JPH0848647A - インダノン誘導体の製造法 - Google Patents
インダノン誘導体の製造法Info
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- JPH0848647A JPH0848647A JP18599494A JP18599494A JPH0848647A JP H0848647 A JPH0848647 A JP H0848647A JP 18599494 A JP18599494 A JP 18599494A JP 18599494 A JP18599494 A JP 18599494A JP H0848647 A JPH0848647 A JP H0848647A
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- acid
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 工程(a) 一般式 化1
【化1】
〔式中、X1 、X2 、X3 およびX4 は同一または相異
なり、水素原子または反応に不活性な基を表わす。Rは
水素原子、C1 〜C4 アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を表わす。〕で示されるアセトフェノ
ン誘導体に、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応
剤を反応させて、一般式 化2 【化2】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示される化合物を得たのち、工程
(b) 該化合物を酸で処理することを特徴とする、一
般式 化3 【化3】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示されるインダノン誘導体の製造
法。 【効果】 本発明の製造法により一般式 化3で示され
るインダノン誘導体を容易に製造することができる。
なり、水素原子または反応に不活性な基を表わす。Rは
水素原子、C1 〜C4 アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を表わす。〕で示されるアセトフェノ
ン誘導体に、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応
剤を反応させて、一般式 化2 【化2】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示される化合物を得たのち、工程
(b) 該化合物を酸で処理することを特徴とする、一
般式 化3 【化3】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示されるインダノン誘導体の製造
法。 【効果】 本発明の製造法により一般式 化3で示され
るインダノン誘導体を容易に製造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、殺虫剤等の中間体等と
して有用なインダノン誘導体の製造法に関するものであ
る。
して有用なインダノン誘導体の製造法に関するものであ
る。
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、特開平6−56754号公報に、ある種のヒドラゾ
ン系化合物が優れた殺虫、殺ダニ効力を有すること、お
よび該ヒドラゾン系化合物を製造する上である種のイン
ダノン誘導体が有用な中間体となることが知られてお
り、該インダノン誘導体の有利な製造法の開発が望まれ
ていた。
来、特開平6−56754号公報に、ある種のヒドラゾ
ン系化合物が優れた殺虫、殺ダニ効力を有すること、お
よび該ヒドラゾン系化合物を製造する上である種のイン
ダノン誘導体が有用な中間体となることが知られてお
り、該インダノン誘導体の有利な製造法の開発が望まれ
ていた。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、インダノ
ン誘導体の製造法について種々検討した結果、下記一般
式 化4で示されるアセトフェノン誘導体にメチレン付
加能のあるC1 ユニットの反応剤を反応させて得られる
下記一般式 化5で示される化合物を酸で処理すること
により下記一般式 化6で示されるインダノン誘導体が
容易に得られることを見出し、本発明を完成させた。
ン誘導体の製造法について種々検討した結果、下記一般
式 化4で示されるアセトフェノン誘導体にメチレン付
加能のあるC1 ユニットの反応剤を反応させて得られる
下記一般式 化5で示される化合物を酸で処理すること
により下記一般式 化6で示されるインダノン誘導体が
容易に得られることを見出し、本発明を完成させた。
【0003】即ち、本発明は、工程(a) 一般式 化
4
4
【化4】 〔式中、X1 、X2 、X3 およびX4 は同一または相異
なり、水素原子または反応に不活性な基を表わす。Rは
水素原子、C1 〜C4 アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を表わす。〕で示されるアセトフェノ
ン誘導体に、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応
剤(例えば、ホルムアルデヒド、ビス(ジメチルアミ
ノ)メタン等)を反応させて、一般式 化5
なり、水素原子または反応に不活性な基を表わす。Rは
水素原子、C1 〜C4 アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を表わす。〕で示されるアセトフェノ
ン誘導体に、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応
剤(例えば、ホルムアルデヒド、ビス(ジメチルアミ
ノ)メタン等)を反応させて、一般式 化5
【化5】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示される化合物を得たのち工程
(b) 該化合物を酸で処理することを特徴とする、一
般式 化6
意味を表わす。〕で示される化合物を得たのち工程
(b) 該化合物を酸で処理することを特徴とする、一
般式 化6
【化6】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示されるインダノン誘導体を製造す
る方法を提供するものである。
意味を表わす。〕で示されるインダノン誘導体を製造す
る方法を提供するものである。
【0004】本発明において、X1 、X2 、X3 および
X4 で示される反応に不活性な基としては例えば、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等)、C 1 〜C4 アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基等)、C1 〜C4 ハ
ロアルキル基(例えばトリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、テトラフルオロエチル基等)、C1 〜C4
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基、t−ブトキシ基等)、C1 〜C4 ハロアル
コキシ基(例えばトリフルオロメトキシ基、トリクロロ
メトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等)、アミノ
基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、Rで示される置
換されていてもよいフェニル基の置換基としては、例え
ばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子等)、C1 〜C4 アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、t−ブチル基等)、C1 〜C4
ハロアルキル基(例えばトリフルオロメチル基、トリク
ロロメチル基、テトラフルオロエチル基等)、C1 〜C
4 アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、n−
プロポキシ基、t−ブトキシ基等)、C1 〜C4 ハロア
ルコキシ基(例えばトリフルオロメトキシ基、トリクロ
ロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等)、アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、C1 〜C4 ハロアルキルスル
ホニル基(例えばトリフルオロメタンスルホニル基、ト
リクロロメタンスルホニル基等)等が挙げられる。
X4 で示される反応に不活性な基としては例えば、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等)、C 1 〜C4 アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基等)、C1 〜C4 ハ
ロアルキル基(例えばトリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、テトラフルオロエチル基等)、C1 〜C4
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基、t−ブトキシ基等)、C1 〜C4 ハロアル
コキシ基(例えばトリフルオロメトキシ基、トリクロロ
メトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等)、アミノ
基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、Rで示される置
換されていてもよいフェニル基の置換基としては、例え
ばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子等)、C1 〜C4 アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、t−ブチル基等)、C1 〜C4
ハロアルキル基(例えばトリフルオロメチル基、トリク
ロロメチル基、テトラフルオロエチル基等)、C1 〜C
4 アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、n−
プロポキシ基、t−ブトキシ基等)、C1 〜C4 ハロア
ルコキシ基(例えばトリフルオロメトキシ基、トリクロ
ロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等)、アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、C1 〜C4 ハロアルキルスル
ホニル基(例えばトリフルオロメタンスルホニル基、ト
リクロロメタンスルホニル基等)等が挙げられる。
【0005】本発明に用いる原料化合物である一般式
化4で示されるアセトフェノン誘導体としては、例えば
下記のものが挙げられる。 4−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−フルオロフェニルメチルケト
ン 4−クロロフェニル−4−ブロモフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメチルフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメトキシフェニ
ルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−ジフルオロメトキシフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−4−テトラフルオロエトキシフェ
ニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメタンスルホニ
ルフェニルメチルケトン 4−アミノフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−シアノフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−トリフルオロメチルフェニル−4−クロロフェニル
メチルケトン 4−ジフルオロメトキシフェニル−4−クロロフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−2−クロロフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−3−フルオロフェニルメチルケト
ン 4−クロロフェニル−3−トリフルオロメチルフェニル
メチルケトン 4’−クロロプロピオフェノン 2−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 2,5−ジクロロフェニル−4−クロロフェニルメチル
ケトン 3,5−ジメチルフェニル−3−フルオロフェニルメチ
ルケトン 5−クロロ−2−メトキシフェニル−3−フルオロフェ
ニルメチルケトン 4−クロロ−2−ニトロフェニル−3−フルオロフェニ
ルメチルケトン
化4で示されるアセトフェノン誘導体としては、例えば
下記のものが挙げられる。 4−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−フルオロフェニルメチルケト
ン 4−クロロフェニル−4−ブロモフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメチルフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメトキシフェニ
ルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−ジフルオロメトキシフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−4−テトラフルオロエトキシフェ
ニルメチルケトン 4−クロロフェニル−4−トリフルオロメタンスルホニ
ルフェニルメチルケトン 4−アミノフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−シアノフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 4−トリフルオロメチルフェニル−4−クロロフェニル
メチルケトン 4−ジフルオロメトキシフェニル−4−クロロフェニル
メチルケトン 4−クロロフェニル−2−クロロフェニルメチルケトン 4−クロロフェニル−3−フルオロフェニルメチルケト
ン 4−クロロフェニル−3−トリフルオロメチルフェニル
メチルケトン 4’−クロロプロピオフェノン 2−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン 2,5−ジクロロフェニル−4−クロロフェニルメチル
ケトン 3,5−ジメチルフェニル−3−フルオロフェニルメチ
ルケトン 5−クロロ−2−メトキシフェニル−3−フルオロフェ
ニルメチルケトン 4−クロロ−2−ニトロフェニル−3−フルオロフェニ
ルメチルケトン
【0006】一般式 化5で示される化合物としては、
例えば下記のものが挙げられる。 1,2−ジ−(4−クロロフェニル)−2−プロペン−
1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−フルオロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−ブロモフェニル)−1−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−ジフルオロメ
トキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−テトラフルオ
ロエトキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メタンスルホニルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−アミノフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−シアノフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(4−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(4−ジフルオロメ
トキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(2−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(3−フルオロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−メチル−2−プロペ
ン−1−オン 1−(2−クロロフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(2,5−ジクロロ
フェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(3,5−ジメチルフェニル)−2−(3−フルオ
ロフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(5−クロロ−2−メトキシフェニル)−2−(3
−フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロ−2−ニトロフェニル)−2−(3−
フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン
例えば下記のものが挙げられる。 1,2−ジ−(4−クロロフェニル)−2−プロペン−
1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−フルオロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−ブロモフェニル)−1−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−ジフルオロメ
トキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−テトラフルオ
ロエトキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(4−トリフルオロ
メタンスルホニルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−アミノフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−シアノフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(4−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(4−ジフルオロメ
トキシフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(2−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(3−フルオロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロフェニル)−2−メチル−2−プロペ
ン−1−オン 1−(2−クロロフェニル)−2−(4−クロロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オン 2−(4−クロロフェニル)−1−(2,5−ジクロロ
フェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(3,5−ジメチルフェニル)−2−(3−フルオ
ロフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(5−クロロ−2−メトキシフェニル)−2−(3
−フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン 1−(4−クロロ−2−ニトロフェニル)−2−(3−
フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン
【0007】本発明において工程(a)の一実施態様と
して、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応剤とし
てホルムアルデヒドを用いる方法(以下、工程(a−
1)と記す。)が挙げられる。工程(a−1)におい
て、反応は、通常、酸触媒および塩基性触媒の存在下で
行なう。酸触媒の具体的な例としては、例えば、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸等が挙
げられ、塩基性触媒の具体的な例としては、例えば、ピ
ペリジン、ピロリジン、モルホリン、ピリジン、ピコリ
ン等の有機塩基等が挙げられる。該反応は通常0.2〜2
4時間かけて、通常20〜150℃、望ましくは60〜
130℃の範囲の温度で行われる。反応は通常、溶媒中
で行ない、用いられる溶媒としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級脂肪族アル
コール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素溶媒、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロルエタ
ン等のハロゲン系炭化水素溶媒、およびそれらの混合物
が挙げられる。用いられる試剤の量比は、一般式 化4
で示されるアセトフェノン誘導体1モルに対して、ホル
ムアルデヒドが通常1〜15モルの割合、望ましくは2
〜5モルの割合であり、酸触媒は通常0.01〜2モルの
割合、望ましくは0.05〜0.5モルの割合であり、塩基
触媒は通常0.01〜2モルの割合、望ましくは0.05〜
0.3モルの割合である。尚、反応溶媒として芳香族炭化
水素溶媒やハロゲン系炭化水素溶媒を用いる場合の好ま
しい反応方法として、反応にて発生する水を溶媒との共
沸により系外へ除く方法があり、これにより、反応時間
の短縮、収率の向上が可能となる。反応終了後の反応液
は、水を加えて有機溶媒で抽出、必要に応じて希硫酸等
の酸による洗浄を行った後、濃縮等の通常の後処理を行
ない、あるいは水を加えて析出した生成物を濾過等の操
作し、必要であれば、再結晶やクロマトグラフィー等に
よりさらに精製し、一般式 化5で示される化合物を単
離することが出来る。
して、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応剤とし
てホルムアルデヒドを用いる方法(以下、工程(a−
1)と記す。)が挙げられる。工程(a−1)におい
て、反応は、通常、酸触媒および塩基性触媒の存在下で
行なう。酸触媒の具体的な例としては、例えば、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸等が挙
げられ、塩基性触媒の具体的な例としては、例えば、ピ
ペリジン、ピロリジン、モルホリン、ピリジン、ピコリ
ン等の有機塩基等が挙げられる。該反応は通常0.2〜2
4時間かけて、通常20〜150℃、望ましくは60〜
130℃の範囲の温度で行われる。反応は通常、溶媒中
で行ない、用いられる溶媒としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級脂肪族アル
コール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素溶媒、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロルエタ
ン等のハロゲン系炭化水素溶媒、およびそれらの混合物
が挙げられる。用いられる試剤の量比は、一般式 化4
で示されるアセトフェノン誘導体1モルに対して、ホル
ムアルデヒドが通常1〜15モルの割合、望ましくは2
〜5モルの割合であり、酸触媒は通常0.01〜2モルの
割合、望ましくは0.05〜0.5モルの割合であり、塩基
触媒は通常0.01〜2モルの割合、望ましくは0.05〜
0.3モルの割合である。尚、反応溶媒として芳香族炭化
水素溶媒やハロゲン系炭化水素溶媒を用いる場合の好ま
しい反応方法として、反応にて発生する水を溶媒との共
沸により系外へ除く方法があり、これにより、反応時間
の短縮、収率の向上が可能となる。反応終了後の反応液
は、水を加えて有機溶媒で抽出、必要に応じて希硫酸等
の酸による洗浄を行った後、濃縮等の通常の後処理を行
ない、あるいは水を加えて析出した生成物を濾過等の操
作し、必要であれば、再結晶やクロマトグラフィー等に
よりさらに精製し、一般式 化5で示される化合物を単
離することが出来る。
【0008】本発明において工程(a)の他の実施態様
として、メチレン付加能のあるC1ユニットの反応剤と
してビス(ジメチルアミノ)メタンを用いる方法(以
下、工程(a−2)と記す。)が挙げられる。工程(a
−2)において、反応は、通常無水酢酸の共存下に行わ
れる。該反応は通常0.2〜24時間かけて、通常0〜8
0℃、望ましくは0〜30℃の範囲の温度で行われる。
反応は通常、溶媒中で行ない、用いられる溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素溶媒、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロルエ
タン等のハロゲン系炭化水素溶媒、およびそれらの混合
物が挙げられる。用いられる試剤の量比は一般式 化4
で示されるアセトフェノン誘導体1モルに対して、ビス
(ジメチルアミノ)メタンが通常1〜5モルの割合、無
水酢酸が通常1〜20モルの割合である。反応終了後の
反応液は、水を加えて有機溶媒で抽出、必要に応じて炭
酸水素ナトリウム水溶液等による洗浄を行った後、濃縮
等の通常の後処理を行ない、必要であれば再結晶やクロ
マトグラフィー等によりさらに精製することにより、一
般式 化5で示される化合物を単離することが出来る。
として、メチレン付加能のあるC1ユニットの反応剤と
してビス(ジメチルアミノ)メタンを用いる方法(以
下、工程(a−2)と記す。)が挙げられる。工程(a
−2)において、反応は、通常無水酢酸の共存下に行わ
れる。該反応は通常0.2〜24時間かけて、通常0〜8
0℃、望ましくは0〜30℃の範囲の温度で行われる。
反応は通常、溶媒中で行ない、用いられる溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素溶媒、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロルエ
タン等のハロゲン系炭化水素溶媒、およびそれらの混合
物が挙げられる。用いられる試剤の量比は一般式 化4
で示されるアセトフェノン誘導体1モルに対して、ビス
(ジメチルアミノ)メタンが通常1〜5モルの割合、無
水酢酸が通常1〜20モルの割合である。反応終了後の
反応液は、水を加えて有機溶媒で抽出、必要に応じて炭
酸水素ナトリウム水溶液等による洗浄を行った後、濃縮
等の通常の後処理を行ない、必要であれば再結晶やクロ
マトグラフィー等によりさらに精製することにより、一
般式 化5で示される化合物を単離することが出来る。
【0009】工程(b)において用いられる酸として
は、例えば、強酸性のプロトン酸〔酸強度が硫酸と同等
以上の強酸性無機酸{例えば、硫酸(濃度は通常98〜
50%、望ましくは98〜75%のものを用いる)や、
塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等}や強酸性有機酸
(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸等)〕等が挙げられる。使用
する酸の量比は、一般式化5で示される化合物1モルに
対して、通常1〜100モルの割合である。酸処理は通
常1〜24時間かけて、通常0〜60℃、望ましくは0
〜30℃の温度範囲で、通常無溶媒または芳香族炭化水
素溶媒(例えばベンゼン、トルエン、キシレン等)やハ
ロゲン系炭化水素溶媒(例えばモノクロルベンゼン、1,
2−ジクロルエタン等)等の存在下で行われる。反応終
了後の反応液は、氷水に注加後、有機溶媒で抽出、濃縮
等の通常の後処理を行い、必要であれば、再結晶やクロ
マトグラフィー等によりさらに精製することにより、目
的の一般式 化6で示されるインダノン誘導体を単離す
ることが出来る。
は、例えば、強酸性のプロトン酸〔酸強度が硫酸と同等
以上の強酸性無機酸{例えば、硫酸(濃度は通常98〜
50%、望ましくは98〜75%のものを用いる)や、
塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等}や強酸性有機酸
(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸等)〕等が挙げられる。使用
する酸の量比は、一般式化5で示される化合物1モルに
対して、通常1〜100モルの割合である。酸処理は通
常1〜24時間かけて、通常0〜60℃、望ましくは0
〜30℃の温度範囲で、通常無溶媒または芳香族炭化水
素溶媒(例えばベンゼン、トルエン、キシレン等)やハ
ロゲン系炭化水素溶媒(例えばモノクロルベンゼン、1,
2−ジクロルエタン等)等の存在下で行われる。反応終
了後の反応液は、氷水に注加後、有機溶媒で抽出、濃縮
等の通常の後処理を行い、必要であれば、再結晶やクロ
マトグラフィー等によりさらに精製することにより、目
的の一般式 化6で示されるインダノン誘導体を単離す
ることが出来る。
【0010】本発明に用いる原料化合物である一般式
化4で示されるアセトフェノン誘導体は、例えば、下記
反応式 化7
化4で示されるアセトフェノン誘導体は、例えば、下記
反応式 化7
【化7】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示される方法、また下記反応式 化
8
意味を表わす。〕で示される方法、また下記反応式 化
8
【化8】 〔式中、X1 、X2 、X3 およびRは前記と同じ意味を
表わす。R′はC1 〜C 4 アルキル基(例えば、メチル
基、エチル基等)を表わす。〕で示される方法により得
ることが出来る。
表わす。R′はC1 〜C 4 アルキル基(例えば、メチル
基、エチル基等)を表わす。〕で示される方法により得
ることが出来る。
【0011】本発明の方法により得られる一般式 化6
で示されるインダノン誘導体は、特開平6−56754
号公報に記載の方法等により、殺虫、殺ダニ剤の有効成
分化合物であるヒドラゾン化合物に導くことができる。
で示されるインダノン誘導体は、特開平6−56754
号公報に記載の方法等により、殺虫、殺ダニ剤の有効成
分化合物であるヒドラゾン化合物に導くことができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明を実施例等にてより具体的に説
明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるもので
はない。尚、得られた生成物の純度は 1H−NMRスペ
クトルおよびガスクロマトグラフィーを用いた内部標準
法(GC−IS法)により求めた。得られた生成物の収
率は、単離した生成物の重量とガスクロマトグラフィー
を用いた内部標準法(GC−IS法)により求めた。G
C−IS法では、単離した純粋な目的物と内部標準物質
とのガスクロマトグラフィーの検出強度の比を求め、次
に反応終了後の反応液に一定量の内部標準物質を加え、
ガスクロマトグラフィーの検出強度比により純度および
収率を算出した。使用したガスクロマトグラフィーカラ
ムは、ワイドボアのキャピラリーカラムのDB−1(J
&W サイエンティフィック株式会社製))0.53mm×
30mを用い、キャリアーはヘリウム5ml/minである。
明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるもので
はない。尚、得られた生成物の純度は 1H−NMRスペ
クトルおよびガスクロマトグラフィーを用いた内部標準
法(GC−IS法)により求めた。得られた生成物の収
率は、単離した生成物の重量とガスクロマトグラフィー
を用いた内部標準法(GC−IS法)により求めた。G
C−IS法では、単離した純粋な目的物と内部標準物質
とのガスクロマトグラフィーの検出強度の比を求め、次
に反応終了後の反応液に一定量の内部標準物質を加え、
ガスクロマトグラフィーの検出強度比により純度および
収率を算出した。使用したガスクロマトグラフィーカラ
ムは、ワイドボアのキャピラリーカラムのDB−1(J
&W サイエンティフィック株式会社製))0.53mm×
30mを用い、キャリアーはヘリウム5ml/minである。
【0013】実施例1 4−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケトン
3.96gをメタノール40g中に加え、これに37%ホ
ルムアルデヒド水溶液4.5g、プロピオン酸0.24gお
よびピペリジン0.20gを添加し、昇温し、加熱還流下
2時間攪拌した。冷却後、反応液を水に加え、析出した
結晶を濾過、水洗し、淡黄色結晶の1,2−ジ−(4−ク
ロロフェニル)−2−プロペン−1−オン4.15g〔収
率91%(後記純度より補正済みの価)〕を得た。ガス
クロマトグラフィーの分析結果より純度は89%であっ
た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.9〜7.7(2H,
m)、7.5 〜7.2(6H, m)、5.8(2H, d) mass(FD):m/e親ピーク 276 ここで得られた1,2−ジ−(4−クロロフェニル)−2
−プロペン−1−オン1.39gを96%硫酸8.34gに
氷冷下で添加し、0〜5℃で3時間攪拌した後20〜2
5℃で5時間攪拌した。反応液を氷水に加え、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水洗した。溶媒を減圧下に留去し
て、薄茶色結晶の5−クロロ−2−(4−クロロフェニ
ル)−2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−オン1.2
5g〔収率85%(後記純度より補正済みの価)〕を得
た。ガスクロマトグラフィーの分析結果より純度は84
%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.8〜7.7(2H,
m)、7.6 〜7.0(5H, m)、3.9(1H, dd) 、3.7(1H, dd) 、
3.2(1H, dd) mass(FD):m/e親ピーク 276
3.96gをメタノール40g中に加え、これに37%ホ
ルムアルデヒド水溶液4.5g、プロピオン酸0.24gお
よびピペリジン0.20gを添加し、昇温し、加熱還流下
2時間攪拌した。冷却後、反応液を水に加え、析出した
結晶を濾過、水洗し、淡黄色結晶の1,2−ジ−(4−ク
ロロフェニル)−2−プロペン−1−オン4.15g〔収
率91%(後記純度より補正済みの価)〕を得た。ガス
クロマトグラフィーの分析結果より純度は89%であっ
た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.9〜7.7(2H,
m)、7.5 〜7.2(6H, m)、5.8(2H, d) mass(FD):m/e親ピーク 276 ここで得られた1,2−ジ−(4−クロロフェニル)−2
−プロペン−1−オン1.39gを96%硫酸8.34gに
氷冷下で添加し、0〜5℃で3時間攪拌した後20〜2
5℃で5時間攪拌した。反応液を氷水に加え、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水洗した。溶媒を減圧下に留去し
て、薄茶色結晶の5−クロロ−2−(4−クロロフェニ
ル)−2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−オン1.2
5g〔収率85%(後記純度より補正済みの価)〕を得
た。ガスクロマトグラフィーの分析結果より純度は84
%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.8〜7.7(2H,
m)、7.6 〜7.0(5H, m)、3.9(1H, dd) 、3.7(1H, dd) 、
3.2(1H, dd) mass(FD):m/e親ピーク 276
【0014】実施例2 4−クロロフェニル−4−フルオロフェニルメチルケト
ン2.49gをトルエン5g中に加え、これにビス(ジメ
チルアミノ)メタン1.53gを添加し、室温攪拌下、無
水酢酸1.53gを滴下した。この後、室温で5時間攪拌
し、反応液を水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を1%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、溶媒を減圧
下に留去して、薄茶色結晶の1−(4−クロロフェニ
ル)−2−(4−フルオロフェニル)−2−プロペン−
1−オン2.77g〔収率83%(後記純度より補正済み
の価)〕を得た。ガスクロマトグラフィーの分析結果
は、純度75%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.8(2H,
m)、7.5 〜6.9(6H, m)、5.8(2H, d) mass(FD):m/e親ピーク 260 ここで得られた1−(4−クロロフェニル)−2−(4
−フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン2.65
gを96%硫酸14.6gに氷冷下で添加し、0〜5℃で
4時間攪拌した後20〜25℃で5時間攪拌した。反応
液を氷水に加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を水
洗した。溶媒を減圧下に留去して、淡黄色結晶の5−ク
ロロ−2−(4−フルオロフェニル)−2,3−ジヒドロ
−1H−インデン−1−オン2.03g〔収率92%(後
記純度より補正済みの価)〕を得た。ガスクロマトグラ
フィーの分析結果より純度は90%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.9〜7.7(2H,
m)、7.7 〜6.9(5H, m)、3.9(1H, dd) 、3.7(1H, dd) 、
3.2(1H, dd) mass(FD):m/e親ピーク 260
ン2.49gをトルエン5g中に加え、これにビス(ジメ
チルアミノ)メタン1.53gを添加し、室温攪拌下、無
水酢酸1.53gを滴下した。この後、室温で5時間攪拌
し、反応液を水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を1%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、溶媒を減圧
下に留去して、薄茶色結晶の1−(4−クロロフェニ
ル)−2−(4−フルオロフェニル)−2−プロペン−
1−オン2.77g〔収率83%(後記純度より補正済み
の価)〕を得た。ガスクロマトグラフィーの分析結果
は、純度75%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.8(2H,
m)、7.5 〜6.9(6H, m)、5.8(2H, d) mass(FD):m/e親ピーク 260 ここで得られた1−(4−クロロフェニル)−2−(4
−フルオロフェニル)−2−プロペン−1−オン2.65
gを96%硫酸14.6gに氷冷下で添加し、0〜5℃で
4時間攪拌した後20〜25℃で5時間攪拌した。反応
液を氷水に加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を水
洗した。溶媒を減圧下に留去して、淡黄色結晶の5−ク
ロロ−2−(4−フルオロフェニル)−2,3−ジヒドロ
−1H−インデン−1−オン2.03g〔収率92%(後
記純度より補正済みの価)〕を得た。ガスクロマトグラ
フィーの分析結果より純度は90%であった。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 7.9〜7.7(2H,
m)、7.7 〜6.9(5H, m)、3.9(1H, dd) 、3.7(1H, dd) 、
3.2(1H, dd) mass(FD):m/e親ピーク 260
【0015】次に、本発明に用いる原料化合物である一
般式 化4で示されるアセトフェノン誘導体の製造例を
示す。 参考例1 4−フルオロフェニル酢酸7.7gをモノクロルベンゼン
7.7gに加え、室温攪拌下、塩化チオニル8.9gを滴下
した。昇温し、90℃で30分攪拌後、過剰の塩化チオ
ニルを減圧下留去することにより、4−フルオロフェニ
ル酢酸クロリドのモノクロルベンゼン溶液を得た。この
溶液にモノクロルベンゼン15gを追加し、塩化アルミ
ニウム7.0gを添加後、90℃で2時間攪拌した。冷却
後、反応マスを水に加え、酢酸エチルで抽出し、溶媒を
減圧下留去して、淡黄色結晶の4−クロロフェニル−4
−フルオロフェニルメチルケトン11.3gを得た。該粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
純度96%の4−クロロフェニル−4−フルオロフェニ
ルメチルケトン8.53g(4−フルオロフェニル酢酸か
らの収率67%)を得た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.8(2H,
m)、7.5 〜7.3(2H, m)、7.3 〜7.1(2H, m)、7.1 〜6.9
(2H, m)、4.2(2H, s)
般式 化4で示されるアセトフェノン誘導体の製造例を
示す。 参考例1 4−フルオロフェニル酢酸7.7gをモノクロルベンゼン
7.7gに加え、室温攪拌下、塩化チオニル8.9gを滴下
した。昇温し、90℃で30分攪拌後、過剰の塩化チオ
ニルを減圧下留去することにより、4−フルオロフェニ
ル酢酸クロリドのモノクロルベンゼン溶液を得た。この
溶液にモノクロルベンゼン15gを追加し、塩化アルミ
ニウム7.0gを添加後、90℃で2時間攪拌した。冷却
後、反応マスを水に加え、酢酸エチルで抽出し、溶媒を
減圧下留去して、淡黄色結晶の4−クロロフェニル−4
−フルオロフェニルメチルケトン11.3gを得た。該粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
純度96%の4−クロロフェニル−4−フルオロフェニ
ルメチルケトン8.53g(4−フルオロフェニル酢酸か
らの収率67%)を得た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.8(2H,
m)、7.5 〜7.3(2H, m)、7.3 〜7.1(2H, m)、7.1 〜6.9
(2H, m)、4.2(2H, s)
【0016】参考例2 エタノール13.7gとナトリウムエチラート4.08gの
混合液に攪拌下、4−クロロフェニル酢酸メチル6.14
gと4−クロロフェニルアセトニトリル4.55gの混合
液を滴下した。反応液を昇温し、加熱還流下4時間保温
した。冷却後、氷水200gに注加し、エーテルにて抽
出した。有機層を水洗後、溶媒を減圧下留去して淡黄色
結晶の1−(4−クロロフェニル)−2−(4−クロロ
フェニル)−2−シアノエタン−1−オン7.74gを得
た。この1−(4−クロロフェニル)−2−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエタン−1−オン6.20gを
60%硫酸29.1gに攪拌下で加え、混合液を昇温し、
10時間還流させた。冷却後、氷水400gに注加し、
エーテル抽出した。油層を水洗後、5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、溶媒を減圧下留去して、白色結晶
の4−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケト
ン4.72gを得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、純度98%の4−クロロフェニ
ル−4−クロロフェニルメチルケトン4.11g(4−ク
ロロフェニル酢酸メチルからの収率58%)を得た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.9(2H,
m)、7.6 〜7.4(2H, m)、7.4 〜7.2(2H, m)、7.2 〜7.1
(2H, m)、4.2(2H, s)
混合液に攪拌下、4−クロロフェニル酢酸メチル6.14
gと4−クロロフェニルアセトニトリル4.55gの混合
液を滴下した。反応液を昇温し、加熱還流下4時間保温
した。冷却後、氷水200gに注加し、エーテルにて抽
出した。有機層を水洗後、溶媒を減圧下留去して淡黄色
結晶の1−(4−クロロフェニル)−2−(4−クロロ
フェニル)−2−シアノエタン−1−オン7.74gを得
た。この1−(4−クロロフェニル)−2−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエタン−1−オン6.20gを
60%硫酸29.1gに攪拌下で加え、混合液を昇温し、
10時間還流させた。冷却後、氷水400gに注加し、
エーテル抽出した。油層を水洗後、5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、溶媒を減圧下留去して、白色結晶
の4−クロロフェニル−4−クロロフェニルメチルケト
ン4.72gを得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、純度98%の4−クロロフェニ
ル−4−クロロフェニルメチルケトン4.11g(4−ク
ロロフェニル酢酸メチルからの収率58%)を得た。1 H−NMR (CDCl3 /TMS) δ(ppm): 8.0〜7.9(2H,
m)、7.6 〜7.4(2H, m)、7.4 〜7.2(2H, m)、7.2 〜7.1
(2H, m)、4.2(2H, s)
【0017】
【発明の効果】本発明により、一般式 化6で示される
インダノン誘導体を容易に製造することが出来る。
インダノン誘導体を容易に製造することが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 伸一郎 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 工程(a) 一般式 化1 【化1】 〔式中、X1 、X2 、X3 およびX4 は同一または相異
なり、水素原子または反応に不活性な基を表わす。Rは
水素原子、C1 〜C4 アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を表わす。〕で示されるアセトフェノ
ン誘導体に、メチレン付加能のあるC1 ユニットの反応
剤を反応させて、一般式 化2 【化2】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示される化合物を得たのち、工程
(b) 該化合物を酸で処理することを特徴とする、一
般式 化3 【化3】 〔式中、X1 、X2 、X3 、X4 およびRは前記と同じ
意味を表わす。〕で示されるインダノン誘導体の製造
法。 - 【請求項2】 X1 、X2 およびX4 が水素原子である
請求項1に記載の製造法。 - 【請求項3】 メチレン付加能のあるC1 ユニットの反
応剤がホルムアルデヒドである請求項1に記載の製造
法。 - 【請求項4】 メチレン付加能のあるC1 ユニットの反
応剤がビス(ジメチルアミノ)メタンである請求項1に
記載の製造法。 - 【請求項5】 酸が強酸性のプロトン酸である請求項1
に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18599494A JPH0848647A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | インダノン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18599494A JPH0848647A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | インダノン誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0848647A true JPH0848647A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16180513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18599494A Pending JPH0848647A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | インダノン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0848647A (ja) |
-
1994
- 1994-08-08 JP JP18599494A patent/JPH0848647A/ja active Pending
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