JPH0848893A - 新規ベンゾジフラノン化合物およびそれを用いる疎水性繊維材料の染色または捺染方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 良好な諸堅牢度、特に後加工後等における優
れた洗濯堅牢度を有し、染色力、ビルドアップ正等の染
色特性に優れる、ポリエステル繊維材料等の疎水性繊維
材料を染色あるいは捺染するに好適な新規なベンゾジフ
ラノン化合物を提供する。 【構成】 下記式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａは置換されていてもよいフェニル基またはナ
フチル基、Ｂは置換されてもよいチエニル基またはベン
ゾチエニル基を表わす。）で示されるベンゾジフラノン
化合物およびそれを用いて疎水性繊維を染色または捺染
する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なベンゾジフラノ
ン化合物およびそれ用いて疎水性繊維材料を染色または
捺染する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】疎水性繊維の染色または捺染に用いられ
ているベンゾジフラノン化合物としては、例えば、特開
昭５２−１０９５２６号公報、特開平３−７２５７１号
公報等に種々のものが記載されている。複素環を有する
ベンゾジフラノン化合物としては、例えば、特開平６−
４９３７８号公報、ヨーロッパ特許第２５２４０６号明
細書（ＥＰ２５２４０６Ｂ１）等に種々のものが記載さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、消費者の衣料品
に対する高級化指向に伴ない、染色特性が優れ、染色適
性が広く、且つ堅牢度の良好な分散染料の要求が強い。
この様な背景のもとで、分散染料で染色された疎水性繊
維を含有する素材においては、高付加価値化をはかる
為、柔軟加工、帯電防止および風合い向上などの種々の
後加工が行われるようになったが、これらの後加工は高
温下で行われるため、染料がブリードし、湿潤堅牢度、
特に、洗濯堅牢度が低下する問題があった。

【０００４】洗濯堅牢度の良好な分散染料を開発する意
図で、数多くのアゾ系またはアントラキノン系化合物が
提案されているが、これらのほとんどは、前記した後加
工後の洗濯堅牢度が低下するという欠点を完全に解消す
るには至っていない。また、公知のベンゾジフラノン化
合物は染色特性、染色適性および堅牢度を同時に満足す
るものではなく、さらに改良が望まれている。

【０００５】

【問題を解決するための手段】本発明者は、疎水性繊維
材料、特にポリエステル繊維を、優れた染色特性で鮮明
な色相に染色または捺染でき、耐光、昇華および水など
の諸堅牢度に優れ、特に洗濯堅牢度が優れた染色物を提
供し得る化合物を見いだすべく鋭意検討の結果、本発明
を完成するに至った。

【０００６】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）

【０００７】

【化３】

【０００８】〔式中、Ａは、非置換若しくは少なくとも
一つの基で置換されたフェニル基（ここに、置換された
基としては、ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていて
もよい低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェ
ニル基、低級アルコキシフェニル基、フェノキシ基、低
級アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいカル
バモイル基若しくはスルファモイル基、メルカプト基、
置換されていてもよい低級アルケニル基、低級アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アシ
ル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アシロキシ基または水酸基を表わす。）、一般式
（ＩＩ）

【０００９】

【化４】

【００１０】 ₄ アルキル基を表わす。〕を表わし、Ｒ¹ は、メチレン
基、または水酸基、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシ基若しくはＣ
₁ 〜Ｃ₄ アルキルカルボニルオキシ基で置換されていて
もよい直鎖若しくは分岐のＣ₂ 〜Ｃ₅ アルキレン基を表
わし、Ｘ² は、− はＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基を表わす。〕、 は前記と同じ意味を表わす。〕で示される二価基、また
は直接結合を表わし、Ｅ ¹ およびＥ² は、同一または相
異なり、水素原子またはＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基を表わ
し、Ｌは、０または１〜３の整数を表わし、Ｑは、置換
されていてもよい５、６または７員の飽和若しくは不飽
和の複素環残基を表わす。）で示される１〜３個の置換
基により置換されているフェニル基、またはナフチル基
を表わし、Ｂは非置換チエニル基、非置換ベンゾチエニ
ル基、または少なくとも一つの基で置換されたチエニル
基若しくはベンゾチエニル基（ここに、置換された基と
しては、ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていてもよ
い低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェニル
基、低級アルコキシフェニル基、フェノキシ基、チエニ
ル基、ピリジニル基、シアノ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、置換されていてもよいカルバモイル基若しくは
スルファモイル基、メルカプト基、置換されていてもよ
いアルケニル基、低級アルキルチオ基、アリールチオ
基、アシルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級ア
ルキルアミノ基、アシル基、低級アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基またはアシロキシ基を表わ
す。）を表わす。〕で示されるベンゾジフラノン化合
物。（以下、本発明化合物と記す。）およびそれを用い
ることを特徴とする疎水性繊維を染色または捺染する方
法（以下、本発明方法と記す。）を提供するものであ
る。

【００１１】本発明においてＡで表される基としては、
置換あるいは非置換のフェニル基が好ましく、また、Ｂ
で表される基としては、置換あるいは非置換のチエニル
基が好ましい。

【００１２】本発明において、ハロゲン原子はフッ素原
子、塩素原子、臭素原子および沃素原子を意味し、塩素
原子および臭素原子が好ましく、また、低級とはＣ₁ 〜
Ｃ₈を意味し、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ が好ましい。

【００１３】本発明において、Ａ、Ｂ上の置換基のう
ち、置換されていてもよいカルバモイルおよびスルファ
モイル基としては下記式（ＩＩＩ）

【００１４】

【化５】

【００１５】〔式中、Ｌ₁ およびＬ₂ は、同一または相
異なり、水素原子、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキ のが等が挙げられ、また、Ａ、Ｂ上の置換基のうちアリ
ールチオ基およびアリールスルホニル基のアリール置換
基としてはフェニル基等が挙げられ、さらに、Ａ、Ｂ上
の置換基のうち、アシル基としては、アセチル基、クロ
ロアセチル基、フェニルアセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、イソブチリル基、メチルスルホニル基、ｐ
−トルエンスルホニル基、非置換ベンゾイル基、および
ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル、Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ アルコキシ基またはヒドロキシ基によって置換され
たベンゾイル基等が挙げられる。

【００１６】本発明において、Ａ、Ｂ上の置換基のう
ち、アシロキシ基としては、下記式（ＩＶ）

【００１７】

【化６】

【００１８】〔式中、ＴはＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルコキシ基を表わ
す。〕で示されるもの等が挙げられる。

【００１９】本発明において、Ａ、Ｂ上の置換基のう
ち、アシルアミノ基としては、アセチルアミノ基等が挙
げられる。

【００２０】本発明において、Ａ、Ｂ上の置換基のうち
置換されていてもよい低級アルキル基若しくは低級アル
コキシ基、または低級アルケニル基の置換基としては、
Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル基、Ｃ₁-Ｃ₄ アルコキシＣ₁-Ｃ₄ アル
キル基、Ｃ₁-Ｃ₄ アルコキシＣ₁-Ｃ₄ アルキコキシ、Ｃ
₁-Ｃ₄ アルキルカルボニル、Ｃ₁-Ｃ₄ アルコキシカルボ
ニル、Ｃ₁-Ｃ₄ アルコキシカルボニルオキシ基、Ｃ₁-Ｃ
₄ アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁-Ｃ₄ アルコキシＣ₁-
Ｃ₄ アルキルカルボニルオキシ基、シクロヘキシル基、
フェニル基、ジフェニル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
シアノ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、Ｃ₁-Ｃ₄ ア
ルキルチオ基、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルスルフィニル基、Ｃ₁-
Ｃ₄ アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ス
ルファモイル基、ベンゾイル基、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルアミ
ノ基、ジＣ₁-Ｃ₄ アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジＣ₁-Ｃ
₄ アルキルアミノ−Ｎ−Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルアミノ基、Ｃ
₁-Ｃ₄ アルキルスルフォニルアミノ基、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキ
ルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

【００２１】 であり、Ｒ³ としては、水素原子およびメチル基が好ま
しい。

【００２２】本発明において、一般式（ＩＩ）のＬは、
Ｘ² が−Ｏ−を表わす場合には１〜３の整数が好まし
く、さらに好ましくは１または２であり、Ｘ² が直接結
合を表わす場合には０が好ましい。

【００２３】本発明において、一般式（ＩＩ）のＱの複
素環残基の置換基としては、１若しくは２個のハロゲン
原子、水酸基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アル
コキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキルカルボニル基、Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ アルコキシカルボニル基、シアノ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アル
キル基で置換されていてもよい１、２若しくは３級アミ
ノ基およびＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基で置換されていてもよ
い環内の炭素原子と二重結合した酸素原子で表されるケ
ト基からなる群から選ばれるものが好ましい。

【００２４】また、環内の炭素原子と二重結合した酸素
原子で表されるケト基としては、例えば、下記構造式の
ものが挙げられる。

【００２５】

【化７】

【００２６】本発明において、一般式（ＩＩ）のＱの不
飽和の複素環残基としては、フリル基、チエニル基、ピ
ロリル基、ピリジル基、ピラニル基、チアゾリル基、オ
キザゾリル基、ピラゾリル基、ピラジル基、イミダゾリ
ル基、チアジアゾリル基、ｓ−トリアジニル基、ベンゾ
フラニル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンズ
オキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基またはベンゾチ
アゾリル基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピロリ
ル基、ピリジル基、ピラニル基、チアゾリル基、オキザ
ゾリル基、、ピラジル基、イミダゾリル基、チアジアゾ
リル基およびｓ−トリアジニル基等が挙げられる

【００２７】本発明において、一般式（ＩＩ）のＱの飽
和の複素環残基としては、テトラヒドロフリル基、テト
ラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリ
ジル基、ピロリジル基、ピペラジル基、モルホリニル
基、ヘキサヒドロアゼピニル基等が挙げられ、好ましく
は、１若しくは２個のＣ₁-Ｃ₄ アルキル基を有してもよ
い２−テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル
基、ピペリジル基、ピロリジル基およびモルホリニル基
等が挙げられる。

【００２８】また、本発明において、一般式（ＩＩ）の
Ｑのその他の複素環残基としては、ベンゼン環と融合し
た複素環残基、例えば、ベンゾフラニル基、ベンゾチエ
ニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾ
イミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

【００２９】本発明化合物は、例えば、次のようにして
製造することができる。すなわち、本発明化合物は、一
般式（Ｖ）

【００３０】

【化８】

【００３１】 〔Ａは前記の意味を表わす。〕で示され
るベンゾフラノン化合物と、一般式（ＶＩ）

【００３２】

【化９】

【００３３】〔式中、Ｂは前記の意味を表わし、Ｚは−
ＣＯＧ¹ 、−ＣＯ₂ Ｇ² または−ＳＯ ₂ Ｇ³ （ここに、
Ｇ¹ 、Ｇ² およびＧ³ は、それぞれ独立にＣ₁-Ｃ₄ アル
キルまたは置換されてもよいフェニル基を表わす。）で
示される基を表わす。〕で示されるアセトニトリル化合
物とを溶媒中、反応させ、次いで酸化剤を用いて酸化す
ることにより製造することができる。

【００３４】反応温度の範囲は、３０〜１８０℃、好ま
しくは５０〜１２０℃であり、反応時間の範囲は、０．
５〜４８時間、好ましくは、２〜２４時間である。溶媒
としては、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭素類等、好
ましくはトルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１，−トリク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ト
リクロロエチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、或
いはそれらの混合溶媒が挙げられる。

【００３５】触媒は必ずしも必要ではないが、無置換ま
たは置換ベンゼンスルホン酸（例えば、ベンゼンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼン−１，３−ジ
スルホン酸）、アルカンスルホン酸（例えば、メタンス
ルホン酸）、ハロゲン化低級アルカンカルボン酸（例え
ば、トリフルオロ酢酸）、ルイス酸（例えば、四塩化チ
タン、塩化アルミニウム、塩化第一および第二錫、塩化
第一および第二鉄、塩化亜鉛および三フッ化ホウ素）お
よび鉱酸（例えば、硫酸、リン酸および塩酸）等の酸性
触媒を触媒量用いることで好ましい。酸化剤としては、
クロラニル、ブロムアニル、チオ硫酸塩、亜硝酸塩、次
亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過硫
酸塩、過沃素酸塩、過硝酸塩、過マンガン塩、バナジン
酸塩、重クロム酸塩、硝酸沃素、テトラクロロハイドロ
キノン、二酸化鉛、二酸化マンガン、五酸化バナジウ
ム、ニトロベンゼン、ジシアノジクロロベンゾキノン、
過酸化水素水、大気の酸素等が挙げられる。

【００３６】反応に供される試剤の量は、ベンゾフラノ
ン化合物（Ｖ）１モルに対して、アセトニトリル化合物
（ＶＩ）および酸化剤は、それぞれ０．８〜１．５モ
ル、０．８〜１．５モルである。反応終了後の反応液
は、アルコール等を加え結晶を析出させた後、濾過、必
要に応じ、アルコールまたは水等にて洗浄、等の通常の
後処理を行ない、さらに、必要に応じ、再結晶等の操作
により精製する。

【００３７】アセトニトリル化合物（ＶＩ）は、例え
ば、一般式（ＶＩＩ）

【００３８】

【化１０】

【００３９】〔式中、Ｂは前記の意味を表わす。〕で示
されるアルデヒド化合物と、シアン化カリウム、シアン
化カリウムなどの金属シアン化物とを、一般式（ＶＩＩ
Ｉ）

【００４０】

【化１１】

【００４１】〔式中、Ｚは前記の意味を表わし、Ｈａｌ
はハロゲン原子を表わす。〕で示される酸ハライドと
を、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等の四級
アンモニウム塩などの相間移動触媒のの存在下に反応さ
せることにより製造することができる。反応温度の範囲
は、−１０〜８０℃、好ましくは、０〜４０℃であり、
反応時間の範囲は、０．５〜４８時間、好ましくは、１
〜２４時間である。溶媒は必ずしも必要ではないが、溶
媒を用いる場合は、例えば、水と、クロロホルム、ジク
ロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、モノクロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、等
の有機溶媒との混合溶媒の二層系にて反応させる。

【００４２】反応に供される試剤の量は、アルデヒド化
合物（ＶＩＩ）１モルに対して、金属シアン化物および
酸ハライド（ＶＩＩＩ）は、それぞれ１．０〜２．０モ
ル、１．０〜２．０モルである。反応終了後の反応液
は、有機溶媒抽出および濃縮、必要に応じ、硫酸ナトリ
ウム等で乾燥、等の通常の後処理を行い、さらに、必要
に応じ、蒸留、クロマトグラフィー等の操作により精製
する。また、反応終了後の反応液は、そのまま次の本発
明化合物を製造する反応に供することもできる。

【００４３】アセトニトリル化合物（ＶＩ）および酸ハ
ライド（ＶＩＩＩ）において、Ｚで表される置換基とし
ては、アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−またはｉ
ｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−、ｉｓｏ−またはｔ
−ブチルカルボニル基等のアルキルカルボニル基、ベン
ゾイル基、ｏ−、ｍ−またはｐ−メチルベンゾイル基、
ｏ−、ｍ−またはｐ−メトキシベンゾイル基、ｏ−、ｍ
−またはｐ−ニトロベンゾイル基等のフェニルカルボニ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
ｎ−またはｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−、ｉ
ｓｏ−またはｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシ
カルボニル基、ベンゼンオキシカルボニル基、ｐ−メチ
ルベンゼンオキソカルボニル基、パラニトロベンゼンオ
キシカルボニル基等のフェノキシカルボニル基、メタン
スルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−またはｉｓｏ
−プロパンスルホニル基、ｎ−またはｉｓｏ−ブタンス
ルホニル基等のアルカンスルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、４−メチル−２−
ニトロベンゼンスルホニル等のフェニルスルホニル基等
が挙げられる。

【００４４】本発明化合物は、疎水性繊維材料、特にポ
リエステル繊維材料の染色または捺染に有用である。例
えば、本発明化合物は、通常染料として用いる場合の常
法によって適当な分散剤、例えば、ナフタレンスルホン
酸とホルムアルデヒドの縮合物やリグニンスルホン酸な
どとともに水性媒体中で微細な粒子に粉砕して染料分散
液を得ることができる。染料分散液は、そのまま液状ま
たはスプレー乾燥などによって粉末状として用いること
ができる。本発明方法における染色は、水性媒体中に疎
水繊維材料を浸漬し、加圧下１５０℃以上好ましくは１
１０〜１４０℃で行うことができる。また、ｏ−フェニ
ルフェノールやトリクロロベンゼンなどのキャリヤーの
存在下で比較的高温、たとえば水の沸騰状態で染色する
か、または染料分散液をパデイングし、１５０〜２３０
℃で３０〜６０秒間の乾燥処理をする所謂サーモゾル染
色をすることも可能である。

【００４５】一方、本発明方法における捺染の場合は、
染料分散液を適当な糊剤とともに練り合わせ、これを布
にパデイングし、スチーミングまたはサーモゾル処理を
して染色を行うことができる。またトリクロロエチレン
やパークロロエチレンなどの有機溶剤を染色媒体とした
溶剤染色法も可能である。

【００４６】得られた染色物に、必要に応じて柔軟加
工、はっ水加工、風合い向上加工、帯電防止加工、衛生
加工などの種々の後加工を行うことができ、後加工にお
いても諸堅牢度、特に洗濯堅牢度が低下することはない
という特徴を有する。

【００４７】本発明化合物を用いて疎水性繊維材料、特
にポリエステル繊維材料を染色あるいは捺染して得られ
る染色物は、耐光堅牢度、昇華堅牢度、湿潤堅牢度など
諸堅牢度に優れ、特にヒートセットあるいは後加工後に
おいても洗濯堅牢度が低下しないという特徴を有する。

【００４８】また、本発明化合物は、染色特性、特に染
色力およびビルドアップ性に優れており、濃色で染めむ
らのない染色物を容易に得られることができる。スポー
ツウエア、新合繊およびマイクロファイバーなどの衣料
の場合、濃色染めが望まれること及び頻繁に洗濯が行わ
れるため、洗濯堅牢度が優れることが不可欠であること
から、本発明化合物はこの様な衣料の染色に、卓越した
性能を発揮する。又他の染料と併用してもよく、染色性
の向上、色調の改変など好結果を期待することができ
る。

【００４９】

【実施例】以下に本発明を実施例によって詳細の説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。なお例中、部は重量部であり、％は重量％で
ある。

【００５０】実施例１ シアノ化ナトリウム０．６３部、ベンジルトリエチルア
ンモニウムクロリド０．０２部およびチオフェン−２−
カルボキシアルデヒド１．１２部をクロロホルム３０部
および水３０部中に加え、その後、室温で４時間保っ
た。有機層をクロロホルム２０部で３回抽出し、水３０
部で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、クロロホルムを留
去し、１−ベンゾイルオキシ−１−チエニル−アセトニ
トリルを高収率、高純度で得た。 ＩＲ（ＫＢｒ）ν／cm^-1 １７２０（ｓ），２２４０
（ｓ）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃)δ／ｐｐｍ ６．９０（ｓ，
１Ｈ），７．８０（ｍ，１Ｈ），７．４５（ｍ，２
Ｈ），７．４７（ｔ，１Ｈ），７．５０（ｍ，１Ｈ），
７．６３（ｔ，１Ｈ），８．０７（ｍ，２Ｈ）

【００５１】１−ベンゾイルオキシ−１−チエニル−ア
セトニトリル３．３７部、５−ヒドロキシ−２−オキソ
−３−フェニル−２，３−ジヒドロベンゾフラン２．２
６部、ｐ−トルエンスルホン酸２．０６部および水０．
２２部をモノクロルベンゼン３３部中に加え、８０℃で
５時間保った後に、クロラニル２．４６部を加え、１時
間８０℃に保った。室温まで冷却した後、メタノール３
０部を加え、冷却下１時間撹拌した。生成した結晶を濾
別し、メタノール１５０部で洗浄後さらに水３０部で洗
浄して、乾燥して、下記式

【００５２】

【化１２】

【００５３】で示される化合物を高収率、高純度で得
た。この化合物のＤＭＦ溶液は、赤色を呈した（λｍａ
ｘ＝５１５ｎｍ）。

【００５４】実施例２ 実施例１で得られた化合物１．０部をナフタレンスルホ
ン酸とホルムアルデヒド縮合物３．０部とともに水性媒
体中で微粒化分散した。この染料分散液を乾燥して得ら
れた粉末０．６部を含む洗浴にテトロンジャージ（ポリ
エステル布、帝人（株）製品）１０部を浸し、加圧下１
３０〜１３５℃で６０分間染色を行った。ついで染色物
をカセイソーダ３部、ハイドロサルファイト３部、ベタ
イン型両性界面活性剤３部と水３．０００部からなる処
理液で８５℃で１０分間還元洗浄処理を行い、水洗、乾
燥したところ、鮮明な赤色の染色物が得られ、その耐
光、昇華および湿潤堅牢度は優れたものであった。得ら
れた染色物に下記の方法に従って柔軟帯電防止加工を行
った。パット槽に、スミテックスソフテナーＬＫ−１
（住友化学工業（株）製柔軟加工剤）１０ｇ／ｌおよび
スミスタットＦ−１（住友化学工業（株）製帯電防止
剤）５ｇ／ｌなる組成のパッド液を調整し、この液に染
色物を浸した後、重量増加率８０％まで均一に絞った。
再度染色物を液に浸し、同様に絞った後、８０℃で２分
間中間乾燥を行い、ついで１７０℃で１分間ヒートセッ
トを行った。こうして得られた後加工後の洗濯堅牢度を
測定したところ、極めて優れた結果が得られた。

【００５５】実施例３ 実施例１で得られた化合物１．３部にリグニンスルホン
酸３．７部を加えて微粒化分散し、これに温湯３５部と
下記組成のハーフエマルジョン糊６０部とを混合して捺
染糊を調整した。 Ｏ／Ｗエマルジョン ３００部 メイプロガムＮＰ１２％ペースト ６９４部 塩素酸ナトリウム ４部 酒 石 酸 ２部 ──────────────────────────── 計 １, ０００部 この捺染糊を用いてテトロントロピカル（ポリエステル
布、帝人（株）製）に印捺し、乾燥後常圧の高温スチー
マーで１７０℃、７分間スチーミングして固着させ、実
施例２記載方法に従って還元洗浄処理、水洗、乾燥、柔
軟・帯電防止加工の順に行った。こうして得られた赤色
の染色物は、耐光、昇華および湿潤堅牢度に優れ、特に
洗濯堅牢度が優れていた。

【００５６】実施例４ １−ベンゾイルオキシ−１−（５−メチルチエニル）−
アセトニトリル３．３７部、５−ヒドロキシ−２−オキ
ソ−３−フェニル−２，３−ジヒドロベンゾフラン２．
２６部、ｐ−トルエンスルホン酸２．０６部および水
０．２２部をモノクロルベンゼン３３部中に加え、８０
℃で５時間保った後に、クロラニル２．４６部を加え、
１時間８０℃に保った。室温まで冷却した後、メタノー
ル３０部を加え、冷却下１時間撹拌した。生成した結晶
を濾別し、メタノール１５０部で洗浄後さらに水３０部
で洗浄して、乾燥して、下記式

【００５７】

【化１３】

【００５８】で示される化合物を高収率、高純度で得
た。この化合物のＤＭＦ溶液は、青味の赤色を呈した
（λｍａｘ＝５３７ｎｍ）。この化合物を用いて実施例
２と同様にして得られた染色物は優れた耐光、昇華およ
び洗濯堅牢度を示し、特に洗濯堅牢度が優れていた。

【００５９】実施例５ １−ベンゾイルオキシ−１−（５−メチルチエニル）−
アセトニトリル３．３７部、５−ヒドロキシ−２−オキ
ソ−３−（４−メトキシフェニル）−２，３−ジヒドロ
ベンゾフラン２．２６部、ｐ−トルエンスルホン酸２．
０６部および水０．２２部をモノクロルベンゼン３３部
中に加え、８０℃で５時間保った後に、クロラニル２．
４６部を加え、１時間８０℃に保った。室温まで冷却し
た後、メタノール３０部を加え、冷却下１時間撹拌し
た。生成した結晶を濾別し、メタノール１５０部で洗浄
後さらに水３０部で洗浄して、乾燥して、下記式

【００６０】

【化１４】

【００６１】で示される化合物を高収率、高純度で得
た。この化合物のＤＭＦ溶液は、赤味の青色を呈した
（λｍａｘ＝５６３ｎｍ）。この化合物を用いて実施例
２と同様にして得られた染色物は優れた耐光、昇華およ
び洗濯堅牢度を示し、特に洗濯堅牢度が優れていた。

【００６２】実施例６ 実施例４において使用した５−ヒドロキシ−２−オキソ
−３−フェニル２，３−ジヒドロベンゾフランの代わり
に下表第２欄の化合物、１−ベンゾイルオキシ−１−
（５−メチルチエニル）−アセトニトリルの代わりに下
表第３欄の化合物を用いて実施例４と同様に合成し、各
々対応するベンゾジフラノン化合物を得、実施例２の方
法に従いポリエステル布を染色し、下表、第４欄に示す
色調の染色物を得た。これらの化合物はいずれも優れた
洗濯堅牢度示した。

【００６３】

【表１】

【００６４】

【表２】

【００６５】

【表３】

【００６６】

【表４】

【００６７】

【表５】

【００６８】

【表６】

【００６９】

【表７】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横川 和史 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内 (72)発明者 植田 泰嘉 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ａは、非置換若しくは少なくとも一つの基で置
   換されたフェニル基（ここに、置換された基としては、
   ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級ア
   ルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェニル基、低級
   アルコキシフェニル基、フェノキシ基、低級アルコキシ
   カルボニル基、置換されていてもよいカルバモイル基若
   しくはスルファモイル基、メルカプト基、置換されてい
   てもよい低級アルケニル基、低級アルキルチオ基、アリ
   ールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、低級アルキル
   アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アシル基、低級ア
   ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシロキ
   シ基または水酸基を表わす。）、一般式（ＩＩ） 【化２】 ₄ アルキル基を表わす。〕を表わし、Ｒ¹ は、メチレン
   基、または水酸基、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシ基若しくはＣ
   ₁ 〜Ｃ₄ アルキルカルボニルオキシ基で置換されていて
   もよい直鎖若しくは分岐のＣ₂ 〜Ｃ₅ アルキレン基を表
   わし、Ｘ² は、− はＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基を表わす。〕、 は前記と同じ意味を表わす。〕で示される二価基、また
   は直接結合を表わし、Ｅ ¹ およびＥ² は、同一または相
   異なり、水素原子またはＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基を表わ
   し、Ｌは、０または１〜３の整数を表わし、Ｑは、置換
   されていてもよい５、６または７員の飽和若しくは不飽
   和の複素環残基を表わす。）で示される１〜３個の置換
   基により置換されているフェニル基、またはナフチル基
   を表わし、Ｂは非置換チエニル基、非置換ベンゾチエニ
   ル基、または少なくとも一つの基で置換されたチエニル
   基若しくはベンゾチエニル基（ここに、置換された基と
   しては、ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていてもよ
   い低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェニル
   基、低級アルコキシフェニル基、フェノキシ基、チエニ
   ル基、ピリジニル基、シアノ基、低級アルコキシカルボ
   ニル基、置換されていてもよいカルバモイル基若しくは
   スルファモイル基、メルカプト基、置換されていてもよ
   いアルケニル基、低級アルキルチオ基、アリールチオ
   基、アシルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級ア
   ルキルアミノ基、アシル基、低級アルキルスルホニル
   基、アリールスルホニル基またはアシロキシ基を表わ
   す。）を表わす。〕で示されるベンゾジフラノン化合
   物。
2. 【請求項２】Ｑがハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ ア
   ルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルコキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキ
   ルカルボニル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルコキシカルボニル基、
   シアノ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル基で置換されていてもよ
   い１、２若しくは３級アミノ基およびＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキ
   ル基で置換されていてもよい環内の炭素原子と二重結合
   した酸素原子で表されるケト基からなる群から選ばれる
   １若しくは２個の置換基を有していてもよい５、６また
   は７員の飽和若しくは不飽和の複素環残基である請求項
   １記載の化合物。
3. 【請求項３】不飽和の複素環残基がフリル基、チエニル
   基、ピロリル基、ピリジル基、ピラニル基、チアゾリル
   基、オキザゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、
   チアジアゾリル基、ｓ−トリアジニル基、ベンゾフラニ
   ル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンズオキサ
   ゾリル基、ベンゾイミダゾリル基またはベンゾチアゾリ
   ル基である請求項２記載の化合物。
4. 【請求項４】飽和の複素環残基が、テトラヒドロフリル
   基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル
   基、ピペリジル基、ピロリジル基、ピペラジニル基、モ
   ルホリニル基、ヘキサヒドロアゼピニル基である請求項
   ２記載の化合物。
5. 【請求項５】Ｑが、１若しくは２個のＣ₁ 〜Ｃ₄ アルキ
   ル基を有していてもよい２−テトラヒドロフリル基、テ
   トラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピロリジル基ま
   たはモルホニル基である請求項２記載の化合物。
6. 【請求項６】請求項１ないし５のいずれかに記載の化合
   物を用いることを特徴とする疎水性繊維を染色または捺
   染する方法。