JPH0843016A - 顕微鏡装置 - Google Patents
顕微鏡装置Info
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- JPH0843016A JPH0843016A JP17892894A JP17892894A JPH0843016A JP H0843016 A JPH0843016 A JP H0843016A JP 17892894 A JP17892894 A JP 17892894A JP 17892894 A JP17892894 A JP 17892894A JP H0843016 A JPH0843016 A JP H0843016A
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Abstract
況下においても、安定した合焦点の判定を行うことがで
きる焦点検出装置を備えた顕微鏡装置を提供すること。 【構成】 本発明による顕微鏡装置は、被検体を拡大観
察する顕微鏡装置において、観察光学系51と、観察光
学系51に比べて大きな倍率を有する焦点光学系52
と、焦点光学系52を介して前記被検体にプローブ光を
照射するレーザ出射手段(光源)20と、焦点光学系5
2を介して前記被検体からの反射光の光量に対応した信
号を出力する光検出手段30,32と、光検出手段3
0,32からの信号に基づき前記被検体の位置を判断す
るための信号を出力する信号処理系33と、を備えてい
る。
Description
行う焦点検出装置を備えた顕微鏡装置に関する。
面に照射し、その被測定面からの反射光に基づいて、被
検体に対し焦点検出を行う焦点検出装置が従来から知ら
れている。この種の焦点検出装置としては、幾つかの構
成が知られているが、これらのうち代表的な二種につい
て以下に説明する。
図である。この図に示すように、まず半導体レーザ1か
ら出射されたレーザビームは、偏光ビームスプリッタ2
に入射する。偏光ビームスプリッタ2で反射された光
は、1/4波長板3を介して半導体レーザ1の発振波長
に合わせた特定波長域の光のみを反射するダイクロイッ
クミラー4によって反射される。この反射光は、結像レ
ンズ5で平行光束に変換され、対物レンズ6を介して被
測定面7に集光される。そして、この被測定面7で反射
された反射光は、再度、対物レンズ6,結像レンズ5,
ダイクロイックミラー4及び1/4波長板3を介して偏
光ビームスプリッタ2に入射する。このとき、前記入射
光は、1/4波長板3を透過した際、その偏光の方向が
90度ずらされる。従って、この入射光は、偏光ビーム
スプリッタ2を透過することが可能になり、更にビーム
スプリッタ8によって二方向に振り分けられる。そし
て、この一方の光線は、結像レンズ5の焦点位置Pの位
置より前に配置された第一の絞り9を介して第一の受光
素子10に照射され、又、他方の光線は、結像レンズ5
の焦点位置Pより後に配置された第二の絞り11を介し
て第二の受光素子12に照射されるようになっている。
2は、夫々受光した被測定面7からの反射光の光量に対
応した電気信号を信号処理系13へ送出する機能を有し
ている。この信号処理系13は、入力された各信号に対
して所定の演算を行い、被測定面7の変位に応じた変位
信号を出力する機能を備えている。今、第一の受光素子
10及び第二の受光素子12から信号処理系13に向け
て、図6(a)に示すような特性を有する電気信号が送
出されたとすると、信号処理系13によって、図6
(b)に示すような特性を有する変位信号が形成され
る。そして、この変位信号に基づいて被測定面7におけ
る合焦判定が行われる。又、ダイクロイックミラー4の
透過側(図5中、ダイクロイックミラー4の上側)に
は、接眼レンズ14が配置されており、図示しない照明
系により照明された被測定面7上の被検体の拡大像を観
察できるようになっている。
一つの従来の焦点検出装置の構成を示した図である。こ
の図に示したように、半導体レーザ1から出射したレー
ザビームは、コリメータレンズ15を介して平行光束に
された後、光路中に配置された遮蔽板16によって、そ
の光束の半分が遮光される。又、その光束の残り半分
は、集光レンズ17によって結像(Pは結像レンズ5の
焦点位置)された後、偏光ビームスプリッタ2に入射す
る。偏光ビームスプリッタ2によって反射されたレーザ
ビームは、順に、1/4波長板3,ダイクロイックミラ
ー4,結像レンズ5及び対物レンズ6を介して被測定面
7に集光されるようになっている。
ンズ6,結像レンズ5及びダイクロイックミラー4を介
して、1/4波長板3へ入射する。このとき、前記光線
が1/4波長板3を透過する際、その偏光方向が90°
ずらされる。このようにして、被測定面7からの反射光
は、偏光ビームスプリッタ2を透過し、二分割受光素子
18上に結像する(Pは結像レンズ5の焦点位置)。
換部A,Bを備えている。そして、これら光電変換部
A,Bは、夫々受光した光量に応じた電圧信号を出力で
きるようになっている。図8(a)には、図5に示した
焦点検出装置における光電変換部A,Bから出力された
電圧信号a,bの変化特性が夫々示されている(横軸は
被測定面7の位置を示している)。そして、これらの電
圧信号a,bは、夫々信号処理系13に送出され、所定
の演算が実行されて焦点検出信号が形成される。又、図
8(b)には、電圧信号a,bに対して演算が実行され
た結果得られた変位信号特性が示されており、図5に示
した焦点検出装置では、かかる変位信号から焦点検出信
号が得られるようになっている。具体的には、点線cが
(a−b)/(a+b)の演算結果から得られた変位信
号特性を示し、実線dが(a−b)の演算結果から得ら
れた変位信号特性を示している。これら何れかの変位信
号c,dのゼロクロスに基づいて合焦の状態が判定され
るようになっている。このような構成を有する装置にお
いても、前述の第一の従来例と同様に、ダイクロイック
ミラー4の透過側には接眼レンズ14が配置され、図示
しない照明系によって照明された被測定面7上の被検体
の拡大像を観察できるようになっている。
焦点検出装置では、光学部材による反射光ノイズ,信号
の電気的ノイズ又は光学部材の調整度等により、合焦判
定に誤差を生じることがある。このような誤差は、観察
側との合焦位置のずれとして現れ、特に、焦点検出装置
を光学測定機器に用いた場合には、測定精度上問題とな
る。
有する問題点に鑑みなされたもので、光学部材による反
射光ノイズ等が発生した状況下においても、安定した合
焦点の判定を行うことができる焦点検出装置を備えた顕
微鏡装置を提供することを目的とする。
するため、本発明による顕微鏡装置は、被検体を拡大観
察する顕微鏡装置において、観察光学系と、この観察光
学系に比べて大きな倍率を有する焦点光学系と、この焦
点光学系を介して前記被検体にプローブ光を照射する光
源と、前記焦点光学系を介して前記被検体からの反射光
の光量に対応した信号を出力する光検出手段と、この光
検出手段からの信号に基づき前記被検体の位置を判断す
るための信号を出力する信号処理系と、を備えたことを
特徴とする。更に、本発明の装置は、前記光検出手段が
集光点の前後の位置に配置された絞り手段と光電変換手
段とから構成されているか、又は、前記光検出手段は集
光点に配置された分割受光素子から構成されていること
を特徴としている。
る。前述のように、光学部材による反射光ノイズ,信号
の電気的ノイズ又は光学部材の調整誤差等が発生した場
合でも、安定した合焦判定を行うためには、図4に示す
ように、合焦点F近傍での変位信号の傾きを大きく設定
し、同量のノイズ成分に対して測定面の変位量が小さく
なるように制御すればよい。これを実現するためには、
焦点検出装置に備えられた光学系の倍率を観察光学系の
倍率よりも大きく設定すれば良い。これによって、測定
面の移動に対し、像側での集光点位置の移動量が大きく
なり、その結果、変位信号の合焦点F近傍での傾きが大
きくなる。
従来例の装置と本発明の装置とを比較した倍率変化とそ
の変位信号に対する効果を、同図(c)及び(d)には
前述した第二の従来例の装置と本発明の装置とを比較し
た倍率変化とその変位信号に対する効果を夫々示してい
る。このように、焦点検出装置の光学系の倍率を観察系
の倍率と比較してより大きく設定することで、観察系の
合焦範囲(焦点深度)に対して、より安定した合焦判定
を行うことができる。
である。本実施例の装置は、結像レンズ25の像側焦点
位置Pを集光レンズ23によって点Qに拡大投影し、こ
の点Qに対する焦点検出系が構成されたものである。
まず、点Qの位置に配置されたレーザ出射手段(光源)
20から出射されたレーザビームは、偏光ビームスプリ
ッタ21によって反射され、1/4波長板22を介して
集光レンズ23へ入射する。そして、集光レンズ23に
入射した光は、集光レンズ23によって結像レンズ25
の像側焦点位置Pに縮小投影された後、特定波長域の光
のみを反射するダイクロイックミラー24で反射され
る。この反射光は、結像レンズ25で平行光束に変換さ
れ、対物レンズ26を介して被検体が載置された被測定
面27上に集光される。
度、対物レンズ26,結像レンズ25を通過して、ダイ
クロイックミラー24によって反射され、前記点Pに集
光される。点Pに集光されたスポットは、集光レンズ2
3により拡大されて1/4波長板22に導かれる。そし
て、1/4波長板22を通過した光は、偏光ビームスプ
リッタ21を透過して、ビームスプリッタ28に導かれ
る。そして、ビームスプリッタ28に入射した光は、こ
のビームスプリッタ28により二方向に分割されるよう
になっている。前記二方向に分割された光のうち、ビー
ムスプリッタ28を透過した光は、点Qの位置より手前
に配置された第一の絞り29を介して第一の受光素子3
0に入射する。又、ビームスプリッタ28により反射さ
れた光は、点Qの位置より後側に配置された第二の絞り
31を介して、第二の受光素子32に入射するように構
成されている。
2は光電変換素子であり、夫々受光した被測定面27か
らの反射光に対応して出力した電気信号を信号処理系3
3に送出する機能を備えている。又、信号処理系33
は、入力された各信号に対し所定の演算を行って、被測
定面27の変位に対応した変位信号を出力し得る機能を
備えている。尚、ダイクロイックミラー24の透過側
(図1中、ダイクロイックミラー24の上側)には、従
来の装置と同様に、接眼レンズ34が配置されており、
図示しない照明系により照明された被測定面27上の被
検体の拡大像を観察できるようになっている。
結像レンズ25,対物レンズ26及び接眼レンズ34に
より観察光学系51が構成されている。又、偏光ビーム
スプリッタ21,1/4波長板22,集光レンズ23,
ダイクロイックミラー24,結像レンズ25,対物レン
ズ26,ビームスプリッタ28及び絞り29,31によ
り焦点光学系52が構成されている。
は、焦点光学系の倍率が観察光学系の倍率と比較して大
きく設定されているため、装置を構成している光学部材
による反射光ノイズ等が発生した場合のような悪条件の
下でも、通常状態下での合焦点判定と変わらない安定し
た合焦点の判定を行うことができる。
ある。本実施例は第一実施例において示した装置の変形
例を示したものであり、以下第一実施例の装置と同一の
部材には同一の符号を付して説明する。本実施例の顕微
鏡装置は、図2に示すように、レーザ出射手段20から
出射されたレーザビームをコリメータレンズ35を介し
て光軸に平行な光束とした後、光路中に配置された遮蔽
板36によって前記平行光束の半分が遮断される。そし
て、残り半分の光が偏光ビームスプリッタ37によって
反射され、1/4波長板38を介して集光レンズ39に
よって、結像レンズ25の像側焦点位置Pに集光され
る。更に、この光線は、特定波長域の光のみを反射する
ダイクロイックミラー24によって反射され、結像レン
ズ25,対物レンズ26を順に介して、被検体が載置さ
れた被測定面27上に集光されるようになっている。
実施例において示した装置と同様に、対物レンズ26,
結像レンズ25を順に介してダイクロイックミラー24
に入射される。この入射光は、ダイクロイックミラー2
4で反射されて、集光レンズ39,1/4波長板38を
順に介して平行光とされ、このまま偏光ビームスプリッ
タ37を透過する。更に、この透過光は、集光レンズ4
0を介して点Qの位置に配置された二分割受光素子41
上に集光される。この二分割受光素子41は光電変換素
子であり、受光した被測定面27からの反射光をこれに
対応したA,B二つの電気信号に変換した後、夫々を信
号処理系33に送出する。そして、信号処理系33にお
いて、所定の演算が行われて、被測定面27の変位信号
が得られるようになっている。
の焦点距離f1 と集光レンズ40の焦点距離f2 とが、
f2 >f1 となるように設定されている。このため、点
Qは、点Pの拡大投影となっている。又、ダイクロッイ
ックミラー24の透過側(図2中、ダイクロイックミラ
ー24の上側)に接眼レンズ34が配置されているの
は、第一実施例に示した装置と同様である。
結像レンズ25,対物レンズ26及び接眼レンズ34に
より観察光学系51が構成されている。又、ダイクロイ
ックミラー24,結像レンズ25,対物レンズ26,コ
リメータレンズ35,遮蔽板36,偏光ビームスプリッ
タ37,1/4波長板38,集光レンズ39及び集光レ
ンズ40により焦点光学系53が構成されている。
いても、焦点光学系の倍率が観察光学系の倍率と比較し
て大きく設定されているため、装置を構成している光学
部材による反射光ノイズ等が発生した場合のような悪条
件の下でも、通常状態下での合焦点判定と変わらない安
定した合焦点の判定を行うことができる。
ある。本実施例も第一実施例において示した装置の変形
例を示したものであり、以下第一実施例に示した装置と
同一の部材には同一の符号を付して説明する。本実施例
の装置は、図3に示すように、まず、レーザ出射手段2
0から出射されたレーザビームが、偏光ビームスプリッ
タ41で反射されて、1/4波長板42を介し、集光レ
ンズ43に入射する。この入射光は、集光レンズ43に
よって平行光束とされた後、ミラー44で反射され、更
に特定波長域の光のみを反射するダイクロイックミラー
45により反射され、対物レンズ26を介し被検体が載
置された被測定面27上に集光される。次に、被測定面
27からの反射光は、前記とは逆の光路、即ち対物レン
ズ26を介し、ダイクロイックミラー45及びミラー4
4において順次反射され、集光レンズ43,1/4波長
板42を順に介して、偏光ビームスプリッタ41に導か
れる。このとき、1/4波長板42を透過する光は、そ
の偏光の方向が90°ずらされる。従って、1/4波長
42を透過した光は、偏光ビームスプリッタ41を透過
することができる。そして、偏光ビームスプリッタ41
を透過した光は、ビームスプリッタ46により二つの方
向に分割される。
スプリッタ46を透過した光は、点Qの位置より手前に
配置された第一の絞り29を介し第一の受光素子30に
入射する。又、ビームスプリッタ46により反射された
光は、点Qの位置より後側に配置された第二の絞り31
を介して第二の受光素子32に入射する。受光素子30
及び32は光電変換素子であり、夫々受光した被測定面
27からの反射光に対応した電気信号に変換した後、こ
の電気信号を信号処理系33に送出する機能を備えてい
る。又、信号処理系33は、入力された各信号に対し所
定の演算を行って、被測定面27の変位に対応した変位
信号を出力し得る機能を備えている。尚、ダイクロイッ
クミラー45の透過側(図3中、ダイクロイックミラー
45の上側)には、結像レンズ25及び接眼レンズ34
が配置されており、図示しない照明系により照明された
被測定面27の拡大像を観察できるようになっている。
又、本実施例の装置では、集光レンズ43の焦点距離f
1 と結像レンズ25の焦点距離f2 とが、f1 >f2 と
なるように設定されている。
結像レンズ25,対物レンズ26及び接眼レンズ34に
より観察光学系54が構成されている。又、ダイクロイ
ックミラー45,対物レンズ26,偏光ビームスプリッ
タ41,1/4波長板42,集光レンズ43,ミラー4
4,ビームスプリッタ46及び絞り29,31により焦
点光学系55が構成されている。又、集光レンズ43の
倍率は結像レンズ25の倍率よりも大きく設定されてい
るため、焦点光学系55の倍率は観察光学系54の倍率
よりも大きくなっている。
いても、焦点光学系の倍率が観察光学系の倍率と比較し
て大きく設定されているため、装置を構成している光学
部材による反射光ノイズ等が発生した場合のような悪条
件の下でも、通常状態下での合焦点判定と変わらない安
定した合焦点の判定を行うことができる。
は、焦点光学系の倍率が観察光学系の倍率よりも大きく
設定されているため、装置に備えられた光学部材の反射
光ノイズや電気的ノイズ等が発生した状況下でも、合焦
点判定において生じる誤差を小さく抑えることができ、
より安定した合焦判定を行うことができるという実用上
優れた利点を有する。
を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
明の装置とを比較した倍率変化とその変位信号に対する
効果を示した図であり、(c)及び(d)は第二の従来
例の装置と本発明の装置とを比較した倍率変化とその変
位信号に対する効果を示した図である。
光素子による出力信号の特性を示した図であり、(b)
は(a)に示した信号に基づき信号処理系により出力さ
れた合焦を判定するための信号を示した図である。
光素子による出力信号の特性を示した図であり、(b)
は(a)に示した信号に基づき信号処理系により出力さ
れた合焦を判定するための信号を示した図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 被検体を拡大観察する顕微鏡装置におい
て、観察光学系と、該観察光学系に比べて大きな倍率を
有する焦点光学系と、該焦点光学系を介して前記被検体
にプローブ光を照射する光源と、前記焦点光学系を介し
て前記被検体からの反射光の光量に対応した信号を出力
する光検出手段と、該光検出手段からの信号に基づき前
記被検体の位置を判断するための信号を出力する信号処
理系と、を備えたことを特徴とする顕微鏡装置。 - 【請求項2】 前記光検出手段は、集光点の前後の位置
に配置された絞り手段と光電変換手段とからなることを
特徴とする請求項1に記載の顕微鏡装置。 - 【請求項3】 前記光検出手段は、集光点に配置された
分割受光素子からなることを特徴とする請求項1に記載
の顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17892894A JP3542171B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 顕微鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17892894A JP3542171B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 顕微鏡装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0843016A true JPH0843016A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3542171B2 JP3542171B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=16057098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17892894A Expired - Fee Related JP3542171B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 顕微鏡装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3542171B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101647991B1 (ko) * | 2015-09-18 | 2016-08-18 | 주식회사 레이저앱스 | 수직 다중 빔 레이저 가공 장치 |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP17892894A patent/JP3542171B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101647991B1 (ko) * | 2015-09-18 | 2016-08-18 | 주식회사 레이저앱스 | 수직 다중 빔 레이저 가공 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3542171B2 (ja) | 2004-07-14 |
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