JPH0842562A - ベース支持アセンブリ、特に直立の物体を支持するための装置 - Google Patents
ベース支持アセンブリ、特に直立の物体を支持するための装置Info
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- JPH0842562A JPH0842562A JP7082982A JP8298295A JPH0842562A JP H0842562 A JPH0842562 A JP H0842562A JP 7082982 A JP7082982 A JP 7082982A JP 8298295 A JP8298295 A JP 8298295A JP H0842562 A JPH0842562 A JP H0842562A
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- F16M11/00—Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon ; Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
- F16M11/02—Heads
- F16M11/18—Heads with mechanism for moving the apparatus relatively to the stand
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
- B05B17/08—Fountains
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 芸術作品または記念碑等の直立の物体を浮遊
状態で回転可能に支持し、見物人があらゆる方向から見
ることを可能にする。 【構成】ベース１およびベース１上に設置された台座２
を有し、台座２は、ベース１の垂直軸の回りを浮遊状態
で回転可能で、液体膜により支持される。特に芸術作品
または記念碑等の直立の物体を支持する。
状態で回転可能に支持し、見物人があらゆる方向から見
ることを可能にする。 【構成】ベース１およびベース１上に設置された台座２
を有し、台座２は、ベース１の垂直軸の回りを浮遊状態
で回転可能で、液体膜により支持される。特に芸術作品
または記念碑等の直立の物体を支持する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はベース支持アセンブリ、
特に請求項１の前提部に特定される種類の芸術作品、会
社のロゴまたは記念碑などの直立の物体を支持するため
の装置に関する。
特に請求項１の前提部に特定される種類の芸術作品、会
社のロゴまたは記念碑などの直立の物体を支持するため
の装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】このようなベース保持アセンブリは、例
えば公園に立っている芸術作品または記念碑に関して特
に周知であり、実際に物体を載せる台座は、多くの場
合、ゆったりとした大きさのベースに固定され、物体が
人目に付く適当な高さとなるようにされる。
えば公園に立っている芸術作品または記念碑に関して特
に周知であり、実際に物体を載せる台座は、多くの場
合、ゆったりとした大きさのベースに固定され、物体が
人目に付く適当な高さとなるようにされる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のベース保持アセンブリには欠点がある。それらは『不
動』であるためその上に置かれている物体は、通行人の
注目を引くのに適さない。
のベース保持アセンブリには欠点がある。それらは『不
動』であるためその上に置かれている物体は、通行人の
注目を引くのに適さない。
【０００４】一方、多くの注目を得ている芸術作品では
見物者が群がっている場合、その物体にあらゆる方向か
ら近づくのは困難であるため、それをあらゆる方向から
見るのは通常、大変困難である。
見物者が群がっている場合、その物体にあらゆる方向か
ら近づくのは困難であるため、それをあらゆる方向から
見るのは通常、大変困難である。
【０００５】本発明の目的は、ベース支持アセンブリ、
特に直立の物体を支持するための装置を提供することで
ある。それにより、前述の欠点を克服し、特に、その物
体に注意を向けさせ、物体へ近づくことが困難な場合に
もあらゆる方向からそれを眺めることを可能にすること
である。
特に直立の物体を支持するための装置を提供することで
ある。それにより、前述の欠点を克服し、特に、その物
体に注意を向けさせ、物体へ近づくことが困難な場合に
もあらゆる方向からそれを眺めることを可能にすること
である。
【０００６】この目的は、請求項１の特徴部により構成
されたベース支持アセンブリにより実現される。
されたベース支持アセンブリにより実現される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ａ）ベースお
よびｂ）該ベース上に設置された台座を有する、ベース
支持アセンブリ、特に芸術作品または記念碑等の直立の
物体を支持するための装置であって、ｃ）該台座が、該
ベースの垂直軸の回りを浮遊状態で回転可能な該台座に
作用する垂直および水平の力を同程度に受ける液体膜に
より支持されていることを特徴とし、これにより上記問
題が解決される。
よびｂ）該ベース上に設置された台座を有する、ベース
支持アセンブリ、特に芸術作品または記念碑等の直立の
物体を支持するための装置であって、ｃ）該台座が、該
ベースの垂直軸の回りを浮遊状態で回転可能な該台座に
作用する垂直および水平の力を同程度に受ける液体膜に
より支持されていることを特徴とし、これにより上記問
題が解決される。
【０００８】好ましくは、前記ベースが、前記台座の下
側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状態で受
容するために上向きに開口した凹部を有しており、該凹
部には、該凹部と該センタリング突出部との間の隙間内
の加圧液体の少なくとも１回の供給が与えられる。
側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状態で受
容するために上向きに開口した凹部を有しており、該凹
部には、該凹部と該センタリング突出部との間の隙間内
の加圧液体の少なくとも１回の供給が与えられる。
【０００９】好ましくは、前記台座が、前記ベースの上
側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状態で受
容するために、下向きに開口した凹部を有しており、該
凹部は、該凹部と該センタリング突出部との間の隙間内
の加圧液体の少なくとも１回の供給が与えられる。
側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状態で受
容するために、下向きに開口した凹部を有しており、該
凹部は、該凹部と該センタリング突出部との間の隙間内
の加圧液体の少なくとも１回の供給が与えられる。
【００１０】さらに好ましくは、液体膜のない場合に
は、互いに接触した、前記ベースおよび前記台座の表面
が平坦に研磨されている。
は、互いに接触した、前記ベースおよび前記台座の表面
が平坦に研磨されている。
【００１１】好ましくは、前記センタリング突出部およ
び前記凹部がそれぞれ前記ベースおよび前記台座上の中
央に配置されている。
び前記凹部がそれぞれ前記ベースおよび前記台座上の中
央に配置されている。
【００１２】好ましくは、前記台座が円形ディスクの形
状に構成されている。
状に構成されている。
【００１３】好ましくは、少なくとも部分的に球状の円
屋根形状のボディーが、センタリング突出部として備え
られ、少なくとも部分的に球形の円屋根型に形成された
凹部が、他方を実質的に密着させて受容するように備え
られている。
屋根形状のボディーが、センタリング突出部として備え
られ、少なくとも部分的に球形の円屋根型に形成された
凹部が、他方を実質的に密着させて受容するように備え
られている。
【００１４】好ましくは、少なくとも部分的に円筒形状
のボディーがセンタリング突出部として備えられ、少な
くとも部分的に円筒形状に形成された凹部が、他方を実
質的に密着させて受容するように備えられている。
のボディーがセンタリング突出部として備えられ、少な
くとも部分的に円筒形状に形成された凹部が、他方を実
質的に密着させて受容するように備えられている。
【００１５】好ましくは、前記液体供給部が前記ベース
と整合した前記台座の回転軸を中心にして設置される。
と整合した前記台座の回転軸を中心にして設置される。
【００１６】好ましくは、前記ベースから噴射する液体
が、前記台座の下表面にある角度で衝突するように、前
記液体供給部が該ベースに配置される。
が、前記台座の下表面にある角度で衝突するように、前
記液体供給部が該ベースに配置される。
【００１７】好ましくは、前記液体供給部からの噴射
は、少なくとも部分的にその円筒状の表面上に対称的に
前記円筒状センタリング突出部を中心に置くようにされ
ている。
は、少なくとも部分的にその円筒状の表面上に対称的に
前記円筒状センタリング突出部を中心に置くようにされ
ている。
【００１８】好ましくは、前記液体供給部が前記ベース
内に少なくとも１つの穴を有する。好ましくは、前記液
体供給部が前記ベース内に少なくとも１つの管を有す
る。好ましくは、少なくとも２つのノズルが、前記管ま
たは穴の上端に備えられ、該ノズルからの液体噴射は互
いに対してある角度で方向づけられ、また、該２つのノ
ズルの各々が、前記台座の１つの表面に対してある角度
で方向づけられている。
内に少なくとも１つの穴を有する。好ましくは、前記液
体供給部が前記ベース内に少なくとも１つの管を有す
る。好ましくは、少なくとも２つのノズルが、前記管ま
たは穴の上端に備えられ、該ノズルからの液体噴射は互
いに対してある角度で方向づけられ、また、該２つのノ
ズルの各々が、前記台座の１つの表面に対してある角度
で方向づけられている。
【００１９】好ましくは、前記各ノズルが交互に開閉で
きるように、該ノズルの液体供給部が遮断バルブを備
え、該遮断バルブは共通スイッチングアセンブリを通じ
て制御可能である。
きるように、該ノズルの液体供給部が遮断バルブを備
え、該遮断バルブは共通スイッチングアセンブリを通じ
て制御可能である。
【００２０】好ましくは、少なくとも１つの管または穴
の上端に断続的に回転可能なノズルを配備され。
の上端に断続的に回転可能なノズルを配備され。
【００２１】好ましくは、前記台座が、上領域に支持さ
れる物体を固定する手段を備えている。
れる物体を固定する手段を備えている。
【００２２】好ましくは、前記台座が、通り穴を通って
該台座の下側から液体が噴射するその上側にアクセスで
きる少なくとも１つの通り穴を備えている。
該台座の下側から液体が噴射するその上側にアクセスで
きる少なくとも１つの通り穴を備えている。
【００２３】好ましくは、噴射する液体からの力の方向
が前記台座の回転軸を通らないように、通り穴の開口部
が該台座の上側に配置され、その結果、その回転軸回り
のモーメントが得られる。
が前記台座の回転軸を通らないように、通り穴の開口部
が該台座の上側に配置され、その結果、その回転軸回り
のモーメントが得られる。
【００２４】
【作用】本発明によるアセンブリの利点は特に、垂直軸
を中心に回転するように据えつけられ且つ液体の膜上に
浮遊する台座とベース板との間の摩擦が極めて低いこと
である。このため、例えば物体を支持している台座は、
僅かな力が加えられても、例えば見物者が軽く押して
も、または液体供給の方向にいかなる不規則性が発生し
ても、垂直軸を中心に回転を開始するようにされてい
る。芸術作品および同様の物体に、このような変わった
『動く』効果を与えると、通行人の注目は展示中のその
物体に向けられる。もしもその物体が『不動』のベース
支持アセンブリを有していたならば、それは気付かれぬ
ままであったこともあり得る。
を中心に回転するように据えつけられ且つ液体の膜上に
浮遊する台座とベース板との間の摩擦が極めて低いこと
である。このため、例えば物体を支持している台座は、
僅かな力が加えられても、例えば見物者が軽く押して
も、または液体供給の方向にいかなる不規則性が発生し
ても、垂直軸を中心に回転を開始するようにされてい
る。芸術作品および同様の物体に、このような変わった
『動く』効果を与えると、通行人の注目は展示中のその
物体に向けられる。もしもその物体が『不動』のベース
支持アセンブリを有していたならば、それは気付かれぬ
ままであったこともあり得る。
【００２５】また、見物者の群またはその他の状況によ
り物体にアクセスできない状況において、物体が回転す
るようにされているだけで、すべての見物者が物体のあ
らゆる面を、自分の位置を変えずにある一カ所から見れ
るのも利点である。
り物体にアクセスできない状況において、物体が回転す
るようにされているだけで、すべての見物者が物体のあ
らゆる面を、自分の位置を変えずにある一カ所から見れ
るのも利点である。
【００２６】本発明による本ベース支持アセンブリの好
適な実施態様は従属請求項に記されている。
適な実施態様は従属請求項に記されている。
【００２７】上記ベースが凹型上向き開口部を有し、台
座の下側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状
態で受容するように、本発明による前記アセンブリを構
成することが可能である。その凹部には、凹部とセンタ
ーリング突出部との間の隙間に、加圧液体の少なくとも
１回の供給が与えられる。
座の下側から突き出ているセンタリング突出部を浮遊状
態で受容するように、本発明による前記アセンブリを構
成することが可能である。その凹部には、凹部とセンタ
ーリング突出部との間の隙間に、加圧液体の少なくとも
１回の供給が与えられる。
【００２８】さらに、台座が凹型下向き開口部を有し、
ベースの上部から突き出ているセンタリング突出部を浮
遊状態で受容するように、ベース支持アセンブリを構成
することも可能であり、そのベースには、その凹部とセ
ンターリング突出部との間の隙間に、加圧液体の少なく
とも１回の供給が与えられる。
ベースの上部から突き出ているセンタリング突出部を浮
遊状態で受容するように、ベース支持アセンブリを構成
することも可能であり、そのベースには、その凹部とセ
ンターリング突出部との間の隙間に、加圧液体の少なく
とも１回の供給が与えられる。
【００２９】上記２つの場合において、台座をベース上
で適切に確実にセンタリングし得る（中央に置くことが
できる）。凹部を通る液体の供給は、センターリング突
出部と凹部との間の好ましくない摩擦作用を防止する。
で適切に確実にセンタリングし得る（中央に置くことが
できる）。凹部を通る液体の供給は、センターリング突
出部と凹部との間の好ましくない摩擦作用を防止する。
【００３０】好ましくは、液体膜がない場合には互いに
接触するであろうベースおよび台座の表面は、平坦に研
磨され、液体膜によりふさがれる隙間が、これらの表面
全体にわたって形成され保持され得る。
接触するであろうベースおよび台座の表面は、平坦に研
磨され、液体膜によりふさがれる隙間が、これらの表面
全体にわたって形成され保持され得る。
【００３１】本発明によるアセンブリの１つの局面で
は、センタリング突出部および凹部がそれぞれ台座およ
びベースの中心に配置されている。それにより、物体を
据え付ける際、物体の重力の中心もまた前記台座上の中
心に置かれ、力が非常に均等にいきわたった液体膜上で
得られ、前述の重力の中心位置が中心から外れていて
も、液体膜を過度に弱めるモーメントは働かない。
は、センタリング突出部および凹部がそれぞれ台座およ
びベースの中心に配置されている。それにより、物体を
据え付ける際、物体の重力の中心もまた前記台座上の中
心に置かれ、力が非常に均等にいきわたった液体膜上で
得られ、前述の重力の中心位置が中心から外れていて
も、液体膜を過度に弱めるモーメントは働かない。
【００３２】台座の円形構成は、その回転運動における
不均衡の回避に貢献し得る。
不均衡の回避に貢献し得る。
【００３３】ある好適な実施態様においては、少なくと
も部分的に球状の円屋根（縁なし帽子）形状のボディー
が、センタリング突出部として配備され、少なくとも部
分的に球形の円屋根形状の凹部が、他方を実質的に密着
させて受容するように配備される。それにより、前記２
つの球状の円形屋根形状の構成要素間の隙間は、好適な
流体力学特性により、非常に一貫性のある液体膜により
満たされ得、これにより、好ましい側面のセンタリング
が実現される。
も部分的に球状の円屋根（縁なし帽子）形状のボディー
が、センタリング突出部として配備され、少なくとも部
分的に球形の円屋根形状の凹部が、他方を実質的に密着
させて受容するように配備される。それにより、前記２
つの球状の円形屋根形状の構成要素間の隙間は、好適な
流体力学特性により、非常に一貫性のある液体膜により
満たされ得、これにより、好ましい側面のセンタリング
が実現される。
【００３４】他の実施態様によれば、少なくとも部分的
に円筒形状のボディーはセンタリング突出部として配備
され、少なくとも部分的に円筒形状に形成された凹部
は、他方を実質的に密着させて受容するように配備され
る。
に円筒形状のボディーはセンタリング突出部として配備
され、少なくとも部分的に円筒形状に形成された凹部
は、他方を実質的に密着させて受容するように配備され
る。
【００３５】凹部またはセンタリング突出部のこのよう
な設計は、製造が簡単でコスト効率を向上させ、台座の
最適なセンタリングを可能にする。
な設計は、製造が簡単でコスト効率を向上させ、台座の
最適なセンタリングを可能にする。
【００３６】本発明のベース支持アセンブリの他の一面
によると、液体供給部は凹部と整合して台座の回転軸を
中心にして設置される。このアセンブリにより、センタ
リング突出部は一貫して凹部内の流れに囲まれ、たとえ
台座が中心から大幅に外れていても、液体膜の著しい圧
縮は起こらない。
によると、液体供給部は凹部と整合して台座の回転軸を
中心にして設置される。このアセンブリにより、センタ
リング突出部は一貫して凹部内の流れに囲まれ、たとえ
台座が中心から大幅に外れていても、液体膜の著しい圧
縮は起こらない。
【００３７】好ましい実施態様において、本発明のアセ
ンブリは、凹部から噴射される液体の噴射が、台座のセ
ンタリング突出部の下表面に、ある角度で衝突するよう
な方法で、液体が凹部に供給されるように構成されてい
る。
ンブリは、凹部から噴射される液体の噴射が、台座のセ
ンタリング突出部の下表面に、ある角度で衝突するよう
な方法で、液体が凹部に供給されるように構成されてい
る。
【００３８】このように、台座はその摩擦が低いために
ベースに対して容易に移動できるので、例えば単にある
角度を有する液体供給部アセンブリを設置することによ
り、台座と共に支持される物体の回転が常に円滑になる
ことが確実となり得る。
ベースに対して容易に移動できるので、例えば単にある
角度を有する液体供給部アセンブリを設置することによ
り、台座と共に支持される物体の回転が常に円滑になる
ことが確実となり得る。
【００３９】さらに、円筒状センタリング突出部または
円筒状凹部を有する実施態様の一面において、液体の供
給部からの噴射は、少なくとも部分的にその円筒状の表
面上に対称的に円筒状センタリング突出部を中心に置く
ようにされている。
円筒状凹部を有する実施態様の一面において、液体の供
給部からの噴射は、少なくとも部分的にその円筒状の表
面上に対称的に円筒状センタリング突出部を中心に置く
ようにされている。
【００４０】このアセンブリにおいては、強い側面力
（面圧）の存在下においても、凹部とセンタリング突出
部との円筒状の表面間の接触を避け得る。
（面圧）の存在下においても、凹部とセンタリング突出
部との円筒状の表面間の接触を避け得る。
【００４１】液体供給部は、コスト効率性を向上させ、
そのような供給部を簡素に製造し得る、少なくとも１つ
の穴をベース内に有すると有利である。
そのような供給部を簡素に製造し得る、少なくとも１つ
の穴をベース内に有すると有利である。
【００４２】一方、ベース内に少なくとも１つの管を備
えることにより液体供給部を形成すると、欠損配管を単
に置換する等の供給部の維持面で利点がある。
えることにより液体供給部を形成すると、欠損配管を単
に置換する等の供給部の維持面で利点がある。
【００４３】さらに好適な局面によると、本発明による
ベース支持アセンブリは、少なくとも２つのノズルが管
または穴の上端に備えられ、ノズルからの液体噴射は互
いに対してある角度で方向づけられ、ノズルの各々がセ
ンタリング突出部または凹部の１つの表面に対してある
角度に向けられることを特徴とし、また、各ノズルの液
体供給部に遮断バルブを備え、および交互に開閉できる
ように共通スイッチングアセンブリによる遮断バルブを
制御し得ることを特徴としている。
ベース支持アセンブリは、少なくとも２つのノズルが管
または穴の上端に備えられ、ノズルからの液体噴射は互
いに対してある角度で方向づけられ、ノズルの各々がセ
ンタリング突出部または凹部の１つの表面に対してある
角度に向けられることを特徴とし、また、各ノズルの液
体供給部に遮断バルブを備え、および交互に開閉できる
ように共通スイッチングアセンブリによる遮断バルブを
制御し得ることを特徴としている。
【００４４】上述の実施可能な局面により、台座は台座
により支持される物体と共に、制御により異なる方向に
回転するアセンブリが実現され得る。
により支持される物体と共に、制御により異なる方向に
回転するアセンブリが実現され得る。
【００４５】これはまた、液体供給部の管または穴の上
端に断続的に回転可能なノズルを配備することによって
実現され得、これにより、同時に、多数の穴を設けるこ
とによるベースの弱体化を防止し得る。
端に断続的に回転可能なノズルを配備することによって
実現され得、これにより、同時に、多数の穴を設けるこ
とによるベースの弱体化を防止し得る。
【００４６】本発明によるアセンブリの台座は、好まし
くは支持される物体を固定する手段を備える。
くは支持される物体を固定する手段を備える。
【００４７】凹部内の穴または管を貫通する液体の供給
部は、好ましくは、圧力下でタンクから液体を管または
穴、従って凹部に汲み上げるポンプにより形成される。
部は、好ましくは、圧力下でタンクから液体を管または
穴、従って凹部に汲み上げるポンプにより形成される。
【００４８】ベース支持アセンブリにおいて、液体が台
座の下側から液体が噴出する上側に供給できる少なくと
も１つの通り穴を、台座に備えることは有利である。従
って、殆どの場合、水が液体として使用されるので、そ
のアセンブリは、泉として用いられ、設計上の複雑さを
殆ど伴わずに容易に実現される。
座の下側から液体が噴出する上側に供給できる少なくと
も１つの通り穴を、台座に備えることは有利である。従
って、殆どの場合、水が液体として使用されるので、そ
のアセンブリは、泉として用いられ、設計上の複雑さを
殆ど伴わずに容易に実現される。
【００４９】さらに、この利用法でのアセンブリは、噴
出する液体から得られる力の方向が台座の回転軸を通ら
ないように、通り穴の開口部は台座の上側に配置される
ような方法で構成され得、その結果、その回転軸回りの
モーメントが得られる。このように台座は、回転を起こ
すのに必要な他の設計手段が無くても連続回転装置を備
えている。
出する液体から得られる力の方向が台座の回転軸を通ら
ないように、通り穴の開口部は台座の上側に配置される
ような方法で構成され得、その結果、その回転軸回りの
モーメントが得られる。このように台座は、回転を起こ
すのに必要な他の設計手段が無くても連続回転装置を備
えている。
【００５０】
【実施例】図１および図２に示すように、平面図及び中
央断面図は、本発明によるベース支持アセンブリーのベ
ース１およびベース台座２のアセンブリを示している。
央断面図は、本発明によるベース支持アセンブリーのベ
ース１およびベース台座２のアセンブリを示している。
【００５１】中央断面図（図２）の上部分から、台座
が、平坦に研磨したベース１の上（側）表面上に平坦に
研磨した台底の下（側）の表面により設置されているの
は明らかである。本実施態様において球状の円屋根形状
の構成を有するセンタリング突出部３は、台座２の中央
に位置し、その下側に形成されている。このセンタリン
グ突出部３は、上部領域が同様に球状の円屋根形状にさ
れセンタリング突出部３に正確に適合するようにされた
ベース１の上側にある凹部に受容される。一方、下部領
域では、円筒状のスペースが、供給される液体を受容す
るために形成されている。
が、平坦に研磨したベース１の上（側）表面上に平坦に
研磨した台底の下（側）の表面により設置されているの
は明らかである。本実施態様において球状の円屋根形状
の構成を有するセンタリング突出部３は、台座２の中央
に位置し、その下側に形成されている。このセンタリン
グ突出部３は、上部領域が同様に球状の円屋根形状にさ
れセンタリング突出部３に正確に適合するようにされた
ベース１の上側にある凹部に受容される。一方、下部領
域では、円筒状のスペースが、供給される液体を受容す
るために形成されている。
【００５２】ここでは穴に挿入される断面積を減らす管
として示されている液体供給部５が、凹部４のこのスペ
ースで合流しベース１の下側から延びている。
として示されている液体供給部５が、凹部４のこのスペ
ースで合流しベース１の下側から延びている。
【００５３】この液体供給部はポンプＰを通って液体
用、好ましくは水用のタンクＲに接続され得る。
用、好ましくは水用のタンクＲに接続され得る。
【００５４】ポンプＰを始動させると、液体は圧力によ
りタンクＲから液体供給部５を通って凹部４の空のスペ
ースへと汲み出され、遂に台座２上に立っている物体
（図示せず）と共に台座２を持ち上げるのに充分な圧力
が凹部４に蓄積される。すると液体は、互いに向き合っ
ている球状の円屋根形状のボディー間、ならびにベース
１と台座２との表面間に形成された隙間を通って流れ
得、それにより液体の薄膜が形成される。
りタンクＲから液体供給部５を通って凹部４の空のスペ
ースへと汲み出され、遂に台座２上に立っている物体
（図示せず）と共に台座２を持ち上げるのに充分な圧力
が凹部４に蓄積される。すると液体は、互いに向き合っ
ている球状の円屋根形状のボディー間、ならびにベース
１と台座２との表面間に形成された隙間を通って流れ
得、それにより液体の薄膜が形成される。
【００５５】ポンプＰにより維持、規制される特定の圧
力により、均等していきわたった液体の膜が凹部４とセ
ンタリング突出部３との表面間、また、ベースと台座２
との表面間のいかなる部分においても、確実に維持され
る。つまり、台座が、摩擦のない状態でベースにより実
際に支持される安定した状態となる。
力により、均等していきわたった液体の膜が凹部４とセ
ンタリング突出部３との表面間、また、ベースと台座２
との表面間のいかなる部分においても、確実に維持され
る。つまり、台座が、摩擦のない状態でベースにより実
際に支持される安定した状態となる。
【００５６】図示するように、底から垂直方向の流入で
は、台座２の回転運動は起こらない。しかし、例えば、
複数のノズルからの流入をある角度に方向づけることで
回転運動は生成され得、これにより、台座２を回転させ
るために台座２を手動で押すことはもはや必要ない。
は、台座２の回転運動は起こらない。しかし、例えば、
複数のノズルからの流入をある角度に方向づけることで
回転運動は生成され得、これにより、台座２を回転させ
るために台座２を手動で押すことはもはや必要ない。
【００５７】
【発明の効果】このように本発明によれば、物体を支持
している台座は僅かな力が加えられても、例えば見物者
が軽く押しても、または液体供給の方向にいかなる不規
則性が発生しても、垂直軸を中心に回転を開始するよう
にされているので、その物体に注意を向けさせ、物体へ
近づくことが困難な場合にもあらゆる方向からそれを眺
めることを可能にする。
している台座は僅かな力が加えられても、例えば見物者
が軽く押しても、または液体供給の方向にいかなる不規
則性が発生しても、垂直軸を中心に回転を開始するよう
にされているので、その物体に注意を向けさせ、物体へ
近づくことが困難な場合にもあらゆる方向からそれを眺
めることを可能にする。
【図１】本発明のベース支持アセンブリの平面図であ
る。
る。
【図２】本発明のベース支持アセンブリの中央断面図で
ある。
ある。
１ ベース ２ 台座 ３ センタリング突出部 ４ 凹部 ５ 液体供給部
Claims (19)
- 【請求項１】 ａ）ベース（１）および ｂ）該ベース（１）上に設置された台座（２）を有す
る、ベース支持アセンブリ、特に芸術作品または記念碑
等の直立の物体を支持するための装置であって、 ｃ）該台座（２）が、該ベース（１）の垂直軸の回りを
浮遊状態で回転可能な該台座（２）に作用する垂直およ
び水平の力を同程度に受ける液体膜により支持されてい
ることを特徴とするベース支持アセンブリ。 - 【請求項２】 前記ベース（１）が、前記台座（２）の
下側から突き出ているセンタリング突出部（３）を浮遊
状態で受容するために上向きに開口した凹部（４）を有
しており、該凹部（４）には、該凹部（４）と該センタ
リング突出部２との間の隙間内の加圧液体（５）の少な
くとも１回の供給が与えられることを特徴とする、請求
項１記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項３】 前記台座が、前記ベースの上側から突き
出ているセンタリング突出部（３）を浮遊状態で受容す
るために、下向きに開口した凹部を有しており、該凹部
は、該凹部と該センタリング突出部との間の隙間内の加
圧液体の少なくとも１回の供給が与えられることを特徴
とする、請求項１記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項４】 液体膜のない場合には、互いに接触し
た、前記ベース（１）および前記台座（２）の表面が平
坦に研磨されていることを特徴とする、請求項１〜３の
いずれかに記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項５】 前記センタリング突出部（３）および前
記凹部（４）がそれぞれ前記ベース（１）および前記台
座（２）上の中央に配置されていることを特徴とする、
請求項１〜４のいずれかに記載のベース支持アセンブ
リ。 - 【請求項６】 前記台座（２）が円形ディスクの形状に
構成されていることを特徴とする、請求項１〜５のいず
れかに記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項７】 少なくとも部分的に球状の円屋根形状の
ボディーが、センタリング突出部（３）として備えら
れ、少なくとも部分的に球形の円屋根型に形成された凹
部（４）が、他方を実質的に密着させて受容するように
備えられていることを特徴とする、請求項１〜６のいず
れかに記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項８】 少なくとも部分的に円筒形状のボディー
がセンタリング突出部として備えられ、少なくとも部分
的に円筒形状に形成された凹部が、他方を実質的に密着
させて受容するように備えられていることを特徴とす
る、請求項１〜６のいずれかに記載のベース支持アセン
ブリ。 - 【請求項９】 前記液体供給部５が前記ベース（１）と
整合した前記台座（２）の回転軸を中心にして設置され
ることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の
ベース支持アセンブリ。 - 【請求項１０】 前記ベース（１）から噴射する液体
が、前記台座（２）の下表面にある角度で衝突するよう
に、前記液体供給部５が該ベースに配置されることを特
徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載のベース支持
アセンブリ。 - 【請求項１１】 前記液体供給部５からの噴射は、少な
くとも部分的にその円筒状の表面上に対称的に前記円筒
状センタリング突出部（３）を中心に置くようにされて
いることを特徴とする、請求項８〜10のいずれかに記載
のベース支持アセンブリ。 - 【請求項１２】 前記液体供給部５が前記ベース（１）
内に少なくとも１つの穴を有することを特徴とする、請
求項１〜11のいずれかに記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項１３】 前記液体供給部５が前記ベース（１）
内に少なくとも１つの管を有することを特徴とする、請
求項１〜11のいずれかに記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項１４】 少なくとも２つのノズルが、前記管ま
たは穴の上端に備えられ、該ノズルからの液体噴射は互
いに対してある角度で方向づけられ、また、該２つのノ
ズルの各々が、前記台座（２）の１つの表面に対してあ
る角度で方向づけられていることを特徴とする、請求項
12または13に記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項１５】 前記各ノズルが交互に開閉できるよう
に、該ノズルの液体供給部５が遮断バルブを備え、該遮
断バルブは共通スイッチングアセンブリを通じて制御可
能であることを特徴とする、請求項14に記載のベース支
持アセンブリ。 - 【請求項１６】 少なくとも１つの管または穴の上端に
断続的に回転可能なノズルを配備したことを特徴とす
る、請求項11または12に記載のベース支持アセンブリ。 - 【請求項１７】 前記台座（２）が、上領域に支持され
る物体を固定する手段を備えていることを特徴とする、
請求項１〜16のいずれかに記載のベース支持アセンブ
リ。 - 【請求項１８】 前記台座（２）が、通り穴を通って該
台座の下側から液体が噴射するその上側にアクセスでき
る少なくとも１つの通り穴を備えていることを特徴とす
る、請求項１〜17のいずれかに記載のベース支持アセン
ブリ。 - 【請求項１９】 噴射する液体からの力の方向が前記台
座の回転軸を通らないように、通り穴の開口部が該台座
（２）の上側に配置され、その結果、その回転軸回りの
モーメントが得られることを特徴とする、請求項17に記
載のベース支持アセンブリ。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4412178.4 | 1994-04-08 | ||
| DE4412178A DE4412178C2 (de) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Plattenlageranordnung, insbesondere Vorrichtung zum Tragen eines aufrecht stehenden Objekts |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0842562A true JPH0842562A (ja) | 1996-02-13 |
| JP3048880B2 JP3048880B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=6514950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7082982A Expired - Fee Related JP3048880B2 (ja) | 1994-04-08 | 1995-04-07 | ベース支持アセンブリ、特に直立の物体を支持するための装置 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6065731A (ja) |
| EP (1) | EP0676581B1 (ja) |
| JP (1) | JP3048880B2 (ja) |
| CN (1) | CN1049480C (ja) |
| AT (1) | ATE146865T1 (ja) |
| CA (1) | CA2142506C (ja) |
| CZ (1) | CZ285897B6 (ja) |
| DE (1) | DE4412178C2 (ja) |
| ES (1) | ES2097062T3 (ja) |
| FI (1) | FI951574L (ja) |
| NO (1) | NO310667B1 (ja) |
| PL (1) | PL175726B1 (ja) |
| SK (1) | SK280093B6 (ja) |
| TW (1) | TW262552B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016010738A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 株式会社島津製作所 | 回転駆動機構及びその回転駆動機構を利用した振とう装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104955736B (zh) * | 2013-11-26 | 2017-12-01 | 雀巢产品技术援助有限公司 | 用于消费品包装的适配器及其使用方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06155999A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-03 | Masaaki Yashiro | 回転ディスプレイ装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE764876C (de) * | 1936-10-23 | 1953-05-18 | Siemens App | Vorrichtung zur reibungsarmen Lagerung von Praezisionsinstrumenten |
| US2695199A (en) * | 1947-10-27 | 1954-11-23 | Sperry Corp | Bearing |
| DE1232407B (de) * | 1958-11-25 | 1967-01-12 | Bertin & Cie | Vorrichtung zum gegenseitigen Abstuetzen zweier Teile |
| US3322473A (en) * | 1964-11-12 | 1967-05-30 | Philco Ford Corp | Hydrostatic bearing unit for antenna structure |
| CH469203A (de) * | 1967-08-10 | 1969-02-28 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Luftlager |
| US3822652A (en) * | 1972-12-07 | 1974-07-09 | Rolair Syst Inc | Rotary air cushion transporter |
| FR2404163A1 (fr) * | 1977-09-23 | 1979-04-20 | Granits Rene Haxaire Sarl | Support tournant pour objets lourds |
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| DE3802561A1 (de) * | 1988-01-28 | 1989-08-10 | Josef Kusser | Vorrichtung zur lagerung einer schwimmenden kugel |
| DE9110780U1 (de) * | 1991-08-30 | 1991-11-28 | Agrar-Programm Dietrich Felke Chemische und technische Produkte für die Landwirtschaft, 8547 Greding | Dekorativer Kugel-Brunnen |
| JP2974535B2 (ja) * | 1993-03-11 | 1999-11-10 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
| DE9319273U1 (de) * | 1993-12-15 | 1994-06-16 | Müller, Paul, 90402 Nürnberg | Brunnen mit Wasserfontäne |
-
1994
- 1994-04-08 DE DE4412178A patent/DE4412178C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-08 US US08/385,356 patent/US6065731A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-09 TW TW084101140A patent/TW262552B/zh active
- 1995-02-14 CA CA002142506A patent/CA2142506C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-06 EP EP95103185A patent/EP0676581B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-06 ES ES95103185T patent/ES2097062T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-06 AT AT95103185T patent/ATE146865T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-04-03 FI FI951574A patent/FI951574L/fi not_active Application Discontinuation
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- 1995-04-04 PL PL95307991A patent/PL175726B1/pl not_active IP Right Cessation
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- 1995-04-07 NO NO19951368A patent/NO310667B1/no unknown
- 1995-04-07 SK SK464-95A patent/SK280093B6/sk not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
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| SK46495A3 (en) | 1995-10-11 |
| SK280093B6 (sk) | 1999-08-06 |
| NO951368L (no) | 1995-10-09 |
| JP3048880B2 (ja) | 2000-06-05 |
| ATE146865T1 (de) | 1997-01-15 |
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