JPH084707B2 - Method for decomposing organic halogen compounds - Google Patents
Method for decomposing organic halogen compoundsInfo
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- JPH084707B2 JPH084707B2 JP63284098A JP28409888A JPH084707B2 JP H084707 B2 JPH084707 B2 JP H084707B2 JP 63284098 A JP63284098 A JP 63284098A JP 28409888 A JP28409888 A JP 28409888A JP H084707 B2 JPH084707 B2 JP H084707B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、有機ハロゲン化合物を効率良く分解するこ
とができる高温プラズマによる有機ハロゲン化合物の分
解方法に関する。ここで、高温プラズマとは、電子のみ
ならず重い粒子の温度も高く、ほぼ熱平衡状態にあるプ
ラズマのことで、低温プラズマに対する用語である。ち
なみに、低温プラズマとは、電子温度は高温プラズマと
同様に例えば104Kぐらいと高いが、イオンや原子などの
重い粒子の温度が例えば300〜500Kというように電子温
度よりも格段に低く、非平衡状態にあるプラズマのこと
である。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for decomposing an organic halogen compound by high-temperature plasma capable of efficiently decomposing the organic halogen compound. Here, the high temperature plasma is a plasma that is in a thermal equilibrium state in which not only electrons but also heavy particles have high temperatures, and is a term for low temperature plasma. By the way, low-temperature plasma has a high electron temperature of, for example, about 10 4 K like high-temperature plasma, but the temperature of heavy particles such as ions and atoms is significantly lower than the electron temperature, such as 300 to 500 K, and It is a plasma in equilibrium.
フロンガス，トリクロロエチレン等の有機化合物中に
フッ素，塩素，臭素を含む有機ハロゲン化合物は、溶
剤，冷媒，消化剤等に幅広くかつ大量に使用されてお
り、産業における重要性が高い。しかしながら、これら
の化合物は揮発性が高く、産業で使用されるものの多く
が、大気，水，土壌等の環境中へ放出され、その結果、
オゾン層の破壊，発がん性物質の生成，変異原性物質の
生成等、環境に対し、深刻な影響を与えることが指摘さ
れている。Organic halogen compounds containing fluorine, chlorine, and bromine in organic compounds such as CFCs and trichlorethylene are widely used in large amounts in solvents, refrigerants, extinguishing agents, etc., and are of high importance in industry. However, these compounds are highly volatile, and most of them used in industry are released into the environment such as air, water and soil, and as a result,
It has been pointed out that it has serious effects on the environment, such as the destruction of the ozone layer, the production of carcinogens, and the production of mutagenic substances.
（従来の技術） 産業から排出されるこれらの化合物は、濃度の低い場
合が多く、適当な排出抑制技術が見い出されていない。
又、使用済みの有機ハロゲン化合物を廃棄処理する場合
には、その反応性が極端に低いため、適切な分解処理方
法がないのが現状である。(Prior Art) These compounds emitted from industry are often low in concentration, and no appropriate emission control technology has been found.
In addition, when the used organic halogen compound is disposed of as a waste, the reactivity is extremely low, and there is currently no suitable decomposition treatment method.
分解処理方法として従来より報告されているものは、
主に高温での燃焼技術である。What has been reported as a decomposition method has been
It is mainly a high temperature combustion technology.
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、この方法では、大量の炭化水素等の燃
料と共に有機ハロゲン化合物を燃焼させるため、エネル
ギー効率が極端に低く、又、燃料タンクや燃焼炉が大型
のため、装置全体を小形化することができない。更に、
燃焼に伴って発生する遊離ハロゲンが高温の炉壁と接触
し、特に、有機フッ素化合物を燃焼させた場合には、炉
の腐蝕が甚だしい。(Problems to be Solved by the Invention) However, in this method, since the organic halogen compound is burned with a large amount of fuel such as hydrocarbon, the energy efficiency is extremely low, and since the fuel tank and the combustion furnace are large, The entire device cannot be miniaturized. Furthermore,
The free halogen generated by the combustion comes into contact with the high temperature furnace wall, and particularly when the organic fluorine compound is combusted, the corrosion of the furnace is severe.
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その
目的は、フロン，トリクレン等の有機ハロゲン化合物を
低濃度であっても高効率で分解することができる有機ハ
ロゲン化合物の分解方法を実現することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to realize a method of decomposing organic halogen compounds such as CFCs and trichlene with high efficiency even at low concentrations. To do.
（課題を解決するための手段） 本発明者は、有機ハロゲン化合物を容易に分解できる
方法について鋭意研究を続けてきた。この結果、高周
波，マイクロ波による誘導加熱方式あるいは直流加熱方
式等によって生成された高温プラズマを用いた分解方法
を見出した。これは、高温プラズマ状態下では物質が非
常に反応性に富む現象を利用したもので、有機ハロゲン
化合物のような難分解性化学物質を短時間で分解できる
ことに基づくものである。(Means for Solving the Problem) The present inventor has conducted earnest research on a method capable of easily decomposing an organic halogen compound. As a result, they have found a decomposition method using high-temperature plasma generated by induction heating method using high frequency or microwave or direct current heating method. This utilizes a phenomenon in which a substance is extremely reactive in a high temperature plasma state, and is based on the fact that a hardly decomposable chemical substance such as an organic halogen compound can be decomposed in a short time.
すなわち、請求項１の発明は、高温プラズマ中に有機
ハロゲン化合物を導入し、有機ハロゲン化合物の分解を
行うようにしたことを特徴とする有機ハロゲン化合物の
分解方法である。That is, the invention of claim 1 is a method for decomposing an organohalogen compound, which comprises introducing the organohalogen compound into high temperature plasma to decompose the organohalogen compound.
請求項２の発明は、高温プラズマ中に有機ハロゲン化
合物と共に水を導入するようにしたことを特徴とする有
機ハロゲン化合物の分解方法である。The invention of claim 2 is a method for decomposing an organohalogen compound, characterized in that water is introduced into the high temperature plasma together with the organohalogen compound.
請求項３の発明は、高温プラズマ中に有機ハロゲン化
合物と共に金属化合物を導入するようにしたことを特徴
とする有機ハロゲン化合物の分解方法である。The invention of claim 3 is a method for decomposing an organic halogen compound, characterized in that a metal compound is introduced into the high temperature plasma together with the organic halogen compound.
高温プラズマ反応装置は、誘導加熱型、直流加熱型等
のものを含み、分解される有機ハロゲン化合物は、気
体，液体及び固体のすべてを含み、0.1ppmから100％ま
での濃度範囲で分解が可能である。又、分解を促進させ
るため、又は分解生成物を安定な化合物とするため、
水，水素，空気，酸素，金属酸化物等を添加してもよ
い。High temperature plasma reactors include induction heating type, DC heating type, etc., and the organohalogen compounds to be decomposed include all of gas, liquid and solid, and can be decomposed in the concentration range from 0.1ppm to 100%. Is. Further, in order to accelerate the decomposition or to make the decomposition product a stable compound,
Water, hydrogen, air, oxygen, metal oxide, etc. may be added.
（作用） 高温プラズマ状態下では、電子のエネルギーが高く、
このような電子が有機ハロゲン化合物と衝突し、分子間
の結合を切ることによって化合物の分解が行われ、又、
高温プラズマの状態では、電子エネルギーによる分解に
加えて、高熱により分解が行われるものと思われる。(Action) Under high temperature plasma conditions, the energy of electrons is high,
When such an electron collides with an organic halogen compound and breaks the bond between molecules, the compound is decomposed.
In the high temperature plasma state, it is considered that the decomposition is caused by high heat in addition to the decomposition by electron energy.
従って、請求項１の発明では、高温プラズマ中に有機
ハロゲン化合物を導入し、有機ハロゲン化合物の分解を
行い、請求項２の発明では、請求項１の発明に加えて、
高温プラズマ中に有機ハロゲン化合物と共に水を導入
し、有機ハロゲン化合物の分解を行う。又、請求項３の
発明では、請求項１の発明に加えて、高温プラズマ中に
有機ハロゲン化合物と共に金属化合物を導入し、有機ハ
ロゲン化合物の分解を行う。Therefore, in the invention of claim 1, the organic halogen compound is introduced into the high temperature plasma to decompose the organic halogen compound. In the invention of claim 2, in addition to the invention of claim 1,
Water is introduced into the high temperature plasma together with the organic halogen compound to decompose the organic halogen compound. Further, in the invention of claim 3, in addition to the invention of claim 1, the metal compound is introduced into the high temperature plasma together with the organic halogen compound to decompose the organic halogen compound.
（発明の効果） 本発明によれば、高温プラズマ状態下でエネルギーの
高い電子が有機ハロゲン化合物と衝突し、分子間の結合
を切ることによって有機ハロゲン化合物の分解が行われ
るとともに、高温プラズマ状態における高熱によっても
有機ハロゲン化合物の分解が行われる。このため、廃棄
物中あるいは排気ガス中のフロンやトリクレン等有機ハ
ロゲン化合物を低濃度であっても高効率で分解すること
ができる。従って、この分解効率の向上により、大量の
有機ハロゲン化合物を分解処理することが可能となる共
に、装置の小形化や簡易化が図られ、更には、可搬性の
分解装置とすることができる。又、本発明は、溶剤，発
泡剤，冷媒，噴射剤として利用される各種の揮発性有機
ハロゲン化合物について、発生源および排気物からの排
出抑制に利用できるものである。そして、ポリ塩化ビフ
ェニル等の固体状有機ハロゲン化合物をも高効率で分解
することも可能である。(Effect of the Invention) According to the present invention, an electron having a high energy collides with an organic halogen compound in a high temperature plasma state to break an intermolecular bond to decompose the organic halogen compound, and at the same time, in a high temperature plasma state. The high temperature also decomposes the organohalogen compound. Therefore, an organic halogen compound such as freon or trichlene in waste or exhaust gas can be decomposed with high efficiency even at a low concentration. Therefore, due to the improvement of the decomposition efficiency, a large amount of organic halogen compounds can be decomposed, the apparatus can be downsized and simplified, and a portable decomposition apparatus can be obtained. Further, the present invention can be used to suppress the emission of various volatile organic halogen compounds used as a solvent, a foaming agent, a refrigerant, and a propellant from a generation source and exhaust gas. It is also possible to decompose a solid organic halogen compound such as polychlorinated biphenyl with high efficiency.
（実施例） 以下、本発明の実施例を示すが、その前に本発明を実
施するための高周波誘導プラズマ装置を図面を用いて説
明する。図中１は誘導プラズマ発生部（トーチ）であ
り、トーチ１は、石英等の絶縁性物質で形成された円筒
状の管2,ガス供給ノズル３および管２の周囲に巻回され
たRFコイル４等によって構成されている。ガス供給ノズ
ル３には、複数の孔５が穿たれており、孔５は、図示し
ていないが、アルゴンガス源や有機ハロゲン化合物源に
接続されている。又、RFコイル４は、図示していない高
周波電源に接続されている。更に、高温プラズマが形成
されるために、管２は二重に形成され、その二重管の間
には冷却水が流されて、管を冷却するように構成され
る。トーチ１の下部には、トーチ内部と連通したチャン
バー６が接続され、更にこのチャンバー６は分解ガス処
理部７に接続されている。なお、トーチ１の上部の孔５
からアルゴンガスと被分解物質とを共に供給するように
構成しないで、トーチ１の側部に孔を設け、被分解物質
は側部の孔から、形成されたプラズマフレームＦの途中
に導入するようにしても良い。このように構成すること
により、高温プラズマをより安定化させることができ
る。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described, but before that, a high-frequency induction plasma apparatus for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In the figure, 1 is an induction plasma generating part (torch), and the torch 1 is an RF coil wound around a cylindrical tube 2, a gas supply nozzle 3 and a tube 2 made of an insulating material such as quartz. It is composed of 4 etc. The gas supply nozzle 3 has a plurality of holes 5 formed therein, which are connected to an argon gas source and an organic halogen compound source, which are not shown. The RF coil 4 is connected to a high frequency power source (not shown). Further, since the high temperature plasma is formed, the tubes 2 are formed in double, and cooling water is flowed between the double tubes to cool the tubes. A chamber 6 communicating with the inside of the torch is connected to the lower portion of the torch 1, and the chamber 6 is further connected to a decomposition gas processing unit 7. In addition, the hole 5 at the top of the torch 1
A hole is provided in the side portion of the torch 1 so that the argon gas and the substance to be decomposed are not supplied together, and the substance to be decomposed is introduced into the formed plasma flame F from the hole in the side portion. You can With this structure, the high temperature plasma can be further stabilized.
図示した装置において、まず、ガス供給ノズル３に穿
たれた孔５から、例えば、アルゴンガスを供給すると共
に、RFコイル４に高周波で駆動する。この状態で、プラ
ズマを点火し、その後、アルゴンガスに加えて、フロン
ガスの如く有機ハロゲン化合物を孔５を介してプラズマ
フレームＦ中に導入された有機ハロゲン化合物は、高温
によりあるいは高温プラズマ中の高エネルギーの電子と
の衝突により分子間結合が切られ、高い効率で分解され
る。分解された分子は、チャンバー６を介して分解ガス
処理部７に導入され、該処理部において、例えば、分解
されたガスは水に吸収される等して、環境に排出されな
い。In the illustrated apparatus, first, for example, argon gas is supplied from the hole 5 formed in the gas supply nozzle 3 and the RF coil 4 is driven at a high frequency. In this state, plasma is ignited, and then, in addition to the argon gas, the organohalogen compound introduced into the plasma flame F through the hole 5 like the freon gas is heated to a high temperature or in the high temperature plasma. The intermolecular bond is broken by the collision of energy with the electron, and it is decomposed with high efficiency. The decomposed molecules are introduced into the decomposed gas processing unit 7 through the chamber 6, and in the processing unit, for example, the decomposed gas is absorbed by water and is not discharged to the environment.
［実施例１］ 表１は有機ハロゲン化合物であるトリクロロフルオロメ
タン（いわゆるフロン−11…CC13F）の分解を行った場
合の実施例を示している。上記したように、最初にアル
ゴンガスをトーチ１内に導入してプラズマを点火後、ア
ルゴンガスと共にトリクロロフルオロメタンを単独で又
は分解促進用試薬と共に高温プラズマ中に導入した。実
験装置では、前述の添附図面に示した構成に加え、チャ
ンバー６と分解ガス処理部７との間にガスクロマトグラ
フ装置を配置して、高温プラズマからのガスの定性およ
び定量分析を行った。[Example 1] Table 1 shows an example in which trichlorofluoromethane (so-called Freon-11 ... CC13F), which is an organic halogen compound, was decomposed. As described above, first, argon gas was introduced into the torch 1 to ignite the plasma, and then trichlorofluoromethane was introduced alone or together with the decomposition promoting reagent into the high temperature plasma. In the experimental apparatus, in addition to the configuration shown in the above-mentioned attached drawings, a gas chromatograph apparatus was arranged between the chamber 6 and the decomposition gas processing unit 7 to perform qualitative and quantitative analysis of gas from high temperature plasma.
又、使用した誘導プラズマ装置の諸条件は、次の通り
である。The conditions of the induction plasma device used are as follows.
アルゴンガス 40/min 高周波源 プレート電圧 6kV プレート電流 2.2A 周波数 4MHz 反応圧力 １気圧 （反応圧力が0.1気圧以上であれば、高温プラズマとな
る。） 表１からわかるように、フロンガスを単独で高温プラ
ズマ中に導入した場合、フロン分解率は99％以上となっ
た。しかし、大量の炭素がチャンバー６の管壁に付着し
た。又、フロンガスと共に水素ガスを導入した場合に
は、分解反応は分解率62％まで進行し、炭素の析出は抑
えられないことが判明した。これに対して、フロンガス
と共に水を混入すると、分解率は99％以上を達成できる
と共に、炭素の生成が著しく抑制されることが明らかと
なった。この場合、気相には塩化水素等のハロゲン化水
素および少量のハロゲンガスが検出された。Argon gas 40 / min High frequency source Plate voltage 6kV Plate current 2.2A Frequency 4MHz Reaction pressure 1 atmosphere (If reaction pressure is 0.1 atmosphere or more, high temperature plasma is generated.) As can be seen from Table 1, when CFC gas was independently introduced into the high temperature plasma, the CFC decomposition rate was 99% or more. However, a large amount of carbon adhered to the tube wall of the chamber 6. It was also found that when hydrogen gas was introduced together with CFC gas, the decomposition reaction proceeded to a decomposition rate of 62% and carbon precipitation could not be suppressed. On the other hand, it has been clarified that when water is mixed with CFC gas, the decomposition rate can reach 99% or more and carbon generation is significantly suppressed. In this case, hydrogen halide such as hydrogen chloride and a small amount of halogen gas were detected in the gas phase.
水素ガスや水の代わりに酸化カルシウム等の金属化合
物を混合すると、塩化カルシウム、フッ化カルシウ等の
金属ハロゲン化物が得られた。この場合にも、分解率は
99％以上であった。When a metal compound such as calcium oxide was mixed instead of hydrogen gas or water, a metal halide such as calcium chloride or calcium fluoride was obtained. Even in this case, the decomposition rate is
It was over 99%.
［実施例２］ 表２は1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロメタ
ン（いわゆるフロン−113…CC12FCC1F2）の分解を行っ
た実施例を示している。この実施例でも、フロン−11と
同様に、フロンガスだけでも分解率は99％以上となった
が、フロンガスに水を混入すると、分解率が99％以上で
更に、炭素の生成が著しく抑制されることが見出され
た。[Example 2] Table 2 shows an example in which 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoromethane (so-called Freon-113 ... CC12FCC1F2) was decomposed. Also in this example, similarly to CFC-11, the decomposition rate was 99% or more only with CFC gas, but when water is mixed into CFC gas, the decomposition rate is 99% or more, and further the generation of carbon is significantly suppressed. It was found.
又、使用した誘導プラズマ装置の諸条件は、実施例１
の場合と同一である。In addition, various conditions of the induction plasma device used are as described in Example 1.
Is the same as the case of.
添附図面は本発明の方法を実施するのに使用する誘導プ
ラズマ装置の一例を示す図である。 １……トーチ、２……管、３……ガス供給ノズル、４…
…RFコイル ５……孔、６……チャンバー、７……分解ガス処理部The accompanying drawings are diagrams showing an example of an induction plasma apparatus used for carrying out the method of the present invention. 1 ... torch, 2 ... pipe, 3 ... gas supply nozzle, 4 ...
… RF coil 5 …… Hole, 6 …… Chamber, 7 …… Decomposition gas treatment part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｂ 6/10 ３０１ 7/00 (72)発明者 肥沼 豊 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術院 公害資源研究所内 (72)発明者 相澤 玲司 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術院 公害資源研究所内 (72)発明者 櫛山 暁 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術院 公害資源研究所内 (72)発明者 小林 悟 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術院 公害資源研究所内 (72)発明者 大内 日出夫 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術院 公害資源研究所内 (72)発明者 久保田 喜郎 東京都昭島市武蔵野３丁目１番２号 日本 電子株式会社内 (72)発明者 天野 高伸 東京都昭島市武蔵野３丁目１番２号 日本 電子株式会社内 (72)発明者 平川 祥治 東京都昭島市武蔵野３丁目１番２号 日本 電子株式会社内 審査官 石井 良夫 (56)参考文献 特開 昭62−33527（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−6231（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−129868（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−78423（ＪＰ，Ａ)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H05B 6/10 301 7/00 (72) Inventor Yutaka Konuma 16-3 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki Industrial technology Institute of Pollution Resources (72) Inventor Reiji Aizawa 16-3 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki Institute of Industrial Technology Pollution Resources Institute (72) Inventor Akira Kushiyama 16-3 Onogawa, Tsukuba, Ibaraki Institute of Pollution Resources ( 72) Inventor Satoru Kobayashi 16-3 Onogawa, Tsukuba City, Ibaraki Institute of Industrial Technology, Institute of Pollution Resources (72) Inventor Hideo Ouchi 16-3 Onogawa, Tsukuba City, Ibaraki Institute of Pollution Resources, Institute of Industrial Technology (72) Inventor Kubota Yoshiro 3-1-2 Musashino, Akishima-shi, Tokyo Japan Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Takanobu Amano 3-Musashino, Akishima-shi, Tokyo 1-2 Electronic Systems Co., Ltd. within Japan Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Shoji Hirakawa 3-1-2 Musashino, Akishima-shi, Tokyo Examination Officer Yoshio Ishii within Japan Electronics Co., Ltd. (56) Reference JP-A-62-33527 (JP, A) JP-A-58-6231 (JP, A) JP-A-51-129868 (JP, A) JP-A-61-78423 (JP, A)
Claims (3)
入し、有機ハロゲン化合物の分解を行うようにしたこと
を特徴とする高温プラズマによる有機ハロゲン化合物の
分解方法。1. A method for decomposing an organic halogen compound by high temperature plasma, which comprises introducing an organic halogen compound into high temperature plasma to decompose the organic halogen compound.
に水を導入するようにしたことを特徴とする請求項１記
載の有機ハロゲン化合物の分解方法。2. The method for decomposing an organic halogen compound according to claim 1, wherein water is introduced into the high temperature plasma together with the organic halogen compound.
に金属化合物を導入するようにしたことを特徴とする請
求項１記載の有機ハロゲン化合物の分解方法。3. The method for decomposing an organic halogen compound according to claim 1, wherein the metal compound is introduced into the high temperature plasma together with the organic halogen compound.
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63284098A JPH084707B2 (en) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | Method for decomposing organic halogen compounds |
| GB8924480A GB2226552B (en) | 1988-11-10 | 1989-10-31 | Method and apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| DE19893936516 DE3936516C2 (en) | 1988-11-10 | 1989-11-02 | Process for the decomposition of halogenated organic compounds and devices for carrying them out |
| US07/433,361 US5026464A (en) | 1988-08-31 | 1989-11-07 | Method and apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| CA002002616A CA2002616C (en) | 1988-11-10 | 1989-11-09 | Method and apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| FR8914717A FR2640148B1 (en) | 1988-11-10 | 1989-11-09 | METHOD AND DEVICE FOR THE DECOMPOSITION OF A HALOGEN ORGANIC COMPOUND AND INDUCTION PLASMA GENERATOR FOR USE THEREOF |
| US07/684,006 US5187344A (en) | 1988-11-10 | 1991-04-11 | Apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| US08/182,539 US5354962A (en) | 1988-11-10 | 1994-01-14 | Apparatus for decomposing halogenated organic compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63284098A JPH084707B2 (en) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | Method for decomposing organic halogen compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02131116A JPH02131116A (en) | 1990-05-18 |
| JPH084707B2 true JPH084707B2 (en) | 1996-01-24 |
Family
ID=17674182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63284098A Expired - Fee Related JPH084707B2 (en) | 1988-08-31 | 1988-11-10 | Method for decomposing organic halogen compounds |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084707B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9759423B2 (en) | 2009-11-27 | 2017-09-12 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Method and device for thermal destruction of organic compounds by an induction plasma |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD299613A7 (en) * | 1990-02-26 | 1992-04-30 | �������@������������@��k�� | PROCESS FOR THE STABLE OPERATION OF PLASMATRONS WITH WATER VAPOR AS PLASMAGAS |
| JP2000133494A (en) | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Microwave plasma generation device and method |
| FR2866414B1 (en) * | 2004-02-18 | 2006-03-17 | Commissariat Energie Atomique | DEVICE AND METHOD FOR DESTRUCTION OF LIQUID, PULVERULENT OR GASEOUS WASTE BY INDUCTIVE PLASMA |
| JP5506342B2 (en) * | 2009-11-24 | 2014-05-28 | 愛知電機株式会社 | Organic waste liquid treatment apparatus and organic waste liquid treatment method |
| WO2021241372A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 日本ゼオン株式会社 | Method for producing monofluoromethane |
| EP4159707A4 (en) * | 2020-05-29 | 2024-08-07 | Zeon Corporation | PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF MONOFLUOROMETHANE |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51129868A (en) * | 1975-05-07 | 1976-11-11 | Fujitsu Ltd | A process for treatment of waste gas |
| JPS586231A (en) * | 1981-07-03 | 1983-01-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Waste gas disposing device |
| CA1225441A (en) * | 1984-01-23 | 1987-08-11 | Edward S. Fox | Plasma pyrolysis waste destruction |
| US5137701A (en) * | 1984-09-17 | 1992-08-11 | Mundt Randall S | Apparatus and method for eliminating unwanted materials from a gas flow line |
| JPS6233527A (en) * | 1985-08-05 | 1987-02-13 | Shinryo Air Conditioning Co Ltd | Exhaust gas treatment method |
-
1988
- 1988-11-10 JP JP63284098A patent/JPH084707B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9759423B2 (en) | 2009-11-27 | 2017-09-12 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Method and device for thermal destruction of organic compounds by an induction plasma |
| US10962222B2 (en) | 2009-11-27 | 2021-03-30 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Device for thermal destruction of organic compounds by an induction plasma |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02131116A (en) | 1990-05-18 |
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