JPH0839940A - 可逆性感熱記録媒体及びその製造法 - Google Patents
可逆性感熱記録媒体及びその製造法Info
- Publication number
- JPH0839940A JPH0839940A JP6199120A JP19912094A JPH0839940A JP H0839940 A JPH0839940 A JP H0839940A JP 6199120 A JP6199120 A JP 6199120A JP 19912094 A JP19912094 A JP 19912094A JP H0839940 A JPH0839940 A JP H0839940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- layer
- polymer liquid
- recording medium
- reversible thermosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数回の印字操作によっても良好な記録及び
消去が行なえる可逆性感熱記録媒体を提供することあ
る。 【構成】 支持体上に高分子液晶材料を用いた記録層、
中間層及び保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体に
おいて、該中間層として該高分子液晶の透明化温度以
下で溶融する樹脂を用いるか、又は該中間層として該
高分子液晶の透明化温度より高温で溶融するポリアミ
ド、ポリビニルアルコール又はセルロースを用いること
を特徴とする。
消去が行なえる可逆性感熱記録媒体を提供することあ
る。 【構成】 支持体上に高分子液晶材料を用いた記録層、
中間層及び保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体に
おいて、該中間層として該高分子液晶の透明化温度以
下で溶融する樹脂を用いるか、又は該中間層として該
高分子液晶の透明化温度より高温で溶融するポリアミ
ド、ポリビニルアルコール又はセルロースを用いること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は温度による感熱体の可逆
的な透明度の変化を利用して記録及び消去が行なえ、Ｏ
ＨＰ（オーバーヘッドプロジェクター）、各種ディスプ
レイをはじめ、ＩＣ、磁気記録媒体、光メモリー等の表
示体としても有することのできる可逆性感熱記録媒体、
及びその製造法に関する。
的な透明度の変化を利用して記録及び消去が行なえ、Ｏ
ＨＰ（オーバーヘッドプロジェクター）、各種ディスプ
レイをはじめ、ＩＣ、磁気記録媒体、光メモリー等の表
示体としても有することのできる可逆性感熱記録媒体、
及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】温度により感熱記録層の透明・不透明を
利用して又は色調の変化を利用させて記録・消去を繰り
返すことは以前よりなされている。例えば特開昭６３
−１９１６７３号には高分子液晶による光熱記録層が提
案されているが、このものはレーザー光源の装置が大き
くなり勝ちで、コスト高になってしまう。また、特開平
２−１６０３２号には高分子液晶層上に保護層を設け、
これにサーマルヘッドで印字、消去することが提案され
ているが、この高分子液晶層には十分満足できるほどの
記録が得られず、消去した際にも記録残りが生じている
等の不都合が時として見受けられた。
利用して又は色調の変化を利用させて記録・消去を繰り
返すことは以前よりなされている。例えば特開昭６３
−１９１６７３号には高分子液晶による光熱記録層が提
案されているが、このものはレーザー光源の装置が大き
くなり勝ちで、コスト高になってしまう。また、特開平
２−１６０３２号には高分子液晶層上に保護層を設け、
これにサーマルヘッドで印字、消去することが提案され
ているが、この高分子液晶層には十分満足できるほどの
記録が得られず、消去した際にも記録残りが生じている
等の不都合が時として見受けられた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高分
子液晶の熱による劣化を防止するなど従来からの欠陥を
解消し、多数回の印字操作によっても良好な記録及び消
去が行なえる可逆性感熱記録媒体を提供することにあ
る。本発明の他の目的は記録・消去に何等かの付加装置
を新たに加えることなく、このため、コスト高を招くこ
とのない可逆性感熱記録媒体を提供することにある。
子液晶の熱による劣化を防止するなど従来からの欠陥を
解消し、多数回の印字操作によっても良好な記録及び消
去が行なえる可逆性感熱記録媒体を提供することにあ
る。本発明の他の目的は記録・消去に何等かの付加装置
を新たに加えることなく、このため、コスト高を招くこ
とのない可逆性感熱記録媒体を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を達成するために可逆性感熱記録材料についていろいろ
な角度から検討を重ねてきた結果、高分子液晶の透明化
温度より低い温度又は高い温度で溶融するある種の物質
を高分子液晶層（記録層）と保護層との間に設けること
によって、望ましい効果がもたらされることを見いだし
た。本発明はそれに基づいてなされたものである。
を達成するために可逆性感熱記録材料についていろいろ
な角度から検討を重ねてきた結果、高分子液晶の透明化
温度より低い温度又は高い温度で溶融するある種の物質
を高分子液晶層（記録層）と保護層との間に設けること
によって、望ましい効果がもたらされることを見いだし
た。本発明はそれに基づいてなされたものである。
【０００５】従って、本発明は支持体上に高分子液晶材
料を用いた記録層、中間層及び保護層を順次積層した可
逆性感熱記録媒体において、該中間層として（１）該高
分子液晶の透明化温度以下で溶融する樹脂を用いるか、
あるいは（２）該高分子液晶の透明化温度より高温で溶
融するポリアミド、ポリビニルアルコール又はセルロー
スを用いることを特徴とする。また、本発明の可逆性感
熱記録媒体の製造法は、保護層の形成を該高分子液晶の
透明化温度より低い温度で行なうことを特徴とする。
料を用いた記録層、中間層及び保護層を順次積層した可
逆性感熱記録媒体において、該中間層として（１）該高
分子液晶の透明化温度以下で溶融する樹脂を用いるか、
あるいは（２）該高分子液晶の透明化温度より高温で溶
融するポリアミド、ポリビニルアルコール又はセルロー
スを用いることを特徴とする。また、本発明の可逆性感
熱記録媒体の製造法は、保護層の形成を該高分子液晶の
透明化温度より低い温度で行なうことを特徴とする。
【０００６】以下に本発明をさらに詳細に説明する。本
発明で用いられている高分子液晶には、一般に、特開昭
６３−１９１６７３号、特開平１−１５９１３０号、特
開平１−１５４２９号、特開平１−１５４１２０号に記
載されているような一般に汎用のものが使用できるが、
特に等方相転移温度がガラス転移温度よりも高い高分子
ネマチック液晶を主体とするものの使用が望ましい。こ
のため、本発明における光熱記録層の材料としては、側
鎖型高液晶が最適であると考えられる。それは、側鎖メ
ソゲンの連動性がフレキシブルなアルキル鎖によって主
鎖の連動とデカップルされていることにより、電場応答
や相転移速度等の高速化が期待できるからである。
発明で用いられている高分子液晶には、一般に、特開昭
６３−１９１６７３号、特開平１−１５９１３０号、特
開平１−１５４２９号、特開平１−１５４１２０号に記
載されているような一般に汎用のものが使用できるが、
特に等方相転移温度がガラス転移温度よりも高い高分子
ネマチック液晶を主体とするものの使用が望ましい。こ
のため、本発明における光熱記録層の材料としては、側
鎖型高液晶が最適であると考えられる。それは、側鎖メ
ソゲンの連動性がフレキシブルなアルキル鎖によって主
鎖の連動とデカップルされていることにより、電場応答
や相転移速度等の高速化が期待できるからである。
【０００７】下記は、本発明において使用可能な側鎖型
高分子液晶の例であるが、これらに限定されるものでは
ない。 （ａ）シアノフェニルベンゾエートとメトキシビフェニ
ルベンゾエートとの共重合系
高分子液晶の例であるが、これらに限定されるものでは
ない。 （ａ）シアノフェニルベンゾエートとメトキシビフェニ
ルベンゾエートとの共重合系
【化１】 （ｂ）シアノビフェニル系
【化２】 （ｃ）フェニルベンゾエート・アゾメチン系
【化３】 （ｄ）アゾメチン系
【化４】
【０００８】これらの高分子液晶は、クリアリング・ポ
イントをガラス転移点よりも高い温度域にもつことが特
徴である。ここで「クリアリング・ポイント」とはクロ
ス・ボーラライザーを用いた観測において温度の上昇に
つれ液晶相形成により光学的異方性が顕著に増大し、こ
れにともなって透過光強度がピークに達した後、等方相
への移行により透過光強度が急激にゼロとなる温度と定
義される。上記高分子液晶の分子量は１０，０００〜２
００，０００の範囲であることが望ましく、これより小
さい領域では成膜性が劣り、またこれより大きい領域で
は成膜時の溶媒に対する溶解性が低いという実用上の問
題がある。
イントをガラス転移点よりも高い温度域にもつことが特
徴である。ここで「クリアリング・ポイント」とはクロ
ス・ボーラライザーを用いた観測において温度の上昇に
つれ液晶相形成により光学的異方性が顕著に増大し、こ
れにともなって透過光強度がピークに達した後、等方相
への移行により透過光強度が急激にゼロとなる温度と定
義される。上記高分子液晶の分子量は１０，０００〜２
００，０００の範囲であることが望ましく、これより小
さい領域では成膜性が劣り、またこれより大きい領域で
は成膜時の溶媒に対する溶解性が低いという実用上の問
題がある。
【０００９】例えば、上記シアノビフェニル系高分子液
晶について分子量、熱的性質および光学的性質を検討し
た一例を表１にまとめた。これらの分子量の差異は、重
合時のモノマーの初期濃度の違いにより生じたものであ
るが、いずれも同じ転移機構を示す。この中で、分子量
が２９．４×１０4のサンプルは上述の理由により実用
上不適当である。
晶について分子量、熱的性質および光学的性質を検討し
た一例を表１にまとめた。これらの分子量の差異は、重
合時のモノマーの初期濃度の違いにより生じたものであ
るが、いずれも同じ転移機構を示す。この中で、分子量
が２９．４×１０4のサンプルは上述の理由により実用
上不適当である。
【表１】
【００１０】次に記録材料の構成であるが、基本的には
ガラス、高分子材料、紙、金属等の適当な基板上に光熱
記録層（高分子液晶層）を形成したものが使用される。
これらに対し、さらに用途に応じて基板と光熱記録層と
の間に反射膜となる金属蒸着膜や着色フィルム等を設け
る。磁気層、光メモリ、ＩＣを配した基板も必要に応じ
て用いられる。
ガラス、高分子材料、紙、金属等の適当な基板上に光熱
記録層（高分子液晶層）を形成したものが使用される。
これらに対し、さらに用途に応じて基板と光熱記録層と
の間に反射膜となる金属蒸着膜や着色フィルム等を設け
る。磁気層、光メモリ、ＩＣを配した基板も必要に応じ
て用いられる。
【００１１】本発明においては、高分子液晶層上には中
間層を介して保護層が設けられる。保護層は記録層に直
接すると記録層が破壊するのを防止するのに必要なもの
である。このような保護層の材料としては特開昭６３−
１３５２８７号、特開平２−５６６号、特開平４−８５
０７７号などにみられるような熱硬化性又は光硬化性樹
脂が好ましく用いられる。
間層を介して保護層が設けられる。保護層は記録層に直
接すると記録層が破壊するのを防止するのに必要なもの
である。このような保護層の材料としては特開昭６３−
１３５２８７号、特開平２−５６６号、特開平４−８５
０７７号などにみられるような熱硬化性又は光硬化性樹
脂が好ましく用いられる。
【００１２】具体例には、熱硬化性または光硬化性樹脂
としては、熱硬化性アクリル樹脂、アクリル変性アミノ
樹脂、エポキシ変性アミノ樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、エポキシ−アクリレート系樹脂、ポリブタジエ
ンアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ポ
リエステルアクリレート樹脂等が挙げられる。
としては、熱硬化性アクリル樹脂、アクリル変性アミノ
樹脂、エポキシ変性アミノ樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、エポキシ−アクリレート系樹脂、ポリブタジエ
ンアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ポ
リエステルアクリレート樹脂等が挙げられる。
【００１３】本発明では、前述のとおり、高分子液晶層
上にこの高分子液晶の透明化温度（ここでは高分子結晶
の”等方相転温度”という）以下の溶融点をもつ樹脂、
例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニルまたはそれらの共重
合物を溶融又は水系エマルジョンで乾燥時の厚み０．５
〜１０μｍ、好ましくは０．５〜２．０μｍの中間層を
形成し、この上に保護層を形成する。溶液温度は．５〜
１０μｍのスリットから流れ出す温度である。中間層の
厚さが０．５μｍより薄いとその効果が十分発揮でき
ず、逆に１０μｍより厚いと高分子液晶層への熱が伝導
しにくい。なお、ここで保護層を形成するとき、上記透
明化温度以下で加工することにより、さらに記録層の変
動・劣化がない。
上にこの高分子液晶の透明化温度（ここでは高分子結晶
の”等方相転温度”という）以下の溶融点をもつ樹脂、
例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニルまたはそれらの共重
合物を溶融又は水系エマルジョンで乾燥時の厚み０．５
〜１０μｍ、好ましくは０．５〜２．０μｍの中間層を
形成し、この上に保護層を形成する。溶液温度は．５〜
１０μｍのスリットから流れ出す温度である。中間層の
厚さが０．５μｍより薄いとその効果が十分発揮でき
ず、逆に１０μｍより厚いと高分子液晶層への熱が伝導
しにくい。なお、ここで保護層を形成するとき、上記透
明化温度以下で加工することにより、さらに記録層の変
動・劣化がない。
【００１４】本発明では、また前述のとおり、中間層の
厚みを薄くして（０．１〜２．０μｍ好ましくは０．１
〜１．０μｍ）高感度の可逆性感熱記録媒体を得ること
ができる。この場合の中間層を形成する樹脂は、高分子
液晶の等方相転温度よりも高い融点をもち、保護層及び
記録層の形成に使用される溶媒に相溶しないでアルコー
ル、水に溶ける樹脂とくにポリアミド、ポリアルコール
ビニル、セルロースをワイヤバーなどの溶液塗工し得
る。ここでの中間層の厚さが０．１μｍより薄いと記録
層が記録・消去の際に劣化し、逆に２．０μｍより厚い
と中間層は未乾燥となり製膜できない。なお、乾燥温度
は、既述のとおり、透明化温度以下である。
厚みを薄くして（０．１〜２．０μｍ好ましくは０．１
〜１．０μｍ）高感度の可逆性感熱記録媒体を得ること
ができる。この場合の中間層を形成する樹脂は、高分子
液晶の等方相転温度よりも高い融点をもち、保護層及び
記録層の形成に使用される溶媒に相溶しないでアルコー
ル、水に溶ける樹脂とくにポリアミド、ポリアルコール
ビニル、セルロースをワイヤバーなどの溶液塗工し得
る。ここでの中間層の厚さが０．１μｍより薄いと記録
層が記録・消去の際に劣化し、逆に２．０μｍより厚い
と中間層は未乾燥となり製膜できない。なお、乾燥温度
は、既述のとおり、透明化温度以下である。
【００１５】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明をより具体的に
説明する。ここでの部は重量基準である。
説明する。ここでの部は重量基準である。
【００１６】実施例１ ポリエステルフィルム支持体に、下記構造式を有するシ
アノビフェニル系高分子液晶（分子量Ｍｗ：３．２×１
０4、Ｔｇ：４０℃、透明化温度：１２４℃）をコーテ
ィングしたものに、ポリエステル（ＰＥＳ−３３０、東
亜合成社製）を１２０℃で溶融し製膜して、約２μｍ厚
の中間層を得た。
アノビフェニル系高分子液晶（分子量Ｍｗ：３．２×１
０4、Ｔｇ：４０℃、透明化温度：１２４℃）をコーテ
ィングしたものに、ポリエステル（ＰＥＳ−３３０、東
亜合成社製）を１２０℃で溶融し製膜して、約２μｍ厚
の中間層を得た。
【化５】 この上に保護層として、 紫外線硬化樹脂（Ｃ７−１５、大日本インキ社製） １部 ＪＰＡ １部 からなる混合物をワイヤーバーコートして８０℃で１分
乾燥し、ＵＶ（８０ｗ３本 １８ｍｍ／ｓｅｃ）照射し
て、硬化させて可逆性感熱記録媒体をつくった。これを
松下電器製端面型サーマルヘッド（１１６２Ω、１５０
ｇ／ｃｍ、印加電圧２３Ｖ、パルス巾１．７ｍｓｅｃ、
８ｄｏｔ／ｍｍ）で印字し透明化して１３０℃加熱後、
１０℃／分のスピードで徐冷して消去することによって
繰り返し可能になった。結果をまとめて表２に示す。
乾燥し、ＵＶ（８０ｗ３本 １８ｍｍ／ｓｅｃ）照射し
て、硬化させて可逆性感熱記録媒体をつくった。これを
松下電器製端面型サーマルヘッド（１１６２Ω、１５０
ｇ／ｃｍ、印加電圧２３Ｖ、パルス巾１．７ｍｓｅｃ、
８ｄｏｔ／ｍｍ）で印字し透明化して１３０℃加熱後、
１０℃／分のスピードで徐冷して消去することによって
繰り返し可能になった。結果をまとめて表２に示す。
【００１７】実施例２ ポリエステルフィルム支持体に、シアノビフェニル系高
分子液晶（分子量Ｍｗ：２９4×１０4、Ｔｇ：４３℃、
透明化温度１１３０℃）でコーティングしたものに、ポ
リアミド（ＣＭ−８０００、東レ社製）ｉｎ Ｓ．Ｃ．
３０ｗｔ％メチルアルコールでワイヤーバーコートして
８０℃で１分乾燥し、厚み約１μｍの薄い中間層を得
た。この上に、実施例１の保護層を８０℃で１分乾燥
し、ＵＶ照射して硬化させた。続いて、この可逆性感熱
記録媒体を評価したところ、繰り返し可能になった。
（消去は１０５℃で徐冷）結果をまとめて表２に示す。
分子液晶（分子量Ｍｗ：２９4×１０4、Ｔｇ：４３℃、
透明化温度１１３０℃）でコーティングしたものに、ポ
リアミド（ＣＭ−８０００、東レ社製）ｉｎ Ｓ．Ｃ．
３０ｗｔ％メチルアルコールでワイヤーバーコートして
８０℃で１分乾燥し、厚み約１μｍの薄い中間層を得
た。この上に、実施例１の保護層を８０℃で１分乾燥
し、ＵＶ照射して硬化させた。続いて、この可逆性感熱
記録媒体を評価したところ、繰り返し可能になった。
（消去は１０５℃で徐冷）結果をまとめて表２に示す。
【００１８】比較例１ 実施例２の記録層に直接保護層を設けたところ、良好な
可逆性を示さなかった。
可逆性を示さなかった。
【００１９】
【表２】
【００２０】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、印字及び消去
が容易かつより確実に行なえるようになった。請求項２
の発明によれば、低エネルギーでの印字及び消去が行な
えるようになった。請求項３の発明によれば、記録層の
劣化が防止されるとともに、保護層のムラも生じない。
が容易かつより確実に行なえるようになった。請求項２
の発明によれば、低エネルギーでの印字及び消去が行な
えるようになった。請求項３の発明によれば、記録層の
劣化が防止されるとともに、保護層のムラも生じない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の可逆性感熱記録媒体の概略断面図。
１ 支持体 ２ 記録層（高分子液晶層） ３ 中間層 ４ 保護層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０９Ｆ 9/35 ３０３ 7426−5Ｈ 9/37 7426−5Ｈ (72)発明者 増渕 文人 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上に高分子液晶を用いた記録層、
中間層及び保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体に
おいて、該中間層として該高分子液晶の透明化温度以下
で溶融する樹脂を用いることを特徴とする可逆性感熱記
録媒体。 - 【請求項２】 支持体上に高分子液晶を用いた記録層、
中間層及び保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体に
おいて、該中間層として該高分子液晶の透明化温度より
高温で溶融するポリアミド、ポリビニルアルコール又は
セルロースを用いる可逆性感熱記録媒体。 - 【請求項３】 支持体上に高分子液晶を用いた記録層、
中間層及び保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体の
製造法において、該保護層の形成を該高分子液晶の透明
化温度より低い温度で行なうことを特徴とする可逆性感
熱記録媒体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6199120A JPH0839940A (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 可逆性感熱記録媒体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6199120A JPH0839940A (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 可逆性感熱記録媒体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0839940A true JPH0839940A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=16402478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6199120A Pending JPH0839940A (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 可逆性感熱記録媒体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0839940A (ja) |
-
1994
- 1994-08-01 JP JP6199120A patent/JPH0839940A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0891875A2 (en) | Reversible thermosensitive recording medium, method of producing the medium, information recording devices using the medium, and image formation and erasing method using the medium | |
| TW590907B (en) | Thermoreversible recording medium, thermoreversible recording label, thermoreversible recording member, image processing unit and method of image processing | |
| US6362130B1 (en) | Reversible thermosensitive recording medium, card, label, disk, disk cartridge, tape cassette, method of producing the recording medium, and method of recording and erasing images using the same | |
| JPH0839940A (ja) | 可逆性感熱記録媒体及びその製造法 | |
| JP3871295B2 (ja) | 熱可逆記録媒体、ラベル、カード、ディスク、ディスクカートリッジ及びテープカセットと画像処理方法 | |
| JP3080454B2 (ja) | カード型光記録媒体およびその製造方法 | |
| JP3556239B2 (ja) | 可逆性感熱記録媒体および記録方法 | |
| JP3599163B2 (ja) | 熱可逆記録媒体、カード、ラベル、ディスクカートリッジ及びディスクとその製造方法及び画像処理方法 | |
| JP3686533B2 (ja) | 可逆性感熱記録材料 | |
| JP3106765B2 (ja) | 可逆感熱記録材料 | |
| JP3635310B2 (ja) | 熱可逆記録媒体、カード、ラベル、ディスクカートリッジ及びディスクとその製造方法と画像処理方法 | |
| JP3380350B2 (ja) | 熱可逆性記録媒体 | |
| JPH07314899A (ja) | 感熱記録媒体 | |
| JP2630044B2 (ja) | 可逆性感熱記録媒体およびその製造方法 | |
| JP4180596B2 (ja) | 熱可逆記録媒体、ラベル、カード、ディスク、ディスクカートリッジ及びテープカセットと画像処理方法 | |
| JP2870246B2 (ja) | 書替え可能な感熱記録媒体 | |
| JP4267387B2 (ja) | 熱可逆記録材料、熱可逆記録ラベル、情報記憶表示部材、画像処理方法 | |
| JP2990640B2 (ja) | 可逆性表示媒体 | |
| JP2887084B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
| JP2001001644A (ja) | 可逆性感熱記録媒体および可逆性感熱記録装置 | |
| JP3371213B2 (ja) | 可逆性感熱記録表示体の画像消去方法 | |
| JP3007773B2 (ja) | 熱可逆性感熱記録材料における記録部分の消去方法 | |
| JP3016674B2 (ja) | 可逆感熱記録材料およびその記録方法 | |
| JPH0768935A (ja) | 可逆的感熱記録材料 | |
| JP2002079762A (ja) | 熱可逆記録媒体、熱可逆記録ラベル、情報記憶部を有する部材、画像処理方法及び画像処理装置 |