽内に超音波発生手段を設けら
れている。
【0010】
【作用】請求項1の発明では、処理槽内に貯留された処
理液は、超音波発生手段によってキャビテーション現象
を生じ、この処理液内に浸漬された被処理物の洗浄など
の処理が行われる。この処理液は脱気槽内に送給され、
さらに処理槽内に循環している。また、真空容器の脱気
槽では、処理液中に溶存している気体がこの真空雰囲気
に曝されて気泡となって脱気されるために、溶存気体の
少ない状態で処理槽内に循環する。このため、処理液に
超音波発生手段による超音波振動が付与されても発泡が
少なく、効率よく洗浄などの処理が行われる。
理液は、超音波発生手段によってキャビテーション現象
を生じ、この処理液内に浸漬された被処理物の洗浄など
の処理が行われる。この処理液は脱気槽内に送給され、
さらに処理槽内に循環している。また、真空容器の脱気
槽では、処理液中に溶存している気体がこの真空雰囲気
に曝されて気泡となって脱気されるために、溶存気体の
少ない状態で処理槽内に循環する。このため、処理液に
超音波発生手段による超音波振動が付与されても発泡が
少なく、効率よく洗浄などの処理が行われる。
【0011】請求項2の発明では、処理槽内に貯留され
た処理液は、超音波発生手段によってキャビテーション
現象を生じ、この処理液内に浸漬された被処理物の洗浄
などの処理が行われる。この処理液は排液ポンプによっ
て排液パイプから脱気槽内に送給され、さらに給液ポン
プによって給液パイプから処理槽内に循環している。ま
た、密閉容器とされた脱気槽内は真空ポンプによって真
空状態にされており、処理液中に溶存している気体が気
泡となって脱気されるために、溶存気体の少ない状態で
処理槽内に循環する。このため、超音波発生手段による
超音波振動が付与されても、発泡が少なく、効率よく洗
浄などの処理が行われる。
た処理液は、超音波発生手段によってキャビテーション
現象を生じ、この処理液内に浸漬された被処理物の洗浄
などの処理が行われる。この処理液は排液ポンプによっ
て排液パイプから脱気槽内に送給され、さらに給液ポン
プによって給液パイプから処理槽内に循環している。ま
た、密閉容器とされた脱気槽内は真空ポンプによって真
空状態にされており、処理液中に溶存している気体が気
泡となって脱気されるために、溶存気体の少ない状態で
処理槽内に循環する。このため、超音波発生手段による
超音波振動が付与されても、発泡が少なく、効率よく洗
浄などの処理が行われる。
【0012】請求項3の発明では、処理液中に溶存する
気体が脱気放出されることによって脱気槽中の圧力が高
くなるが、請求項1の発明に加えて脱気槽には圧力測定
手段が設けられており、設定した圧力の上限値になると
この測定結果を受けて真空ポンプ駆動制御手段によって
真空ポンプが作動して脱気槽中の真空度を保持する。ま
た、設定した下限値になると真空ポンプはその作動を停
止する。
気体が脱気放出されることによって脱気槽中の圧力が高
くなるが、請求項1の発明に加えて脱気槽には圧力測定
手段が設けられており、設定した圧力の上限値になると
この測定結果を受けて真空ポンプ駆動制御手段によって
真空ポンプが作動して脱気槽中の真空度を保持する。ま
た、設定した下限値になると真空ポンプはその作動を停
止する。
【0013】請求項4の発明では、脱気槽にさらに、こ
の脱気槽内の処理液の液面の上限位置を検出する液面上
限検出センサと、下限位置を検出する液面下限検出セン
サとが設けられているので、脱気槽中の処理液面が上昇
すると液面上限検出センサによってその上限位置が検出
され、その結果に応じてポンプ駆動制御手段によって給
液ポンプの液送り量が排液ポンプの液送り量より多くな
って、液面を下げる。また、液面下限検出センサによる
下限位置検出結果に応じて、ポンプ駆動制御手段によっ
て給液ポンプの液送り量が排液ポンプの液送り量より多
くなるように排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御
し、その液面を上昇する。
の脱気槽内の処理液の液面の上限位置を検出する液面上
限検出センサと、下限位置を検出する液面下限検出セン
サとが設けられているので、脱気槽中の処理液面が上昇
すると液面上限検出センサによってその上限位置が検出
され、その結果に応じてポンプ駆動制御手段によって給
液ポンプの液送り量が排液ポンプの液送り量より多くな
って、液面を下げる。また、液面下限検出センサによる
下限位置検出結果に応じて、ポンプ駆動制御手段によっ
て給液ポンプの液送り量が排液ポンプの液送り量より多
くなるように排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御
し、その液面を上昇する。
【0014】請求項5の発明では、処理槽内と同様に脱
気槽内に超音波発生手段を設けられているので、超音波
のキャビテーション現象により、さらに迅速に脱気が行
われる。
気槽内に超音波発生手段を設けられているので、超音波
のキャビテーション現象により、さらに迅速に脱気が行
われる。
【0015】
【効果】請求項1の発明では、超音波発生手段を設ける
とともに処理液を貯留する処理槽と、真空容器からなる
脱気槽とを備え、この処理槽内の処理液を前記脱気槽と
の間に循環して、処理液中に溶存する気体を真空雰囲気
で脱気することとしているために、脱気槽中で脱気され
た処理液が処理槽内に循環供給されて、処理槽内は常
に、気泡のほとんど無い洗浄液で満たされているので、
超音波発生手段によるキャビテーション効果が有効に発
揮され、被処理物の洗浄などの処理を効果的に行うこと
ができる。
とともに処理液を貯留する処理槽と、真空容器からなる
脱気槽とを備え、この処理槽内の処理液を前記脱気槽と
の間に循環して、処理液中に溶存する気体を真空雰囲気
で脱気することとしているために、脱気槽中で脱気され
た処理液が処理槽内に循環供給されて、処理槽内は常
に、気泡のほとんど無い洗浄液で満たされているので、
超音波発生手段によるキャビテーション効果が有効に発
揮され、被処理物の洗浄などの処理を効果的に行うこと
ができる。
【0016】請求項2の発明では、排液パイプに処理槽
内の処理液を脱気槽に送り出す排液ポンプが設けられ、
また、給液パイプに脱気槽内の処理液を処理槽に送り出
す給液ポンプが設けられているために、処理槽と脱気槽
との間の処理液の循環を円滑に行うことができて、処理
槽内は常に気泡のほとんど無い洗浄液で満たされている
ので、超音波発生手段によるキャビテーション効果が有
効に発揮され、被処理物の洗浄などの処理を効果的に行
うことができる。
内の処理液を脱気槽に送り出す排液ポンプが設けられ、
また、給液パイプに脱気槽内の処理液を処理槽に送り出
す給液ポンプが設けられているために、処理槽と脱気槽
との間の処理液の循環を円滑に行うことができて、処理
槽内は常に気泡のほとんど無い洗浄液で満たされている
ので、超音波発生手段によるキャビテーション効果が有
効に発揮され、被処理物の洗浄などの処理を効果的に行
うことができる。
【0017】請求項3の発明では、脱気槽には圧力測定
手段が設けられ、この圧力測定手段の測定結果を受け
て、圧力が設定した上限値になると真空ポンプを作動さ
せ、設定した下限値になると真空ポンプの作動を停止さ
せる真空ポンプ駆動制御手段が設けられているので、脱
気槽内は脱気が行われるに十分な所定の真空度に保つこ
とができる。
手段が設けられ、この圧力測定手段の測定結果を受け
て、圧力が設定した上限値になると真空ポンプを作動さ
せ、設定した下限値になると真空ポンプの作動を停止さ
せる真空ポンプ駆動制御手段が設けられているので、脱
気槽内は脱気が行われるに十分な所定の真空度に保つこ
とができる。
【0018】請求項4の発明では、脱気槽には、処理液
面の上限位置を検出する液面上限検出センサと、下限位
置を検出する液面下限検出センサとが設けられ、液面上
限検出センサによる上限位置検出結果に応じて、給液ポ
ンプの液送り量を排液ポンプの液送り量より多くし、液
面下限検出センサによる下限位置検出結果に応じて、給
液ポンプの液送り量を排液ポンプの液送り量より多くす
るように同排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御する
ポンプ駆動制御手段が設けられているので、脱気槽内の
液面を一定の範囲に保つことができる。
面の上限位置を検出する液面上限検出センサと、下限位
置を検出する液面下限検出センサとが設けられ、液面上
限検出センサによる上限位置検出結果に応じて、給液ポ
ンプの液送り量を排液ポンプの液送り量より多くし、液
面下限検出センサによる下限位置検出結果に応じて、給
液ポンプの液送り量を排液ポンプの液送り量より多くす
るように同排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御する
ポンプ駆動制御手段が設けられているので、脱気槽内の
液面を一定の範囲に保つことができる。
【0019】請求項5の発明では、処理槽に加えて脱気
槽内にも超音波発生手段を設けられているので、脱気処
理が迅速に行われて、処理液中に溶存する気体の濃度を
下げることができる。
槽内にも超音波発生手段を設けられているので、脱気処
理が迅速に行われて、処理液中に溶存する気体の濃度を
下げることができる。
【0020】
【実施例】以下、この発明を部品の洗浄処理を洗浄液
(水)Fとする超音波洗浄装置の例について図1〜図3
を参照して説明する。図1は、この実施例に係る超音波
洗浄装置を模式図により示したものであって、超音波洗
浄装置は、この発明における処理槽としての洗浄槽10
と、この洗浄槽10と並列して設置された脱気槽20
と、制御回路40とを備えている。そして、洗浄槽10
と脱気槽20との間には下部に給液パイプQ2が、上部
に排液パイプQ1が連結されて、両槽10,20との間
を洗浄液Fが流通可能とされている。洗浄槽10は、上
面が開放されており、この上から籠に入れられた複数の
部品を収納可能とされた容器であって、その底部には、
図示しない駆動装置により駆動して超音波を発生する超
音波振動子11が取付けられている。
(水)Fとする超音波洗浄装置の例について図1〜図3
を参照して説明する。図1は、この実施例に係る超音波
洗浄装置を模式図により示したものであって、超音波洗
浄装置は、この発明における処理槽としての洗浄槽10
と、この洗浄槽10と並列して設置された脱気槽20
と、制御回路40とを備えている。そして、洗浄槽10
と脱気槽20との間には下部に給液パイプQ2が、上部
に排液パイプQ1が連結されて、両槽10,20との間
を洗浄液Fが流通可能とされている。洗浄槽10は、上
面が開放されており、この上から籠に入れられた複数の
部品を収納可能とされた容器であって、その底部には、
図示しない駆動装置により駆動して超音波を発生する超
音波振動子11が取付けられている。
【0021】脱気槽20は密閉容器であって、内側底部
には洗浄槽10と同様に駆動装置により駆動して超音波
を発生する超音波振動子21が設けられている。この脱
気槽20の上部側壁には、液面上限検出センサ22が取
付けられており、また、この液面上限検出センサ22の
取付位置より下部位置には液面下限検出センサ23が取
付けられている。両センサ22,23は、光電センサの
例を示すが、その他のセンサやフロートを利用したリミ
ットスイッチなどを用いることができる。脱気槽20の
上蓋内側には圧力センサ24が設けられている。この圧
力センサ24としては、半導体式センサやピエゾ式セン
サ等が用いられ、また、上壁にはパイプQ3を介して圧
力計25が取り付けられて外部から脱気槽20内の圧力
を測定することができるようにされている。
には洗浄槽10と同様に駆動装置により駆動して超音波
を発生する超音波振動子21が設けられている。この脱
気槽20の上部側壁には、液面上限検出センサ22が取
付けられており、また、この液面上限検出センサ22の
取付位置より下部位置には液面下限検出センサ23が取
付けられている。両センサ22,23は、光電センサの
例を示すが、その他のセンサやフロートを利用したリミ
ットスイッチなどを用いることができる。脱気槽20の
上蓋内側には圧力センサ24が設けられている。この圧
力センサ24としては、半導体式センサやピエゾ式セン
サ等が用いられ、また、上壁にはパイプQ3を介して圧
力計25が取り付けられて外部から脱気槽20内の圧力
を測定することができるようにされている。
【0022】脱気槽20の上壁にはパイプQ4 を介して
真空ポンプP3が取り付けられている。この真空ポンプ
P3は、非オイル系のメカニカルブースター型ポンプを
用いられている。なお、オイルロータリーポンプも使用
することができるが、洗浄液がオイルによって汚染され
ることを防止するためにオイルトラップを用いことが望
ましい。真空ポンプP3は、脱気槽20内が所定の上限
圧力(ここでは150torr)以上になると作動を開
始し、所定の下限圧力(ここでは50torr)以下に
なると作動を停止するようになっている。上限圧力は、
脱気効果から定められる圧力であって、洗浄液Fを用い
た洗浄装置では上記の値とされる。また、下限圧力は、
真空ポンプP3の真空能力から定められる圧力である。
真空ポンプP3が取り付けられている。この真空ポンプ
P3は、非オイル系のメカニカルブースター型ポンプを
用いられている。なお、オイルロータリーポンプも使用
することができるが、洗浄液がオイルによって汚染され
ることを防止するためにオイルトラップを用いことが望
ましい。真空ポンプP3は、脱気槽20内が所定の上限
圧力(ここでは150torr)以上になると作動を開
始し、所定の下限圧力(ここでは50torr)以下に
なると作動を停止するようになっている。上限圧力は、
脱気効果から定められる圧力であって、洗浄液Fを用い
た洗浄装置では上記の値とされる。また、下限圧力は、
真空ポンプP3の真空能力から定められる圧力である。
【0023】洗浄槽10と脱気槽20との間には、両者
間を連結する排液パイプQ1 が設けられており、この排
液パイプQ1 の中間部に、洗浄槽10内の洗浄液Fを脱
気槽20内に送る排液ポンプP1が取付けられている。
この排液ポンプP1は、洗浄槽10と脱気槽20との圧
力差による洗浄液Fの流出を防ぐために、容積型であっ
て、ロータがゴムライニングされたパイロットギア式ロ
ータリーポンプが使用されている。これにより洗浄槽1
0と脱気槽20間が気密に遮断されて、排液ポンプP1
の回転に基づいた一定量の洗浄液Fを送給することが可
能とされている。なお、この実施例では、排液ポンプP
1は、常に一定の回転数で回転する定速運転するように
設定されており、一定量の洗浄液Fを脱気槽20に送給
するようにされている。
間を連結する排液パイプQ1 が設けられており、この排
液パイプQ1 の中間部に、洗浄槽10内の洗浄液Fを脱
気槽20内に送る排液ポンプP1が取付けられている。
この排液ポンプP1は、洗浄槽10と脱気槽20との圧
力差による洗浄液Fの流出を防ぐために、容積型であっ
て、ロータがゴムライニングされたパイロットギア式ロ
ータリーポンプが使用されている。これにより洗浄槽1
0と脱気槽20間が気密に遮断されて、排液ポンプP1
の回転に基づいた一定量の洗浄液Fを送給することが可
能とされている。なお、この実施例では、排液ポンプP
1は、常に一定の回転数で回転する定速運転するように
設定されており、一定量の洗浄液Fを脱気槽20に送給
するようにされている。
【0024】また、洗浄槽10の側壁の下部と、脱気槽
20の側壁の下部との間には、両者間を連結する供給パ
イプQ2 が設けられており、この供給パイプQ2 の中間
部には、脱気槽20内で脱気された洗浄液Fを洗浄槽1
0内に送る給液ポンプP2が取付けられている。給液ポ
ンプP2も、洗浄液Fの逆流を防ぐためにパイロットギ
ア式ロータリーポンプが用いられている。なお、給液ポ
ンプP2は、排液ポンプP1の回転数を上げることが可能
とされ、この回転数を上げることによって洗浄槽10へ
の送給量を調整できるために、排液ポンプP1ほどの気
密性は要求されない。このため、この実施例ではロータ
にゴムライニングが施されておらず、保守点検を容易な
ものとされている。
20の側壁の下部との間には、両者間を連結する供給パ
イプQ2 が設けられており、この供給パイプQ2 の中間
部には、脱気槽20内で脱気された洗浄液Fを洗浄槽1
0内に送る給液ポンプP2が取付けられている。給液ポ
ンプP2も、洗浄液Fの逆流を防ぐためにパイロットギ
ア式ロータリーポンプが用いられている。なお、給液ポ
ンプP2は、排液ポンプP1の回転数を上げることが可能
とされ、この回転数を上げることによって洗浄槽10へ
の送給量を調整できるために、排液ポンプP1ほどの気
密性は要求されない。このため、この実施例ではロータ
にゴムライニングが施されておらず、保守点検を容易な
ものとされている。
【0025】制御回路40は、マイクロコンピュータを
備えており、図2に示すフローチャートに対応した「洗
浄液循環プログラム」を実行し続けると共に、図3に示
すフローチャートに対応した「脱気制御プログラム」の
割り込み実行を行うものである。制御回路40の入力側
には、前述した圧力センサ24、液面上限検出センサ2
2及び液面下限センサ23が接続されている。また、制
御回路40の出力側には、上述した真空ポンプP3 、排
液ポンプP1 及び給液ポンプP2 が接続されている。
備えており、図2に示すフローチャートに対応した「洗
浄液循環プログラム」を実行し続けると共に、図3に示
すフローチャートに対応した「脱気制御プログラム」の
割り込み実行を行うものである。制御回路40の入力側
には、前述した圧力センサ24、液面上限検出センサ2
2及び液面下限センサ23が接続されている。また、制
御回路40の出力側には、上述した真空ポンプP3 、排
液ポンプP1 及び給液ポンプP2 が接続されている。
【0026】次に、このように構成された実施例の作用
について説明する。洗浄槽10及び脱気槽20に所定水
位まで洗浄液Fが満たされている。この状態で、電源ス
イッチ(図示しない)がオンされると、超音波振動子1
1,21が駆動されて一定振動数の超音波振動を開始
し、キャビテーション効果により被洗浄物の洗浄を行う
ことが可能となる。これと同時に、制御回路40は、
「洗浄液循環プログラム」の処理を、図2に示すステッ
プ50により開始し、ステップ51により、排液ポンプ
P1の定速運転V0 を開始させると共に、ステップ52
より給液ポンプP2の排液ポンプP1より速度の低い低速
運転V1 (V1 <V0 )を開始させる。これにより、洗
浄槽10内の洗浄液Fが一定速度V0 で脱気槽20に送
られ、脱気槽20内の洗浄液Fが低速度V1 で洗浄槽1
0内に戻されて洗浄液Fが循環するようになる。この状
態では、脱気槽20内への洗浄液の供給量が脱気槽20
からの洗浄液の排出量より多いために、脱気槽20内の
水位が上昇する。
について説明する。洗浄槽10及び脱気槽20に所定水
位まで洗浄液Fが満たされている。この状態で、電源ス
イッチ(図示しない)がオンされると、超音波振動子1
1,21が駆動されて一定振動数の超音波振動を開始
し、キャビテーション効果により被洗浄物の洗浄を行う
ことが可能となる。これと同時に、制御回路40は、
「洗浄液循環プログラム」の処理を、図2に示すステッ
プ50により開始し、ステップ51により、排液ポンプ
P1の定速運転V0 を開始させると共に、ステップ52
より給液ポンプP2の排液ポンプP1より速度の低い低速
運転V1 (V1 <V0 )を開始させる。これにより、洗
浄槽10内の洗浄液Fが一定速度V0 で脱気槽20に送
られ、脱気槽20内の洗浄液Fが低速度V1 で洗浄槽1
0内に戻されて洗浄液Fが循環するようになる。この状
態では、脱気槽20内への洗浄液の供給量が脱気槽20
からの洗浄液の排出量より多いために、脱気槽20内の
水位が上昇する。
【0027】そして、洗浄液の水面が上限水位に達する
と、液面上限検出センサ22から検出信号が出力され、
これを受けて制御回路40はステップ53にて「YE
S」との判定の基にプログラムをステップ54に移し、
給液ポンプP2の運転を排液ポンプP1の運転速度より高
い高速運転V2 (V2 >V0 )に切り替えさせる。この
状態では、脱気槽20からの洗浄液Fの排出量が脱気槽
20内への洗浄液の供給量より多く、脱気槽20内の水
位が下降する。そして、洗浄液の水面が下限水位に達す
ると、液面下限検出センサ23から検出信号が出力さ
れ、これを受けて制御回路40はステップ55にて「Y
ES」との判定の基にプログラムをステップ51に戻
し、給液ポンプP2の運転を排液ポンプP1の運転速度よ
り低い低速運転V1 に切り替えさせる。以下、ステップ
52〜55の処理を繰り返し実行することにより、脱気
槽20内の洗浄液の水位が上限水位と下限水位の間に保
たれる。その結果、脱気槽20内が洗浄液で一杯になっ
たり、脱気槽20内に洗浄液Fが不足して、給液ポンプ
P2が空気を巻き込んだりするという不都合を避けるこ
とができる。
と、液面上限検出センサ22から検出信号が出力され、
これを受けて制御回路40はステップ53にて「YE
S」との判定の基にプログラムをステップ54に移し、
給液ポンプP2の運転を排液ポンプP1の運転速度より高
い高速運転V2 (V2 >V0 )に切り替えさせる。この
状態では、脱気槽20からの洗浄液Fの排出量が脱気槽
20内への洗浄液の供給量より多く、脱気槽20内の水
位が下降する。そして、洗浄液の水面が下限水位に達す
ると、液面下限検出センサ23から検出信号が出力さ
れ、これを受けて制御回路40はステップ55にて「Y
ES」との判定の基にプログラムをステップ51に戻
し、給液ポンプP2の運転を排液ポンプP1の運転速度よ
り低い低速運転V1 に切り替えさせる。以下、ステップ
52〜55の処理を繰り返し実行することにより、脱気
槽20内の洗浄液の水位が上限水位と下限水位の間に保
たれる。その結果、脱気槽20内が洗浄液で一杯になっ
たり、脱気槽20内に洗浄液Fが不足して、給液ポンプ
P2が空気を巻き込んだりするという不都合を避けるこ
とができる。
【0028】そして、制御回路40は、上記「洗浄液供
給プログラム」の実行中に、同時に図3に示す「脱気制
御プログラム」の割り込み実行を行っている。すなわ
ち、制御回路40は、ステップ60にて「脱気制御プロ
グラム」の実行を開始し、ステップ61にて圧力センサ
24から検出信号を受けて、脱気槽20内の圧力が上限
圧力以上か否かを判定する。上限圧力以上のときは、制
御回路40は、ステップ61にて「YES」との判定の
基にプログラムをステップ62に移行させ、真空ポンプ
P3の運転を開始させる。これにより、脱気槽20内は
真空状態となって、洗浄液Fから溶存する気体が発泡し
て脱気される。特に、脱気槽20内に設けた超音波振動
子21によるキャビテーション現象も相まって洗浄液F
内の溶存する気体が効率よく発泡して、脱気の効率がさ
らに高められる。
給プログラム」の実行中に、同時に図3に示す「脱気制
御プログラム」の割り込み実行を行っている。すなわ
ち、制御回路40は、ステップ60にて「脱気制御プロ
グラム」の実行を開始し、ステップ61にて圧力センサ
24から検出信号を受けて、脱気槽20内の圧力が上限
圧力以上か否かを判定する。上限圧力以上のときは、制
御回路40は、ステップ61にて「YES」との判定の
基にプログラムをステップ62に移行させ、真空ポンプ
P3の運転を開始させる。これにより、脱気槽20内は
真空状態となって、洗浄液Fから溶存する気体が発泡し
て脱気される。特に、脱気槽20内に設けた超音波振動
子21によるキャビテーション現象も相まって洗浄液F
内の溶存する気体が効率よく発泡して、脱気の効率がさ
らに高められる。
【0029】そして、脱気槽20内が下限圧力以下にな
ると、圧力センサ24からの検出信号に応じて制御回路
40は、ステップ63にて「YES」との判定の基にプ
ログラムをステップ64に移行させ、真空ポンプP3の
運転を停止する。これにより、真空ポンプP3が運転さ
れていなくても、圧力が上限圧力以下の場合には、脱気
作用を十分に発揮し、そして、プログラムはステップ6
1に戻され、以下ステップ61〜64の処理が繰り返さ
れる。
ると、圧力センサ24からの検出信号に応じて制御回路
40は、ステップ63にて「YES」との判定の基にプ
ログラムをステップ64に移行させ、真空ポンプP3の
運転を停止する。これにより、真空ポンプP3が運転さ
れていなくても、圧力が上限圧力以下の場合には、脱気
作用を十分に発揮し、そして、プログラムはステップ6
1に戻され、以下ステップ61〜64の処理が繰り返さ
れる。
【0030】このようにして、洗浄槽10に貯留された
洗浄液Fはその液面や被洗浄物の表面から空気を吸収し
た溶存気体量の多い部分が排液パイプQ1から脱気槽2
0へ排出される。そして、脱気槽20内で脱気された洗
浄液Fは、給液パイプQ2を通って洗浄槽10の下部か
ら湧き上げるように上昇して再び排液パイプQ1から排
出されていく循環となる。このような洗浄液Fの循環流
内に、籠に収容した複数の部品からなる被洗浄物を浸漬
すると、被洗浄物には溶存する気体の量が少ない流れに
よって洗浄されることになる。すなわち、部品の表面に
接触する洗浄液は溶存する気体量が少ないために超音波
によって発泡することなく直接接触して、高い洗浄効果
を得ることができる。
洗浄液Fはその液面や被洗浄物の表面から空気を吸収し
た溶存気体量の多い部分が排液パイプQ1から脱気槽2
0へ排出される。そして、脱気槽20内で脱気された洗
浄液Fは、給液パイプQ2を通って洗浄槽10の下部か
ら湧き上げるように上昇して再び排液パイプQ1から排
出されていく循環となる。このような洗浄液Fの循環流
内に、籠に収容した複数の部品からなる被洗浄物を浸漬
すると、被洗浄物には溶存する気体の量が少ない流れに
よって洗浄されることになる。すなわち、部品の表面に
接触する洗浄液は溶存する気体量が少ないために超音波
によって発泡することなく直接接触して、高い洗浄効果
を得ることができる。
【0031】以上に説明したように、この実施例によれ
ば、洗浄槽10内の気体を溶存する洗浄液Fが、脱気槽
20内に送られて脱気され、再び洗浄槽10に戻される
という一連の循環流となるために、洗浄槽10内には常
に溶存する気体量の少ない洗浄液が貯留されていること
になる。その結果、超音波振動子の振動によって発泡量
が抑制されて、被洗浄物の洗浄が効率よく行うことがで
きる。
ば、洗浄槽10内の気体を溶存する洗浄液Fが、脱気槽
20内に送られて脱気され、再び洗浄槽10に戻される
という一連の循環流となるために、洗浄槽10内には常
に溶存する気体量の少ない洗浄液が貯留されていること
になる。その結果、超音波振動子の振動によって発泡量
が抑制されて、被洗浄物の洗浄が効率よく行うことがで
きる。
【0032】なお、この実施例においては、排液ポンプ
P1の運転速度を一定にし、給液ポンプP2の運転速度を
可変にすることにより、脱気槽20内の水位を調節して
いるが、必ずしもこのような構成とする必要はなく、給
液ポンプP2の運転速度を一定にし、排液ポンプP1の運
転速度を可変にしてもよい。また、両ポンプP1,P2の
運転速度を可変にして、これらの運転速度差によって調
節するようにしてもよい。また、この実施例の制御回路
は、マイクロコンピュータを用いたものであるが、これ
に代えて、アナログ式のシークエンス制御回路を用いて
もよい。さらに、この実施例においては、洗浄液として
水を用いているが、炭化水素系の洗浄液でもよく、また
場合によっては溶剤系の洗浄液を用いることもできる。
また、超音波洗浄装置の形状、供給パイプの取付位置や
センサの取付位置等についてはこの実施例に限るもので
はなく、目的用途等に応じて適宜変更することができ
る。
P1の運転速度を一定にし、給液ポンプP2の運転速度を
可変にすることにより、脱気槽20内の水位を調節して
いるが、必ずしもこのような構成とする必要はなく、給
液ポンプP2の運転速度を一定にし、排液ポンプP1の運
転速度を可変にしてもよい。また、両ポンプP1,P2の
運転速度を可変にして、これらの運転速度差によって調
節するようにしてもよい。また、この実施例の制御回路
は、マイクロコンピュータを用いたものであるが、これ
に代えて、アナログ式のシークエンス制御回路を用いて
もよい。さらに、この実施例においては、洗浄液として
水を用いているが、炭化水素系の洗浄液でもよく、また
場合によっては溶剤系の洗浄液を用いることもできる。
また、超音波洗浄装置の形状、供給パイプの取付位置や
センサの取付位置等についてはこの実施例に限るもので
はなく、目的用途等に応じて適宜変更することができ
る。
【図1】模式図である。
【図2】洗浄液循環プログラムのフローチャートであ
る。
る。
【図3】脱気制御プログラムのフローチャートである。
10…洗浄槽(処理槽) 11…超音波振動子 20…脱気槽 P1…排液ポンプ P2…給液ポンプ P3…真空ポンプ Q1 …排液パイプ Q2 …給液パイプ
Claims (5)
- 【請求項1】 超音波発生手段を設けるとともに処理液
を貯留する処理槽と、真空容器からなる脱気槽とを備
え、この処理槽内の処理液を前記脱気槽との間に循環し
て、処理液中に溶存する気体を真空雰囲気で脱気するこ
とを特徴とする超音波処理装置。 - 【請求項2】 超音波発生手段を設けるとともに処理液
を貯留する処理槽と、この処理槽に給液パイプと排液パ
イプにより連通された密閉容器からなる脱気槽とを備
え、 前記脱気槽には、真空ポンプが設けられ、また、前記排
液パイプに前記処理槽内の処理液を前記脱気槽へ送り出
す排液ポンプが設けられるとともに、前記給液パイプ
に、前記脱気槽内の処理液を前記処理槽に送り出す給液
ポンプを設けていることを特徴とする請求項1記載の超
音波処理装置。 - 【請求項3】 脱気槽には圧力測定手段が設けられ、こ
の圧力測定手段の測定結果を受けて、圧力が設定した上
限値になると真空ポンプを作動させ、設定した下限値に
なると前記真空ポンプの作動を停止させる真空ポンプ駆
動制御手段を設けていることを特徴とする請求項1また
は請求項2記載の超音波処理装置。 - 【請求項4】 脱気槽には、この脱気槽内の処理液面の
上限位置と下限位置を検出する液面検出手段とが設けら
れ、 前記液面検出手段による上限位置検出結果に応じて、前
記給液ポンプの液送り量を前記排液ポンプの液送り量よ
り多くし、下限位置検出結果に応じて、前記給液ポンプ
の液送り量を前記排液ポンプの液送り量より多くするよ
うに該排液ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御するポン
プ駆動制御手段を設けていることを特徴とする請求項
1、2または請求項3記載の超音波処理装置。 - 【請求項5】 脱気槽内には、超音波発生手段を設けて
いることを特徴とする請求項1から請求項4記載の超音
波処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6191746A JP2741344B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 超音波処理装置 |
| US08/499,161 US5810037A (en) | 1994-07-22 | 1995-07-07 | Ultrasonic treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6191746A JP2741344B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 超音波処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0833877A true JPH0833877A (ja) | 1996-02-06 |
| JP2741344B2 JP2741344B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=16279821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6191746A Expired - Fee Related JP2741344B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 超音波処理装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5810037A (ja) |
| JP (1) | JP2741344B2 (ja) |
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| WO2024204854A1 (ja) * | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 脱気装置、インクジェット記録装置 |
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