JPH0843038A

JPH0843038A - 非接触変位または歪計

Info

Publication number: JPH0843038A
Application number: JP17457694A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Kamegawa; 正之亀川
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 1994-07-26
Filing date: 1994-07-26
Publication date: 1996-02-16

Abstract

(57)【要約】【目的】高温下での測定等に際して、試料を真空チャ
ンバ等に収容しなくても、雰囲気のゆらぎによる影響を
受けることなく非接触のもとに正確に試料の変位または
歪みを測定することのできる非接触変位または歪計を提
供する。【構成】被測定試料Ｗの同一箇所に複数の波長の光を
照射する照射光学系１と、その各波長の光の試料Ｗによ
る反射光をそれぞれ独立的に検出する光検出手段２を設
け、かつ、スペックルパターンの移動量を算出する演算
部３は、光検出手段２による各波長の反射光データに基
づき、試料Ｗ周辺の雰囲気のゆらぎによる影響を除去す
る補正演算手段を包含した構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光等の光を用
いて試料の変位または歪みを非接触のもとに測定する、
いわゆる非接触型の変位または歪計に関し、例えば材料
試験機等における試験片の伸縮量等を測定するのに適し
た非接触変位または歪計に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザー光等の光を被測定試料に照射す
るとともに、その反射光をイメージセンサ等の光センサ
で計測することによって、被測定試料の変位または歪み
を被接触で測定する装置として、スペックルパターンを
利用するもの、あるいはドップラー効果を利用するもの
等、既にいくつかの方式のものが提案されている。

【０００３】スペックルパターンを利用した変位または
歪計の測定原理は、以下の通りである。図５に示すよう
に、被測定試料Ｗの表面にレーザー光を照射すると、観
測面上の任意の１点で観測される光の場は、試料表面の
異なる場所から反射されてきたたくさんの光波が互いに
干渉しあうことによって生じる。これらの光波の持つ位
相は、試料表面の凹凸の不規則性を反映してランダムで
あるため、干渉の結果として生じる観測面上での光の強
度分布もランダムとなる。このパターンはスペックルパ
ターンと称される。観測面上に例えば１次元イメージセ
ンサを置くと、その各画素からの出力は空間的にランダ
ムパターンとなり、試料表面が移動もしくは変形したと
きには、そのパターンは経時的に移動もしくは変形す
る。観測面上にイメージセンサを置くことで得られたス
ペックルパターンの光電変化信号を経時的に採り込み、
刻々と相関関数を求めることにより、スペックルパター
ンの刻々の移動量を求めることができる。そのスペック
ルパターンの移動量から、レーザービームの照射部位に
おける被測定試料Ｗの変形量ないしは歪量を算出するこ
とができる（例えば特公昭５９−５２９６３号）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、以上のよう
なスペックルパターンをはじめとする光の干渉現象を利
用した非接触型の変位または歪計では、例えば材料試験
機等によって被測定試料を高温雰囲気中で引張または圧
縮試験を行いつつ、その試料の伸びまたは縮み量、ある
いは特定箇所の変位ないしは歪みを測定するような場
合、被測定試料の近傍の雰囲気のゆらぎによって測定ノ
イズが増加し、温度が高くなるほど測定が困難となり、
実質的に測定不能となってしまう。そのため、従来のこ
の種の測定装置において高温下での計測を行う場合、被
測定試料を真空雰囲気中に置いた状態での計測、つまり
真空チャンバ内に試料を収容して加熱した状態での計測
が必要となり（例えばSPIE Vol.1554A Specle Techniqu
es, Birefrigence, and Appli-cations to Solid Mecha
nics 1991 ）、装置が複雑で高価なものとなるばかりで
なく、試料の交換が極めて面倒となるという問題があ
る。

【０００５】このような高温下での被測定試料の変位ま
たは歪みを計測する装置としては、従来、被測定試料を
加熱するための炉外に差動トランス等のセンサ部を配置
するとともに、被測定試料に接触させた変位検出棒によ
って被測定試料の変位または歪みをセンサ部に取り出す
方式の接触型の変位まはた歪計が実用化されており、こ
の場合には雰囲気のゆらぎの影響は受けないが、接触型
では変位検出棒の被測定試料への取り付けが困難である
とともに、応答が遅く、また、被測定試料の材質によっ
ては変位検出棒が接触している箇所から破断する恐れが
あるなど、変位検出棒の接触によって試験結果に影響を
及ぼす場合があるという問題がある。

【０００６】本発明はこのような実情に鑑みてなされた
もので、光の干渉現象を利用した被接触の測定でありな
がら、高温下での測定等の被測定試料近傍の雰囲気にゆ
らぎがあっても正確な測定値を得ることのできる変位ま
たは歪計の提供を目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの構成を、実施例図面である図１を参照しつつ説明す
ると、本発明の非接触変位または歪計は、被測定試料Ｗ
に光を照射する照射光学系１と、その光の被測定試料Ｗ
による反射光を刻々と受光する光検出手段２と、その光
検出手段２の出力を用いてスペックルパターンの移動量
を求めるとともに、そのスペックルパターンの移動量か
らら被測定試料Ｗの変位まはた歪みを算出する演算部３
を備えた装置において、照射光学系１は、被測定試料Ｗ
の同一箇所に複数の波長の光を照射するように構成さ
れ、光検出手段２は、その各波長の光の被測定試料Ｗに
よる反射光をそれぞれ独立的に検出するように構成さ
れ、また、演算部３は、光検出手段２による各波長の反
射光データに基づき、被測定試料Ｗ周辺の雰囲気のゆら
ぎによる影響を除去するゆらぎ補正演算手段を含んでい
ることによって特徴づけられる。

【０００８】

【作用】本発明は、被測定試料Ｗからの反射光に含まれ
る雰囲気のゆらぎ成分は波長依存性があるのに対し、同
じく反射光に含まれるスペックルパターンの移動による
成分は波長依存性がないことに着目し、複数の波長の光
を被測定試料Ｗの同一箇所に照射することによって得ら
れるそれぞれの反射光を個別に検出することによって、
波長依存性のあるゆらぎ成分を除去して、スペックルパ
ターンの移動量のみを抽出して変位または歪みの演算に
供しようとするものである。以下にその原理を述べる。

【０００９】今、被測定試料からの反射光が、温度分布
のある雰囲気中を通過する場合について考えたとき、温
度分布が経時的に変化しなければ、分布の存在はスペッ
クルパターンの測定に影響を与えないが、温度分布が時
間とともに変化する場合、ゆらぎとなって測定誤差の原
因となる。モデルを単純化するため、図６に示すよう
に、反射光が通過する雰囲気中に互いに異なる屈折率ｎ
_H，ｎ_Lの領域があるとすると、その境界が光軸に垂直
である場合には各光線は実線で示すように直進して、観
測面上には図５に示した場合と同等のパターンが得られ
るが、その境界が少し傾いていると、同じ反射光でも破
線で示すように観測面上の異なる点に導かれる。これに
よって、観測面上でのスペックルパターンが移動したよ
うに見え、計測誤差となる。

【００１０】次に、図７において、１つの光線について
の軌跡を考える。空気等の気体においては一般に、温度
が高いと屈折率は低下する。そこで、この図７では、高
温に加熱された被測定試料Ｗにより近い側の雰囲気の屈
折率をｎ_H,境界を挟んで遠い側の雰囲気の屈折率をｎ_L
とし、ｎ_H＜ｎ_Lとしている。また、被測定試料Ｗに照
射されるレーザー光の波長をλ₁およびλ₂とし、これ
らの各波長に対する各領域での屈折率をそれぞれｎ_H1，
ｎ_L1およびｎ_H2，ｎ_L2とする。

【００１１】被測定試料Ｗの表面の法線に沿って入射し
た波長λ₁の光が、観測点でその法線からｄ₁だけ離れ
た位置に戻ったとすると、互いに異なる屈折率の領域の
境界の傾きを図のようにθとすれば、

【００１２】

【数１】

【００１３】であり、試料Ｗと観測点とのなす距離Ｌが
ｄ₁に比して十分大きいとすれば、

【００１４】

【数２】

【００１５】となる。従ってｄ₁は

【００１６】

【数３】

【００１７】で表される。同様にレーザー光の波長がλ
₂である場合には、全く同じ条件のもとに試料Ｗの法線
に沿って入射しても、下記の式で表されるｄ₂だけ法線
から離れた位置に戻る。

【００１８】

【数４】

【００１９】ここで、屈折率と波長との間には、一般
に、

【００２０】

【数５】

【００２１】の関係があり、波長が長いほど屈折率ｎは
小さく、かつ、温度Ｔが高いほどｎ₀およびｎ₁は小さ
くなる。この（６）式を（４）および（５）式に適用す
ると、

【００２２】

【数６】

【００２３】と表すことができ、この（７）および
（８）式は、それぞれの（）内がλ²の多項式と考え
られるので、次の式に近似できる。

【００２４】

【数７】

【００２５】この（９）および（１０）式において、θ
はゆらぎの大きさを表す項、（）内は波長による補正
項と解釈できる。ある時刻のデータｄ_1,ｄ₂から、２つ
の式（９）および（１０）式における３つの変数θ、α
₀およびｋを解くことはできないが、連続して異なる時
刻に採取されたデータ列ｄ_1,ｄ₂（ｔ＝ｔ₀）、ｄ_1,ｄ
₂（ｔ＝ｔ₁）、ｄ_1,ｄ₂（ｔ＝ｔ₂）、・・・・から、θ
は時間とともに変化するが、α₀とｋは定数であるとし
て回帰計算によってα₀とｋを求めることができる。

【００２６】次に、試料が移動する場合、その大きさ
（移動量）をＳとすると、

【００２７】

【数８】

【００２８】の式で与えられる。この（１１）および
（１２）式から明らかなように、試料の移動に対しては
スペックルパターンの移動に対する波長依存性はない。
すなわち、雰囲気のゆらぎは波長依存性があるのに対
し、試料Ｗの変位に対しては波長依存性がない。よっ
て、異なる２つの波の光を用いれば、雰囲気のゆらぎの
影響と試料Ｗの変位の影響とを演算によって分離でき
る。

【００２９】雰囲気のゆらぎによる光線の観測点への入
射位置のずれは、ゆらぎがレーザー光の照射スポットサ
イズに比べて大きな範囲で滑らかに発生することから、
スペックルパターンを構成する全ての光線についてほぼ
均等であるとみなすことができる。つまり、雰囲気のゆ
らぎによってスペックルパターン全体がずれるとみなす
ことができるから、前記したｄ₁およびｄ₂は、光検出
手段２からの出力によるスペックルパターンの移動量と
して捕らえることができる。

【００３０】以上のことから、（９）および（１０）式
を用いたα₀およびｋの計算は、複数の波長、例えばλ
₁とλ₂のレーザー光を照射して得られるそれぞれの反
射光の検出結果に基づくそれぞれのスペックルパターン
の移動量をそれぞれｄ₁およびｄ₂として計算すること
ができ、このように２つの波長の光を用いる場合には、
各データｄ_1,ｄ₂に被測定試料Ｗの変位に伴うスペック
ルパターンの移動量Ｓが含まれない状態、つまり被測定
試料Ｗが変位しない静止状態で、かつ、その温度が定常
的に試験温度に加熱された状態で（９）および（１０）
式によってα₀およびｋを算出しておく。

【００３１】そして、実際の変位ないしは歪みの測定に
際しては、刻々のｄ₁およびｄ₂のサンプリングデータ
と、α₀およびｋ、並びに各波長λ_1,λ₂を用いた（１
１）および（１２）式の連立方程式から、ゆらぎ依存項
を除去してＳを抽出すればよい。

【００３２】

【実施例】図１は本発明を変位計に適用した実施例の全
体構成図である。被測定試料Ｗには、照射光学系１から
の互いに異なる波長λ₁およびλ₂のレーザー光が同一
箇所にスポット状に照射される。すなわち、照射光学系
１は、波長λ₁のレーザー光を出力する第１の半導体レ
ーザー１１ａと波長λ₂のレーザー光を出力する第２の
半導体レーザー１２ａ、およびこれらの各半導体レーザ
ーからの出力光をスポット状に成形するためのレンズ１
１ｂと１２ｂ、並びに、波長λ₁のレーザー光を反射
し、波長λ₂のレーザー光を透過するダイクロイックミ
ラー１３によって構成されている。

【００３３】被測定試料Ｗによって反射された各波長の
レーザー光は、光検出手段２によってそれぞれ個別に検
出される。光検出手段２は、第１と第２のイメージセン
サ２１と２２、およびその前段に設けられたダイクロイ
ックミラー２３によって構成されており、ダイクロイッ
クミラー２３は波長λ₁のレーザー光を反射するととも
に、波長λ₂のレーザー光を透過する。これにより、第
１のイメージセンサ２１には波長λ₁のレーザー光が、
第２のイメージセンサ２２には波長λ₂のレーザー光が
それぞれ選択的に入射するようになっている。

【００３４】各イメージセンサ２１，２２の出力は、そ
れぞれＡ−Ｄ変換器４１，４２によってデジタル化され
た後、演算部３に採り込まれる。演算部３はコンピュー
タを主体として構成され、雰囲気のゆらぎ成分に係る補
正情報を格納するためのメモリ３１が接続されている。
この実施例において演算部３は、実際の変位測定に先立
ち、各イメージセンサ２１，２２からのデータを用いて
雰囲気のゆらぎ成分に係る補正情報を算出してメモリ３
１に格納する第１の演算プログラムと、実際の変位測定
時に、各イメージセンサ２１，２２からの刻々のデータ
とメモリ３１の記憶内容を用いて、各イメージセンサ２
１，２２の出力に含まれる雰囲気の揺らぎ成分を除去す
る補正演算を行うことによって、レーザー光の照射位置
における被測定試料Ｗの変位に伴うスペックルパターン
の移動量のみを抽出して変位量を算出する第２の演算プ
ログラムを内蔵している。

【００３５】雰囲気のゆらぎ成分に係る補正情報を算出
する第１の演算プログラムは、被測定材料Ｗが変位しな
い静止状態で、かつ、測定すべき温度に加熱されてその
温度が定常状態になっている時点で実行される。この第
１の演算プログラムにおいては、各イメージセンサ２
１，２２からのスペックルパターンデータを刻々と採り
込み、それぞれを個別に相関演算することによって、各
波長ごとのスペックルパターンの移動量ｄ_1,ｄ₂（ｔ＝
ｔ₀），ｄ_1,ｄ₂（ｔ＝ｔ₁），ｄ_1,ｄ₂（ｔ＝
ｔ₂），・・・・を求める工程と、そのように得られたデー
タ群ｄ_1,ｄ₂を用いて、前記したα₀およびｋを算出す
る工程を含む。このα₀およびｋの算出工程では、各時
間における各データｄ_1,ｄ₂を、前記した（９）式およ
び（１０）式に代入し、θを時間関数とし、かつ、α₀
およびｋを定数とした回帰演算により、定数α₀および
ｋを算出し、これらを補正情報としてメモリ３１に格納
する。

【００３６】そして、実際の変位測定時に実行される第
２の演算プログラムでは、各イメージセンサ２１，２２
からのスペックルパターンデータを刻々と採り込み、同
様にして各波長データごとに個別に相関演算を行うこと
によって、各波長ごとのスペックルパターンの刻々の移
動量ｄ_1,ｄ₂を求めるとともに、その各時点における移
動量ｄ_1,ｄ₂を、メモリ３１内のα₀およびｋとともに
前記した（１１）および（１２）式に代入し、この２つ
の式を用いた２元連立方程式から、雰囲気のゆらぎに起
因するみかけのスペックルパターンの移動成分であるθ
を含んだ項を除去し、レーザー光の照射位置における被
測定試料Ｗの変位成分Ｓを抽出する。そして、このＳを
被測定試料Ｗの変位量として出力する。

【００３７】以上の本発明実施例によると、被測定試料
Ｗが加熱され、かつ、静止状態においては、レーザー光
の照射位置は移動していないにも係わらず、雰囲気のゆ
らぎによって各波長λ₁およびλ₂の光によるスペック
ルパターンは見かけ上、図２（Ａ）に示すように変動す
る。この状態でα₀およびｋを算出するわけである。そ
して、被測定試料Ｗが変位している状態では、各各波長
λ₁およびλ₂の光によるスペックルパターンは同図
（Ｂ）に示すように変動するが、（１１）式および（１
２）式から雰囲気のゆらぎによるθを含んだ成分を除去
することにより、同図（Ｃ）に示すように、被測定試料
Ｗの変位に起因する成分Ｓのみが抽出される。

【００３８】本発明は、以上のような変位計のみなら
ず、スペックルパターンを利用した歪み計ないしは伸び
計（縮み計）としても、全く同様に適用することができ
る。図３は、本発明を歪み計に適用した実施例の光学系
の説明図である。この例おいては、被測定試料Ｗの表面
にレーザー光を照射する照射光学系１は、先の例と同様
であり、波長λ₁およびλ₂のレーザー光をそれぞれ同
一箇所に照射する半導体レーザー１１ａ，１２ａとレン
ズ１１ｂ，１２ｂ、およびダイクロイックミラー１３と
からなっているが、その各波長の反射光は、それぞれ２
箇所において観察される。

【００３９】すなわち、被測定試料Ｗによる各波長の反
射光は、それぞれ互いに異なる位置に置かれた第１と第
２の光検出手段２ａおよび２ｂによって検出される。各
光検出手段２ａおよび２ｂは、それぞれ先の例における
光検出手段２と同様であり、それぞれ１次元イメージセ
ンサ２１ａ，２２ａないしは２１ｂ，２２ｂと、波長選
択するためのダイクロイックミラー２３ａないしは２３
ｂによって構成されている。

【００４０】このような光学系の構成において、第１の
光検出手段２ａおよび第２の光検出手段２ｂで観察され
るλ₁およびλ₂の反射光から、それぞれ先の例と全く
同様の演算によって雰囲気のゆらぎによる成分を除去し
て、被測定試料Ｗの変形に起因するスペックルパターン
の移動量Ｓａ，Ｓｂのみを抽出する。そして、その各観
察点におけるスペックルパターンの移動量Ｓａ，Ｓｂの
差を求めることによって、レーザー光の照射位置におけ
る被測定試料Ｗの歪み量を抽出することができる。

【００４１】なお、レーザー光の照射位置における被測
定試料Ｗの歪み量を抽出する方法として、図３の構成に
基づく方法以外に、物体の被測定部位の同一点に対して
表面法線を挟んで互いに対称な角度で互いに異なる波長
の２本のレーザービームを照射し、それぞれのビームが
作るスペックルパターンの移動量の差を求める方法もあ
るが、この場合、表面法線を挟んで対称に照射するレー
ザービームのそれぞれについて、本発明の手法を採用す
ればよい。この場合、使用するレーザー光の波長は４種
類となる。

【００４２】図４は本発明を伸び（縮み）計に適用した
実施例の光学系の構成図である。この例においては、図
１と全く同じ構成の照射光学系と検出光学系を２組ずつ
設けることにより、被測定試料Ｗの表面に互いに距離Ｌ
を隔てた２箇所においてスペックルパターンの移動量を
算出して、その差によって被測定試料の２箇所間におけ
る伸び（縮み）を算出するように構成している。

【００４３】すなわち、被測定試料Ｗは、その両端が例
えば材料試験機の掴み具に固着されて上下方向への引張
荷重が与えられる。被測定試料Ｗには、出力波長λ₁と
λ₂の半導体レーザー１１１ａと１２１ａ、レンズ１１
１ｂと１２１ｂ、およびダイクロイックミラー１３１か
らなる第１の照射光学系１０１と、出力波長λ₃とλ ₄
の半導体レーザー１１２ａと１２２ａ、レンズ１１２ｂ
と１２２ｂ、およびダイクロイックミラー１３２からな
る第２の照射光学系１０２によって、その荷重の作用方
向に所定の距離を隔てた２箇所に、それぞれ２波長ずつ
のスポット状のレーザー光が照射される。

【００４４】第１の照射光学系１０１からの各波長のレ
ーザー光の被測定試料Ｗによる反射光は、第１と第２イ
メージセンサ２１１と２２１およびダイクロイックミラ
ー２３１からなる第１の検出光学系２０１によって検出
され、図１の例と全く同様に波長λ₁およびλ₂のスペ
ックルパターンデータを検出する。また、第２の照射光
学系１０２からの各波長のレーザー光の被測定試料Ｗに
よる反射光についても、第３と第４のイメージセンサ２
１２と２２２およびダイクロイックミラー２３２からな
る第２の検出光学系２０２によって検出され、同様にし
て波長λ₃およびλ₄のスペックルパターンデータを検
出する。そして、各検出光学系によるスペックルパター
ンデータから、図１の例と全く同様な演算により、雰囲
気のゆらぎに起因する成分が除去され、被測定試料Ｗの
伸びに起因する各照射位置のおけるスペックルパターン
の移動量Ｓ₁およびＳ₂が抽出される。このようにして
得られた各照射位置におけるスペックルパターンの移動
量Ｓ₁およびＳ₂の差を算出すると、雰囲気のゆらぎの
影響を受けることなく、被測定試料Ｗの各照射位置間に
おける伸びが得られる。

【００４５】ここで、以上の各実施例では、被測定試料
Ｗの同一箇所からの反射光を２つのイメージセンサによ
って個別に検出したが、２波長のレーザー光を、雰囲気
のゆらぎの変化速度に比べて十分に速い速度で、２波長
のレーザー光を交互にＯＮ／ＯＦＦすることができれ
ば、１つのイメージセンサを時分割的に使用して各波長
のスペックルパターンデータを得ることができる。

【００４６】また、以上の各実施例においては、雰囲気
のゆらぎによる影響を除去するために、被測定試料の同
一箇所に互いに異なる２つの波長を持つレーザー光を照
射したが、同一箇所に互いに異なる３つ以上の波長を持
つレーザー光を照射してもよい。３波長のレーザー光を
同一箇所に照射した場合、前記した（１１），（１２）
式に加えて

【００４７】

【数９】

【００４８】で表されるデータｄ₃が得られることにな
る。この（１１）〜（１３）式で表されるデータｄ₁〜
ｄ₃が得られると、被測定試料Ｗが静止状態でのデータ
に基づいてα₀およびｋを回帰演算によって求める必要
がなくなり、３つの式から直ちに雰囲気のゆらぎ成分で
あるθを含む項を除去できる。また、波長の数を増やす
ほど、補正精度は向上する。

【００４９】なお、本発明は、被測定試料Ｗを高温に加
熱する場合に限らず、例えば冷却ガス中に被測定試料Ｗ
を置いた状態での変位、歪みないしは伸び等の測定のよ
うに、雰囲気のゆらぎが生じる測定に対して広く応用す
ることができる。

【００５０】

【発明の効果】以上のように構成したから、本発明によ
れば、被測定試料を高温に加熱した状態での測定等に際
して、被測定試料を真空チャンバ等に収容することな
く、非接触のもとに雰囲気のゆらぎによる影響を受けな
い正確な測定値を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を変位計に適用した実施例の全体構成図

【図２】その作用説明図

【図３】本発明を歪み計に適用した実施例の光学系の構
成図

【図４】本発明を伸び計に適用した実施例の光学系の構
成図

【図５】本発明が適用されるスペックルパターンを利用
した変位または歪みの測定原理の説明図

【図６】図５のモデルにおいて雰囲気のゆらぎを付加し
た場合の説明図

【図７】雰囲気のゆらぎがある場合における１本の光線
の軌跡に注目して示す本発明の原理説明図

【符号の説明】

１照射光学系１１ａ，１２ａ半導体レーザー１１ｂ，１２ｂレンズ１３ダイクロイックミラー２光検出手段２１第１のイメージセンサ２２第２のイメージセンサ２３ダイクロイックミラー３演算部３１メモリ４１，４１Ａ−Ｄ変換器Ｗ被測定試料

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被測定試料に光を照射する照射光学系
と、その光の被測定試料による反射光を刻々と受光する
光検出手段と、その光検出手段の出力を用いてスペック
ルパターンの移動量を求めるとともに、そのスペックル
パターンの移動量から被測定試料の変位まはた歪みを算
出する演算部を備えた装置において、上記照射光学系
は、被測定試料の同一箇所に複数の波長の光を照射し、
上記光検出手段は、その各波長の光の被測定試料による
反射光をそれぞれ独立的に検出するとともに、上記演算
部は、上記光検出手段による各波長の反射光データに基
づき、被測定試料周辺の雰囲気のゆらぎによる影響を除
去するゆらぎ補正演算手段を含んでいることを特徴とす
る非接触変位または歪計。