JPH08339775A - 試料に対する精密作業を行う装置 - Google Patents
試料に対する精密作業を行う装置Info
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- JPH08339775A JPH08339775A JP7146077A JP14607795A JPH08339775A JP H08339775 A JPH08339775 A JP H08339775A JP 7146077 A JP7146077 A JP 7146077A JP 14607795 A JP14607795 A JP 14607795A JP H08339775 A JPH08339775 A JP H08339775A
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Abstract
(57)【要約】
【目 的】 電子顕微鏡等の壁部材(鏡筒)に連結され
るセンサ冷却用冷媒容器内の液状冷媒の泡の発生および
液面の変化等に基づいて振動が発生する際、前記壁部材
に支持された電子レンズ等の精密作業機器および試料に
伝達される前記振動を減少させること。 【構 成】 基礎部材2により支持されるとともに内部
に真空の試料収容部が設けられた壁部材5と、前記壁部
材5に支持されるとともに前記壁部材5の内外を連通さ
せるセンサ挿入孔39が形成された挿入孔形成部材32
と、前記基礎部材2に絶縁部材21を介して支持され且
つ前記挿入孔形成部材32の外端部に絶縁材34を介し
て連結された連結部材23と、前記センサ挿入孔39を
貫通して内端部にセンサSを支持する棒状の高伝熱率の
センサ支持部材48と、を備えた試料に対する精密作業
機器。
るセンサ冷却用冷媒容器内の液状冷媒の泡の発生および
液面の変化等に基づいて振動が発生する際、前記壁部材
に支持された電子レンズ等の精密作業機器および試料に
伝達される前記振動を減少させること。 【構 成】 基礎部材2により支持されるとともに内部
に真空の試料収容部が設けられた壁部材5と、前記壁部
材5に支持されるとともに前記壁部材5の内外を連通さ
せるセンサ挿入孔39が形成された挿入孔形成部材32
と、前記基礎部材2に絶縁部材21を介して支持され且
つ前記挿入孔形成部材32の外端部に絶縁材34を介し
て連結された連結部材23と、前記センサ挿入孔39を
貫通して内端部にセンサSを支持する棒状の高伝熱率の
センサ支持部材48と、を備えた試料に対する精密作業
機器。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、内部が真空に保持され
た壁部材(鏡筒等)内部の試料収容部に保持された試料
に対する精密作業を行う装置(電子顕微鏡装置、電子、
X線等を用いた分析装置、等)に関する。
た壁部材(鏡筒等)内部の試料収容部に保持された試料
に対する精密作業を行う装置(電子顕微鏡装置、電子、
X線等を用いた分析装置、等)に関する。
【0002】
【従来の技術】前記電子顕微鏡等のような、試料収容部
に保持された試料に対する精密作業を行う装置において
は、試料から放射されるX線等を検出するためのセンサ
を前記壁部材内部に挿入して作業が行われる。例えばE
DS(エネルギー分散形X線分析)においては、試料か
ら放出されるX線を検出するセンサおよびセンサ冷却装
置等を前記壁部材(鏡筒等)に直接取り付けて使用して
いる。最近、この種の試料に対する精密作業を行う装置
の性能が向上したことにより、今まで問題となっていな
かった振動が問題となっている。例えば、冷却装置の冷
媒である液体窒素のバブリング(冷媒容器内の液体窒素
の泡の発生等)および液面変化等に起因して発生する振
動が前記壁部材(鏡筒)から、前記壁部材に支持された
試料、電子レンズ等に伝達され、装置の性能に悪影響が
出るようになった。
に保持された試料に対する精密作業を行う装置において
は、試料から放射されるX線等を検出するためのセンサ
を前記壁部材内部に挿入して作業が行われる。例えばE
DS(エネルギー分散形X線分析)においては、試料か
ら放出されるX線を検出するセンサおよびセンサ冷却装
置等を前記壁部材(鏡筒等)に直接取り付けて使用して
いる。最近、この種の試料に対する精密作業を行う装置
の性能が向上したことにより、今まで問題となっていな
かった振動が問題となっている。例えば、冷却装置の冷
媒である液体窒素のバブリング(冷媒容器内の液体窒素
の泡の発生等)および液面変化等に起因して発生する振
動が前記壁部材(鏡筒)から、前記壁部材に支持された
試料、電子レンズ等に伝達され、装置の性能に悪影響が
出るようになった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、前記問題
点に鑑み、前記壁部材に支持された挿入孔形成部材の挿
入孔を通って出入されるセンサやセンサ冷却用の液状冷
媒を収容する冷媒容器等の分析用部材を支持する連結部
材を前記壁部材に連結した装置において、液状冷媒の泡
の発生に基づく振動の影響を減少させる研究を行った。
その結果、前記連結部材を前記壁部材(鏡筒等)とは別
の基礎部材によって支持することにより前記液状冷媒の
泡の発生に基づく振動の影響を減少できることを実験に
より確かめた。前記液状冷媒の泡の発生に基づいて発生
する振動の一部は、前記基礎部材に伝達され吸収され
る。このため、前記連結部材、挿入孔形成部材を介して
前記壁部材に伝達される振動が減少される。このため、
前記壁部材(鏡筒等)およびその壁部材に支持された試
料ホルダ、電子レンズ等の振動が低減されることにな
る。
点に鑑み、前記壁部材に支持された挿入孔形成部材の挿
入孔を通って出入されるセンサやセンサ冷却用の液状冷
媒を収容する冷媒容器等の分析用部材を支持する連結部
材を前記壁部材に連結した装置において、液状冷媒の泡
の発生に基づく振動の影響を減少させる研究を行った。
その結果、前記連結部材を前記壁部材(鏡筒等)とは別
の基礎部材によって支持することにより前記液状冷媒の
泡の発生に基づく振動の影響を減少できることを実験に
より確かめた。前記液状冷媒の泡の発生に基づいて発生
する振動の一部は、前記基礎部材に伝達され吸収され
る。このため、前記連結部材、挿入孔形成部材を介して
前記壁部材に伝達される振動が減少される。このため、
前記壁部材(鏡筒等)およびその壁部材に支持された試
料ホルダ、電子レンズ等の振動が低減されることにな
る。
【0004】本発明は、前述の研究結果に鑑み、下記の
記載内容を課題とする。(O01)電子顕微鏡等の壁部材
(鏡筒)に連結されるセンサ冷却用冷媒容器内の液状冷
媒の泡の発生および液面の変化等に基づいて振動が発生
する際、前記壁部材に支持された電子レンズ等の精密作
業機器および試料に伝達される前記振動を減少させるこ
と。
記載内容を課題とする。(O01)電子顕微鏡等の壁部材
(鏡筒)に連結されるセンサ冷却用冷媒容器内の液状冷
媒の泡の発生および液面の変化等に基づいて振動が発生
する際、前記壁部材に支持された電子レンズ等の精密作
業機器および試料に伝達される前記振動を減少させるこ
と。
【0005】
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。
【0006】前記課題を解決するために、本発明の試料
に対する精密作業を行う装置は、下記の要件を備えたこ
とを特徴とする、(Y01)基礎部材(2)により支持さ
れるとともに内部に真空の試料収容部が設けられた壁部
材(5)、(Y02)前記壁部材(5)に支持されるとと
もに前記壁部材(5)の内外を連通させるセンサ挿入孔
(39)が形成された挿入孔形成部材(32)、(Y0
3)前記基礎部材(2)に絶縁部材(21)を介して支
持され且つ前記挿入孔形成部材(32)の外端部に絶縁
材(34)を介して連結された連結部材(23)、(Y
04)前記センサ挿入孔(39)を貫通して内端部にセン
サ(S)を支持する棒状の高伝熱率のセンサ支持部材
(48)と、内部に液状冷媒を収容した冷媒容器(4
6)と、前記センサ支持部材(48)の熱を冷媒容器
(46)内の冷媒に伝達する伝熱手段(49)とを有
し、前記連結部材(23)によって前記センサ挿入孔
(39)の軸線方向に移動可能に支持された移動部材
(44〜49)、(Y05)前記センサ支持部材(48)
が前記センサ挿入孔(39)を貫通する状態で前記セン
サ挿入孔(39)を外部に対して密封する密封手段(5
0)。
に対する精密作業を行う装置は、下記の要件を備えたこ
とを特徴とする、(Y01)基礎部材(2)により支持さ
れるとともに内部に真空の試料収容部が設けられた壁部
材(5)、(Y02)前記壁部材(5)に支持されるとと
もに前記壁部材(5)の内外を連通させるセンサ挿入孔
(39)が形成された挿入孔形成部材(32)、(Y0
3)前記基礎部材(2)に絶縁部材(21)を介して支
持され且つ前記挿入孔形成部材(32)の外端部に絶縁
材(34)を介して連結された連結部材(23)、(Y
04)前記センサ挿入孔(39)を貫通して内端部にセン
サ(S)を支持する棒状の高伝熱率のセンサ支持部材
(48)と、内部に液状冷媒を収容した冷媒容器(4
6)と、前記センサ支持部材(48)の熱を冷媒容器
(46)内の冷媒に伝達する伝熱手段(49)とを有
し、前記連結部材(23)によって前記センサ挿入孔
(39)の軸線方向に移動可能に支持された移動部材
(44〜49)、(Y05)前記センサ支持部材(48)
が前記センサ挿入孔(39)を貫通する状態で前記セン
サ挿入孔(39)を外部に対して密封する密封手段(5
0)。
【0007】
【作用】次に、前述の特徴を備えた本発明の作用を説明
する。前述の特徴を備えた本出願の第1発明の試料に対
する精密作業を行う装置では、基礎部材(2)により支
持されるとともに内部に真空の試料収容部が設けられた
壁部材(5)は、前記壁部材(5)の内外を連通させる
センサ挿入孔(39)が形成された挿入孔形成部材(3
2)を支持する。連結部材(23)は、前記基礎部材
(2)に絶縁部材(21)を介して支持され且つ前記挿
入孔形成部材(32)の外端部に絶縁材(34)を介し
て連結される。前記連結部材(23)によって前記セン
サ挿入孔(39)の軸線方向に移動可能に支持された移
動部材(44〜49)は、前記センサ挿入孔(39)を
貫通して内端部にセンサ(S)を支持する棒状の高伝熱
率のセンサ支持部材(48)と、内部に液状冷媒を収容
した冷媒容器(46)と、前記センサ支持部材(48)
および冷媒容器(46)を接続する伝熱性の良い接続部
材とを有している。
する。前述の特徴を備えた本出願の第1発明の試料に対
する精密作業を行う装置では、基礎部材(2)により支
持されるとともに内部に真空の試料収容部が設けられた
壁部材(5)は、前記壁部材(5)の内外を連通させる
センサ挿入孔(39)が形成された挿入孔形成部材(3
2)を支持する。連結部材(23)は、前記基礎部材
(2)に絶縁部材(21)を介して支持され且つ前記挿
入孔形成部材(32)の外端部に絶縁材(34)を介し
て連結される。前記連結部材(23)によって前記セン
サ挿入孔(39)の軸線方向に移動可能に支持された移
動部材(44〜49)は、前記センサ挿入孔(39)を
貫通して内端部にセンサ(S)を支持する棒状の高伝熱
率のセンサ支持部材(48)と、内部に液状冷媒を収容
した冷媒容器(46)と、前記センサ支持部材(48)
および冷媒容器(46)を接続する伝熱性の良い接続部
材とを有している。
【0008】したがって、前記移動部材(44〜49)
の冷媒容器(46)内の液状冷媒の泡の発生および液面
変化等により発生した振動は、移動部材(44〜49)
から連結部材(23)に伝達される。前記連結部材(2
3)は絶縁部材(21)を介して基礎部材(2)に支持
されているので、連結部材(23)の振動の一部は基礎
部材(2)により吸収される。このため、連結部材(2
3)から挿入孔形成部材(32)を介して壁部材(5)
に伝達される振動は低減されることになる。したがっ
て、壁部材(5)に支持された要素(試料収容部材およ
び電子レンズ等)の振動を低減することができる。ま
た、センサ支持部材(48)の振動も低減することがで
きるので、センサ支持部材(48)先端に保持されたセ
ンサ(S)の振動を低減することができる。また、密封
手段(50)は、前記センサ支持部材(48)が前記セ
ンサ挿入孔(39)を貫通する状態で前記センサ挿入孔
(39)の外側部を密封する。このため、前記壁部材
(5)内部を真空に保持することが可能となる。
の冷媒容器(46)内の液状冷媒の泡の発生および液面
変化等により発生した振動は、移動部材(44〜49)
から連結部材(23)に伝達される。前記連結部材(2
3)は絶縁部材(21)を介して基礎部材(2)に支持
されているので、連結部材(23)の振動の一部は基礎
部材(2)により吸収される。このため、連結部材(2
3)から挿入孔形成部材(32)を介して壁部材(5)
に伝達される振動は低減されることになる。したがっ
て、壁部材(5)に支持された要素(試料収容部材およ
び電子レンズ等)の振動を低減することができる。ま
た、センサ支持部材(48)の振動も低減することがで
きるので、センサ支持部材(48)先端に保持されたセ
ンサ(S)の振動を低減することができる。また、密封
手段(50)は、前記センサ支持部材(48)が前記セ
ンサ挿入孔(39)を貫通する状態で前記センサ挿入孔
(39)の外側部を密封する。このため、前記壁部材
(5)内部を真空に保持することが可能となる。
【0009】
【実施例】次に図面を参照しながら、本発明の実施例の
試料に対する精密作業を行う装置を説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されるものではない。 (実施例)図1は本発明の一実施例の試料に対する精密
作業を行う装置としてEDS装置を装着した電子顕微鏡
の正面図である。図2は同実施例の側面図である。図3
は同実施例の要部拡大平面図である。図4は前記図1の
IV−IV線断面図である。図5は前記図4のV−V線断
面図である。図6は支持板18上に絶縁部材21を介し
てEDS支持部材(連結部材)23を支持する構造の説
明図である。図7は前記支持板18上にEDS支持部材
23を固定する構造の説明図で、図7Aは平面図、図7
Bは前記図7AのVIIB−VIIB線断面図である。図8
は前記支持板18上にEDS支持部材23を固定する構
成の斜視図である。
試料に対する精密作業を行う装置を説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されるものではない。 (実施例)図1は本発明の一実施例の試料に対する精密
作業を行う装置としてEDS装置を装着した電子顕微鏡
の正面図である。図2は同実施例の側面図である。図3
は同実施例の要部拡大平面図である。図4は前記図1の
IV−IV線断面図である。図5は前記図4のV−V線断
面図である。図6は支持板18上に絶縁部材21を介し
てEDS支持部材(連結部材)23を支持する構造の説
明図である。図7は前記支持板18上にEDS支持部材
23を固定する構造の説明図で、図7Aは平面図、図7
Bは前記図7AのVIIB−VIIB線断面図である。図8
は前記支持板18上にEDS支持部材23を固定する構
成の斜視図である。
【0010】図1において、床1上に支持された基礎部
材2は、上端部にベースプレート3を有している。前記
ベースプレート3によって電子顕微鏡本体4が支持され
ている。図4,5において、前記電子顕微鏡本体4は、
内部が真空に保持される鉛直な円筒状の鏡筒(壁部材)
5を有している。また、電子顕微鏡本体4は、上下方向
の中間部にゴニオメータ6を有している。ゴニオメータ
6は、鏡筒(壁部材)5に保持されたホルダ支持部材7
を有しており、ホルダ支持部材7は、ホルダ貫通孔7a
を有している。ホルダ貫通孔7aは電子顕微鏡本体4を
内外に貫通して形成されている。前記ホルダ支持部材7
のホルダ貫通孔7a内に挿入された試料ホルダHは、直
交する3軸周りに所定の角度範囲で回転自在に支持され
る。図4において、電子顕微鏡本体4の前記ホルダ支持
部材7と反対側には試料ホルダHの内端が当接するホル
ダ位置決め部材8および前記ホルダ位置決め部材8の位
置を調整する位置調整装置9等が配置されている。前記
位置調整装置9および前記ゴニオメータ6等により前記
試料ホルダH先端部に保持された試料は電子顕微鏡本体
4の中心軸上に配置されるようになっている。なお、前
記ホルダ位置決め部材8、位置調整装置9および前記ゴ
ニオメータ6等の構成としては従来公知の種々の構成を
採用することができる。
材2は、上端部にベースプレート3を有している。前記
ベースプレート3によって電子顕微鏡本体4が支持され
ている。図4,5において、前記電子顕微鏡本体4は、
内部が真空に保持される鉛直な円筒状の鏡筒(壁部材)
5を有している。また、電子顕微鏡本体4は、上下方向
の中間部にゴニオメータ6を有している。ゴニオメータ
6は、鏡筒(壁部材)5に保持されたホルダ支持部材7
を有しており、ホルダ支持部材7は、ホルダ貫通孔7a
を有している。ホルダ貫通孔7aは電子顕微鏡本体4を
内外に貫通して形成されている。前記ホルダ支持部材7
のホルダ貫通孔7a内に挿入された試料ホルダHは、直
交する3軸周りに所定の角度範囲で回転自在に支持され
る。図4において、電子顕微鏡本体4の前記ホルダ支持
部材7と反対側には試料ホルダHの内端が当接するホル
ダ位置決め部材8および前記ホルダ位置決め部材8の位
置を調整する位置調整装置9等が配置されている。前記
位置調整装置9および前記ゴニオメータ6等により前記
試料ホルダH先端部に保持された試料は電子顕微鏡本体
4の中心軸上に配置されるようになっている。なお、前
記ホルダ位置決め部材8、位置調整装置9および前記ゴ
ニオメータ6等の構成としては従来公知の種々の構成を
採用することができる。
【0011】前記鏡筒部材(壁部材)5を有する電子顕
微鏡本体4の上端部に設けられた電子銃(図示せず)か
ら出射した電子ビームが前記試料ホルダH先端部に保持
された試料に照射されたときに、試料からは2次X線が
放出される。図4に示すように、2次X線を検出するE
DSセンサSは、電子顕微鏡本体4の軸線(鏡筒部材の
中心線)に対して前記試料ホルダHから90°ずれた位
置に配置される。
微鏡本体4の上端部に設けられた電子銃(図示せず)か
ら出射した電子ビームが前記試料ホルダH先端部に保持
された試料に照射されたときに、試料からは2次X線が
放出される。図4に示すように、2次X線を検出するE
DSセンサSは、電子顕微鏡本体4の軸線(鏡筒部材の
中心線)に対して前記試料ホルダHから90°ずれた位
置に配置される。
【0012】次に、前記EDSセンサSの支持構造につ
いて説明する。図2において、前記ベースプレート3上
には支柱11の下端が固定支持されている。支柱11上
端には支持台12が固定支持されている。支持台12
は、前記支柱11上端外側に配置される円筒部材13、
この円筒部材13上端に固着された平板部材14、およ
び前記円筒部材13および平板部材14を連結する補強
部材15を有している。前記円筒部材13の外周には、
前記支柱11の外周に先端が当接する上下一対の姿勢調
整ネジ16,16が設けられている。また、平板部材1
4には、支柱11上端面に先端が当接する上下位置調整
ネジ17が設けられている。前記支持台12の平板部材
14上には支持板18が4本のネジ19により固定支持
されている。
いて説明する。図2において、前記ベースプレート3上
には支柱11の下端が固定支持されている。支柱11上
端には支持台12が固定支持されている。支持台12
は、前記支柱11上端外側に配置される円筒部材13、
この円筒部材13上端に固着された平板部材14、およ
び前記円筒部材13および平板部材14を連結する補強
部材15を有している。前記円筒部材13の外周には、
前記支柱11の外周に先端が当接する上下一対の姿勢調
整ネジ16,16が設けられている。また、平板部材1
4には、支柱11上端面に先端が当接する上下位置調整
ネジ17が設けられている。前記支持台12の平板部材
14上には支持板18が4本のネジ19により固定支持
されている。
【0013】前記支持板18上に配置されたジュラコン
(登録商標)により構成された合計4個の絶縁部材21
(図6参照)は、下方に突出するネジ部分21aがナッ
ト22により支持板18に固定されている。前記絶縁部
材21上にはEDS支持部材(連結部材)23が載置さ
れている。このEDS支持部材23は、図2〜8に示す
ように、前記電子顕微鏡本体4に向かって延びる底板2
4およびその長手方向両端部に設けられた垂直壁25,
26を有している。なお、前記電子顕微鏡本体4に接近
して配置された前記垂直壁25を前側垂直壁25とい
い、電子顕微鏡本体4から離れて配置されている垂直壁
26を後側垂直壁26ということにする。底板24はそ
の長手方向に沿って両側縁に高さの低い段部24a,2
4a(図7参照)が設けられている。
(登録商標)により構成された合計4個の絶縁部材21
(図6参照)は、下方に突出するネジ部分21aがナッ
ト22により支持板18に固定されている。前記絶縁部
材21上にはEDS支持部材(連結部材)23が載置さ
れている。このEDS支持部材23は、図2〜8に示す
ように、前記電子顕微鏡本体4に向かって延びる底板2
4およびその長手方向両端部に設けられた垂直壁25,
26を有している。なお、前記電子顕微鏡本体4に接近
して配置された前記垂直壁25を前側垂直壁25とい
い、電子顕微鏡本体4から離れて配置されている垂直壁
26を後側垂直壁26ということにする。底板24はそ
の長手方向に沿って両側縁に高さの低い段部24a,2
4a(図7参照)が設けられている。
【0014】図7において、前記支持板18上には、前
記EDS支持部材23を固定するための4個の固定部材
27が配置されている。固定部材27は絶縁材(例えば
シュラコン)により構成された凸型固定部材28および
押圧部材29を有している。凸型固定部材28は中央部
上面に円柱状突出部28aを有しており、円柱状突出部
28aにはネジ孔が形成されている。前記押圧部材29
は前記円柱状突出部28aのネジ孔にねじ込まれるネジ
部29aおよび円柱状の押圧部29bを有している。前記
固定部材27の凸型固定部材28は、円柱状突出部28
aの両側に設けたネジ貫通孔28b,28b(図7A参
照)を貫通するネジ31,31を用いて支持板18上に
固定されている。そして、前記4個の各固定部材27の
各押圧部29bが前記底板24の段部24aを下方に押圧
することにより、前記EDS支持部材23は前記支持板
18上の4個の絶縁部材21(図6,7B参照)上に固
定されている。したがって、EDS支持部材23は、前
記支持板18に対して絶縁された状態で固定されてい
る。
記EDS支持部材23を固定するための4個の固定部材
27が配置されている。固定部材27は絶縁材(例えば
シュラコン)により構成された凸型固定部材28および
押圧部材29を有している。凸型固定部材28は中央部
上面に円柱状突出部28aを有しており、円柱状突出部
28aにはネジ孔が形成されている。前記押圧部材29
は前記円柱状突出部28aのネジ孔にねじ込まれるネジ
部29aおよび円柱状の押圧部29bを有している。前記
固定部材27の凸型固定部材28は、円柱状突出部28
aの両側に設けたネジ貫通孔28b,28b(図7A参
照)を貫通するネジ31,31を用いて支持板18上に
固定されている。そして、前記4個の各固定部材27の
各押圧部29bが前記底板24の段部24aを下方に押圧
することにより、前記EDS支持部材23は前記支持板
18上の4個の絶縁部材21(図6,7B参照)上に固
定されている。したがって、EDS支持部材23は、前
記支持板18に対して絶縁された状態で固定されてい
る。
【0015】図4,5において、前記EDS支持部材2
3の前側垂直壁25は、前記電子顕微鏡本体4に装着さ
れたEDSホルダ(挿入孔形成部材)32の外端に設け
られたフランジ33に連結されている。すなわち、図4
に示すように、フランジ33と前記前側垂直壁25との
間に絶縁材34を配置し、且つそれらの外側にも絶縁材
35,36を配置して、前記絶縁材35,36の外側を
挟持部材37,38により挟持することにより前記前側
垂直壁25をフランジ33に連結する。前記絶縁材34
〜36および挟持部材37,38によりEDS支持部材
23は、前記電子顕微鏡本体4およびEDSホルダ32
に対して絶縁されている。前記EDSホルダ32、フラ
ンジ33、絶縁材34〜36、および前記前側垂直壁2
5にはそれぞれ孔が形成されており、それらの孔は連続
してセンサ挿入孔39を形成している。前記センサ挿入
孔39は、EDSセンサSを電子顕微鏡本体4の外側か
ら内側に挿入するための孔である。
3の前側垂直壁25は、前記電子顕微鏡本体4に装着さ
れたEDSホルダ(挿入孔形成部材)32の外端に設け
られたフランジ33に連結されている。すなわち、図4
に示すように、フランジ33と前記前側垂直壁25との
間に絶縁材34を配置し、且つそれらの外側にも絶縁材
35,36を配置して、前記絶縁材35,36の外側を
挟持部材37,38により挟持することにより前記前側
垂直壁25をフランジ33に連結する。前記絶縁材34
〜36および挟持部材37,38によりEDS支持部材
23は、前記電子顕微鏡本体4およびEDSホルダ32
に対して絶縁されている。前記EDSホルダ32、フラ
ンジ33、絶縁材34〜36、および前記前側垂直壁2
5にはそれぞれ孔が形成されており、それらの孔は連続
してセンサ挿入孔39を形成している。前記センサ挿入
孔39は、EDSセンサSを電子顕微鏡本体4の外側か
ら内側に挿入するための孔である。
【0016】前記EDS支持部材23の前側垂直壁25
および後側垂直壁26にはスクリューシャフト42が回
転自在に支持されている。このスクリューシャフト42
は後側垂直壁26に固着されたモータユニット43によ
って正逆両方に回転制御されるようになっている。図
2,5に示すように、スクリューシャフト42にはナッ
トブロック44が螺合しており、このナットブロック4
4はスクリューシャフト42が回転するとスクリューシ
ャフト42に沿って移動するようになっている。前記ナ
ットブロック44には、冷媒容器46の下端に設けられ
たセンサケース47が固着されている。前記センサケー
ス47内側には、先端部にEDSセンサSを支持する棒
状のセンサ支持部材48が支持されている。前記棒状の
センサ支持部材48は伝熱率の高い金属例えばアルミに
より構成されている。
および後側垂直壁26にはスクリューシャフト42が回
転自在に支持されている。このスクリューシャフト42
は後側垂直壁26に固着されたモータユニット43によ
って正逆両方に回転制御されるようになっている。図
2,5に示すように、スクリューシャフト42にはナッ
トブロック44が螺合しており、このナットブロック4
4はスクリューシャフト42が回転するとスクリューシ
ャフト42に沿って移動するようになっている。前記ナ
ットブロック44には、冷媒容器46の下端に設けられ
たセンサケース47が固着されている。前記センサケー
ス47内側には、先端部にEDSセンサSを支持する棒
状のセンサ支持部材48が支持されている。前記棒状の
センサ支持部材48は伝熱率の高い金属例えばアルミに
より構成されている。
【0017】前記冷媒容器46内には液体窒素が充填さ
れている。冷媒容器46底面と前記センサ支持部材48
の後端との間には連通管49が設けられており、連通管
49内には冷媒容器46内の液体窒素が充填されてい
る。この液体窒素が充填された連通管49は、センサ支
持部材48の熱を冷媒容器46内の冷媒に伝達する伝熱
手段としての機能を有している。したがって、EDSセ
ンサSを支持するセンサ支持部材48先端部の熱量は高
伝熱率のセンサ支持部材48を伝導して、連通管49お
よび冷媒容器46内の液体窒素(冷媒)に吸収されるよ
うになっている。このように、EDSセンサSを冷却す
る理由を次に説明する。すなわち、EDSセンサS(半
導体検出素子)にX線が入射すると、電子正孔対を作
り、X線の検出に寄与する。しかし、常温では半導体検
出素子は熱エネルギによって同様の現象が起こってお
り、正確なX線の検出ができない。この影響を避けるた
めに検出素子を冷却するのである。
れている。冷媒容器46底面と前記センサ支持部材48
の後端との間には連通管49が設けられており、連通管
49内には冷媒容器46内の液体窒素が充填されてい
る。この液体窒素が充填された連通管49は、センサ支
持部材48の熱を冷媒容器46内の冷媒に伝達する伝熱
手段としての機能を有している。したがって、EDSセ
ンサSを支持するセンサ支持部材48先端部の熱量は高
伝熱率のセンサ支持部材48を伝導して、連通管49お
よび冷媒容器46内の液体窒素(冷媒)に吸収されるよ
うになっている。このように、EDSセンサSを冷却す
る理由を次に説明する。すなわち、EDSセンサS(半
導体検出素子)にX線が入射すると、電子正孔対を作
り、X線の検出に寄与する。しかし、常温では半導体検
出素子は熱エネルギによって同様の現象が起こってお
り、正確なX線の検出ができない。この影響を避けるた
めに検出素子を冷却するのである。
【0018】センサ支持部材48の外側には円筒状のジ
ャバラ構造を有する金属製の伸縮自在カバー50が設け
られている。伸縮自在カバー50の前端は前側垂直壁2
5に気密に連結され、後端はセンサケース47に気密に
連結されている。したがって、前記伸縮自在カバー50
により、センサ挿入孔39および電子顕微鏡本体4内は
外部に対して気密に保持されるようになっている。すな
わち、伸縮自在カバー50は密封手段としての機能を有
している。そして、前記スクリューシャフト42を回転
駆動してナットブロック44を移動させると、ナットブ
ロック44、冷媒容器46、センサケース47、センサ
支持部材48、および連通管49等により構成される移
動部材(44〜49)が、前記伸縮自在カバー50を伸
縮させながら移動するように構成されている。
ャバラ構造を有する金属製の伸縮自在カバー50が設け
られている。伸縮自在カバー50の前端は前側垂直壁2
5に気密に連結され、後端はセンサケース47に気密に
連結されている。したがって、前記伸縮自在カバー50
により、センサ挿入孔39および電子顕微鏡本体4内は
外部に対して気密に保持されるようになっている。すな
わち、伸縮自在カバー50は密封手段としての機能を有
している。そして、前記スクリューシャフト42を回転
駆動してナットブロック44を移動させると、ナットブ
ロック44、冷媒容器46、センサケース47、センサ
支持部材48、および連通管49等により構成される移
動部材(44〜49)が、前記伸縮自在カバー50を伸
縮させながら移動するように構成されている。
【0019】(実施例の作用)次に、前述の構成を備え
た本発明の実施例の作用を説明する。前記図4,5に示
すゴニオメータ6および位置調整装置9等によって、前
記試料ホルダHの姿勢および位置を調整する。そして、
試料ホルダH先端部に保持された試料を、電子顕微鏡本
体4内の所定位置に保持する。前記EDS支持部材23
の前記前側垂直壁25を電子顕微鏡本体4に装着された
前記EDSホルダ32のフランジ33に絶縁材34〜3
6および挟持部材37,38により連結する。この場
合、EDS支持部材23は電子顕微鏡本体4およびED
Sホルダ32に対して絶縁される。
た本発明の実施例の作用を説明する。前記図4,5に示
すゴニオメータ6および位置調整装置9等によって、前
記試料ホルダHの姿勢および位置を調整する。そして、
試料ホルダH先端部に保持された試料を、電子顕微鏡本
体4内の所定位置に保持する。前記EDS支持部材23
の前記前側垂直壁25を電子顕微鏡本体4に装着された
前記EDSホルダ32のフランジ33に絶縁材34〜3
6および挟持部材37,38により連結する。この場
合、EDS支持部材23は電子顕微鏡本体4およびED
Sホルダ32に対して絶縁される。
【0020】また、前記4個の絶縁部材21および固定
部材27により、EDS支持部材23を支持板18に固
定する。支持板18は、前記支持台12の平板部材14
上に固定されているので、前記支持台12の高さおよび
姿勢を調整することにより、位置を調節される。すなわ
ち、ベースプレート3に支持された支柱11上の支持台
12の高さは上下位置調整ネジ17により調整され、支
持台12の姿勢は、上下一対の姿勢調整ネジ16,16
により調整される。このようにして、支持台12上の前
記支持板18に支持されたEDS支持部材23の位置が
調整される。この支持板18上において前記4個の絶縁
部材21および固定部材27により固定されたEDS支
持部材23は、支持板18およびベースプレート3等に
対して絶縁されている。
部材27により、EDS支持部材23を支持板18に固
定する。支持板18は、前記支持台12の平板部材14
上に固定されているので、前記支持台12の高さおよび
姿勢を調整することにより、位置を調節される。すなわ
ち、ベースプレート3に支持された支柱11上の支持台
12の高さは上下位置調整ネジ17により調整され、支
持台12の姿勢は、上下一対の姿勢調整ネジ16,16
により調整される。このようにして、支持台12上の前
記支持板18に支持されたEDS支持部材23の位置が
調整される。この支持板18上において前記4個の絶縁
部材21および固定部材27により固定されたEDS支
持部材23は、支持板18およびベースプレート3等に
対して絶縁されている。
【0021】したがって、前記EDS支持部材23に支
持された冷媒容器46、センサケース47、センサ支持
部材48、およびEDSセンサS等は、前記ベースプレ
ート3、電子顕微鏡本体4等に対して電気的に絶縁状態
にある。このように、EDSセンサS側を本体側に対し
て絶縁する理由は、両者間の電位差により電流が生じ
て、ノイズが発生し検出器の性能が低下するのを防止す
るためである。
持された冷媒容器46、センサケース47、センサ支持
部材48、およびEDSセンサS等は、前記ベースプレ
ート3、電子顕微鏡本体4等に対して電気的に絶縁状態
にある。このように、EDSセンサS側を本体側に対し
て絶縁する理由は、両者間の電位差により電流が生じ
て、ノイズが発生し検出器の性能が低下するのを防止す
るためである。
【0022】前記モータユニット43を回転駆動して、
スクリューシャフト42を回転させ、前記ナットブロッ
ク44をスクリューシャフト42に沿って進退移動させ
ると、ナットブロック44、センサケース47、および
冷媒容器46等の移動部材(44〜49)の位置は電子
顕微鏡本体4に対して進退移動する。このとき、センサ
ケース47に支持されたセンサ支持部材48は前記セン
サ挿入孔39内で進退移動する。したがって、前記モー
タユニット43により、ナットブロック44を進退移動
させることにより、センサ支持部材48の内端部に配置
したEDSセンサSの位置を調節する。
スクリューシャフト42を回転させ、前記ナットブロッ
ク44をスクリューシャフト42に沿って進退移動させ
ると、ナットブロック44、センサケース47、および
冷媒容器46等の移動部材(44〜49)の位置は電子
顕微鏡本体4に対して進退移動する。このとき、センサ
ケース47に支持されたセンサ支持部材48は前記セン
サ挿入孔39内で進退移動する。したがって、前記モー
タユニット43により、ナットブロック44を進退移動
させることにより、センサ支持部材48の内端部に配置
したEDSセンサSの位置を調節する。
【0023】前記試料ホルダH先端部の試料およびED
SセンサSを所定位置に保持した状態で、前記試料に電
子ビームを照射してEDS分析を行う。EDS分析の作
業中、前記試料から2次X線が放出される。この2次X
線は前記EDSセンサSによって検出される。この検出
信号は、センサ支持部材48に沿って設けられた図示し
ない信号ケーブルを通って図示しない検出回路に伝送さ
れ、EDS分析に使用される。前記EDS分析の作業
中、前記冷媒容器46内の冷媒(液体窒素)が気化して
気泡が発生したり、気泡が冷媒の液面から出たりすると
きに、冷媒が振動し、この振動が冷媒容器46を介して
センサケース47等に伝達される。
SセンサSを所定位置に保持した状態で、前記試料に電
子ビームを照射してEDS分析を行う。EDS分析の作
業中、前記試料から2次X線が放出される。この2次X
線は前記EDSセンサSによって検出される。この検出
信号は、センサ支持部材48に沿って設けられた図示し
ない信号ケーブルを通って図示しない検出回路に伝送さ
れ、EDS分析に使用される。前記EDS分析の作業
中、前記冷媒容器46内の冷媒(液体窒素)が気化して
気泡が発生したり、気泡が冷媒の液面から出たりすると
きに、冷媒が振動し、この振動が冷媒容器46を介して
センサケース47等に伝達される。
【0024】センサケース47は、ナットブロック44
に固着され、このナットブロック44はスクリューシャ
フト42に支持され、スクリューシャフト42はEDS
支持部材23により支持されているので、前記冷媒から
冷媒容器46を介してセンサケース47に伝達された振
動は、EDS支持部材23に伝達され、さらに支持板1
8、支持台12、ベースプレート3、基礎部材2等に伝
達され、それらの部材により吸収される。したがって、
前記冷媒で発生した振動のうちで、前記センサケース4
7からセンサ支持部材48を介して前記EDSセンサS
およびセンサケース47からナットブロック44、ED
S支持部材23、およびEDSホルダ32等を介して電
子顕微鏡本体4に伝達される振動を小さくすることがで
きるので、EDS分析に対する振動の影響を小さくする
ことができる。このため、高精度のEDS分析を行うこ
とが可能となる。
に固着され、このナットブロック44はスクリューシャ
フト42に支持され、スクリューシャフト42はEDS
支持部材23により支持されているので、前記冷媒から
冷媒容器46を介してセンサケース47に伝達された振
動は、EDS支持部材23に伝達され、さらに支持板1
8、支持台12、ベースプレート3、基礎部材2等に伝
達され、それらの部材により吸収される。したがって、
前記冷媒で発生した振動のうちで、前記センサケース4
7からセンサ支持部材48を介して前記EDSセンサS
およびセンサケース47からナットブロック44、ED
S支持部材23、およびEDSホルダ32等を介して電
子顕微鏡本体4に伝達される振動を小さくすることがで
きるので、EDS分析に対する振動の影響を小さくする
ことができる。このため、高精度のEDS分析を行うこ
とが可能となる。
【0025】(変更例)以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。
【0026】(H01)床1上に支持された基礎部材2上
端部のベースプレート3は、前記床1に対して弾性ブロ
ック、バネ等の振動吸収部材を介して支持することが可
能である。 (H02)前記支柱11下端は、ベースプレート3を貫通
させて基礎部材2に直接支持させることが可能である。
端部のベースプレート3は、前記床1に対して弾性ブロ
ック、バネ等の振動吸収部材を介して支持することが可
能である。 (H02)前記支柱11下端は、ベースプレート3を貫通
させて基礎部材2に直接支持させることが可能である。
【0027】
【発明の効果】前述の本発明の試料に対する精密作業を
行う装置は、下記の効果を奏することができる。 (O01)電子顕微鏡等の壁部材(鏡筒)に連結されるセ
ンサ冷却用の冷媒容器内の液状冷媒の気泡の発生および
液面の変化等に基づいて振動が発生する際、前記壁部材
に支持された電子レンズ等の精密作業機器および試料に
伝達される前記振動を減少させることができる。
行う装置は、下記の効果を奏することができる。 (O01)電子顕微鏡等の壁部材(鏡筒)に連結されるセ
ンサ冷却用の冷媒容器内の液状冷媒の気泡の発生および
液面の変化等に基づいて振動が発生する際、前記壁部材
に支持された電子レンズ等の精密作業機器および試料に
伝達される前記振動を減少させることができる。
【図1】 図1は本発明の一実施例の試料に対する精密
作業を行う装置としてEDS装置装着した電子顕微鏡の
正面図である。
作業を行う装置としてEDS装置装着した電子顕微鏡の
正面図である。
【図2】 図2は同実施例の側面図である。
【図3】 図3は同実施例の要部拡大平面図である。
【図4】 図4は前記図1のIV−IV線断面図である。
【図5】 図5は前記図4のV−V線断面図である。
【図6】 図6は支持板18上にEDS支持部材23を
絶縁部材21を介して支持する構造の説明図である。
絶縁部材21を介して支持する構造の説明図である。
【図7】 図7は前記支持板18上にEDS支持部材2
3を固定する構造の説明図で、図7Aは平面図、図7B
は前記図7AのVIIB−VIIB線断面図である。
3を固定する構造の説明図で、図7Aは平面図、図7B
は前記図7AのVIIB−VIIB線断面図である。
【図8】 図8は前記支持板18上にEDS支持部材2
3を固定する構成の斜視図である。
3を固定する構成の斜視図である。
S…センサ(EDSセンサ)、2…基礎部材、5…壁部
材、21…絶縁部材、23…連結部材(EDS支持部
材)、32…挿入孔形成部材(EDSホルダ)、34…
絶縁材、39…センサ挿入孔、46…冷媒容器、48…
センサ支持部材、49…伝熱手段、(44〜49)…移
動部材、50…密封手段、
材、21…絶縁部材、23…連結部材(EDS支持部
材)、32…挿入孔形成部材(EDSホルダ)、34…
絶縁材、39…センサ挿入孔、46…冷媒容器、48…
センサ支持部材、49…伝熱手段、(44〜49)…移
動部材、50…密封手段、
Claims (1)
- 【請求項1】 下記の要件を備えたことを特徴とする試
料に対する精密作業を行う装置、(Y01)基礎部材によ
り支持されるとともに内部に真空の試料収容部が設けら
れた壁部材、(Y02)前記壁部材に支持されるとともに
前記壁部材の内外を連通させるセンサ挿入孔が形成され
た挿入孔形成部材、(Y03)前記基礎部材に絶縁部材を
介して支持され且つ前記挿入孔形成部材の外端部に絶縁
材を介して連結された連結部材、(Y04)前記センサ挿
入孔を貫通して内端部にセンサを支持する棒状の高伝熱
率のセンサ支持部材と、内部に液状冷媒を収容した冷媒
容器と、前記センサ支持部材の熱を冷媒容器内の冷媒に
伝達する伝熱手段とを有し、前記連結部材によって前記
センサ挿入孔の軸線方向に移動可能に支持された移動部
材、(Y05)前記センサ支持部材が前記センサ挿入孔を
貫通する状態で前記センサ挿入孔を外部に対して密封す
る密封手段。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7146077A JPH08339775A (ja) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | 試料に対する精密作業を行う装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7146077A JPH08339775A (ja) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | 試料に対する精密作業を行う装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08339775A true JPH08339775A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15399596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7146077A Pending JPH08339775A (ja) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | 試料に対する精密作業を行う装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08339775A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009147894A1 (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
| EP3483914A3 (en) * | 2017-11-13 | 2019-09-25 | Jeol Ltd. | Charged particle beam device with a detector holding stand |
| CN114428093A (zh) * | 2020-09-29 | 2022-05-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种基于能谱仪的测点定位装置、能谱测试系统及测试方法 |
-
1995
- 1995-06-13 JP JP7146077A patent/JPH08339775A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009147894A1 (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
| JP5097823B2 (ja) * | 2008-06-05 | 2012-12-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
| US8779380B2 (en) | 2008-06-05 | 2014-07-15 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
| US9508521B2 (en) | 2008-06-05 | 2016-11-29 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
| EP3483914A3 (en) * | 2017-11-13 | 2019-09-25 | Jeol Ltd. | Charged particle beam device with a detector holding stand |
| CN114428093A (zh) * | 2020-09-29 | 2022-05-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种基于能谱仪的测点定位装置、能谱测试系统及测试方法 |
| CN114428093B (zh) * | 2020-09-29 | 2024-05-28 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种基于能谱仪的测点定位装置、能谱测试系统及测试方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030218 |