JPH0836335A - ウエブ上の電荷制御装置及び方法 - Google Patents
ウエブ上の電荷制御装置及び方法Info
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- JPH0836335A JPH0836335A JP7-51309A JP5130995A JPH0836335A JP H0836335 A JPH0836335 A JP H0836335A JP 5130995 A JP5130995 A JP 5130995A JP H0836335 A JPH0836335 A JP H0836335A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 移動するウエブ上の自由電荷を制御する方法
及び装置を提供することを目的とする。 【構成】 この方法及び装置は、2つのDCイオナイザ
を具備する。これらの2つのイオナイザはウエブの一方
の表面上に互いに隣接して配置され、互いに異なる極を
有する。これらのイオナイザとは反対側のウエブの側に
導体板が設置され、この導体板はイオナイザの下流にお
いてウエブ上で測定した自由電荷に対応して制御され
る。本発明はウエブ上の電荷をいかなる周波数をも付与
することなく殆どゼロ近くに制御することができる。
及び装置を提供することを目的とする。 【構成】 この方法及び装置は、2つのDCイオナイザ
を具備する。これらの2つのイオナイザはウエブの一方
の表面上に互いに隣接して配置され、互いに異なる極を
有する。これらのイオナイザとは反対側のウエブの側に
導体板が設置され、この導体板はイオナイザの下流にお
いてウエブ上で測定した自由電荷に対応して制御され
る。本発明はウエブ上の電荷をいかなる周波数をも付与
することなく殆どゼロ近くに制御することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は移動するウェブ上にかか
る自由電荷を制御する方法および装置に関する。
る自由電荷を制御する方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】フィルム感光装置におけるエマルジョン
を被覆するためのフィルム支持部を準備するインライン
処理の一部に、静電荷の制御処理がある。フィルムの被
覆処理において、2つの異なる電荷をあらわす不均一
な、自由電荷および極電荷の両者を制御することが必要
である。自由電荷とは、ウェブの殆どの部分において一
方の極の電荷が他方の極より多い場合である。極電荷と
は、ウェブの一部が各極の電荷数が正確に同数の場合で
あるが、一方の面に正電荷がより多く、他方の面に負電
荷がより多い場合である。
を被覆するためのフィルム支持部を準備するインライン
処理の一部に、静電荷の制御処理がある。フィルムの被
覆処理において、2つの異なる電荷をあらわす不均一
な、自由電荷および極電荷の両者を制御することが必要
である。自由電荷とは、ウェブの殆どの部分において一
方の極の電荷が他方の極より多い場合である。極電荷と
は、ウェブの一部が各極の電荷数が正確に同数の場合で
あるが、一方の面に正電荷がより多く、他方の面に負電
荷がより多い場合である。
【0003】移動するウェブ上にかかる自由電荷を制御
する2つの方法として、ブラシ電荷の密度が高い場合に
のみ効果のある微細ワイヤからなるブラシ除電器、およ
び被覆が不均一となる原因になり得る60Hzのウェブ上
の電荷分布を残すACイオナイザである。このように、
これらの従来の方法は自由電荷を除電するのに全面的に
効果のあるものではない。
する2つの方法として、ブラシ電荷の密度が高い場合に
のみ効果のある微細ワイヤからなるブラシ除電器、およ
び被覆が不均一となる原因になり得る60Hzのウェブ上
の電荷分布を残すACイオナイザである。このように、
これらの従来の方法は自由電荷を除電するのに全面的に
効果のあるものではない。
【0004】図1は、移動するウェブ12上の自由電荷
を制御する第3の従来方法を示す。自由電荷は、接地さ
れたスクリーンを具備する1対のDCイオナイザ13に
よって制御される。このイオナイザは、一方は陰極のイ
オナイザ、他方は正極のイオナイザである。また、正極
のイオナイザ上のコロナワイヤ電圧を制御するためのフ
ィードバック制御機構がある。フィードバック機構はセ
ンサ18を具備し、このセンサはDEイオナイザ、制御
器(コントローラー)、及び正のイオナイザのコロナワ
イヤに対して電圧を供給する、制御可能な高電圧源(図
示せず)の下流の数フィートでウエブ上の静電場を測定
する。負のイオナイザは固定のコロナワイヤ電圧でもっ
て稼働される。正のイオナイザは、同じ電圧(ただし反
対の極)で作用する同じ負のイオナイザよりもより大き
なイオン出力を有するので、正のイオナイザの電圧のみ
を制御するで1対のイオナイザの正味の効率を制御する
手段として十分なものである。
を制御する第3の従来方法を示す。自由電荷は、接地さ
れたスクリーンを具備する1対のDCイオナイザ13に
よって制御される。このイオナイザは、一方は陰極のイ
オナイザ、他方は正極のイオナイザである。また、正極
のイオナイザ上のコロナワイヤ電圧を制御するためのフ
ィードバック制御機構がある。フィードバック機構はセ
ンサ18を具備し、このセンサはDEイオナイザ、制御
器(コントローラー)、及び正のイオナイザのコロナワ
イヤに対して電圧を供給する、制御可能な高電圧源(図
示せず)の下流の数フィートでウエブ上の静電場を測定
する。負のイオナイザは固定のコロナワイヤ電圧でもっ
て稼働される。正のイオナイザは、同じ電圧(ただし反
対の極)で作用する同じ負のイオナイザよりもより大き
なイオン出力を有するので、正のイオナイザの電圧のみ
を制御するで1対のイオナイザの正味の効率を制御する
手段として十分なものである。
【0005】二重のDCイオナイザ装置はブラシ除電器
よりも低電荷濃度の域においてより効率的であり、AC
イオナイザ装置のようにウエブに対して周波数を付加す
ることはない。しかしながら、図1に示す二重のDCイ
オナイザ装置は2つの顕著な問題点を有する。比較的低
い電荷濃度の領域ではあまり効率的でなく、電荷のレベ
ルを制御できるそれの能力は流入するウエブの背面側の
チャージ濃度が減少するにしたがって低下する傾向にあ
る。その結果、いくつかの支持体においては、除電器に
したがうウエブ上の静電場は1インチあたり約−200
0ボルトから約+2000ボルト程度までふらつくもの
となる。制御の欠陥によって処理のバラツキをもたら
し、より高い電場の強度における作用によって、空気中
に浮遊する微小な粒状物質がウエブに吸引されるに十分
なものとなり、これらの微小の粒状物質は被覆に際して
フィルム内に入り込んでしまう可能性がある。更に、ウ
エブ上の電場は、埃又は汚れに起因して被覆の不完全さ
或いは厳しさ等を助長することとなる。
よりも低電荷濃度の域においてより効率的であり、AC
イオナイザ装置のようにウエブに対して周波数を付加す
ることはない。しかしながら、図1に示す二重のDCイ
オナイザ装置は2つの顕著な問題点を有する。比較的低
い電荷濃度の領域ではあまり効率的でなく、電荷のレベ
ルを制御できるそれの能力は流入するウエブの背面側の
チャージ濃度が減少するにしたがって低下する傾向にあ
る。その結果、いくつかの支持体においては、除電器に
したがうウエブ上の静電場は1インチあたり約−200
0ボルトから約+2000ボルト程度までふらつくもの
となる。制御の欠陥によって処理のバラツキをもたら
し、より高い電場の強度における作用によって、空気中
に浮遊する微小な粒状物質がウエブに吸引されるに十分
なものとなり、これらの微小の粒状物質は被覆に際して
フィルム内に入り込んでしまう可能性がある。更に、ウ
エブ上の電場は、埃又は汚れに起因して被覆の不完全さ
或いは厳しさ等を助長することとなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上述
した従来技術における電荷制御装置の問題点を解決する
ことを目的とする。そして、ウエブ上の電荷を、たとえ
低いレベルにおいても制御可能とし、電荷のバラツキを
防止し、ウエブに対して電荷の周波数を付加させないよ
うにすることである。
した従来技術における電荷制御装置の問題点を解決する
ことを目的とする。そして、ウエブ上の電荷を、たとえ
低いレベルにおいても制御可能とし、電荷のバラツキを
防止し、ウエブに対して電荷の周波数を付加させないよ
うにすることである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに、本発明によれば、移動するウエブ上の自由電荷を
制御する装置において、1つの極を有する第1の定電圧
DCイオナイザと、前記第1のイオナイザとは反対の極
を有し、且つ第1のイオナイザに隣接して配置される第
2の定電圧DCイオナイザと、前記第1及び第2のイオ
ナイザとは反対側に設置された導体板と、該導体板の電
圧を制御するように前記導体板に接続された制御可能な
バイポーラ電圧源と、ウエブを前記導体板と前記第1及
び第2のイオナイザとの間で移動させる手段と、前記導
体板及びイオナイザの下流におけるウエブ上の平均電荷
濃度を測定し、且つ出力を発生する手段と、を具備し、
前記出力に応じて前記制御可能なバイポーラ電圧源を調
整することにより、移動するウエブ上の電荷が制御され
ることを特徴とする、移動するウエブの電荷制御装置が
提供される。
めに、本発明によれば、移動するウエブ上の自由電荷を
制御する装置において、1つの極を有する第1の定電圧
DCイオナイザと、前記第1のイオナイザとは反対の極
を有し、且つ第1のイオナイザに隣接して配置される第
2の定電圧DCイオナイザと、前記第1及び第2のイオ
ナイザとは反対側に設置された導体板と、該導体板の電
圧を制御するように前記導体板に接続された制御可能な
バイポーラ電圧源と、ウエブを前記導体板と前記第1及
び第2のイオナイザとの間で移動させる手段と、前記導
体板及びイオナイザの下流におけるウエブ上の平均電荷
濃度を測定し、且つ出力を発生する手段と、を具備し、
前記出力に応じて前記制御可能なバイポーラ電圧源を調
整することにより、移動するウエブ上の電荷が制御され
ることを特徴とする、移動するウエブの電荷制御装置が
提供される。
【0008】また、本発明は、ウエブ上の自由電荷を制
御する方法において、第1の表面と第2の表面とを有す
るウエブを処理領域を通過させるように移動させ、該ウ
エブの第1の表面に面する処理領域に第1の所定静電場
を設定し、前記ウエブの第1の表面に面する処理領域に
おける第1の静電場とは反対の極で該第1の静電場に隣
接する第2の所定静電場を設定し、前記ウエブの第2の
表面に面する処理領域に導体板を設け、前記処理領域の
下流の位置においてウエブ上の平均電荷濃度を測定し、
更にウエブ上で測定した平均電荷濃度に応じて前記導体
板上の電圧を制御することを特徴とする、ウエブの電荷
制御方法が提供される。
御する方法において、第1の表面と第2の表面とを有す
るウエブを処理領域を通過させるように移動させ、該ウ
エブの第1の表面に面する処理領域に第1の所定静電場
を設定し、前記ウエブの第1の表面に面する処理領域に
おける第1の静電場とは反対の極で該第1の静電場に隣
接する第2の所定静電場を設定し、前記ウエブの第2の
表面に面する処理領域に導体板を設け、前記処理領域の
下流の位置においてウエブ上の平均電荷濃度を測定し、
更にウエブ上で測定した平均電荷濃度に応じて前記導体
板上の電圧を制御することを特徴とする、ウエブの電荷
制御方法が提供される。
【0009】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の実施例に
ついて詳細に説明する。図2には本発明の自由電荷の制
御装置の概略図である。図2に見られるように、本発明
の自由電荷イオナイザは非常に少しの変形でもって従来
の自由電荷の制御イオナイザを利用することができる。
図2において、ウェブ12は本発明の自由電荷イオナイ
ザ23および25を通過し、ここで自由電荷が除去され
る。これらのイオナイザに入る前に、ウェブに拘束され
ている電荷が何らかの公知の方法で除去される。この装
置においては、自由電荷イオナイザ23、25は電圧源
31に接続された制御板24を有する。自由電荷イオナ
イザ23、25の下流には、ウェブ上の自由電荷を測定
するためのセンサ装置18がある。このセンサ装置18
としてウェブ上の電場を測定する静電場メーターを使用
できる。このセンサ装置18は制御器32に接続されて
おり、この制御器は、制御板24に電圧を印加する電源
31に出力する。
ついて詳細に説明する。図2には本発明の自由電荷の制
御装置の概略図である。図2に見られるように、本発明
の自由電荷イオナイザは非常に少しの変形でもって従来
の自由電荷の制御イオナイザを利用することができる。
図2において、ウェブ12は本発明の自由電荷イオナイ
ザ23および25を通過し、ここで自由電荷が除去され
る。これらのイオナイザに入る前に、ウェブに拘束され
ている電荷が何らかの公知の方法で除去される。この装
置においては、自由電荷イオナイザ23、25は電圧源
31に接続された制御板24を有する。自由電荷イオナ
イザ23、25の下流には、ウェブ上の自由電荷を測定
するためのセンサ装置18がある。このセンサ装置18
としてウェブ上の電場を測定する静電場メーターを使用
できる。このセンサ装置18は制御器32に接続されて
おり、この制御器は、制御板24に電圧を印加する電源
31に出力する。
【0010】電圧板自由電荷イオナイザの概要を図3に
示す。図3において、2つの定電圧又は定直流イオナイ
ザ23および25がウェブ12の面に対向してかつ互い
に近接して移動の自由スパン上に設けられている。イオ
ナイザ23および25はイオナイザの中心線がウェブの
横方向にウェブに対して平行となるように取付けられて
いる。各イオナイザは符号30で概略示す直流高電圧源
に接続されている。グランドから電気的に絶縁されてい
る導体板24がイオナイザの面に近接して配置され、ウ
ェブ12の横方向にイオナイザに平行に位置し、ウェブ
は板24とイオナイザ23および25との間を進行する
ようになっている。板24は種々の形状、設計、構造、
又は固体材料およびスクリーンの両者を含む材質を採用
しうるが、板24はイオナイザ23および25からの電
荷を吸引する同ポテンシャルとして作用する導体層を組
み込んでいる必要がある。更に、板はその設計上機械の
隣接する部分に対し又は人に対し板から放電を起こす事
故の危険性を減ずるための手段、例えばグランドの電位
の導体シールド、高圧のカバー層、又は電流制限用の抵
抗器等を設けることができる。
示す。図3において、2つの定電圧又は定直流イオナイ
ザ23および25がウェブ12の面に対向してかつ互い
に近接して移動の自由スパン上に設けられている。イオ
ナイザ23および25はイオナイザの中心線がウェブの
横方向にウェブに対して平行となるように取付けられて
いる。各イオナイザは符号30で概略示す直流高電圧源
に接続されている。グランドから電気的に絶縁されてい
る導体板24がイオナイザの面に近接して配置され、ウ
ェブ12の横方向にイオナイザに平行に位置し、ウェブ
は板24とイオナイザ23および25との間を進行する
ようになっている。板24は種々の形状、設計、構造、
又は固体材料およびスクリーンの両者を含む材質を採用
しうるが、板24はイオナイザ23および25からの電
荷を吸引する同ポテンシャルとして作用する導体層を組
み込んでいる必要がある。更に、板はその設計上機械の
隣接する部分に対し又は人に対し板から放電を起こす事
故の危険性を減ずるための手段、例えばグランドの電位
の導体シールド、高圧のカバー層、又は電流制限用の抵
抗器等を設けることができる。
【0011】制御可能なバイポーラ高圧電源31は導体
板24に接続され、正電圧又は負電圧の広範囲の電圧を
板に対し供給する。バイポーラ高圧電源は高電圧増幅器
を具備することができる。最適な作用のために必要とさ
れる電圧範囲は板24のサイズ、形状等の幾何学的な要
因およびそれのウェブからの距離およびイオナイザから
の距離、並びにシールド手段の有無に依存する。種々の
幾何学的な要因に対する典型的な作用範囲は両極数百ボ
ルトから両極数千ボルトである。
板24に接続され、正電圧又は負電圧の広範囲の電圧を
板に対し供給する。バイポーラ高圧電源は高電圧増幅器
を具備することができる。最適な作用のために必要とさ
れる電圧範囲は板24のサイズ、形状等の幾何学的な要
因およびそれのウェブからの距離およびイオナイザから
の距離、並びにシールド手段の有無に依存する。種々の
幾何学的な要因に対する典型的な作用範囲は両極数百ボ
ルトから両極数千ボルトである。
【0012】最後に、自由電荷制御機構に追随する平均
電荷濃度に応答するセンサ18又はセンサ列を有するフ
ィードバック制御器32又は制御システムが設けられて
いる。制御器32は制御可能な高電圧源に制御信号を送
り、もって板に対し円滑に制御された電圧を調整するこ
とができ、これによって板の電圧はウェブ上の電荷濃度
の直接的なファンクションとして同極に増加する。セン
サ18は、センサに影響する電場がウェブ上に分布され
る電荷によって起こり、板24に印加される電圧にって
起こらないような部位に設ける必要がある。制御ループ
の問題を最小限にするために、板からの電場によって不
当に影響されることのないように、センサがウェブ通路
に沿って長手方向に配置される距離が出来るかぎり短く
維持されるようにすべきである。センサおよび制御器と
しては、市販の種々のものが可能である。両者とも市販
されているものでもよく、およびこの種の設計によるも
のの1つであってもよい。センサの例としては、静電メ
ーター、非接触静電電圧計、電流計のようにウェブに電
気容量的に連結されているが電荷測定器を介して接地さ
れている板等である。本発明において使用可能な制御器
は種々のものがある。それらには、単純に作用する増幅
器があり、コンピュータ又はプログラム可能なロジック
制御器におけるループを制御するフィードバックループ
を具備する。アレン−ブラドレイ(Allen−Bra
dley)、ゼネラルエレクトリック(GE)、テイラ
ー(Taylor)およびウエスチングハウス(Wes
tinghous)の全ては設定値に制御するように設
計された装置を製作している。これらの装置のいずれか
を本発明で使用することができる。既に市販されている
センサの1つとして、ウェブの自由スパン上の自由電荷
制御機構の後流に短距離に取付けられた静電メーターが
ある。静電メーターからの信号は市販のアナログ又はデ
ジタル制御器に入力され、この制御器は導体板に対して
適当な制御可能な電圧源、例えば高圧のバイポーラ増幅
器への出力電圧を与える。
電荷濃度に応答するセンサ18又はセンサ列を有するフ
ィードバック制御器32又は制御システムが設けられて
いる。制御器32は制御可能な高電圧源に制御信号を送
り、もって板に対し円滑に制御された電圧を調整するこ
とができ、これによって板の電圧はウェブ上の電荷濃度
の直接的なファンクションとして同極に増加する。セン
サ18は、センサに影響する電場がウェブ上に分布され
る電荷によって起こり、板24に印加される電圧にって
起こらないような部位に設ける必要がある。制御ループ
の問題を最小限にするために、板からの電場によって不
当に影響されることのないように、センサがウェブ通路
に沿って長手方向に配置される距離が出来るかぎり短く
維持されるようにすべきである。センサおよび制御器と
しては、市販の種々のものが可能である。両者とも市販
されているものでもよく、およびこの種の設計によるも
のの1つであってもよい。センサの例としては、静電メ
ーター、非接触静電電圧計、電流計のようにウェブに電
気容量的に連結されているが電荷測定器を介して接地さ
れている板等である。本発明において使用可能な制御器
は種々のものがある。それらには、単純に作用する増幅
器があり、コンピュータ又はプログラム可能なロジック
制御器におけるループを制御するフィードバックループ
を具備する。アレン−ブラドレイ(Allen−Bra
dley)、ゼネラルエレクトリック(GE)、テイラ
ー(Taylor)およびウエスチングハウス(Wes
tinghous)の全ては設定値に制御するように設
計された装置を製作している。これらの装置のいずれか
を本発明で使用することができる。既に市販されている
センサの1つとして、ウェブの自由スパン上の自由電荷
制御機構の後流に短距離に取付けられた静電メーターが
ある。静電メーターからの信号は市販のアナログ又はデ
ジタル制御器に入力され、この制御器は導体板に対して
適当な制御可能な電圧源、例えば高圧のバイポーラ増幅
器への出力電圧を与える。
【0013】具体例 幅35mmで厚さ0.005インチのポリエステルのウ
エブと、厚さ0.005インチのセルロースアセテート
のウエブを連続的に試験した。ウエブが搬送ローラのま
わりを約120°の接触角度で通過する際にウエブの表
面に近接するようにグリッド制御イオナイザを配置する
ことにより、ウエブチャージステーションがウエブ通路
中に形成された。イオナイザのコロナ線は高圧電源に接
続され、イオナイザのクリッド及び本体は抵抗を介して
接地され、もってクリッド及び本体は、それらを打撃し
且つグランドに対して抵抗値となるようなイオン電流に
よって決定される電圧を達成した。このローラの直後の
ウエブのスパンにおいて、1対のグランド−グリッドコ
ロナ線イオナイザが相互に隣接して取付けられ、ローラ
に接触しているウエブの表面に面しており、ウエブから
約1/2インチ離れていた。イオナイザの反対側に、金
属板がウエブから約1/4インチ離れて配置された。こ
の金属板はクラッドから電気的に絶縁され、高圧バイポ
ーラ電源の出力に接続された。ウエブのこの同じスパン
に沿って更に、モンロエモデル(Monroe Mod
el)245電場メーター・プローブがウエブの表面か
ら約1cmで取付けられた。この電場メーターの出力は
チャートレコーダーに記録され、この試験を行う作業者
に容易に監視できた。1対のグランド・グリッドイオナ
イザ、金属板及び電場メーター・プローブの形状は図3
の配置に対応したものであった。
エブと、厚さ0.005インチのセルロースアセテート
のウエブを連続的に試験した。ウエブが搬送ローラのま
わりを約120°の接触角度で通過する際にウエブの表
面に近接するようにグリッド制御イオナイザを配置する
ことにより、ウエブチャージステーションがウエブ通路
中に形成された。イオナイザのコロナ線は高圧電源に接
続され、イオナイザのクリッド及び本体は抵抗を介して
接地され、もってクリッド及び本体は、それらを打撃し
且つグランドに対して抵抗値となるようなイオン電流に
よって決定される電圧を達成した。このローラの直後の
ウエブのスパンにおいて、1対のグランド−グリッドコ
ロナ線イオナイザが相互に隣接して取付けられ、ローラ
に接触しているウエブの表面に面しており、ウエブから
約1/2インチ離れていた。イオナイザの反対側に、金
属板がウエブから約1/4インチ離れて配置された。こ
の金属板はクラッドから電気的に絶縁され、高圧バイポ
ーラ電源の出力に接続された。ウエブのこの同じスパン
に沿って更に、モンロエモデル(Monroe Mod
el)245電場メーター・プローブがウエブの表面か
ら約1cmで取付けられた。この電場メーターの出力は
チャートレコーダーに記録され、この試験を行う作業者
に容易に監視できた。1対のグランド・グリッドイオナ
イザ、金属板及び電場メーター・プローブの形状は図3
の配置に対応したものであった。
【0014】電子制御器は使用できなかったので、金属
板に対するフィードバックは手動で行った。電場メータ
ーの出力はチャートで表された。作業者はチャートを監
視し、バイポーラ高圧電源の出力を電場メーターの読取
り値がゼロとなるように調整した。事実、これはかなり
粗雑な制御ループであるが、このチャージ制御方法が順
調にいけば作業者が電場をゼロ近く維持するべく電源を
調整するには十分であり、作業者が行うことの出来ない
適当なチューニングを伴ったものを電子制御を用いて行
うのが容易となるであろう。
板に対するフィードバックは手動で行った。電場メータ
ーの出力はチャートで表された。作業者はチャートを監
視し、バイポーラ高圧電源の出力を電場メーターの読取
り値がゼロとなるように調整した。事実、これはかなり
粗雑な制御ループであるが、このチャージ制御方法が順
調にいけば作業者が電場をゼロ近く維持するべく電源を
調整するには十分であり、作業者が行うことの出来ない
適当なチューニングを伴ったものを電子制御を用いて行
うのが容易となるであろう。
【0015】ウエブはチャージステーションにて印加さ
れる種々のチャージレベルでもって種々の速度で走行
し、作業者は容易に電源を調整してウエブにおけるチャ
ージレベル及び機械速度の変化を補償して金属板に続く
スパンにおいてほぼゼロの電場強度に維持した。図4は
300フィート/分(fpm)で走行した時のチャート
記録の一部である。図示の部分はデータの丁度2分間を
示している。電場メーターの出力を示す軌跡1及びウエ
ブ前のチャージステーションにてウエブに印加されるチ
ャージの測定量を示す軌跡4が監視される。チャート記
録器は各ペンが正及び負の両者の電圧を記録するように
設定され、正の電圧はチャートの上半分に示され、負の
電圧はチャートの下半分に示されている。ペン4は点線
の符号4aにそのゼロ点をもつ。ペン1はペン4の中心
下に、点線の符号1aにそのゼロ点をもつ。ペン1の増
幅器のゲインは2つのゼロ点間の距離が電場強度におい
て500V/cmの変化をあらわすように調整される。
れる種々のチャージレベルでもって種々の速度で走行
し、作業者は容易に電源を調整してウエブにおけるチャ
ージレベル及び機械速度の変化を補償して金属板に続く
スパンにおいてほぼゼロの電場強度に維持した。図4は
300フィート/分(fpm)で走行した時のチャート
記録の一部である。図示の部分はデータの丁度2分間を
示している。電場メーターの出力を示す軌跡1及びウエ
ブ前のチャージステーションにてウエブに印加されるチ
ャージの測定量を示す軌跡4が監視される。チャート記
録器は各ペンが正及び負の両者の電圧を記録するように
設定され、正の電圧はチャートの上半分に示され、負の
電圧はチャートの下半分に示されている。ペン4は点線
の符号4aにそのゼロ点をもつ。ペン1はペン4の中心
下に、点線の符号1aにそのゼロ点をもつ。ペン1の増
幅器のゲインは2つのゼロ点間の距離が電場強度におい
て500V/cmの変化をあらわすように調整される。
【0016】この特定の走行中に何が起こったかを説明
するためにこのチャートにおいてA〜Gの符号を付し
た。走行の開始時Aにおいて、ウエブ上のチャージはイ
オナイザがオンされている全期間において、ごく僅か正
であった。金属板電源はB点でオンにされ、ほぼゼロ電
場を達成するように調整される。点Cにおいて、チャー
ジステーションにおいてイオナイザに印加される負の電
圧は大幅に増加され、その結果ウエブにかかる正味チャ
ージは高い負の値となる。ペン4はこの点においてチャ
ートの底部から完全に離れる方向に変化する。ペン1は
電場メーターのプローブにおける電場もまた約−850
V/cmにまで負の値が高くなることを示している。点
Dにおいて、金属板に対する電源が、最初は誤った方向
に、その後正しい方向に調整された。電源の極が変化さ
れ、且つその結果、作業者が電源の供給電圧を下げるこ
とにより補正されるパルスを正極となるようにする。点
Eにおいて金属板への電圧の微調整が行われ、電場をゼ
ロと−100V/cmとの間に調整された。その後点F
においてイオナイザに対する負の電源供給は遮断され、
ウエブの電荷は再度僅かな正の値となる。電場は約+8
00V/cmとなった。作業者は金属板電圧を調整し電
場メーターの読取り値が加工するように再調整う、もっ
て点Gにおいて電場が50ボルト/cmからゼロの値と
なるようにする。これは、制御が手動で行われる場合に
おいても、この方法の自由電荷の制御が有効であること
を示している。
するためにこのチャートにおいてA〜Gの符号を付し
た。走行の開始時Aにおいて、ウエブ上のチャージはイ
オナイザがオンされている全期間において、ごく僅か正
であった。金属板電源はB点でオンにされ、ほぼゼロ電
場を達成するように調整される。点Cにおいて、チャー
ジステーションにおいてイオナイザに印加される負の電
圧は大幅に増加され、その結果ウエブにかかる正味チャ
ージは高い負の値となる。ペン4はこの点においてチャ
ートの底部から完全に離れる方向に変化する。ペン1は
電場メーターのプローブにおける電場もまた約−850
V/cmにまで負の値が高くなることを示している。点
Dにおいて、金属板に対する電源が、最初は誤った方向
に、その後正しい方向に調整された。電源の極が変化さ
れ、且つその結果、作業者が電源の供給電圧を下げるこ
とにより補正されるパルスを正極となるようにする。点
Eにおいて金属板への電圧の微調整が行われ、電場をゼ
ロと−100V/cmとの間に調整された。その後点F
においてイオナイザに対する負の電源供給は遮断され、
ウエブの電荷は再度僅かな正の値となる。電場は約+8
00V/cmとなった。作業者は金属板電圧を調整し電
場メーターの読取り値が加工するように再調整う、もっ
て点Gにおいて電場が50ボルト/cmからゼロの値と
なるようにする。これは、制御が手動で行われる場合に
おいても、この方法の自由電荷の制御が有効であること
を示している。
【0017】自由電荷制御のこの方法及び装置は、非常
にゼロに近い場合であってもウエブ上への電荷濃度の非
常の円滑な制御が提供する。本発明は、従来の装置より
も一層、ウエブ上にかかる自由電荷を制御するための有
効な手段である。これはACイオナイザを使用する場合
のようにウエブに対して変調された信号を付与するもの
ではない。更に、この方法は、イオナイザのコロナワイ
ヤ電圧を変化させることによりイオナイザのイオン出力
を変化させる方法よりも有利である。というのは、イオ
ナイザを所定の電圧又は所定の電流で駆動することによ
り、それらの作動の長さを延長することができ、これに
より狭い電圧又は電流の範囲で作動させて、もって放電
及び他の高圧による損傷の可能性を減じ、故障の危険性
を減少するものである。また、本発明はイオナイザの故
障を容易に検出できるようにする。即ち、イオナイザに
印加される電流及び電圧は制御器によって悪影響を受け
て、通常の作動している間に大幅に変化することはない
からである。また、本発明は、接地されたスクリーン及
び本体を有するDCイオナイザとして作動し、もって作
動の間及び試験の間においてイオナイザが人に対して電
気的に安全である、という点で有利である。更に、本発
明の高圧の金属板は、チャージ制御方法の性能に悪影響
を与えることなく電流を防護し又は制限するための、シ
ールド及び絶縁被覆を施すことにより、電気的に安全に
製作することができる。
にゼロに近い場合であってもウエブ上への電荷濃度の非
常の円滑な制御が提供する。本発明は、従来の装置より
も一層、ウエブ上にかかる自由電荷を制御するための有
効な手段である。これはACイオナイザを使用する場合
のようにウエブに対して変調された信号を付与するもの
ではない。更に、この方法は、イオナイザのコロナワイ
ヤ電圧を変化させることによりイオナイザのイオン出力
を変化させる方法よりも有利である。というのは、イオ
ナイザを所定の電圧又は所定の電流で駆動することによ
り、それらの作動の長さを延長することができ、これに
より狭い電圧又は電流の範囲で作動させて、もって放電
及び他の高圧による損傷の可能性を減じ、故障の危険性
を減少するものである。また、本発明はイオナイザの故
障を容易に検出できるようにする。即ち、イオナイザに
印加される電流及び電圧は制御器によって悪影響を受け
て、通常の作動している間に大幅に変化することはない
からである。また、本発明は、接地されたスクリーン及
び本体を有するDCイオナイザとして作動し、もって作
動の間及び試験の間においてイオナイザが人に対して電
気的に安全である、という点で有利である。更に、本発
明の高圧の金属板は、チャージ制御方法の性能に悪影響
を与えることなく電流を防護し又は制限するための、シ
ールド及び絶縁被覆を施すことにより、電気的に安全に
製作することができる。
【0018】なお、本発明の実施態様としては次のもの
が考えられる。 −−前記第1及び第2の定電圧DCイオナイザが電圧源
に接続されている請求項1に記載の装置。−− −−前記第1及び第2の定電流DCイオナイザが電圧源
に接続されている請求項2に記載の装置。−−
が考えられる。 −−前記第1及び第2の定電圧DCイオナイザが電圧源
に接続されている請求項1に記載の装置。−− −−前記第1及び第2の定電流DCイオナイザが電圧源
に接続されている請求項2に記載の装置。−−
【0019】以上、添付図面を参照して本発明の実施例
について詳細に説明したが、本発明は上記の実施例に限
定されるものではなく、本発明の精神ないし範囲内にお
いて種々の形態、変形、修正等が可能であることに留意
すべきである。
について詳細に説明したが、本発明は上記の実施例に限
定されるものではなく、本発明の精神ないし範囲内にお
いて種々の形態、変形、修正等が可能であることに留意
すべきである。
【図1】図1は従来の自由電荷イオナイザを示す。
【図2】図2は本発明の自由電荷イオナイザを示す。
【図3】図3は本発明の自由電荷イオナイザの細部を図
解的に示す。
解的に示す。
【図4】図4は本発明のイオナイザの前後位置における
ウエブにかかる電圧の軌跡を示す。
ウエブにかかる電圧の軌跡を示す。
12…ウエブ 18…センサ 23、25…イオナイザ 24…制御(導体)板 31…電源 32…制御器 30…DC高電圧源
Claims (3)
- 【請求項1】 移動するウエブ上の自由電荷を制御する
装置において、 1つの極を有する第1の定電圧DCイオナイザと、 前記第1のイオナイザとは反対の極を有し、且つ第1の
イオナイザに隣接して配置される第2の定電圧DCイオ
ナイザと、 前記第1及び第2のイオナイザとは反対側に設置された
導体板と、 該導体板の電圧を制御するように前記導体板に接続され
た制御可能なバイポーラ電圧源と、 ウエブを前記導体板と前記第1及び第2のイオナイザと
の間で移動させる手段と、 前記導体板及びイオナイザの下流におけるウエブ上の平
均電荷濃度を測定し、且つ出力を発生する手段と、 を具備し、前記出力に応じて前記制御可能なバイポーラ
電圧源を調整することにより、移動するウエブ上の電荷
が制御されることを特徴とする、移動するウエブの電荷
制御装置。 - 【請求項2】 移動するウエブ上の自由電荷を制御する
装置において、 1つの極を有する第1の定電流DCイオナイザと、 前記第1のイオナイザとは反対の極を有し、且つ第1の
イオナイザに隣接して配置される第2の定電流DCイオ
ナイザと、 前記第1及び第2のイオナイザとは反対側に設置された
導体板と、 該導体板の電圧を制御するように前記導体板に接続され
た制御可能なバイポーラ電圧源と、 ウエブを前記導体板と前記第1及び第2のイオナイザと
の間で移動させる手段と、 前記導体板及びイオナイザの下流におけるウエブ上の平
均電荷濃度を測定し、且つ出力を発生する手段と、 を具備し、前記出力に応じて前記制御可能なバイポーラ
電圧源を調整することにより、移動するウエブ上の電荷
が制御されることを特徴とする、移動するウエブの電荷
制御装置。 - 【請求項3】 ウエブ上の自由電荷を制御する方法にお
いて、 第1の表面と第2の表面とを有するウエブを処理領域を
通過させるように移動させ、 該ウエブの第1の表面に面する処理領域に第1の所定静
電場を設定し、 前記ウエブの第1の表面に面する処理領域における第1
の静電場とは反対の極で該第1の静電場に隣接する第2
の所定静電場を設定し、 前記ウエブの第2の表面に面する処理領域に導体板を設
け、 前記処理領域の下流の位置においてウエブ上の平均電荷
濃度を測定し、更にウエブ上で測定した平均電荷濃度に
応じて前記導体板上の電圧を制御することを特徴とす
る、ウエブの電荷制御方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US209335 | 1994-03-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0836335A true JPH0836335A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61187740A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-21 | 明治製菓株式会社 | 焼成菓子の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61187740A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-21 | 明治製菓株式会社 | 焼成菓子の製造方法 |
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