JPH0850363A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

電子写真感光体の製造方法

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JPH0850363A
JPH0850363A JP18453794A JP18453794A JPH0850363A JP H0850363 A JPH0850363 A JP H0850363A JP 18453794 A JP18453794 A JP 18453794A JP 18453794 A JP18453794 A JP 18453794A JP H0850363 A JPH0850363 A JP H0850363A
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隆司 鎌倉
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光体層を均一な厚さに形成するための製造
方法を提供する。 【構成】 アルミニウム又はその合金からなる導電性支
持体の表面に陽極酸化処理及び封孔処理を行い、更に相
対湿度が15%以上の空気中で該支持体を1時間以上放
置した後に、感光体層を被覆形成することを特徴とする
電子写真感光体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、静電複写機やレーザ
ービームプリンタの感光ドラム等に用いられる電子写真
感光体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、電子写真感光体は、アルミニウ
ムからなる導電性支持体に感光体層が被覆されたものに
構成されるが、かかる感光体層として有機物系材料を用
いた有機感光体(OPC感光体)が、製膜性、低価格性
等の面で優れているところから、広く用いられている。
そして、OPC感光体の機能、特性をさらに向上させる
ために、近年、感光体を電荷発生層(CGL)と電荷移
動層(CTL)を有するものに構成した積層型のOPC
感光体が提供されている。
【0003】
【解決すべき課題】従来、アルミニウムからなる導電性
支持体を用いる場合、上記感光体層、特に電荷発生層と
の密着性等の向上を目的として、該支持体に予め下地処
理として硫酸法等による陽極酸化処理更に熱水等による
封孔処理を施し、支持体表面に陽極酸化皮膜を形成する
ことが一般的であった。ところで、該封孔処理後直ちに
感光体層を塗布形成した場合、時として画像欠陥が多発
するという問題点が見出された。
【0004】本発明者らは、かかる問題点を解消すべく
鋭意検討した結果、かかる画像欠陥が、該陽極酸化皮膜
表面の活性度の不均一さに起因して、感光体層、特に通
常1μm以下の厚さの電荷発生層の厚さが不均一となる
ことによることを見出し、かかる問題を解決するため、
更に検討した結果、封孔処理の後、適当な環境条件下
で、適当な時間該支持体を放置することで、感光体層を
均一に形成し得ることを見出し、本発明に到達した。本
発明は、感光体層特に電荷発生層を均一な厚さに形成す
るための製造方法を提供するものである。
【0005】
【問題点を解決するための手段】本発明は、感光体層、
特に電荷発生層を塗布するまえの下地処理として、アル
ミニウム又はその合金からなる導電性支持体の表面に陽
極酸化処理及び封孔処理を行い、更に相対湿度15%以
上の空気中で該支持体を1時間以上放置した後に、感光
体層を被覆形成することを特徴とする、電子写真感光体
の製造方法を要旨とするものである。
【0006】
【手段の具体的な説明】以下、本発明を詳細に説明す
る。電子写真感光体用のアルミニウム支持体は、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金の成分、形状、製法等に種
々の種類があるが、本発明においては、アルミニウムを
主成分とし、表面に陽極酸化被膜を形成し得るものな
ら、公知のいかなるアルミニウム支持体でも用い得る。
上記アルミニウム支持体に陽極酸化処理を施すに際し、
前処理として、脱脂、中和、水洗等を行っても構わな
い。これら前処理の方法は公知の方法でよく、特に限定
されない。
【0007】陽極酸化処理法としては、公知の硫酸法、
しゅう酸法、リン酸法等いずれでもかまわないが、硫酸
法を用いることが特に望ましい。硫酸法の場合は、硫酸
濃度を160〜200g/l(望ましくは170〜19
0g/l)、溶存アルミニウム濃度を3〜8g/l(望
ましくは4〜6g/l)、浴温度を8〜23℃(望まし
くは10〜21℃)、給電法を直接給電、間接給電及び
両者の併用給電、電流密度を1.0〜2.0A/dm2
(望ましくは1.0〜1.5A/dm2 )として処理を
行う。
【0008】尚、陽極酸化被膜の厚さは、3〜10μm
が望ましく、目的により適宜最適厚さを得るために、処
理時間を選択する。陽極酸化処理の後、上水、純水等に
よる水洗工程を経て熱水封孔処理を行う。熱水封孔処理
は、比抵抗が1〜2Mohm・cmの純水を用い、液温
度を80〜98℃(望ましくは90〜95℃)、処理時
間を10〜25分(望ましくは13〜19分)として実
施するが、陽極酸化皮膜表面の状態、特に活性度をでき
るだけ均一に保つために、液のpH値を5〜8、望まし
くは6〜7にコントロールすることが重要である。
【0009】なお、熱水封孔処理の前に、酢酸ニッケル
封孔処理をおこなっても構わない。この場合の処理は、
酢酸ニッケル濃度を5〜20g/l(望ましくは10〜
15g/l)、液温度を80〜98℃(望ましくは90
〜95℃)、pH値を5.06.0(望ましくは5.3
〜5.8)、処理時間を10〜25分(望ましくは13
〜19分)として実施する。
【0010】ここで、酢酸ニッケル封孔処理を行った場
合は、公知の上水、純水等による洗浄を実施した後、前
記の熱水封孔処理を行うことが望ましい。また、熱水封
孔処理の後に、公知の純水・アルコール等による洗浄、
更に、熱風・赤外線等による乾燥を行うことが望まし
い。以上の処理だけでは陽極酸化皮膜の表面状態、特に
活性度の均一性を十分に保つことが困難であるため、熱
水封孔処理後、該支持体を下記の環境下で1時間以上放
置し、陽極酸化皮膜表面の活性度の不均一さを緩和する
ことが特に重要である。
【0011】放置を行う際の環境的な条件として、相対
湿度が15%以上望ましくは25〜35%であることが
必要である。温度については特に制約はないが、結露を
生じさせないようにできるだけ均一になるように保つこ
とが望ましい。また、放置中にほこり等の異物が該支持
体表面に付着することを防止するために、該支持体を箱
等の中に収納するおよび/またはクラス100,000
以内のクリーン度を有するクリーンルーム内で放置する
等の対策を施すことが好ましい。
【0012】以上のような下地処理の後、感光体層を塗
布形成する。かかる感光体層としては、単層型の有機感
光体層、また電荷発生層と電荷輸送層が積層された構造
の機能分離型感光体層のどちらであってもよい。本発明
における電子写真感光体形成用塗料としては電荷発生材
料及び/または電荷輸送材料を含む塗布液、ポリビニル
アルコール、カゼイン、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリル酸、アルロース類、ゼラチン、でんぷん、ポリウ
レタン、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルブチラー
ル、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルカ
ルバゾール等のポリマーを含む塗布液或いはこれらポリ
マーに導電性の微粉末を分散した塗布液などが挙げられ
る。
【0013】上記電荷発生材料としては、アゾ系顔料、
ペリレン系顔料、アントラキノン系顔料、多環キノン系
顔料、インジゴイド系顔料、フタロシアニン系顔料、カ
ルボニウム系顔料、キノンイミン系顔料、メチン系顔
料、キノリン系顔料、ニトロ系顔料、ニトロソ系顔料、
ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、ナフタルイミド
系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等公知の電荷発
生剤が挙げられる。上記電荷輸送材料としては電子の輸
送媒体或いはホールの輸送媒体を使用することができ、
またその混合物も使用できる。電子の輸送媒体としては
ニトロ基、シアノ基、エステル基等の電子吸引性基を有
する電子吸引性化合物、例えば、2,4,7−トリニト
ロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロフルオ
レノン等のニトロ化フルオレノン或いはテトラシアノジ
メタンが挙げられる。また、ホールの輸送媒体としては
電子供与性の有機光導電性化合物、例えば、カルバゾー
ル、インドール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾ
ール、オキサジアゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チ
アジアゾール等の複素環化合物、トリフェニルメタンと
その誘導体、トリフェニルアミンとその誘導体、フェニ
レンジアミン誘導体、N−フェニルカルバゾール誘導
体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン化合物等が挙げられ
る。
【0014】上記塗布液を調製するための媒体として
は、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、4−メトキシ−4−
メチルペンタノン−2、ジメトキシメタン、ジメトキシ
エタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサン、メタノール、エタ
ノール、2−プロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ジメチルスルホキシド、2,4−ペンタンジオン、3−
オキソブタン酸メチル等が挙げられる。
【0015】電荷発生材料及び/または電荷輸送材料は
前記分散溶媒に単独または適切なバインダー樹脂と共に
分散されて塗布液をなすが、その他に該塗布液は分散
剤、別のバインダー樹脂、別の有機溶剤、酸化防止剤、
感度劣化防止剤、レベリング剤、その他公知の各種添加
剤を含有しても良い。塗布液中の固形分の含有量は主と
して形成すべき層の膜厚に応じて形成されるが、積層型
の電荷発生層を形成する場合には固形分濃度15重量%
以下、より好ましくは1〜10重量%とすると良い。
【0016】積層型の電荷発生層の厚さは、通常5μm
以下好ましくは0.01〜1μmが適当である。電荷移
動層の厚さは、通常10〜40μm好ましくは10〜2
5μmが適当である。前記感光体層の塗布方法として
は、従来から知られている方法で良いが、生産性という
観点では、ディップ塗布法が好適である。
【0017】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
るが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【0018】
【実施例】A3003合金を用いた外径30mm、長さ
250mm、肉厚0.75mmのEI管をアルミニウム
支持体として用い、一般的な前処理(脱脂、中和、水
洗)を行った後、硫酸濃度180g/l、溶存アルミニ
ウム濃度4.5g/l、浴温度18℃、電流密度1.3
A/dm2 の条件下で陽極酸化皮膜5μmを得た。その
後、酢酸ニッケル系封孔剤(奥野製薬工業製、DX−5
00、濃度13g/l)を用いて、液温度95℃、pH
5.5の条件下で14分間酢酸ニッケル封孔処理を行
い、更にpH7の熱水にて、液温度95℃の条件下で1
4分間熱水封孔処理を行った。
【0019】上記の処理後、直ちに公知の洗浄及び乾燥
を行い、相対湿度20%、温度23℃の環境下で1時間
以上該支持体を放置したのちに、電荷発生層のディップ
塗布を行った。電荷発生層塗布用溶液として、
【0020】
【表1】 フタロシアニン系顔料 4部 ポリビニルブチラール樹脂 1部 フェノキシ樹脂 1部 ジメトキシエタン 153部 4−メトキシ−4−メチルペンタノン2 17部
【0021】の組成をもち、固形分濃度3.4wt%の
ものを用いた。また、塗布時の引上げ速度は250mm
/分で実施した。以上の条件で形成した電荷発生層の厚
さを図1に示す。
【0022】「比較例」熱水封孔処理後、電荷発生層を
塗布形成するまでの放置時間を1時間未満としたこと以
外は、実施例と同様の原料、下地処理方法、塗布方法で
形成した電荷発生層の厚さを図1に示す。図1(電荷発
生層厚さと熱水封孔処理後の放置時間の関係)より、比
較例(放置時間1時間未満の領域)においては、放置時
間の変化に対して大幅に電荷発生層の厚さが変わるのに
対し、
【0023】実施例(放置時間1時間以上の領域)にお
いては、放置時間によらず電荷発生層の厚さがほぼ一定
であることがわかる。以上の結果から、本発明によって
製造した実施品は、電荷発生層が安定して均一に形成さ
れ得ることを確認した。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、下地処理としてアルミ
ニウムからなる導電性支持体の表面に陽極酸化処理及び
封孔処理を施し、更に相対湿度が15%以上の空気中で
該支持体を1時間以上放置した後に、感光体層を塗布形
成することにより、均一な感光体層を有する電子写真感
光体を好適に製造することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電荷発生層厚さと熱水封孔処理後の放置時間の
関係を示した図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミニウム又はその合金からなる導電
    性支持体の表面に陽極酸化処理及び封孔処理を行い、更
    に相対湿度が15%以上の空気中で該支持体を1時間以
    上放置した後に、感光体層を被覆形成することを特徴と
    する電子写真感光体の製造方法。
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