JPH08356Y2 - Gas wiping device - Google Patents
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- JPH08356Y2 JPH08356Y2 JP1990030997U JP3099790U JPH08356Y2 JP H08356 Y2 JPH08356 Y2 JP H08356Y2 JP 1990030997 U JP1990030997 U JP 1990030997U JP 3099790 U JP3099790 U JP 3099790U JP H08356 Y2 JPH08356 Y2 JP H08356Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、金属帯の溶融金属めっきラインに用いられ
るめっき液の余剰分をガスワイピングしてめっき液の付
着量、すなわちめっき厚みを調整するワイピング装置に
係り、さらに詳しくは溶融金属浴表面からワイピング点
までを不活性ガスで充満するためのシールボックスを備
えたガスワイピング装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] <Industrial field of application> The present invention adjusts the amount of plating solution adhered, that is, the plating thickness, by gas wiping the surplus of the plating solution used in the molten metal plating line for metal strips. The present invention relates to a wiping device, and more particularly to a gas wiping device provided with a seal box for filling the molten metal bath surface to the wiping point with an inert gas.
〈従来の技術〉 従来、溶融金属めっきラインにおいて広く利用されて
いるガスワイピング法では、第10図に示すように、溶融
金属めっき浴上で鋼ストリップ１を挟んでその表裏面側
にワイピングノズル2,2′を対向配置し、幅方向に均一
なスリットギャップを有し、均一な噴出ガスを鋼ストリ
ップ１に対して直角あるいはほぼ直角に吹き付けるワイ
ピングノズル2,2′により、鋼ストリップ１上の余剰の
めっき液３を払拭するガスワイピング方式である。<Prior Art> Conventionally, in the gas wiping method which is widely used in the hot-dip galvanizing line, as shown in FIG. 10, the steel strip 1 is sandwiched on the hot-dip galvanizing bath, and the wiping nozzle 2 is provided on the front and back sides thereof. , 2'are arranged opposite to each other and have a uniform slit gap in the width direction, and the surplus on the steel strip 1 is caused by the wiping nozzles 2, 2'which blow a uniform jet gas at a right angle or a substantially right angle to the steel strip 1. This is a gas wiping method of wiping the plating solution 3 of.
このような方式による例えば溶融金属めっきでのワイ
ピング装置における従来の技術では、めっき液の付着量
を少なくする手段として、 （１）鋼ストリップ表面に対するワイピングガスノズル
角度を、ワイピングガス噴出流の鋼ストリップ表面への
到達点より上方の鋼ストリップ表面とのなす角度で表示
して、鋭角とする方法、 （２）ワイピングガスの温度を高くして、鋼ストリップ
表面のめっき金属の粘性を低下させる方法、 （３）ワイピングガスの噴出速度を高くする方法、 等がある。In the prior art of the wiping device for such a method, for example, in hot dip metal plating, as means for reducing the amount of plating solution deposited, (1) the wiping gas nozzle angle with respect to the steel strip surface, the steel strip surface of the wiping gas jet flow (2) A method of making an acute angle by displaying the angle with the surface of the steel strip above the reaching point to (2) A method of increasing the temperature of the wiping gas to reduce the viscosity of the plated metal on the surface of the steel strip, ( 3) There is a method of increasing the ejection speed of the wiping gas, and the like.
しかしながら、前記（１）の鋼ストリップ表面に対す
るワイピングガスノズル角度を鋭角とする方法は、溶融
金属のスプラッシュを多くしノズル詰りを多発させる。
また、（２）のワイピングガス温度を高くして、鋼スト
リップ表面のめっき金属の粘性を低下させる方法は、例
えば燃焼排ガスのような非酸化性雰囲気の下でワイピン
グが困難であり、ワイピングガスの昇温に要する熱量の
大きさの割りには鋼ストリップ表面のめっき金属の粘性
を低下せしめ得ず、めっき液の付着量制御への効き方が
小さい。However, the method (1) of making the angle of the wiping gas nozzle with respect to the surface of the steel strip an acute angle causes a large amount of splash of molten metal and causes frequent nozzle clogging.
The method (2) of increasing the temperature of the wiping gas to reduce the viscosity of the plating metal on the surface of the steel strip makes it difficult to wipe the wiping gas under a non-oxidizing atmosphere such as combustion exhaust gas. The viscosity of the plating metal on the surface of the steel strip cannot be reduced for the amount of heat required to raise the temperature, and the effect on the control of the amount of plating solution adhered is small.
さらに、（３）のワイピングガスの噴出速度を高くす
る方法は、鋼ストリップ表面のめっき金属の付着量制御
において最も効果的であるけれども、ワイピングガス噴
出流の鋼ストリップ表面への衝突ならびに鋼ストリップ
側縁部におけるワイピングガス相互の衝突によって高周
波音を発する。さらに、めっき金属スプラッシュの多
発、ワイピングガス噴出流による大気の引き込みがあ
り、その結果鋼ストリップ表面の溶融めっき金属の酸化
を生じ、釜歩留りの低下をもたらす。しかしながら、こ
の（３）の方法はめっき処理速度を速くし、かつ、めっ
き金属の付着量を少なくする方法としては最も効果的で
ある。Further, although the method (3) of increasing the jetting speed of the wiping gas is most effective in controlling the amount of plating metal deposited on the steel strip surface, the wiping gas jet flow collides with the steel strip surface and the steel strip side High frequency sound is generated by the mutual collision of the wiping gases at the edge. Further, there is a large number of splashes of the plating metal and the drawing of the atmosphere by the wiping gas jet flow, which results in the oxidation of the hot-dip metal on the surface of the steel strip, resulting in a decrease in the yield of the kettle. However, the method (3) is most effective as a method for increasing the plating treatment speed and reducing the amount of plating metal deposited.
そこで、（３）の方法における問題点を解決するた
め、本考案者らはシールボックス出口開口部を極端に狭
くする必要がなく、またストリップ幅方向で均一にワイ
ピングするために有効なバッフルプレートを配置できる
シールボックスを実願昭63-142760号で提案した。Therefore, in order to solve the problem in the method (3), the present inventors do not need to extremely narrow the opening of the seal box outlet, and use a baffle plate effective for wiping uniformly in the strip width direction. We proposed a seal box that can be arranged in Japanese Utility Model Application No. 63-142760.
その概要は、第５図〜第９図に示すように、めっきさ
れた鋼ストリップ１を囲み、その下端が溶融金属めっき
液３に浸漬され、その上部にめっきされた鋼ストリップ
１が通過する開口部５を有するシールボックスを上部シ
ールボックス10と下部シールボックス９との上下２分割
とされ、さらに上部シールボックス10は該鋼ストリップ
１および該鋼ストリップ１のエッジに近接配置されたエ
ッジワイピングノズル８を有するバッフルプレート６を
間に左右対称に２分割され、かつその両者に該ストリッ
プ１との隙間の調整が可能なようにワイピングノズル2,
2′を設けたものである。The outline is, as shown in FIGS. 5 to 9, surrounding the plated steel strip 1, the lower end of which is immersed in the molten metal plating solution 3 and the opening through which the plated steel strip 1 passes. The seal box having the portion 5 is divided into an upper seal box 10 and a lower seal box 9 into upper and lower halves, and the upper seal box 10 further includes the steel strip 1 and an edge wiping nozzle 8 arranged near the edge of the steel strip 1. The baffle plate 6 having the two is symmetrically divided between the two, and the wiping nozzles 2, so that the gap between the strip 1 and the strip 1 can be adjusted.
2 'is provided.
第６図は、第５図における上部ボックス10を矢印方向
に移動して組み立てたときの側断面図であり、ワイピン
グノズル２、２′を境にした下部シールボックス９と上
部シールボックス10の配置構成を示したものであり、か
つワイピングノズル2,2′より噴出されたワイピングガ
スが開口部5,11よりシールボックス外に排出される様子
を模式的に示したものであり、鋼ストリップ１に衝突し
た後のワイピングガス流れは、めっきされ後の鋼ストリ
ップ１の通過するシールボックス開口部（ア部）では鋼
ストリップ１に沿った非常に速い流れであり、一方シー
ルボックスの開口部11から排出されるガス流れはかなり
ゆっくりした流れとなり、イ部は全て正圧に保つことが
可能で開口部11よりの酸素の侵入を防止できる構造であ
る。FIG. 6 is a side sectional view when the upper box 10 in FIG. 5 is moved and assembled in the arrow direction, and the arrangement of the lower seal box 9 and the upper seal box 10 with the wiping nozzles 2 and 2'as boundaries. 1 shows the configuration and schematically shows how the wiping gas ejected from the wiping nozzles 2 and 2'is discharged from the openings 5 and 11 to the outside of the seal box. The flow of the wiping gas after the collision is a very fast flow along the steel strip 1 at the opening (a) of the seal box through which the steel strip 1 after being plated passes, and is discharged from the opening 11 of the seal box. The gas flow to be performed becomes a fairly slow flow, and the pressure can be kept at all the part (a), and the structure can prevent the invasion of oxygen from the opening 11.
ここで、ノズル12はめっきされた鋼ストリップ１が通
過する開口部の両端部分から酸素が侵入するのを防止す
るためのシールガス噴出用であり、鋼ストリップ１の進
行方向下流側に向けてシールガスを噴出する。ノズル13
は上部シールボックス10と下部シールボックス９の隙間
Δ１、ワイピングノズル2,2′と下部シールボックス９
の隙間Δ２、さらにバッフルプレート６と下部シールボ
ックス９の隙間Δ３の各部からシールボックス内に侵入
しようとする酸素の流れを阻止するため、各々の噴出口
14,15,16よりシールガスを噴出する構造としている。な
お、ここで矢印はシールガスの流れ方向を示す。このよ
うな構造にすることにより、鋼ストリップ１へのめっき
液の付着量を均一にできるばかりでなくめっき液の酸化
防止ができ、かつドロスの発生を抑制できる。Here, the nozzle 12 is for injecting a seal gas for preventing oxygen from entering from both ends of the opening through which the plated steel strip 1 passes, and seals toward the downstream side in the traveling direction of the steel strip 1. Eject gas. Nozzle 13
Is the gap Δ1 between the upper seal box 10 and the lower seal box 9, the wiping nozzles 2, 2'and the lower seal box 9
To prevent the oxygen from flowing into the seal box through the gap Δ2 of the baffle plate 6 and the gap Δ3 of the baffle plate 6 and the lower seal box 9.
The structure is such that the seal gas is ejected from 14, 15 and 16. The arrows here indicate the flow direction of the seal gas. With such a structure, not only the amount of the plating solution attached to the steel strip 1 can be made uniform, but also the plating solution can be prevented from being oxidized and dross can be suppressed.
しかしながら、前述シールボックスにおいては、ワイ
ピングノズル2,2′を完全に囲ってしまうため、飛散す
るスプラッシュの各ノズルへの付着あるいはノズル詰ま
りが生じた場合はノズルを手入れするためラインを停止
し、シールボックスを撤去した後、ノズルの手入れ等を
行わなければならないという問題がある。また、処理す
る鋼ストリップ１の幅変化に対応するための開口部およ
びストリップエッジ部でのめっき厚みの不均一を防止す
るバッフルプレート６の設置による開口部での大気侵入
防止用ノズルの配置は、シールボックスの構造を複雑に
するという問題がある。さらに、ワイピングノズル2,
2′の上部もシールボックス10で囲ってしまうため、め
っき直後のめっき面性状を観察することが難しいという
問題もある。However, in the aforementioned seal box, since the wiping nozzles 2 and 2'are completely surrounded, if the splash of splashes adheres to each nozzle or the nozzle is clogged, the line is stopped to clean the nozzle and the seal is applied. After removing the box, there is a problem that the nozzle must be cared for. Further, the arrangement of the baffle plate 6 for preventing the unevenness of the plating thickness at the opening and the strip edge portion for coping with the change in the width of the steel strip 1 to be processed, the arrangement of the air intrusion prevention nozzle at the opening is There is a problem that the structure of the seal box is complicated. In addition, the wiping nozzle 2,
Since the upper part of 2'is also surrounded by the seal box 10, there is a problem that it is difficult to observe the properties of the plated surface immediately after plating.
〈考案が解決しようとする課題〉 本考案の目的は、バッフルプレートを採用したガスワ
イピング装置を有し、その開口部が十分広い溶融金属め
っきあるいは塗装用のシールボックスにおいて、前記開
口部や種々の隙間からの酸素の侵入を防止し、シールボ
ックス内を十分な濃度の不活性ガスで満たすことができ
るシールボックスを提供するものである。<Problems to be Solved by the Invention> An object of the present invention is to provide a gas wiping device that employs a baffle plate, and a sealing box for hot-dip galvanizing or painting, the opening of which is sufficiently wide. An object of the present invention is to provide a seal box capable of preventing oxygen from entering through a gap and filling the inside of the seal box with a sufficient concentration of an inert gas.
また別な目的は、ガスワイピングノズルと金属帯間の
間隙を自由に変えることのできるシールボックスを提供
するものである。Another object is to provide a seal box in which the gap between the gas wiping nozzle and the metal strip can be freely changed.
さらに、ストリップ幅方向でのめっき液の付着量の均
一性を確保するのに効果的なバッフルプレートの配置が
可能なシールボックスを提供するものである。Further, the present invention provides a seal box in which a baffle plate can be effectively arranged in order to ensure the uniformity of the amount of plating solution deposited in the strip width direction.
〈課題を解決するための手段〉 本考案は、下端がめっき液に浸漬され、上部にめっき
された鋼ストリップが通過する開口部を有するシールボ
ックスを、めっきされた鋼ストリップを囲繞するように
して設置し、前記シールボックスの上方に鋼ストリップ
との隙間の調整が可能なように一対のワイピングノズル
を設けるとともに、鋼ストリップの両端に近接してバッ
フルプレートを対称に配設してなるワイピング装置であ
って、前記ワイピングノズルの両側端部上方に位置させ
てサブノズルを前記ワイピングノズルの両端から処理さ
れる最小鋼ストリップ幅のエッジから内側に少なくとも
100mmまでの範囲に配設し、前記サブノズルおよびワイ
ピングノズルに、前記サブノズルへの単位幅当たりの供
給ガス量を前記ワイピングノズルへの単位幅当たりの供
給ガス量の少なくとも1/6の割合で分配供給する２次ヘ
ッダを連通させ、一方、前記シールボックスに、該シー
ルボックス内を正圧に保つためのガスを供給するガス供
給管を接続するとともに、該ガス供給管の吐出口にガス
を静圧化する遮蔽板を取り付けて、前記シールボックス
各部に形成される隙間部からの大気侵入を防止するよう
に構成してなることを特徴とするガスワイピング装置で
ある。<Means for Solving the Problems> The present invention is such that the lower end is immersed in a plating solution, and a seal box having an opening through which a plated steel strip passes is surrounded by a plated steel strip. Installed, a pair of wiping nozzles are installed above the seal box so that the clearance between the steel strip and the steel strip can be adjusted, and a baffle plate symmetrically arranged near both ends of the steel strip. And the sub-nozzle is located above both ends of the wiping nozzle and at least inward from the edge of the minimum steel strip width processed from both ends of the wiping nozzle.
It is arranged in a range of up to 100 mm, and the supply gas amount per unit width to the sub nozzle is distributed and supplied to the sub nozzle and the wiping nozzle at a ratio of at least 1/6 of the supply gas amount per unit width to the wiping nozzle. A secondary gas supply pipe is connected to the seal box, while a gas supply pipe for supplying a gas for maintaining a positive pressure in the seal box is connected to the seal box, and a static pressure of gas is applied to the discharge port of the gas supply pipe. The gas wiping device is characterized in that it is configured so as to prevent atmospheric air from entering through a gap formed in each part of the seal box by attaching a shielding plate that changes.
〈作用〉 本考案によれば、前記の構成であるからワイピングノ
ズル両端部からシールボックス内へ侵入しようとする大
気がサブノズルから噴射されるガスによって防止され
る。また、シールボックスの各部に形成される隙間から
侵入しようとする大気は、シールボックスに接続された
ガス供給管から供給されるガスによってシールボックス
内が常に正圧に保持されるので、各部隙間から流出する
ガスによって阻止される。<Operation> According to the present invention, because of the above-mentioned configuration, the atmosphere that is about to enter the seal box from both ends of the wiping nozzle is prevented by the gas injected from the sub-nozzle. Also, the atmosphere that tries to enter through the gaps formed in each part of the seal box is always kept at a positive pressure in the seal box by the gas supplied from the gas supply pipe connected to the seal box. Blocked by outflowing gas.
〈実施例〉 一般にめっき処理を施す鋼ストリップ板幅の範囲はか
なり大きく、600〜1800mm程度であり、エッジワイピン
グノズル付のバッフルプレートは変動する板幅に対応し
て配置する必要がある。まためっき液の付着量も種々様
々であり、その付着量制御の方法として鋼ストリップを
ワイピングノズルの間隔を変えることはしばしば行われ
ている。このような操業条件における本考案の一実施例
を以下に図を用いて説明する。<Example> Generally, the range of the width of the steel strip to be plated is considerably large, about 600 to 1800 mm, and the baffle plate with the edge wiping nozzle needs to be arranged corresponding to the varying plate width. In addition, the amount of plating solution deposited varies, and as a method of controlling the amount deposited, it is often practiced to change the interval between the wiping nozzles of the steel strip. An embodiment of the present invention under such operating conditions will be described below with reference to the drawings.
第１図は本考案のシールボックスの側断面図、第２図
は同側面図、第３図は同部分平面図、第４図は同正面図
である。これらの図において、４は下端をめっき液３に
浸漬し、上部に鋼ストリップ１が通過する開口部を有す
るシールボックスを示し、６はエッジワイピングノズル
８を有するバッフルプレートである。鋼ストリップ１の
幅端部（エッジ部）近傍は中央部に比較してめっき液が
払拭されにくい現象が生じるため、鋼ストリップ１のエ
ッジに近接してエッッジワイピングノズル付のバッフル
プレート６を配置し、エッジワイピングノズル８から噴
射する不活性ガスによってストリップエッジ部近傍の余
分のめっき液が払拭される。シールボックス４の側壁に
はバッフルプレート６が通過できるようにコ字状の切り
欠き22が設けてある。1 is a side sectional view of a seal box of the present invention, FIG. 2 is a side view of the same, FIG. 3 is a partial plan view of the same, and FIG. 4 is a front view thereof. In these figures, 4 is a seal box having a lower end immersed in the plating solution 3 and an opening through which the steel strip 1 passes, and 6 is a baffle plate having an edge wiping nozzle 8. Since the plating solution is less likely to be wiped off near the width end portion (edge portion) of the steel strip 1 than in the central portion, the baffle plate 6 with the edge wiping nozzle is provided close to the edge of the steel strip 1. The excess plating solution in the vicinity of the strip edge portion is wiped by the inert gas which is arranged and jetted from the edge wiping nozzle 8. The side wall of the seal box 4 is provided with a U-shaped notch 22 so that the baffle plate 6 can pass through.
シールボックス４の上方にワイピングノズル2,2′が
配置されており、かつワイピングノズル2,2′の上部に
は中央部を除く両サイド部にサブノズル17が設けられた
構造となっており、ワイピングノズル2,2′およびサブ
ノズル17は背後の２次ヘッダ21に接続されている。第１
図において２次ヘッダ21を介してワイピングノズル2,
2′およびサブノズル17からシールボックス４にシール
ガスの流れの様子を矢印で模式的に示している。The wiping nozzles 2, 2'are arranged above the seal box 4, and the sub-nozzles 17 are provided above the wiping nozzles 2, 2'on both side portions except the central portion. The nozzles 2, 2'and the sub-nozzles 17 are connected to the secondary header 21 on the back. First
In the figure, the wiping nozzle 2, via the secondary header 21,
The flow of the seal gas from the 2'and the sub nozzle 17 to the seal box 4 is schematically shown by an arrow.
すなわち、ワイピングノズル2,2′より噴出されたワ
イピングガスは鋼ストリップ１に衝突した後、シールボ
ックス４では鋼ストリップ１に沿った下向きの流れとな
る。そして、シールボックス４内を循環するような流れ
（第１図中、矢印Ａで示す）となり、ワイピングノズル
2,2′の下側に取り付けられたプレート18とシールボッ
クス天板4aの隙間Δ１を通って大気中に排出される。That is, the wiping gas ejected from the wiping nozzles 2, 2 ′ collides with the steel strip 1 and then flows downward along the steel strip 1 in the seal box 4. Then, a flow (indicated by an arrow A in FIG. 1) that circulates in the seal box 4 is generated, and the wiping nozzle
It is discharged into the atmosphere through the gap Δ1 between the plate 18 attached to the lower side of 2, 2'and the seal box top plate 4a.
シールボックス４の側壁にはガス供給管19が接続され
ており、このガス供給管19から不活性ガスを供給するこ
とによってシールボックス４内を正圧に保持する。この
シールボックス４内にガス供給管19から供給される不活
性ガスは、できるだけ静圧的に供給するのが望ましい。
そこで、ガス供給管19の吐出面に設けた遮蔽板20は、ガ
ス供給管19から供給する不活性ガスをできるだけ静圧化
するためのものである。A gas supply pipe 19 is connected to the side wall of the seal box 4, and the inside of the seal box 4 is maintained at a positive pressure by supplying an inert gas from the gas supply pipe 19. The inert gas supplied from the gas supply pipe 19 into the seal box 4 is preferably supplied as static pressure as possible.
Therefore, the shielding plate 20 provided on the discharge surface of the gas supply pipe 19 is for making the inert gas supplied from the gas supply pipe 19 as static as possible.
一方、ワイピングノズル2,2′より上方では、ワイピ
ングノズル2,2′から噴出されたワイピングガスの流れ
は鋼ストリップ１に衝突後、ストリップ進行方向に沿っ
た非常に速い流れ（第１図中、矢印Ｂで示す）を形成す
るが、第３図に示すように、鋼ストリップ１の幅端より
外側では仮想のストリップとしてのバッフルプレート６
が配置されてはいるが、鋼ストリップ１の幅中央部と同
等の非常に速いガス流れは生じ難くワイピングノズル2,
2′の両端部ではガス流れが相対的に遅いため、当該部
分から外気がシールボックス４内へ侵入する危険性が大
きくなる。On the other hand, above the wiping nozzles 2, 2 ′, the flow of the wiping gas ejected from the wiping nozzles 2, 2 ′ collides with the steel strip 1 and then is extremely fast along the traveling direction of the strip (in FIG. 1, (Shown by the arrow B), but as shown in FIG. 3, the baffle plate 6 as an imaginary strip is formed outside the width end of the steel strip 1.
However, a very fast gas flow equivalent to the width center of the steel strip 1 is hard to occur and the wiping nozzle 2,
Since the gas flow is relatively slow at both end portions of 2 ', there is a high risk that outside air will enter the seal box 4 from this portion.
そこで、バッフルプレート６の近傍からシールボック
ス４内に大気が侵入するのを防止するためワイピングノ
ズル2,2′の中央部を除く両サイド部の上面に沿ってサ
ブノズル17を設けた構造としている。すなわち、このサ
ブノズル17は、シールボックス４との内側におけるバッ
フルプレート６および鋼ストリップ１のエッジ部に相当
する範囲に亘りワイピングノズル2,2′の上面に沿って
設けてあり、サブノズル17から鋼ストリップのエッジ部
およびバッフルプレート６にガスを噴出することによ
り、ワイピングノズル2,2′の両端部領域から噴射され
るガス流の速度が遅いのを援助し、大気を矢印Ｃ（第１
図参照）で示すように排除して、シールボックス４内に
侵入するのを防止する。Therefore, in order to prevent the invasion of the atmosphere into the seal box 4 from the vicinity of the baffle plate 6, the sub-nozzles 17 are provided along the upper surfaces of both side portions of the wiping nozzles 2 and 2'excluding the central portions. That is, the sub-nozzle 17 is provided along the upper surface of the wiping nozzles 2, 2 ′ over the range corresponding to the edge portion of the baffle plate 6 and the steel strip 1 inside the seal box 4, and the sub-nozzle 17 is connected to the steel strip. By ejecting the gas to the edge portion of the wiping nozzle 2 and the baffle plate 6, the velocity of the gas flow ejected from both end regions of the wiping nozzles 2 and 2'is assisted, and the atmosphere is moved to the arrow C (first position).
Exclude as shown in FIG. 2) to prevent entry into the seal box 4.
第４図に示すように、ワイピングノズル２の上面に沿
って設けられるサブノズル17の設置範囲、すなわちワイ
ピングノズル２の両端部における幅長さＬは、鋼ストリ
ップ１の最小幅をＷとすると、最小幅Ｗとされる鋼スト
リップ１のエッジからサブノズル17の内側に入る長さｌ
が少なくとも100mmにする必要があり、それ以下では鋼
ストリップ１のエッジ部に形状不良等がある場合には、
大気がシールボックス４内に侵入する恐れがある。もち
ろん、サブノズル17をワイピングノズル2,2′の全幅に
わたって配設することも可能である。As shown in FIG. 4, the installation range of the sub-nozzles 17 provided along the upper surface of the wiping nozzle 2, that is, the width L at both ends of the wiping nozzle 2, is the maximum when the minimum width of the steel strip 1 is W. Length l that enters the inside of the sub-nozzle 17 from the edge of the steel strip 1 with a small width W
Must be at least 100 mm. Below that, if there is a defect in the shape of the edge of the steel strip 1,
The atmosphere may enter the seal box 4. Of course, it is also possible to dispose the sub nozzle 17 over the entire width of the wiping nozzles 2, 2 '.
なお、第３図に示すように、ワイピングノズル2,2′
とシールボックス４との間には処理するめっき条件に応
じてワイピングノズル2,2′をシフトさせることが可能
なように隙間Δ２を設けてある。この隙間Δ２から大気
がシールボックス４内に侵入するのを防止するために
は、前記シールボックス４に接続したガス供給管19から
ガスを供給してシールボックス４内を確実に正圧に保持
することによって行われる。すなわち、隙間Δ２からシ
ールボックス４の外に向かって常にガスを排出させて大
気の侵入が防止される。As shown in FIG. 3, the wiping nozzles 2, 2 '
A gap Δ2 is provided between the seal box 4 and the seal box 4 so that the wiping nozzles 2, 2'can be shifted according to the plating conditions to be processed. In order to prevent atmospheric air from entering the seal box 4 through the gap Δ2, gas is supplied from the gas supply pipe 19 connected to the seal box 4 to reliably maintain the positive pressure inside the seal box 4. Done by. That is, gas is constantly discharged from the gap Δ2 toward the outside of the seal box 4 to prevent the invasion of the atmosphere.
なお、前記実施例ではワイピングノズル2,2′の上部
に接続してワイピングガスを供給する２次ヘッダ21およ
びサブノズル17を設けるものを示しているが、例えばワ
イピングノズル2,2′の上方に切り離して別途サブノズ
ルを設けるような構成にすることも可能である。In the above-described embodiment, the secondary header 21 and the sub-nozzle 17 which are connected to the upper portions of the wiping nozzles 2 and 2'to provide the wiping gas are provided, but they are separated above the wiping nozzles 2 and 2 ', for example. It is also possible to separately provide a sub nozzle.
本考案のシールボックスを用いてシールボックス開口
部寸法、ワイピングガス量に対するサブノズルのガス量
さらにはシールボックスに供給したガス量等の条件を種
々変えてその効果を確認した。そこで、２次ヘッダにお
いて、ワイピングノズルとサブノズルへ分配供給する際
に、ガスサブノズルへの単位幅当たりの供給ガス量をワ
イピングノズルへの単位幅当たりの供給ガス量に対して
４通りに変化させたときの酸素濃度の変化の推移を第１
表に示した。なお、そのときのシールボックス等の諸条
件は以下の通りである。また、ワイピングガスおよびシ
ールボックス内への供給ガスにはN2ガスを用いた。Using the seal box of the present invention, the effect was confirmed by variously changing the conditions such as the size of the seal box opening, the gas amount of the sub-nozzle with respect to the wiping gas amount, and the gas amount supplied to the seal box. Therefore, in the secondary header, when distributing and supplying to the wiping nozzle and the sub-nozzle, the gas supply amount per unit width to the gas sub-nozzle is changed in four ways with respect to the gas supply amount per unit width to the wiping nozzle. Change in oxygen concentration when
Shown in the table. The conditions of the seal box and the like at that time are as follows. Further, N 2 gas was used as the wiping gas and the supply gas into the seal box.
鋼ストリップ寸法 0.6mm（厚み）×800mm（幅） ワイピングノズル幅 1200mm ワイピングノズル間隔 40mm 開口部隙間Δ１ 8mm 開口部隙間Δ２ 5mm バッフルプレートと ストリップエッジの隙間 5mm 供給ガス量 10Nm3/min この表から、サブノズルガス量とワイピングガス量と
の比が、1/4〜1/2であるケース2,3,4においては、酸素
濃度が24ppm以下となることがわかる。Steel strip size 0.6mm (thickness) × 800mm (width) Wiping nozzle width 1200mm Wiping nozzle spacing 40mm Opening gap Δ1 8mm Opening gap Δ2 5mm Baffle plate-strip edge gap 5mm Supply gas amount 10Nm 3 / min From this table, it is understood that the oxygen concentration is 24 ppm or less in the cases 2, 3, and 4 in which the ratio of the sub-nozzle gas amount to the wiping gas amount is 1/4 to 1/2.
したがって、ガスサブノズルへの単位幅当たりの供給
ガス量をワイピングノズルへの単位幅当たりの供給ガス
量の少なくとも1/6を供給するとにより、めっき後のス
トリップ通過部からシールボックス内への酸素の侵入を
防止することができ、めっき金属の酸化防止およびドロ
ス発生の抑制に効果的である。Therefore, by supplying at least 1/6 of the supply gas amount per unit width to the gas sub-nozzle to the wiping nozzle, oxygen penetration from the strip passage after plating into the seal box It is effective for preventing the oxidation of the plating metal and suppressing the generation of dross.
なお、上記実施例は鋼ストリップのめっき液浸漬の場
合を対象とした場合について説明したが、本考案はこれ
に限るものではなく、鋼ストリップに塗料を塗布する場
合においても適用し得ることはいうまでもない。In addition, although the above-mentioned embodiment explained the case of immersing the steel strip in the plating solution, the present invention is not limited to this, and it can be applied to the case of coating the steel strip with paint. There is no end.
〈考案の効果〉 本考案によるシールボックスを備えたガスワイピング
装置を用いることにより以下の効果を得る。<Effects of the Invention> The following effects are obtained by using the gas wiping device having the seal box according to the present invention.
めっき浴面からワイピングノズルまでを非酸化雰囲
気にすることで、めっき液の酸化防止によりドロスの発
生を抑制できるため亜鉛の歩留りが向上できる。また、
めっき厚みを均一にすることができ高品質で美麗なめっ
き製品を製造することが可能となる。By providing a non-oxidizing atmosphere from the plating bath surface to the wiping nozzle, it is possible to suppress the generation of dross by preventing the oxidation of the plating solution and improve the zinc yield. Also,
The plating thickness can be made uniform, and high quality and beautiful plated products can be manufactured.
ワイピングノズルの下部のみを囲んだシールボック
スであるため、形状が不良なストリップをめっき処理す
るときに生じやすいノズル詰まりおよびスプラッシュの
ノズルへの付着が万一生じても容易に発見できるととも
に、その手入れも簡単であり、ラインを停止することな
く継続して生産を行うことができる。Since it is a seal box that only encloses the lower part of the wiping nozzle, it can be easily detected even if nozzle clogging or splash adheres to the nozzle, which is likely to occur when plating a strip with a bad shape, and it is easy to clean. Is also simple, and continuous production can be performed without stopping the line.
第１図は本考案のシールボックスの側断面図、第２図は
本考案のシールボックスの側面図、第３図は本考案のシ
ールボックスの側面部の部分平面図、第４図は本考案の
シルボックスの正面図、第５図は従来のシールボックス
の分解斜視図、第６図は従来のシールボックスの側断面
図、第７図は従来のシールボックスの側面図、第８図は
従来のシールボックスの部分断面図、第９図は従来のシ
ールボックスの側端部の平面図、第10図は従来のガスワ
イピング法の典型例を示す説明図である。 １……ストリップ、２……ワイピングノズル、３……め
っき液、４……シールボックス、５……開口部、６……
バッフルプレート、８……エッジワイピングノズル、17
……サブノズル、18……プレート、19……ガス供給配
管、20……遮蔽板、21……２次ヘッダ、22……切り欠
き。1 is a side sectional view of the seal box of the present invention, FIG. 2 is a side view of the seal box of the present invention, FIG. 3 is a partial plan view of a side portion of the seal box of the present invention, and FIG. 4 is the present invention. Of the conventional sill box, FIG. 5 is an exploded perspective view of the conventional seal box, FIG. 6 is a side sectional view of the conventional seal box, FIG. 7 is a side view of the conventional seal box, and FIG. FIG. 9 is a partial sectional view of the seal box of FIG. 9, FIG. 9 is a plan view of a side end portion of a conventional seal box, and FIG. 10 is an explanatory view showing a typical example of a conventional gas wiping method. 1 ... strip, 2 ... wiping nozzle, 3 ... plating solution, 4 ... seal box, 5 ... opening, 6 ...
Baffle plate, 8 ... Edge wiping nozzle, 17
...... Sub nozzle, 18 ...... Plate, 19 ...... Gas supply pipe, 20 ...... Shield plate, 21 ...... Secondary header, 22 ...... Notch
Claims (1)
された鋼ストリップが通過する開口部を有するシールボ
ックスを、めっきされた鋼ストリップを囲繞するように
して設置し、前記シールボックスの上方に鋼ストリップ
との隙間の調整が可能なように一対のワイピングノズル
を設けるとともに、鋼ストリップの両端に近接してバッ
フルプレートを対称に配設してなるワイピング装置であ
って、 前記ワイピングノズルの両側端部上方に位置させてサブ
ノズルを前記ワイピングノズルの両端から処理される最
小鋼ストリップ幅のエッジから内側に少なくとも100mm
までの範囲に配設し、前記サブノズルおよびワイピング
ノズルに、前記サブノズルの単位幅当たりの供給ガス量
を前記ワイピングノズルへの単位幅当たりの供給ガス量
の少なくとも1/6の割合で分配供給する２次ヘッダを連
通させ、一方、前記シールボックスに、該シールボック
ス内を正圧に保つためのガスを供給するガス供給管を接
続するとともに、該ガス供給管の吐出口にガスを静圧化
する遮蔽板を取り付けて、前記シールボックス各部に形
成される隙間部からの大気侵入を防止するように構成し
てなることを特徴とするガスワイピング装置。1. A seal box, the lower end of which is immersed in a plating solution and which has an opening through which the plated steel strip passes, is installed so as to surround the plated steel strip, and above the seal box. A wiping device provided with a pair of wiping nozzles so that the clearance between the wiping nozzle and the steel strip can be adjusted, and baffle plates are symmetrically arranged near both ends of the steel strip. Position the sub-nozzle above the end and at least 100mm inward from the edge of the minimum steel strip width processed from both ends of the wiping nozzle.
And the distribution amount of the supply gas amount per unit width of the sub nozzle is distributed and supplied to the sub nozzle and the wiping nozzle at a rate of at least 1/6 of the supply gas amount per unit width to the wiping nozzle. The next header is made to communicate, while a gas supply pipe for supplying gas for keeping the inside of the seal box at a positive pressure is connected to the seal box, and the gas is made static pressure at the discharge port of the gas supply pipe. A gas wiping device, characterized in that a shielding plate is attached to prevent atmospheric air from entering through a gap formed in each part of the seal box.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990030997U JPH08356Y2 (en) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | Gas wiping device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990030997U JPH08356Y2 (en) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | Gas wiping device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03125059U JPH03125059U (en) | 1991-12-18 |
| JPH08356Y2 true JPH08356Y2 (en) | 1996-01-10 |
Family
ID=31533724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990030997U Expired - Fee Related JPH08356Y2 (en) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | Gas wiping device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08356Y2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6892413B2 (en) | 2001-11-06 | 2005-05-17 | The Procter & Gamble Company | Complex motion toothbrush |
| US7225494B2 (en) | 2001-11-06 | 2007-06-05 | Church & Dwight Co., Inc. | Multi-motion toothbrush |
| US7356866B2 (en) | 2002-06-11 | 2008-04-15 | Church & Dwight Co., Inc. | Modular electric toothbrushes |
| KR20170012790A (en) * | 2015-07-24 | 2017-02-03 | 주식회사 포스코 | Gas wiping device of plating facility, and control method thereof |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55134164A (en) * | 1979-04-02 | 1980-10-18 | Nippon Steel Corp | Hot zinc dipping unit for strip |
| JPS62141060U (en) * | 1986-02-24 | 1987-09-05 | ||
| JPH0639678B2 (en) * | 1988-02-16 | 1994-05-25 | 川崎製鉄株式会社 | Gas wiping device |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP1990030997U patent/JPH08356Y2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7451514B2 (en) | 2001-11-06 | 2008-11-18 | The Procter & Gamble Company | Complex motion toothbrush |
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| KR20170012790A (en) * | 2015-07-24 | 2017-02-03 | 주식회사 포스코 | Gas wiping device of plating facility, and control method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03125059U (en) | 1991-12-18 |
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