JPH0845910A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPH0845910A JPH0845910A JP19752594A JP19752594A JPH0845910A JP H0845910 A JPH0845910 A JP H0845910A JP 19752594 A JP19752594 A JP 19752594A JP 19752594 A JP19752594 A JP 19752594A JP H0845910 A JPH0845910 A JP H0845910A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラズマ処理例えばエッチングにおける種々
の条件のいずれに対しても処理の均一性を高めることが
できるようにする。 【構成】 複数のガス噴出孔５が表面に設けられた上部
電極２と被エッチング基板９が載置される下部電極６と
をチャンバー１内に設け、ガス供給室４から上部電極２
のガス噴出孔５を介してチャンバー１内にガスを供給す
るエッチング装置において、上部電極２のガス噴出孔５
に対応する複数の開孔部８を有する調整板７を、上部電
極２に接してガス供給室４の内側に配置する。調整板７
をずらして開孔部８とガス噴出孔５との重なりを調整す
ることにより、中央部と周辺部との間においてガス噴出
孔５の開孔面積を可変させ、エッチングガス密度を調整
してエッチング速度の面内均一性を高める。
の条件のいずれに対しても処理の均一性を高めることが
できるようにする。 【構成】 複数のガス噴出孔５が表面に設けられた上部
電極２と被エッチング基板９が載置される下部電極６と
をチャンバー１内に設け、ガス供給室４から上部電極２
のガス噴出孔５を介してチャンバー１内にガスを供給す
るエッチング装置において、上部電極２のガス噴出孔５
に対応する複数の開孔部８を有する調整板７を、上部電
極２に接してガス供給室４の内側に配置する。調整板７
をずらして開孔部８とガス噴出孔５との重なりを調整す
ることにより、中央部と周辺部との間においてガス噴出
孔５の開孔面積を可変させ、エッチングガス密度を調整
してエッチング速度の面内均一性を高める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを使用するド
ライエッチング装置やＣＶＤ装置等のプラズマ処理装置
に係り、特にプラズマ処理装置の電極に形成されたガス
噴出孔に関するものである。
ライエッチング装置やＣＶＤ装置等のプラズマ処理装置
に係り、特にプラズマ処理装置の電極に形成されたガス
噴出孔に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の一般的な平行平板型ドライエッチ
ャーの概略断面図を図６に示す。チャンバー１内に２つ
の電極、即ち上部電極２と下部電極６とが対向して配置
されている。通常、エッチングする時は、ウエハ等の被
エッチング基板９を下部電極６の上に載せ、ガス供給装
置１０からガス供給管３及びガス供給室４、さらに上部
電極２の表面に開孔された多数のガス噴出孔５を介し
て、エッチングガスをチャンバー１内に導入し、上部電
極２または下部電極６を不図示の高周波電源装置により
ＲＦ発振させることによって放電させ、エッチングガス
をプラズマ化して行う。
ャーの概略断面図を図６に示す。チャンバー１内に２つ
の電極、即ち上部電極２と下部電極６とが対向して配置
されている。通常、エッチングする時は、ウエハ等の被
エッチング基板９を下部電極６の上に載せ、ガス供給装
置１０からガス供給管３及びガス供給室４、さらに上部
電極２の表面に開孔された多数のガス噴出孔５を介し
て、エッチングガスをチャンバー１内に導入し、上部電
極２または下部電極６を不図示の高周波電源装置により
ＲＦ発振させることによって放電させ、エッチングガス
をプラズマ化して行う。
【０００３】また、特開平１−１４９９６４号公報、特
開平３−１２２２８５号公報等に記載されているよう
に、従来の上部電極に形成された複数のガス噴出孔は、
上部電極の中央部から周辺部に向けて順次大きくなるよ
うに形成されていた。
開平３−１２２２８５号公報等に記載されているよう
に、従来の上部電極に形成された複数のガス噴出孔は、
上部電極の中央部から周辺部に向けて順次大きくなるよ
うに形成されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】通常、エッチング速度
は被エッチング基板９の中央部から周辺部にかけて、除
々に大きくなるか小さくなるかという傾向を示す。つま
り、エッチング速度の等高線を描くと、ほぼ中央部を中
心とした同心円となる。従って、エッチング速度の面内
均一性を良くするには、中央部と周辺部との差を小さく
すれば良い。
は被エッチング基板９の中央部から周辺部にかけて、除
々に大きくなるか小さくなるかという傾向を示す。つま
り、エッチング速度の等高線を描くと、ほぼ中央部を中
心とした同心円となる。従って、エッチング速度の面内
均一性を良くするには、中央部と周辺部との差を小さく
すれば良い。
【０００５】そのためには、中央部付近と周辺部付近と
で上部電極２のガス噴出孔５の大きさを変化させ、チャ
ンバー１内のエッチングガス濃度分布を変化させれば良
い。即ち、中央部付近の方のエッチング速度を小さくす
る場合は、ガス噴出孔５の開孔径を周辺部より中央部を
小さくし、逆に周辺部付近の方のエッチング速度を小さ
くする場合は、ガス噴出孔５の開孔径を中央部より周辺
部を小さくすれば良い。
で上部電極２のガス噴出孔５の大きさを変化させ、チャ
ンバー１内のエッチングガス濃度分布を変化させれば良
い。即ち、中央部付近の方のエッチング速度を小さくす
る場合は、ガス噴出孔５の開孔径を周辺部より中央部を
小さくし、逆に周辺部付近の方のエッチング速度を小さ
くする場合は、ガス噴出孔５の開孔径を中央部より周辺
部を小さくすれば良い。
【０００６】しかしながら、周辺部と中央部のエッチン
グ速度のどちらが大きいかは、エッチングガス種、ＲＦ
パワー、圧力等の条件により変わるため、従来の固定し
た大きさのガス噴出孔５では、種々の条件に対して均一
性を良くすることは困難であった。
グ速度のどちらが大きいかは、エッチングガス種、ＲＦ
パワー、圧力等の条件により変わるため、従来の固定し
た大きさのガス噴出孔５では、種々の条件に対して均一
性を良くすることは困難であった。
【０００７】また、特開平１−１４９９６４号公報、特
開平３−１２２２８５号公報に記載されているような上
部電極の各ガス噴出孔は、エッチング速度、エッチング
ガス種、ＲＦパワー、圧力等の条件により大きさを変化
させることはできず、このような固定した大きさのガス
噴出孔では、上記で示した条件に対して均一性を良くす
ることは困難であった。
開平３−１２２２８５号公報に記載されているような上
部電極の各ガス噴出孔は、エッチング速度、エッチング
ガス種、ＲＦパワー、圧力等の条件により大きさを変化
させることはできず、このような固定した大きさのガス
噴出孔では、上記で示した条件に対して均一性を良くす
ることは困難であった。
【０００８】そこで本発明は、プラズマ処理における種
々の条件のいずれに対しても処理の均一性を高めること
ができるプラズマ処理装置を提供することを目的とす
る。
々の条件のいずれに対しても処理の均一性を高めること
ができるプラズマ処理装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、複数のガス噴出孔が表面に分散して設
けられた第１の電極と被処理体が載置される第２の電極
とが対向するように真空室内に設けられ、且つガス供給
室から前記第１の電極のガス噴出孔を介して前記真空室
内にガスを供給するガス供給手段を備えたプラズマ処理
装置において、前記第１の電極と重なり合って設けら
れ、前記ガス噴出孔の少なくとも一部を塞ぐ調整板と、
前記ガス噴出孔と前記調整板との重なりを調整すること
により、前記ガス噴出孔の開孔面積を可変する開孔面積
可変手段と、を具備するものである。
めに、本発明は、複数のガス噴出孔が表面に分散して設
けられた第１の電極と被処理体が載置される第２の電極
とが対向するように真空室内に設けられ、且つガス供給
室から前記第１の電極のガス噴出孔を介して前記真空室
内にガスを供給するガス供給手段を備えたプラズマ処理
装置において、前記第１の電極と重なり合って設けら
れ、前記ガス噴出孔の少なくとも一部を塞ぐ調整板と、
前記ガス噴出孔と前記調整板との重なりを調整すること
により、前記ガス噴出孔の開孔面積を可変する開孔面積
可変手段と、を具備するものである。
【００１０】なお、前記開孔面積可変手段は、前記第１
の電極の中心から外端に向かって所定距離離れた位置に
配置されたガス噴出孔を基準孔として、前記基準孔より
も外側のガス噴出孔の面積が増減する場合に前記基準孔
よりも内側のガス噴出孔の面積が逆に減増するように、
前記調整板を制御するとよい。
の電極の中心から外端に向かって所定距離離れた位置に
配置されたガス噴出孔を基準孔として、前記基準孔より
も外側のガス噴出孔の面積が増減する場合に前記基準孔
よりも内側のガス噴出孔の面積が逆に減増するように、
前記調整板を制御するとよい。
【００１１】
【作用】上記のように構成された本発明によれば、第１
の電極の複数のガス噴出孔と、これら各ガス噴出孔の少
なくとも一部を塞ぐ調整板との重なりを調整することに
より、真空室内の中央部と周辺部とにおいて、ガス噴出
孔の開孔面積の相対的な大きさが可変となる。調整板
は、第１の電極に対する平行移動や回転により、ガス噴
出孔の開孔面積が可変となるように、例えば、正三角形
形状、二等辺三角形形状、長方形形状、正方形形状等の
調整窓を有しているとよい。
の電極の複数のガス噴出孔と、これら各ガス噴出孔の少
なくとも一部を塞ぐ調整板との重なりを調整することに
より、真空室内の中央部と周辺部とにおいて、ガス噴出
孔の開孔面積の相対的な大きさが可変となる。調整板
は、第１の電極に対する平行移動や回転により、ガス噴
出孔の開孔面積が可変となるように、例えば、正三角形
形状、二等辺三角形形状、長方形形状、正方形形状等の
調整窓を有しているとよい。
【００１２】このため、例えばエッチングの際、中央部
の方が周辺部よりもエッチング速度が小さくなり易い条
件においては、中央部のガス噴出孔の開孔面積が周辺部
よりも大きくなるように調整板を調整することにより、
中央部のエッチングガス密度を高め、中央部のエッチン
グ速度を周辺部のそれに近付け、エッチング速度の面内
均一性を高めることができる。逆に、周辺部の方が中央
部よりもエッチング速度が小さくなり易い条件において
は、調整板を逆に調整することにより、周辺部のエッチ
ングガス密度を高め、結果としてエッチング速度の面内
均一性を高めることができる。
の方が周辺部よりもエッチング速度が小さくなり易い条
件においては、中央部のガス噴出孔の開孔面積が周辺部
よりも大きくなるように調整板を調整することにより、
中央部のエッチングガス密度を高め、中央部のエッチン
グ速度を周辺部のそれに近付け、エッチング速度の面内
均一性を高めることができる。逆に、周辺部の方が中央
部よりもエッチング速度が小さくなり易い条件において
は、調整板を逆に調整することにより、周辺部のエッチ
ングガス密度を高め、結果としてエッチング速度の面内
均一性を高めることができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明によるプラズマ処理装置をドラ
イエッチング装置に適用した一実施例について図１〜図
５に基づき説明する。図１は実施例におけるエッチング
装置の概略断面図、図２は上部電極と調整板との配置関
係を示す要部の平面図である。
イエッチング装置に適用した一実施例について図１〜図
５に基づき説明する。図１は実施例におけるエッチング
装置の概略断面図、図２は上部電極と調整板との配置関
係を示す要部の平面図である。
【００１４】まず、図１において、チャンバー１内に上
部電極２と下部電極６とが対向して設置されている。な
お、この図中では電源装置の電気的接続を省略してあ
る。エッチングガスは、まずガス供給装置１０からガス
供給管３を通り、次に上部電極２の背面にあるガス供給
室４を通り、次いで上部電極２の表面に設けられた複数
のガス噴出孔５を通って、チャンバー１内に導入され
る。下部電極６上にはウエハ等の被エッチング基板９が
載置されている。
部電極２と下部電極６とが対向して設置されている。な
お、この図中では電源装置の電気的接続を省略してあ
る。エッチングガスは、まずガス供給装置１０からガス
供給管３を通り、次に上部電極２の背面にあるガス供給
室４を通り、次いで上部電極２の表面に設けられた複数
のガス噴出孔５を通って、チャンバー１内に導入され
る。下部電極６上にはウエハ等の被エッチング基板９が
載置されている。
【００１５】次に、図１及び図２に示すように、上部電
極２に接してガス供給室４の内側に調整板７が配置され
ている。調整板７には複数の開孔部８が形成されてお
り、これら開孔部８は上部電極２の各々のガス噴出孔５
に対応し、各ガス噴出孔５の開孔面積を大きくしたり小
さくしたりする調整窓の役割をする。図２において、上
部電極２のガス噴出孔５と調整板７の開孔部８とが重な
るＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの位置は、各々チャンバー１の周
辺部から中央部まで順に配置されている。そして、不図
示の駆動手段により調整板７は、上部電極２に対して図
２の矢印方向に平行移動でずらすことが可能に構成され
ている。
極２に接してガス供給室４の内側に調整板７が配置され
ている。調整板７には複数の開孔部８が形成されてお
り、これら開孔部８は上部電極２の各々のガス噴出孔５
に対応し、各ガス噴出孔５の開孔面積を大きくしたり小
さくしたりする調整窓の役割をする。図２において、上
部電極２のガス噴出孔５と調整板７の開孔部８とが重な
るＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの位置は、各々チャンバー１の周
辺部から中央部まで順に配置されている。そして、不図
示の駆動手段により調整板７は、上部電極２に対して図
２の矢印方向に平行移動でずらすことが可能に構成され
ている。
【００１６】図３（ａ）〜（ｅ）は図２に示したＡ〜Ｅ
の各々におけるガス噴出孔５と開孔部８との重なりの様
子を示したものである。上部電極２のガス噴出孔５の開
孔領域はＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ上で各々５１、５２、５
３、５４、５５であり、全て同じ大きさの正方形であ
る。一方、調整板７の開孔部８の開孔領域はＡ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｅ上で各々８１、８２、８３、８４、８５であ
り、周辺部から中央部に向かって、二等辺三角形の底辺
が除々に小さくなり、途中で一旦長方形となり、次いで
逆向きの二等辺三角形となり底辺が除々に大きくなる。
の各々におけるガス噴出孔５と開孔部８との重なりの様
子を示したものである。上部電極２のガス噴出孔５の開
孔領域はＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ上で各々５１、５２、５
３、５４、５５であり、全て同じ大きさの正方形であ
る。一方、調整板７の開孔部８の開孔領域はＡ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｅ上で各々８１、８２、８３、８４、８５であ
り、周辺部から中央部に向かって、二等辺三角形の底辺
が除々に小さくなり、途中で一旦長方形となり、次いで
逆向きの二等辺三角形となり底辺が除々に大きくなる。
【００１７】これらの開孔領域の重なり合った領域を図
３では斜線部で示している。すなわち、斜線部の開孔重
なり領域にガスが流れる。図３の状態では斜線部の面積
つまり開孔面積はＡ＞Ｂ＞Ｃ＞Ｄ＞Ｅの順であり、チャ
ンバー１内の周辺部の方が中央部よりもエッチングガス
密度を高くしている。
３では斜線部で示している。すなわち、斜線部の開孔重
なり領域にガスが流れる。図３の状態では斜線部の面積
つまり開孔面積はＡ＞Ｂ＞Ｃ＞Ｄ＞Ｅの順であり、チャ
ンバー１内の周辺部の方が中央部よりもエッチングガス
密度を高くしている。
【００１８】ここで調整板７を左側にずらしていくと、
ある時点でＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの開孔面積はほぼ同一と
なり、元々、エッチング速度が中央部と周辺部とであま
り差が出にくい場合、この状態に調整すれば良い。
ある時点でＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの開孔面積はほぼ同一と
なり、元々、エッチング速度が中央部と周辺部とであま
り差が出にくい場合、この状態に調整すれば良い。
【００１９】中央部の方が周辺部よりもエッチング速度
が小さい場合、更に調整板７を左側にずらすと、開孔面
積の大きさはＥ＞Ｄ＞Ｃ＞Ｂ＞Ａの順となり、中央部の
方が周辺部よりもエッチングガス密度が高くなるように
補正がかかり、エッチング速度の面内均一性を高めるこ
とができる。
が小さい場合、更に調整板７を左側にずらすと、開孔面
積の大きさはＥ＞Ｄ＞Ｃ＞Ｂ＞Ａの順となり、中央部の
方が周辺部よりもエッチングガス密度が高くなるように
補正がかかり、エッチング速度の面内均一性を高めるこ
とができる。
【００２０】例えば、図３（ｂ）に示す調整板７の二等
辺三角形の開孔領域８２を左にずらすと、図４（ａ）に
示すようにガス噴出孔Ｇ（斜線部）の開孔面積は小さく
なり、右にずらすと、図４（ｂ）に示すようにガス噴出
孔Ｇの開孔面積は大きくなる。
辺三角形の開孔領域８２を左にずらすと、図４（ａ）に
示すようにガス噴出孔Ｇ（斜線部）の開孔面積は小さく
なり、右にずらすと、図４（ｂ）に示すようにガス噴出
孔Ｇの開孔面積は大きくなる。
【００２１】図５（ａ）は上部電極の平面図である。図
５（ａ）において、ｒ＝０は上部電極２の中心で、Ｒは
上部電極２の半径を表す。本実施例では、ｒ＝０．５Ｒ
を境に、調整板７に設けられた開孔部８（調整窓）によ
って、上部電極２のガス噴出孔５の開孔面積を調整して
いる。
５（ａ）において、ｒ＝０は上部電極２の中心で、Ｒは
上部電極２の半径を表す。本実施例では、ｒ＝０．５Ｒ
を境に、調整板７に設けられた開孔部８（調整窓）によ
って、上部電極２のガス噴出孔５の開孔面積を調整して
いる。
【００２２】図５（ｂ）において、調整板７の開孔部８
が二等辺三角形の時、それぞれの開孔面積Ｓは、 Ｓ＝ｈ（ｈ＋２ｉ）ｔａｎθ で表される。この式のように、開孔部８がそれぞれ二等
辺三角形の場合、開孔面積は二等辺三角形の頂角の半分
の角度θで決まる。
が二等辺三角形の時、それぞれの開孔面積Ｓは、 Ｓ＝ｈ（ｈ＋２ｉ）ｔａｎθ で表される。この式のように、開孔部８がそれぞれ二等
辺三角形の場合、開孔面積は二等辺三角形の頂角の半分
の角度θで決まる。
【００２３】また、中心（ｒ＝０）から半径Ｒの半分の
距離（ｒ＝０．５Ｒ）における開孔面積Ｎは、上部電極
２のガス噴出孔５の横の長さｈと、調整板７の開孔部８
の長方形の縦の長さｊとを掛け合わせることにより、 Ｎ＝ｈ×ｊ となる。
距離（ｒ＝０．５Ｒ）における開孔面積Ｎは、上部電極
２のガス噴出孔５の横の長さｈと、調整板７の開孔部８
の長方形の縦の長さｊとを掛け合わせることにより、 Ｎ＝ｈ×ｊ となる。
【００２４】従って、ガス噴出孔５の開孔面積は、０≦
ｒ＜０．５Ｒ及び０．５Ｒ＜ｒ≦Ｒの範囲では、Ｓ＝ｈ
（ｈ＋２ｉ）ｔａｎθ（但し、θはｒによって異なる角
度を有する）で表され、ｒ＝０．５Ｒの時は、Ｎ＝ｈ×
ｊで表される。
ｒ＜０．５Ｒ及び０．５Ｒ＜ｒ≦Ｒの範囲では、Ｓ＝ｈ
（ｈ＋２ｉ）ｔａｎθ（但し、θはｒによって異なる角
度を有する）で表され、ｒ＝０．５Ｒの時は、Ｎ＝ｈ×
ｊで表される。
【００２５】そして、本実施例では、ｒ＝０．５Ｒにお
けるガス噴出孔５を長方形の開孔部８と重なる基準孔と
して、この基準孔よりも外側と内側とにおけるガス噴出
孔５には、逆向きで且つ順に頂角の異なる二等辺三角形
の開孔部８を重ねることによって、調整板７をずらした
際にガス噴出孔５の開孔面積の増減が互いに逆となる。
これにより、中央部と周辺部との間におけるエッチング
ガス密度の調整を、より効率的に行うことができる。
けるガス噴出孔５を長方形の開孔部８と重なる基準孔と
して、この基準孔よりも外側と内側とにおけるガス噴出
孔５には、逆向きで且つ順に頂角の異なる二等辺三角形
の開孔部８を重ねることによって、調整板７をずらした
際にガス噴出孔５の開孔面積の増減が互いに逆となる。
これにより、中央部と周辺部との間におけるエッチング
ガス密度の調整を、より効率的に行うことができる。
【００２６】上述したように、本実施例では調整板７を
スライドさせて上部電極２のガス噴出孔５の開孔面積を
可変にしたが、調整板を回転させてガス噴出孔の開孔面
積を調整できるように、調整板の開孔部を回転方向に沿
って設けてもよい。なお、本実施例の調整板の開孔部の
形状は二等辺三角形及び長方形であるが、特にこれらの
形状にこだわることはなく、例えば曲線によるループ形
状など、電極のガス噴出孔との重ね合わせをずらすこと
により、開孔面積を可変させ、また、開孔面積の増減を
逆転させるような形状及び大きさであれば構わない。即
ち、本発明でいう開孔面積可変手段とは、電極のガス噴
出孔と調整板との重なりの調整によりガス噴出孔の開孔
面積を可変する手段なので、例えば調整板のずらし方や
開孔部の形状及び大きさ等を含めた構成であり、この構
成は各種の有効な変更が可能である。
スライドさせて上部電極２のガス噴出孔５の開孔面積を
可変にしたが、調整板を回転させてガス噴出孔の開孔面
積を調整できるように、調整板の開孔部を回転方向に沿
って設けてもよい。なお、本実施例の調整板の開孔部の
形状は二等辺三角形及び長方形であるが、特にこれらの
形状にこだわることはなく、例えば曲線によるループ形
状など、電極のガス噴出孔との重ね合わせをずらすこと
により、開孔面積を可変させ、また、開孔面積の増減を
逆転させるような形状及び大きさであれば構わない。即
ち、本発明でいう開孔面積可変手段とは、電極のガス噴
出孔と調整板との重なりの調整によりガス噴出孔の開孔
面積を可変する手段なので、例えば調整板のずらし方や
開孔部の形状及び大きさ等を含めた構成であり、この構
成は各種の有効な変更が可能である。
【００２７】なお、本実施例では、エッチング装置につ
いて説明したが、膜を堆積するＣＶＤ装置等の場合でも
同様の構成を用いることにより、堆積速度の面内均一性
を高めることができる。
いて説明したが、膜を堆積するＣＶＤ装置等の場合でも
同様の構成を用いることにより、堆積速度の面内均一性
を高めることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プラズマを用いる処理、例えばエッチングの際に、種々
の条件によって中央部と周辺部でのエッチング速度の差
の傾向が異なる場合でも、電極のガス噴出孔の開孔面積
を中央部と周辺部との間で相対的に変えることができる
ので、エッチングガス密度の調整により処理の均一性を
高めることができる。
プラズマを用いる処理、例えばエッチングの際に、種々
の条件によって中央部と周辺部でのエッチング速度の差
の傾向が異なる場合でも、電極のガス噴出孔の開孔面積
を中央部と周辺部との間で相対的に変えることができる
ので、エッチングガス密度の調整により処理の均一性を
高めることができる。
【図１】本発明によるプラズマ処理装置の一実施例にお
けるエッチング装置の概略断面図である。
けるエッチング装置の概略断面図である。
【図２】上記実施例において上部電極と調整板との配置
関係を示す要部の平面図である。
関係を示す要部の平面図である。
【図３】上記実施例において（ａ）〜（ｅ）は各々図２
のＡ〜Ｅの部分の詳細を示す拡大平面図である。
のＡ〜Ｅの部分の詳細を示す拡大平面図である。
【図４】上記実施例において図３（ｂ）の開孔面積の可
変について説明する拡大平面図である。
変について説明する拡大平面図である。
【図５】上記実施例において（ａ）は上部電極の平面
図、（ｂ）は開孔部が二等辺三角形の場合の開孔面積を
説明する拡大平面図、（ｃ）は開孔部が長方形の場合の
開孔面積を説明する拡大平面図である。
図、（ｂ）は開孔部が二等辺三角形の場合の開孔面積を
説明する拡大平面図、（ｃ）は開孔部が長方形の場合の
開孔面積を説明する拡大平面図である。
【図６】従来のエッチング装置の概略断面図である。
１ チャンバー ２ 上部電極 ３ ガス供給管 ４ ガス供給室 ５ 上部電極のガス噴出孔 ５１、５２、５３、５４、５５ ガス噴出孔の開孔領域 ６ 下部電極 ７ 調整板 ８ 調整板の開孔部 ８１、８２、８３、８４、８５ 開孔部の開孔領域 ９ 被エッチング基板 １０ ガス供給装置
Claims (2)
- 【請求項１】 複数のガス噴出孔が表面に分散して設け
られた第１の電極と被処理体が載置される第２の電極と
が対向するように真空室内に設けられ、且つガス供給室
から前記第１の電極のガス噴出孔を介して前記真空室内
にガスを供給するガス供給手段を備えたプラズマ処理装
置において、 前記第１の電極と重なり合って設けられ、前記ガス噴出
孔の少なくとも一部を塞ぐ調整板と、 前記ガス噴出孔と前記調整板との重なりを調整すること
により、前記ガス噴出孔の開孔面積を可変する開孔面積
可変手段と、を具備することを特徴とするプラズマ処理
装置。 - 【請求項２】 前記開孔面積可変手段は、前記第１の電
極の中心から外端に向かって所定距離離れた位置に配置
されたガス噴出孔を基準孔として、前記基準孔よりも外
側のガス噴出孔の面積が増減する場合に前記基準孔より
も内側のガス噴出孔の面積が逆に減増するように、前記
調整板を制御することを特徴とする請求項１記載のプラ
ズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19752594A JPH0845910A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19752594A JPH0845910A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845910A true JPH0845910A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16375923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19752594A Withdrawn JPH0845910A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845910A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
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