JPH08510588A - 電界放出素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 電界放出素子は、アノード（１）とカソード（２）を具え、両方が、誘電体材料から形成される基体（３）上に置かれ、アノード（１）は、対向するカソード（２）の縁の高さ（ＢＢ）より下方の高さ（ＡＡ）に置かれる。

Description

【発明の詳細な説明】 電界放出素子発明の分野 本発明は、一般に電子工学、特に真空管マイクロエレクトロニクスと同様に、 スクリーンまたはディスプレイとして用いられるデータ表示装置に特に関連があ り、超高速熱放射抵抗素子として使われる電界放出素子（field-emission devic es）に関するものである。発明の背景 技術の状況について、現在知られているのは、陰極蛍光管（例えばロンデ著「 電気」、１９９１年１１−１２月、７１巻６号３６−４２頁）であって、電子源 の列と、電子源の表面上部に位置し、電子源とは電気的に分離したスクリーンを 具えている。 電子源は、実際は基体であって、その上にリボン形式のカソード（縦列に整え られている）と、ゲート（横列に整えられている）が配備されている。縦列と横 列は互いに、誘電体の層により他方から分離されて、他方を横切っている。リボ ン形式のゲート（又は横列）と誘電体の層との交差点には、孔が設けられ、孔は 基体がリボン形式のカソード（又は縦列）又はリボン形式のカソードに付けられ た負荷抵抗の層の何れかに直接に取り付けられた針 形のエミッタを受けるために合わせられている。針形エミッタの先端は、リボン 形式のゲート（又は横列）の孔の縁と同じレベルにある。 ディスプレイ（モニタ）は、白黒又はカラーの何れも可能である。白黒のディ スプレイは、透明な導電性のコーティングが堆積した、とりわけ透明な板であり 、第１のコーティングはカソードのバス（縦列）の機能を果す平行な電極のよう に見え、第２のコーティングはグリッドのバス（横列）の機能を果す平行な電極 のように見え、また蛍光体（phosphor）の層である。透明な導電体の層上のカラ ーディスプレイは、蛍光体の層の上に、緑、赤、青の発光領域を有し、これらの 発光領域はリボン形式のカソードとゲートの交差する場所に形成される領域に一 致する。ディスプレイと電子源は、空気を抜いた共通のケーシング中に収納され ている。 リボン形式のカソードより、４００ボルト高電圧の一定の正電圧が、ディスプ レイに加えられている。その一方、リボン形式のカソードより、５０ボルトから ８０ボルトまでの高電圧の一定の正電圧が、リボン形式のゲートに加えられてい る。このような配列の単一の素子又は画素については、動作は以下の様に進む。 リボン形式のゲート内の孔の縁と針形のエミッタの先端との短い間隔（０．４ −０．５μｍの値）により、高い密度（１cm当り１０００万ボルト、又は１００ ０万Ｖ／cm 以上）の電界が、エミッタの先端に形成され、エミッタの先端から電子の電界放 出が始まる。放出された電子は、加速電界の影響を受け、ディスプレイに向かっ て飛ぶ間、電子は蛍光体に衝突し、こうして発光が起こる。 リボン形式のゲートとリボン形式のカソードの交差場所に位置する各要素（画 素）はディスプレイ上の各点の発熱に備える。こうして、一定のスイッチ経過時 間でもって、夫々のリボン形式のカソードに関する夫々のリボン形式のゲートを 連続的に活性化させることで、白黒又はカラーの映像が形成される。 カソード発光ディスプレイの斯種タイプは、ディスプレイに高電圧（即ち４０ ０−５００Ｖ）を印加することを特徴とし、このことは、高い電力消費を起こし 、ディスプレイの動作安定性と信頼性に影響を及ぼす。 残余の気体のイオンの衝突の効果が働いている間は、エミッタの先端は形態を 変え、曲率を増加して、安定性を低下させる。どの残存気体のイオン化活動も、 ディスプレイに印加される高い電圧（４００−５００Ｖ）と、エミッタの先端と ディスプレイの表面の間の適当な広い空間（200μm）に起因して起きる。このエ ミッタの先端の曲率の増加は、先端の電界の密度を減少し、電界放出流れは減少 され、合成された低位置の蛍光体の表面の明るさを惹起する。このようなディス プレイはしかし、寿命が短く、普通９０００時間を越えない。高いアノード電圧 に於けるディスプレイと電子源の間の電気的ブレイクダウンの危険が増加するた め、斯種形式のディスプレイは、信頼性は低下する。 さらにエミッタ画素をサブミクロンサイズに形成する精巧な技術により、この ようなディスプレイを生産する技術は複雑で、値段が高い。こうして、これらの ディスプレイは値段が高く、このことが２００×２００mm及びそれ以上のカソー ド発光ディスプレイの生産を思い止まらせている。 知られている他の素子は、くさび形をした電界放出の配列と、配列表面の上方 に配置されたアノードから構成されている（平面ディスプレイの為のくさび形電 界放出の配列、カネコ Ａ、カンノ Ｔ、トミ Ｋ、キタガワ Ｍ、ヒラギ Ｔ 、ＩＥＥＥ トランス形の電子素子１９９１、Ｖ ３８、Ｎｏ.１０、２３９５ −２３９７）。 このような素子の電界放出配列は、実際はリボン形式のアルミニウムカソード の平行な横列とリボン形式クロムゲートの平行な横列を備えた誘電体によって構 成される。カソードとアノードの横列は互いに横切り、誘電体層により分離され ている。クロムフィルムエミッタが、横列の交差箇所に位置し、両のこぎり歯形 パターンを形成するように、アルミニウム層に対して適用されている。 ゲートは誘電層上に設けられ、該ゲートはエミッタの外形全周に１μmのギャ ップを存して沿い、エミッタパ ターンの外形に合う開口を有している。ゲート面はフィルムエミッタ面から２５ ０nm上方に位置している。放出面は実際はのこぎり歯の周囲全体に亘ったフィル ムエミッタの端面の縁にある。 アノードは本質的には透明ガラス板であり、表面に透明な導電コーティングと 蛍光体のコーティングを有する。アノードは電界放出配列の表面から数ミリメー ター離間して設けられ、素子は密封してシールされ、空気が抜かれている。 リボン形式のカソードとリボン形式のゲートの交差箇所の典型的な１つにあっ ては、動作は以下のようになる。リボン形式のカソードよりも、３００ボルトの 一定の正電圧がアノードに印加され、リボン形式のカソードより５０ボルトから ８０ボルトの一定の正電圧がリボン形式のゲートに印加されている。エミッタ端 面の縁とゲート孔の縁の間の短い空間により、高密度電界がエミッタ端面の縁に 形成される。エミッタの縁からの電子の電界放出はこのように形成される。放出 された電子はアノードに向かって飛び蛍光体を発光させるように衝突するアノー ドの加速電界の影響を受ける。一定のスイッチオーバー時間でもって、夫々のリ ボン形式のカソードについて夫々のリボン形式のゲートに連続して作動すること で、ディスプレイに画像が作り出される。 この素子は高いアノード電圧（＋３００Ｖ）と残存気体 の低作動圧力を特徴とする。大多数の放出電子がゲート回路よりもアノード回路 にあるようにするためには、また蛍光体を効果的に発光させるには、明るい背景 に向かって見られる、即ち蛍光装置のアノード表面側から見られるものであるか ら、適切な高いアノード電圧が印加されてなければならない。 残存気体の低圧力は、アノードと電界放出配列の間の空間に閉じ込められた残 存気体のイオン化の危険を減少させるのに必要である。気体のイオン化はアノー ドと配列間の空間（数ミリメーター）により起こり得る。しかし、周囲の大気か らの気体の流入及び密封された素子のケースの内側にある構成要素から発生する 気体があるため、長期の動作中は、素子内の残存気体の低圧は保つことは困難で ある。 時間の経過につれ、素子内部の増えた圧力、高いアノード電圧、アノードと電 界放出力ソードの配列とアノード間の大きな空間により、残存気体の分子はアノ ードと配列間でイオン化される。作成されたイオンはエミッタの端面の出力縁に 衝突し、縁の形状の半径を増加させる。結果として、縁での電界は減少され、電 界放出電流の大きさも小さくなる。更にいかなる電圧レベルに於ける蛍光体の発 光も減じられ、用いられる時間の経過後に、動作安定性が低くなる特性を有する 。加えて、電子ビームの焦点ボケ（defocus）故に、当の素子は高解度（１５− ２ ０本の線／mm）の画像を供給できず、比較的高いアノード電圧により有害な放射 も生成する。 この技術分野で現在真空ダイオードが知られている（米国特許Ｎｏ.３７８９ ４７１）。これは、導電体層を有する基体と、導電体層に支持され、内部に円錐 形のカソードを有する窓を形成した誘電体層を具えている。カソードはベース（ base）を導電体層に電気的に接して設け、その一方エミッタの先端は、誘電体層 の上に位置する他の導電体層のレベルにある。第２の導電体層は同様に窓を有し 、誘電体層の窓に合わさっている。アノードは、誘電体層の窓と第２導電体層に より形成された空間を密封するように導電体層上に位置している。カソードより も正の電圧がアノードに印加され、アノードとカソードの先端の短い空間より、 カソードの先端に高密度電界が生成される。結果として、電子の電界放出はカソ ードからアノードに向かって開始し、電流が回路内に生じる。このような素子は 熱放射ダイオードとして応用できる。しかし、この素子は短時間の動作安定には 不利で、このことはカソードの形状の増加する範囲の合成に伴い、残存気体のイ オンにより生成される衝突効果により説明される。カソード先端の電界密度は減 少し、これ故にアノード回路内の電界放出は減少する。 上記の工程は、カソード先端の形状の小さな範囲に於いて、最も効率的に行な われる。しかるに、素子の構成 は空間が閉じているために、熱することで空間から効率良く気体を抜くことを妨 げる。更に、真空ダイオードの材料は、線形膨張係数が異なり、そのような材料 の選択は製造技術により限られ、転じて素子の高コストの原因となっている。 更に知られた技術として、電界放出ダイオードがある（くし形電界放出配列を 有する側面トリオードの製造、ジュンジイトウ、カズナリ ビシキ、カズヒキ ツブラヤ 真空マイクロエレクトロニクスに関する国際会議の会議録、１９９３ ニュースポートＵＳＡ９９−１００頁）。 素子は誘電性の基体と、フィルムカソード（エミッタ）、ゲートとフィルムカ ソードとから成る。ゲート（即ち導電体の層）はアノードとカソードの間の基体 内に配備された凹部内に位置している。正電圧（カソードに対して）はアノード に印加され、正電圧（カソードに対して）がゲートに印加され、カソードの縁に 高密度電界を形成し、それによりアノードの端面に向かって電子の電界放出を形 成して、アノード回路に電流が起きる。 この素子の固有の欠点は、幾分高いアノード電圧の適用が必要なことによる低 い動作信頼性と安定性である。このことは転じて、残存気体分子のイオン化の危 険を増し、その一方合成イオンはカソードの縁に衝突し、それにより縁の形状が 変わり、これ故にアノードとカソード の縁との間隔が拡がる。結果として、電界放出電流と同様にカソードの縁に於け る電界密度も減少する。エミッタの縁とアノードの端面との距離が大きな為、こ の素子に於いて残像気体分子のイオン化の危険は幾分高い。ゲートはアノードと カソード間に挿入されているから、アノードの端面をカソードの縁に近づけるこ とは非常に困難な作業である。これ故、素子の動作には適切な高真空が必要とさ れる。電子は素子のアノードの端面にのみ衝突するから、素子の信頼性は低く、 電子流れの高密度により、素子はかなり熱せられ破壊されるかも知れない。加え て、電子流れは表面全体には広がらないので、素子の機能的性能は限られている 、即ち応用分野は大きく限定される。素子は幾分高いゲート電圧（１１０Ｖ以上 ）とアノード電圧（１５０Ｖ以上）を要するから、素子は大きな電力を消費し、 この点は不利である。電極間に印加した高電圧の為、カソード縁とゲート間の電 気的破損の危険が増す。この種の素子は、動作信頼性と安定性は低く、とりわけ 工業的真空条件下では電力消費の点で不経済であり、適用範囲が限られる。発明の要旨 電子流れの方向を変え、かなりの電力消費を減らし、動作信頼性を増加し、機 能的性能を高めることにより、電界放出素子を提供できることが、本発明の第１ の目的である。 前記の目的は、アノードとカソードを具え、両者は誘電性の基体上に配備した 、発明が従属する電界放出素子の分野に於いて、アノードはアノードに向いたカ ソード縁のレベルより下側にある事実により達成される。 このことは、素子の入力電圧を減らし、動作信頼性を増加し、現在の電界放出 素子の機能的性能を広げることを可能にする。 誘電体の第１の層をアノードとカソード間に挿入し、窓を誘電体の層内に作る ことが好ましい。アノードに面したカソードの縁はエミッタとして働く。このこ とは微小焦点（microfocusd）の電子ビームを得ることを可能にする。 また、誘電層に形成された窓は、カソードに形成された窓より幾何学的寸法が 大きいことが望ましい。この領域のアノードの表面が押し出され、又は突出する ことができ、その一方エミッタとされるカソード縁は歯が形成されている。 前述の全ての特徴は、電子の電界放出を起こすアノード電圧をより低くし、か くして入力電力を減らす。 カソード縁の隣の歯は、ギャップにより離され、各歯は負荷抵抗を通ってカソ ードに接続されているのが実際的である。このような特徴は、素子の動作安定性 を高める。 カソードの材料と共に、ショットキー障壁を形成する 材料の層を、エミッタとして働く縁の近傍内のカソード面上に設置するのが有利 である。 同様に、導電性の第１の層は、アノード周囲の基体と誘電層の間に挿入される のが実際的である。アノードに接近して位置する導電性の第１の層の縁は、エミ ッタに向かって曲げる。加えて、第２の誘電体の層は、窓の領域内のカソード面 に設けられ、第２の導電体の層は、第２の誘電体の層の上に付加される。 結果として、アノード電圧の低下とこれ故の低電力消費が達成される。更に素 子の機能的性能がかなり広がる。 望むなら、窓の領域内に位置する第２の導電体の層をエミッタに向かって曲げ る。この特徴は実質上素子の機能的性能を広げ、アノードと導電性の層に同時に 通電でき、それにより素子の消費電力は、なおさら減少する。 第２の誘電体の層は、窓の領域内でカソード表面に設けられ、第２の導電体の 層は第２の誘電体の層の表面に付加される。この実施例は素子の機能的性能を広 げるのに貢献し、電圧をアノード、第１及び第２の導電体の層に印加することを 可能にする。 高い２次放出率を特徴とする材料の層をアノードの表面に設けることが有利で あり、これにより電子の流れを増やす結果となり、これ故素子の機能的性能を広 げる。 窓の領域内で、蛍光体の層を、導電体の第２の層の表面に設けることが実際的 であり、素子の機能的性能を広 げ、第２の導電体層上での蛍光体の発光により、ディスプレイは有害な放射効果 を少なくできる。 また、高い２次放出率を有する材料の層は、第２の導電体の層の表面に付加さ れる。このことは、素子の機能的性能を広げる、即ち、現在の電界放出素子を基 準として、多段電流増幅器の提供を可能にする。 第２の導電体の層の縁は、エミッタに向かって曲り、素子の合成電力消費が減 る。蛍光体の層をアノード表面へ設置することもまた可能であって、有害な放射 効果の低いディスプレイの開発の可能性が生じる。 窓の領域内に於けるアノードと基体を、光学的に透明な材料で作ることにより 、画像をディスプレイのスクリーンの両面から見られることを可能にする利点が ある。 ディスプレイスクリーンの発光を高めるために、高い反射率を有する材料の層 が、窓の領域内のアノード表面に付加されている。これによって、エミッタとし て働くカソードの縁が、負の電子親和力を有する材料から作られることを可能に する。このような構成の特徴により、消費電力を減らし、動作信頼性を高める。 基体には窓の領域内にて、凹部と該凹部内に収納されたアノードを設けること が可能である。このような構成は、ディスプレイの信頼性を付加し、光を発する 点の表面の輝度をバランスすることにより、画質を高める。熱い（熱電子の）カ ソードは、窓の近傍に配備され、熱いカ ソードから発する付加電子源により、ディスプレイの明るさを増す。 電界放出素子の一の実施例に於いて、窓の領域内のアノードは、互いに導電性 のタイプが異なる少なくとも２つの半導体の層から形成されている。この実施例 の素子は高感度電流増幅器として用いられるので、素子の適用範囲は大いに広が る。 電界放出素子のアノードとカソードの両方は、相互に交差し、誘電体の層によ り分離されたリボン材に形成され、窓はリボンの交差箇所にある。この場合、シ ョットキー障壁を構成する材料の層は、リボン状に形成して、アノードリボンと 平行に配置することができる。加えて、導電体の層は、リボンに形成され、アノ ードリボンの少なくとも片側に位置する。 電界放出素子の他の実施例に於いて、アノードの多数は、互いに平行に配置さ れたリボンのように見え、カソードの多数も互いに平行に配置されたリボンのよ うに見え、配列を形成するようにアノードのリボンと交差する。これによって、 高解度のディスプレイスクリーン又は画像の鮮明度の高いＴＶスクリーンを作る ことを可能にする。 窓の場所に位置するアノードの表面は、同じリボン形式のカソードに付随し、 隣接するものとは発する光の色が異なる蛍光体の層により覆われるのが有利であ る。こ れによって、高解度カラーディスプレイ、画像の鮮明度の高いテレビシステム、 それに高い密度の視覚的情報を有する特殊な装置を作ることを可能にする。 熱いカソードは配列の表面上方に配置され、該カソードは互いに平行に並んだ フィラメントの外観を呈し、アノードの長手方向に向けられているのが実際的で ある。熱いカソードはスクリーンの明るさを増す。 本発明の電界放出素子は、電子の電界放出に基づいて動作する電子スイッチを 具え、リボン形式のアノード、カソード、導電体の層、カソードの材料と共にシ ョットキー障壁を形成する層の全周に沿って位置する。このような素子の構成配 列は、単純な生産技術により特徴付けられ、これ故に、コストの低減を提供でき る。図面の簡単な説明 以下、発明は、明確で模範的で、それについて添付の図面を参照して読まれる べき実施例により説明される。 図１は、本発明による電界放出素子の最も簡単な実施例の一般的な概略図であ る。 図２は、本発明による窓を有する電界放出素子の実施例の概略図である。 図３は、本発明による突出部を具えたアノードを有する電界放出素子の実施例 の概略図である。 図４及び図５は、本発明による歯が形成されたカソードを具えた電界放出素子 の実施例を概略的に説明してい る。 図６、７、８及び図９は、本発明によるショットキー効果を使用する電界放出 素子の種々の実施例を概略的に示す。 図１０、１１及び図１２は、本発明による導電体の層を含む電界効果素子の種 々の実施例を概略的に示す。 図１３は、本発明による蛍光体の層及び高い２次放出率を有する材料の層の種 々の応用バージョンを示す図１０、１１、及び図１２の実施例を示す。 図１４は、本発明による透明なアノード又は基体を有する電界放出素子の実施 例の概略図である。 図１５は、本発明による負の電子親和力を特徴とする層及び高い反射率を有す る材料の層を有する電界放出素子を示す図１４中の構造である。 図１６は、図１５と同じく、本発明による導電性のタイプが異なる２つの半導 体の層により成り立つアノードを有する電界効果素子を示す。 図１７、１８、１９、２０及び図２１は、本発明に従い、配列を構成する複数 のリボン形式のアノードと、複数のリボン形式のカソードとから成る電界放出素 子の種々の実施例を概略的に示し、 図２２は、本発明に従い、その全周に沿った配列に接続された電子スイッチを 含む電界放出素子の実施例を概略的に示す。望ましい実施例の説明 本発明による電界放出素子は、アノード（１）（図１）とカソード（２）を具 え、誘電体材料から形成された基体（３）上に両方を載置する。アノード（１） が置かれる高さＡ−Ａは、カソードの縁（４）が置かれる高さＢ−Ｂより下でな ければならず、該縁（４）は、アノード（１）へ対向し、エミッタとして働く。 稼働状態では、電界放出素子は、真空下に置かれることになっている。 図１の電界放出素子は、以下のように動作する。カソード（２）に対して正の 電圧がアノード（１）へ印加される。アノード（１）とエミッタ（４）の間隔に より、強い電界がエミッタ（４）で生じ、エミッタ（４）からアノード（１）へ の電子の電界放出（field emissionof electrons）を起こし、アノード（１）の 電気回路に、電流が生じる。電子の流れ分布は、アノード（１）の全表面中で起 こり、電子の最短の飛行経路は、エミッタ（４）からアノード（１）までである 。電子の飛行経路が短いのは、エミッタ（４）とアノード（１）の表面との間隔 が接近していることによる。そのため、残余の気体分子が電子と衝突したことに よりイオン化する可能性は低い。それ故に、エミッタ（４）と衝突して、その分 布状態を変え、その結果、電子放出の安定性を狂わし得るイオンの形成もまた、 低確率である。このことが、産業上の真空の条件下で、時が経過しても、電界放 出素子の動作が安定である原因となる。ア ノード（１）の全表面で電子の流れ分布が生じるから、高い電界放出電流密度に よる局所的な過熱を阻止することができる。これが、図１の電界放出素子の動作 を一層信頼できるものとする。電界放出素子の構成により、アノード（１）の形 状、材料又はアノード表面を覆う材料を、広い範囲内で変化させることができ、 その結果、本発明の電界放出素子の応用分野が、著しく広がる。 エミッタ（４）とアノード（１）の間隔を短くすることにより、強い電界を作 ることができ、それにより低い電圧が印加されても、アノード（１）への電子の 飛行を加速する。これが、素子への電力入力を大きく減少することを可能とし、 また、素子が、従来知られた電界放出素子と比較しても同等なものとする。 また、低いアノード電圧を印加することにより、アノード（１）とエミッタ（ ４）の間の放電破壊が避けられ、本発明の電界放出素子のもつ高い動作信頼性が 提供される。ここで開示された電界放出素子特有の長所は、簡単な生産技術と、 その結果としての低コストにある。本発明の電界放出素子は、例えば、超高速動 作を特徴とする熱放射抵抗ダイオード（heat-and-radiation-resistant diode） のような応用を見出すことができる。 図２の電界放出素子において、誘電体材料からなる第１層（５）が、アノード （１）とカソード（２）の間に挟まれる。パッセージ（passage）すなわち窓（ ６）は、カソー ド（２）及び誘電体層（５）において形成され、一方アノード（１）に対向する カソード（２）の縁は、エミッタ（４）としてはたらく。図２による素子は、よ り一様な分布の電子流密度（electron flow density）を特徴とする。この流れ は、エミッタ（４）により、窓（６）に配設されたアノード（２）の表面領域中 に放出される。その一様な電子流密度ゆえに、アノード（１）の表面は、電子の 衝撃効果によって、さらに一様に加熱され、その結果、素子のより高い動作信頼 性を保証する。 さらに、そのような電界放出素子の明らかな長所は、電子流をデフォーカスす ること（defocusing）が全くないことである。というのは、電子によって衝撃を 受けるアノード（１）の領域が、誘電体層（５）とカソード（２）において形成 される窓（６）の寸法によって、厳密に規定されるからである。 誘電体層（５）にて作られる窓（６）の幾何学的寸法（図２）は、カソード（ ２）において形成される窓（６）の該寸法よりわずかに大きくでき、その結果、 エミッタ（４）は、第１誘電体層（５）を超えて位置する。そこで、エミッタ（ ４）に対する第１誘電体層（５）の遮蔽効果と、電子の電界放出を起すアノード （１）電圧とをさらに大きく減少できる。さらに、該層（５）の表面を覆うエミ ッタ（４）とアノード（１）間の放電破壊は、より起こり難くなる。 図３において、窓（６）付近のアノード（１）の表面領域 は、盛上った突出物、すなわち表面の膨らみ（７）を有する。該膨らみ（７）を 形成することにより、アノード（２）の電圧を、さらに大きく減少することがで きる。というのは、電界が作られて、エミッタ（４）から電子の電界放出を起こ す電極間の距離（すなわち、エミッタ（４）と膨らみ（７）の表面との間隔）が より短いからである。これが、素子のより高い信頼性と、より低い電力消費とに 寄与する。 さらに、本発明の電界放出素子は、エミッタ（４）として働くカソード（２） の縁に、図面中（８）（図４、５）で示されるように、歯を付加できる。隣接す る歯（８）の間に間隙を形成でき、各歯（８）をカソード（２）へ負荷抵抗（９ ）を介して接続できる。 エミッタ（４）を歯（８）の形に形成することにより、電界放出を引起すのに 必要なアノード（１）上の電圧が、また減少する。というのは、アノード（１） へ印加される同じ電圧に関して、歯（８）での電界の大きさは、エミッタ（４） として働いている図１、２、３のカソード（２）の縁での電界の大きさよりも大 きいからである。歯（８）をカソード（２）へ接続する負荷抵抗（９）は、歯（ ８）を破壊するかもしれない電界放出電流の大きさを制限し、また、歯（８）上 の電流リップルをなめらかにする。これにより、本発明の電界放出素子の動作は 、より信頼できる。 ある材料からなる層（10）を、エミッタ（４）として働く 縁の近傍における、カソード（２）の表面に付加できる。該層（10）は、カソー ド（２）の材料と共に、ショットキー障壁を形成する。この特定の場合において 、カソード（２）、または、少なくとも窓（６）周辺のカソード（２）領域を作 る材料は半導体であり、一方ショットキー障壁を形成する層（10）は金属から作 られるべきである。 エミッタ（４）に歯が付くとき（図４、５、９）、層（10）は、負荷抵抗（９ ）と接触しないように、エミッタ（４）を取囲む薄いリボンのように付加される べきである。エミッタ（４）に歯が付かないときは、層（10）を上記のように形 成するか、または、エミッタ（４）として働くカソード（２）の縁から幾分間隔 の離れた領域を除いて、層（10）をカソード（２）の全表面へ付加することがで きる。 図６、７、８及び９の電界放出素子は、以下のように動作する。カソード（２ ）に対して正の電圧が、アノード（１）へ印加されて、エミッタ（４）からアノ ード（１）への電子の電界放出を引き起こし、その結果、アノード（１）の電気 回路において、電界放出電流を生じる。半導体カソード（２）に対して負の電圧 を金属層（10）へ印加する。層（10）の下に位置する部分のカソード（２）は、 電子が枯渇し、カソード（２）の前記部分における伝導が減少する。その結果、 アノード（１）の回路における電流を減少する。ある負の電圧（−７乃至−10Ｖ ）では、カソード（２）の伝導が全く停止し、アノード（１）の電気回路におけ る電 流も停止するであろう。その結果、層（10）へ印加された負の電圧の値を、略− ４と−10Ｖの範囲内で変化することによって、アノード（１）の電気回路におけ る電界放出電流を完全に停止するまで制御することができる。そのような低い制 御電圧値により、本発明の電界放出素子の高い安定性と動作信頼性が提供され、 また、電力消費が減少される。 また、本発明の電界放出素子は、導電性材料からなる第１層（11）を、基体（ ３）と誘電体層（５）の間に挟んで配置し（図１０、１１）、一方アノード（１ ）の近くに置かれた導電性材料からなる第１層（11）の縁（12）を、エミッタ（ ４）の方へ曲げることができる。 カソード（２）が導電性材料から作られるとき（図１０）、本発明の電界放出 素子は、以下のように動作する。カソード（２）に対して一定の正電圧をアノー ド（１）へ印加する。そして、カソード（２）に対して正の電圧を導電性材料か らなる第１層（11）へ印加し、該電圧の値を略20と30Ｖの範囲内で変化させる。 エミッタ（４）と該層（11）の縁（12）との間の距離が短い故に、アノード（１ ）への電子の電界放出を引起す強い電界がエミッタ（４）上に作られ、電流がア ノード電気回路において生じる。アノード（１）の回路における電流の大きさは 、導電性材料層（11）へ印加される電圧を変化することによって制御されること ができる。上記実施例の電界放出素子は、層（11）に到着す る弱い電気信号の増幅器として使用されることができる。 カソード（２）（図１１）または窓（６）の周辺の一部のカソード（２）が半 導体材料から形成され、そこへ材料層（10）が、エミッタ（４）として働くカソ ード（２）の縁から少し離れて付加されて、ショットキー障壁を形成することが できる。この形の電界放出素子は、付加電圧が材料層（10）へ印加されて、図６ 、７、８及び９に関連して明らかにされた方法で、アノード（１）の電気回路に 沿って流れる電流を変化することができることが唯一異なる以外は、上記と同様 に動作する。その結果、図１１による電界放出素子は、一方の信号が層（11）上 に到着し、他方の信号が層（10）上に到着する、２つの電気信号の混合器として 機能する。その結果、中間周波数の信号を、アノード（１）の回路において生成 することができる。 また、本発明の電界放出素子は、窓（６）の領域におけるカソード（２）の表 面へ誘電体材料の第２層（13）（図１２）を付加し、該層（13）上に導電体材料 の第２層（14）を載置して一体化でき、窓（６）の領域に配置された該層（14） の縁（15）がエミッタ（４）の方へ曲げられるのが望ましい。 カソード（２）が金属から形成されるとき、図１２の電界放出素子は、以下の ように動作する。カソード（２）に対して正のバイアスをアノード（１）へ印加 して、該電圧がエミッタ（４）上に強い電界を発生して、アノード（１） への電子の電界放出を引き起こす。 次に、エミッタ（４）に対して負の電圧を層（14）へ印加して、電界の強さが 減少し、アノード（１）の電気回路における電界放出電流が減らされる。層（14 ）へ印加される電圧を略−10と−30Ｖの範囲内で変化することにより、この電界 放出電流を制御することができる。 図１１の素子は、カソード（２）（または窓（６）の近くに置かれる部分）が 半導体材料から形成されるとき、カソード（２）の表面と共にショットキー障壁 を形成する材料層が、エミッタ（４）から幾分離れたカソード表面に載置される ように形成されることができる。そのような電界放出素子は、図１１について記 述された方法で動作し、導電体材料層（14）上に到着する電気信号と、ショット キー障壁を形成する他の材料層（10）上に到着する電気信号との混合器として機 能するだろう。 また、本発明の電界放出素子は、基体（３）とアノード（１）周辺の誘電体材 料の層（５）との間に挟まれた導電体材料からなる第１層（11）を具えることが できる（図１３）。アノード（１）の近くに置かれる第１層（11）の縁（12）を 、エミッタ（４）の方へ曲げることができ、第２層（13）を、誘電体材料から形 成し、窓（６）の領域においてカソード（２）の表面へ付加することができる。 導電体材料の第２層（14）は、層（13）に載置される。より高い２次放出率を特 徴とする第１層（16）を、アノード（１）の表面へ付加で きる。該層（16）、並びに、蛍光体層（17）またはより高い２次放出率を有する 材料からなる第２層（17'）のどちらかを、窓（６）に密接した層（14）の表面 へ付加できる。 蛍光体層（17）が窓（６）に密接した層（14）の表面へ付加されるとき、電界 放出素子は以下のように動作する。カソード（２）に対して正の電圧がアノード （１）へ印加される。カソード（２）に対して正の電圧が導電体材料からなる第 １層（11）へ印加され、その電圧は、該層（11）の縁（12）とエミッタ（４）の 短い間隔（0.1-0.3μｍ）により、エミッタ（４）上に強い電界を作り出す。こ れが、エミッタ（４）から、層（16）を載置するアノード（１）への電子の電界 放出を引き起こす。層（16）に衝撃を与える間、電子は層（16）からの２次放出 を引き起こす。カソード（２）に対して、層（11）へ印加された電圧よりも大き い正の電圧が、第２層（14）へ印加され、その結果、２次電子が蛍光体層（17） に衝撃を与え始めて、発光を引き起こす。 より多い２次放出量を有する層（17'）が、蛍光体層（17）に代わって、窓（ ６）の領域における層（14）へ付加されるとき、層（17'）に衝撃を与える電子 により、そこから２次電子の放出が再び引き起こされる。この２次電子は、追加 のアノード（図１３には示されず）に、層（14）へ印加された電圧よりも大きい 電圧を印加することにより、拾い上げられることができる。この実施例の電界放 出素子は、２段電流増幅器として機能する。図１３は、２つ の誘電体層（５）（13）と、交互に配される２つの導電体層（11）（14）とを具 える電界放出素子を例示しているが、そのような交互の層がより多く存在でき、 それぞれに続く導電体材料からなる層は、窓（６）の領域における該層の表面へ 付加される、より高い２次放出率を有する材料からなる層（17'）を具えて、そ の結果、多段電流増幅器を作り出すことができる。 図１４に示される電界放出素子は、縁（12）（15）の両方をエミッタ（４）の 方へ曲げることができ、一方アノード（１）は、基体（３）の凹みに置かれ、ご く薄い導電体材料から形成されることができる。蛍光体からなる層（18）がアノ ード（１）へ付加され、基体（３）もまた、ごく薄い誘電体材料から形成され、 且つエミッタ（４）として働くカソード（２）の縁が、負の電子親和力を有する 材料からなる層（19）（図１５）で覆われることができる。 図１４の電界放出素子は、以下のように動作する。カソード（２）に対して正 の電圧がアノード（１）へ印加され、カソード（２）に対して15-30Ｖ正の電圧 が層（11）（14）に印加されて、縁（12）（15）と層（11）（14）の間の距離が それぞれ小さいことにより、エミッタ（４）上に強い電界を作りだす。その結果 が、蛍光体層（18）が付加されたアノード（１）への電子の電界放出である。蛍 光体層（18）は、電子で衝撃を受けると同時に、発光し始めて、その発光をごく 薄い基体（３）の両側で見ることができる。 電界放出素子が、層（11）（14）またはそのどちらか一方を有するという事実 から、電子の電界放出を引起す電圧を略15-30Ｖへ著しく減少することができ、 最も重要なことに、電界放出素子の信頼性を高めることができる。これは、層（ 11）（14）のそれぞれの縁（12）（15）がエミッタ（４）の方へ曲げられること に起因する。誘電体層（５）（13）の定まった厚さのために、縁（12）（15）を 、約0.1-0.2μｍという最少距離でエミッタ（４）と向い会わすことができ、誘 電体層（５）（13）の放電破壊のどんな危険も、事実上、除外される。 さらに、層（11）（14）を有する電界放出素子の応用分野は、該素子を電気信 号の混合器、電流動作素子（current-operated device）及び映像ディスプレイ として使用できるように拡大される。 エミッタ（４）（図１５）が、負の電子親和力を有する材料からなる層（19） で覆われるとき、層（19）の表面上に強い電界（約10⁷Ｖ／ｃｍ）を得る必要は ない。なぜならば、電子の電界放出は、そのような材料において、はるかに小さ い電界の値で生じる傾向にあり、それ故、層（11）（14）へ印加される電圧を著 しく減少できるからである。 光の反射係数の値が大きい材料からなる層（20）（図１５）を、窓（６）の領 域における、アノード（１）の表面へ付加でき、次に蛍光体層（18）を層（20） へ付加できる。大 きい光反射係数を有する層（20）の付加により、電子の衝撃効果に基づいて発光 している蛍光体層（18）での反射効果がもたらされ、いわば、蛍光体層（18）の 発光輝度が強められる。 アノード（１）は、半球体のように形成される基体（３）の凹みに置かれても よく、大きい光反射係数を有する材料からなる層（20）は、アノード（１）へ付 加され、蛍光体層（18）で覆われてもよい。この場合、蛍光体層（18）の発した 光をフォーカスすることができる。 もしも望むならば、熱カソード（図示せず）が、本発明の電界放出素子（図1- 15）の窓（６）の近傍に形成され、以下のように動作できる。電流が熱カソード を通過して、加熱時に電子を放出し始める。熱カソードに対して正の電圧が、ア ノード（１）へ印加されて、アノード（１）の方へ電子を加速し、そこで熱イオ ン電流がアノード電気回路に生じる。電界放出素子を、図1-9にて示される実施 例に形成するとき、熱カソードに対して負の電圧がカソード（２）へ印加され、 後者が電子を反跳し始め、その結果、アノード（１）の回路における熱イオン電 流が減少すし、カソードへ印加された負の電圧のある値で完全に停止する。その 結果、アノード（１）の回路における、電界放出電流を制御できる。 電界放出素子（図10-15）が導電体層（11）（14）の両方、またはそれらのど ちらか一方を具えるとき、カソード（１） に対して正の電圧が、該層（11）（14）の両方、またはそれらのどちらか一方に 印加され、エミッタ（４）から電子の電界放出を引起すことができ、その結果、 放出電子はアノード（１）の電気回路における電界放出電流を追加上昇するだろ う。 蛍光体層（18）（図14、15）がアノード（１）へ付加されるとき、該層は、電 子の２つの衝撃流、すなわち熱イオンの流れと電界放出の流れの両方の影響にさ らされ、その結果、蛍光体層が、より輝く光を発する。 本発明の電界放出素子は、窓（６）の領域において、伝導の種類の異なる２つ の半導体層（21）（22）から構成されるアノード（１）（図１６）を有してもよ い。正孔型伝導層（21）（ｐ層）が、基体（３）（図１６）に載置され、一方、 電子型伝導層（22）（ｎ層）が層（21）の上に配設される。この実施例による電 界放出素子は、以下のように動作する。逆（遮蔽）電圧が、アノード（１）を形 成するｎ−ｐ層へ印加される。カソード（２）に対して正の電圧が、導電体材料 からなる層（11）（14）へ印加され、エミッタ（４）からの電子の電界放出を引 き起こす。アノード（１）は、ｎ−ｐ層から形成され、ダイオードを形成し、ブ ロッキング方向（blocking direction）に接続される。放出した電子は、アノー ド（１）の加速電界において得られる。電子−正孔の対が、ダイオードにて電子 の衝撃効果に基づいて発生し、該対は、ダイオードのイントリンシック （intrinsic）電界によって分離する。その結果、電流がダイオード電気回路（ すなわち、ｎ−ｐ層の回路）において生み出され、その電流の大きさは、電界放 出電流の大きさの100−1000倍である。本実施例により作られた電界放出素子を 、高感度電流増幅器として使用できる。また、そのような電界放出素子は、多数 の交互に配される半導体ｎ−ｐ層から形成され、またはショットキー障壁の形に 形成されるアノード（１）を有して、本発明の応用分野を拡大する。 本発明の電界放出素子は、互いに交差するリボン（図１７及び１８）のような 形を持ち、且つ誘電体層（５）によって絶縁されるアノード（１）とカソード（ ２）とを有し、一方窓（６）は、リボンの交差位置で形成される。また、電界放 出素子は、互いに平行に配列される複数のリボン形式のアノード（１）（図１９ 及び２０）と、互いに平行に配列され、リボン形式のアノード（１）と交差する 複数のリボン形式のカソード（２）を具え、その結果アレイを形成する。基体（ ３）において、窓（６）（図２１）が置かれる場所に凹みを形成でき、該凹みは 、リボン形式のアノード（１）の一部を収容して、アノード（１）へ蛍光体層（ 18）を付加できる。基体（３）と凹みに置かれるリボン形式のアノード（１）の 部分とを、光学的に透明な材料から形成できる。隣接する窓（６）に置かれ、同 じリボン形式のカソード（２）に属する蛍光体層（18）は、発光色が異な ってもよい。また、事実上エミッタ（４）であるカソード（２）の縁に歯を付け ることができ、間隙が隣接する歯（８）の間に形成され、各歯（８）が、図４及 び図５に示される方法で、負荷抵抗（９）を介してリボン形式のカソード（２） へ接続されることができる。 リボン形式のカソード（２）（図１７及び１８）が導電体材料から形成される とき、アレイを形成する電界放出素子は、以下のように動作する。リボン形式の カソード（２）の１つに対して正の電圧が、リボン形式のアノード（１）の１つ へ印加され、該電圧が、交差する位置で、エミッタ（４）から電子の電界放出を 引き起こす。交差位置での蛍光体層（18）は、放出電子の衝撃効果に基づいて発 光し始める。その結果、対応するリボン形式のカソード（２）に対して正の電圧 を、対応するリボン形式のアノード（１）へ、人間の目には知覚できない周波数 で交互に印加することにより、モノクロ（蛍光体層（18）が、窓（６）における リボン形式のアノード（１）の全ての部分で、同じ放出光をもつとき）またはカ ラーの発光映像を作り出すことができる。映像光の輝度、すなわち映像における 個々のドットの輝度は、リボン形式のアノード（１）へ印加される電圧の値によ って、調整されることができる。基体（３）と、窓（６）の位置でのリボン形式 のアノード（１）の部分が透明であるとき、形成される映像を、アレイ形状の電 界放出素子の両側で見ることができる。本発明の 電界放出素子のこの新しい特徴が、その応用分野の拡大という観点から、確かに 価値あるものにする。 この電界放出素子の非常に重要な長所は、交差位置でのリボン形式のアノード （１）とリボン形式のカソード（２）の部分によって作られるキャパシタのキャ パシティの値が低いことである。これは、窓（６）がリボン形式のカソード（２ ）に形成され、リボン形式のカソードとリボン形式のアノードを重複する表面を はるかに減少するという事実によって説明される。その結果、そのようなキャパ シタの充電と放電という、瞬間的な電気プロセスが、本発明の電界放出素子にお いて最小化される。次に、これにより、超高動作速度（変化終了時間が１μsec よりも小さくできる）を有する、交互に発光するドットになることが可能となる 。それ故に、作られる映像は、非常に多くの発光ドットによって構成され、その 結果、非常に高い精度（sharpness）を特徴とする。電界放出素子は、アレイの Ｘ軸とＹ軸上に配列された、略2000x2000及びそれ以上の交差部を具え、それぞ れが発光ドットを形成できる。また、このことは、単一ドットの発光を引起す電 子ビームのデフォーカスが全くなくなることによって促進される。 ここで提案された電界放出素子は、高鮮明度テレビシステムのために使用され 、同様に、広範囲の視覚情報を小さいアレイ領域上に再生することができる特別 な装置 を発達させるために使用されることができる。 本発明の電界放出素子のもう１つの長所は、表面に密封ガラスを直接置くこと ができることであり、それが該素子の生産技術をはるかに簡単化し、よってコス トを減少する。 また、熱カソードは、フィラメントの形に形成され、アレイ型電界放出素子の 表面より上に短い距離で配設され、そのようなフィラメントは、互いに平行に配 列され、リボン形式のアノード（１）（図１７−２１）へ縦に伸張すると解され るべきである。 そのような実施例による電界放出素子は、以下のように動作する。電流が熱カ ソードを流れて、その結果加熱し、それによって熱電子放出が起こる。熱カソー ドに対して正の電圧が、リボン形式のアノード（１）の１つへ印加され、反対に 負の電圧が、リボン形式のカソード全てへ印加される。カソードの１つが負電圧 から離されるとき、負電圧により負のエネルギーをもつリボン形式のカソード（ ２）とリボン形式のアノード（１）とが交差する場所での電子の遮蔽が止まり、 熱カソードにより放出した電子が、アノードとカソードの入組んだリボンの交差 場所の窓（６）に置かれたリボン形式のアノード（１）の該部分の方へ飛ぶだろ う。電子は、リボン形式のアノード（１）の部分に置かれた蛍光体層（18）に衝 撃を与え、それにより、蛍光体層が発光する。その結果、対応するリボン形 式のアノード（１）へ正のバイアスを印加し、対応するリボン形式のカソード（ ２）を負のバイアスから切離すことを交互に行なうことにより、発光映像が本発 明の電界放出素子上に作られる。 低い電圧値が、リボン形式のアノード（略+10乃至+15Ｖ）とリボン形式のカソ ード（２）（略-10乃至-15Ｖ）へ印加されるから、この構造は、高い信頼性を示 す。この場合、エミッタ（４）として働くリボン形式のカソード（２）の縁と、 リボン形式のアノード（１）の表面との間隔を必ずしも減少する必要はない。な ぜなら、本発明の電界放出素子における電界放出が、別に使用されなくてもよい からである。 電界放出素子（図１９及び２０）のリボン形式のカソード（２）が半導体材料 から形成されるとき、カソード表面にカソード（２）の端面から幾分離れて置か れ、且つリボン形式のアノード（１）の長手方向を向くリボンの形の層（10）を 形成できる。そのように置かれた半導体リボンは、リボン形式のカソード（２） の材料と共に、ショットキー障壁を形成する。 各リボン形式のカソード（２）のエミッタ（４）が、各リボン形式のアノード （１）に沿った両側の窓（６）上にのみ形成されるとき、上述した材料の層（10 ）もまた、窓（６）の該両側上に載置される。 各リボン形式のカソード（２）のエミッタ（４）が、窓（６） の境界線中に形成されるとき、材料層（10）は、図７及び図８にて示されるよう に、窓（６）の領域に配列される。 エミッタ（４）（図４及び図５）が歯（８）と共に形成され、間隙が隣接する 歯（８）の間に形成され、各歯（８）が負荷抵抗（９）（図４及び図５）を介し てリボン形式のカソード（２）（図19及び図20）へ接続されるとき、層（10）は 、図９に示されるように、窓（６）の領域に配列される。 図１９及び図２０にて提供される電界放出素子において、各リボン形式のカソ ード（２）に対して正の電圧が各リボン形式のアノード（１）へ印加されて、そ の電圧がエミッタ（４）からの電子の電界放出を引き起こし、それ故に、蛍光体 層（18）の発光を引き起こす。各リボン形式のカソード（２）に対して、負の電 圧が各リボン層（10）へ印加される。 窓（６）の領域におけるリボン状に作られた層（11）（14）の縁は、エミッタ （４）の方へ曲げられることができる。発光色が異なる蛍光体層（18）は、同じ リボン形式のカソード（２）に属する隣接する窓（６）において、アノードの表 面に載置されることができる。 この実施例による電界放出素子は、以下のように動作する。リボン形式のカソ ード（２）に対して、様々な値のうち、ある正の定電圧が、リボン形式のアノー ド（１）（図１９及び図２０）へ印加され、それは、所定のリボン形式のアノー ド（１）へ印加された蛍光体層（18）の発光 色に依存する。リボン形式のカソード（２）に対して正の電圧が、リボン層（11 ）（14）へ印加され、これにより、カラー映像が本発明の電界放出素子上で作り 出される。この特別な素子構造において、様々な蛍光体層（18）に同じ電圧が印 加されても、該層（18）の発光が異なる（例えば、緑色を発する蛍光体層（18） は、赤色及び青色を発するそれよりも輝き、赤色を発する層は、青色を発する層 よりも輝く）。 その結果、電界放出電流及び発光輝度は、カソード（２）の１つに対して、（ 正電圧が印加された）アノード（１）の１つと交差し、材料層（10）とも交差す る場所で変化する。窓（６）における層（10）の配列を、図６−９にて示される ように、または、図２０にて示されるような、層（10）の２つのリボンの形に変 形できる。発光輝度は、ある材料からなるリボン形状の層（10）（図６−９）へ 、または、窓（６）の両側に置かれた２つのリボンから形成される層（図１９） へ印加された負電圧の値を変化することにより、完全に消失するまで、交差のド ットで変化できる。 また、アレイ状の電界放出素子は、導電体材料から形成され、リボン形式のア ノード（１）（図２１）と平行に配列される、複数の平行なリボン形状の層（11 ）（14）を具えることができ、それにより、映像の色の強さが補償される。 また、本発明の電界放出素子は、リボン形式のアノード（１）、リボン形式の カソード（２）、リボン形状の導電体層（11）（14）及びリボン形状の層（10） の境界に沿って置かれた電子スイッチ（23）（図２２）を具えて、それら全てが 電界放出という概念に基づいて動作できる。これにより、本発明の電界放出素子 の生産技術が、大いに簡単化されることができる。というのは、そのような電子 スイッチは、単一の生産工程の範囲内で製造されることができるからであり、そ れにより、アレイ形式の電界放出素子が、著しくコストを減少することができて 、生産される。さらに、該素子のアレイにおける電界効果電子スイッチの形成に より、映像製品機構（picture production scheme）が大幅に簡単化されること ができる。産業上の適応性 ここで開示した電界放出素子は、根本的に新しい種類の素子である。カソード エミッタの下に置かれるアノードを有することにより、独特の長所と広い範囲の 機能的性能とが提供される。これらの長所の原理の中には、次のようなものがあ る：エミッタと電極の間の距離が短く、それにより、エミッタ上での強い電界が 得られることによる高動作信頼性及び安定性；産業上の真空の条件下での長期間 動作；アノード回路における放出電流と、それ故のアノードに載置する蛍光体層 の発光の強さの制御をもたらす、低い負の値の制御電圧；印加された電圧が低 いことにより、ディスプレイの有害な放射線効果が無いこと；映像が反射して見 られることによる、強い蛍光体発光；輝度特性の釣合を取る可能性；発光を引起 す電子ビームをデフォーカスすることがないことによる、モノクロ及びカラーデ ィスプレイの極めて高い分解能；簡単な生産工程技術と、それによる低いコスト 、及び、超高精度電流増幅器、信号の超高速混合器、映像を両側から眺めること のできるディスプレイ等として使用されるような、素子の非常に広い応用分野； 及び本発明の任意の電界放出素子の低い消費電力。 本発明を上述したことから、技術、手順、材料及び設備の様々な変形が、従来 技術においても明らかであろう。続く請求の範囲の範囲及び精神の中で、そのよ うな変形全てが、包含されることを意図する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＡ，ＪＰ，ＫＲ，ＵＳ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （1）アノード（１）とカソード（２）を具え、誘電体から形成された基体（３ ）にその両方を載置する電界放出素子において、 アノード（１）が、カソード（２）の縁の高さ（ＢＢ）より下の高さ（ＡＡ） に置かれ、該縁が前記アノード（１）に対向していることを特徴とする電界放出 素子。 （2）誘電体材料からなる第１層（５）が、アノード（１）とカソード（２）の 間に挟まれ、貫通の窓（６）が前記層（５）に形成され、一方、アノード（１） と対向するカソード（２）の縁がエミッタ（４）として働くことを特徴とする、 請求項１に規定する電界放出素子。 （3）誘電体層（５）に形成される窓（６）が、その幾何学的寸法により、カソ ード（２）において形成される窓（６）よりも大きいことを特徴とする、請求項 ２に規定する電界放出素子。 （4）アノード（１）の表面は、窓（６）の領域に置かれた膨らみ（７）を有す ることを特徴とする、請求項２及び３に規定する電界放出素子。 （5）エミッタ（４）として働くカソード（２）の縁は、歯を付けることを特徴 とする、請求項１乃至４のうち何れか１つに規定する電界放出素子。 （6）カソード（２）の縁の隣接する歯（８）が間隙によって 分けられることを特徴とする、請求項５に規定する電界放出素子。 （7）カソード（２）の縁の各歯（８）は、負荷抵抗（９）を介してカソード（ ２）自身と接続されることを特徴とする、請求項５及び６に規定する電界放出素 子。 （8）カソード（２）の材料と共に、ショットキー障壁を形成するある材料から なる層（10）が、カソード（２）の表面上で、エミッタ（４）として働く縁の近 傍に配置されることを特徴とする、請求項１乃至７のうち何れか１つに規定する 電界放出素子。 （9）導電体材料からなる第１層（11）が、アノード（１）周辺の基体（３）と 誘電体層（５）の間に挟まれることを特徴とする、請求項２乃至８のうち何れか １つに規定する電界放出素子。 （10）アノード（１）に密接して置かれる、導電体材料からなる第１層（11）の 縁（12）は、エミッタ（４）の方へ曲げられていることを特徴とする、請求項９ に規定する電界放出素子。 （11）誘電体材料からなる第２層（13）が、窓（６）の領域におけるカソード（ ２）の表面へ付加され、且つ導電体材料からなる第２層（14）が、前記層（13） 上に載置されることを特徴とする、請求項８に規定する電界放出素子。 （12）窓（６）の領域に置かれる、導電体材料からなる第 ２層（14）の縁（15）が、エミッタ（４）の方へ曲げられることを特徴とする、 請求項１１に規定する電界放出素子。 （13）誘電体材料からなる第２層（13）が、窓（６）の領域におけるカソード（ ２）の表面へ付加され、且つ導電体材料からなる第２層（14）が、前記層（13） 上に載置されることを特徴とする、請求項９及び１０に規定する電界放出素子。 （14）高い２次放出率を有する材料からなる第１層（16）が、アノード（１）の 表面へ付加されることを特徴とする、請求項１３に規定する電界放出素子。 （15）蛍光体層（17）が、窓（６）の領域における導電体材料からなる第２層（ 14）の表面へ付加されることを特徴とする、請求項１４に規定する電界放出素子 。 （16）高い２次放出率を有する材料からなる第２層（17'）が、導電体材料から なる第２層（14）の表面へ付加されることを特徴とする、請求項１４に規定する 電界放出素子。 （17）導電体材料からなる第２層（14）の縁（15）が、エミッタ（４）の方へ曲 げられることを特徴とする、請求項１３、１５、及び１６に規定する電界放出素 子。 （18）蛍光体層（18）が、アノード（１）の表面へ付加されることを特徴とする 、請求項１乃至１３及び請求項１７のうち何れか１つに規定する電界放出素子。 （19）窓（６）の領域におけるアノード（１）と基体（３）が、光学的に透明な 材料から形成されることを特徴とする、請求項１８に規定する電界放出素子。 （20）高い光の反射係数を有する材料からなる層（20）が、窓（６）の領域にお けるアノード（１）の表面へ付加されることを特徴とする、請求項１８に規定す る電界放出素子。 （21）負の電子親和力を有する材料からなる層（19）が、エミッタ（４）として 働くカソード（２）の縁へ付加されることを特徴とする、請求項１乃至２０のう ち何れか１つに規定する電界放出素子。 （22）窓（６）の領域における基体（３）が凹みを有し、アノード（１）が前記 凹みに置かれることを特徴とする、請求項２乃至２１のうち何れか１つに規定す る電界放出素子。 （23）熱カソードが窓（６）の近傍に置かれることを特徴とする、請求項２乃至 ２２のうち何れか１つに規定する電界放出素子。 （24）窓（６）の領域におけるアノード（１）は、伝導形式が異なる２以上の半 導体層（21,22）から形成されることを特徴とする、請求項１乃至１３及び１７ のうち何れか１つに規定する電界放出素子。 （25）アノード（１）とカソード（２）は、相互に交差するリボン状に形成され 、誘電体層（５）によって分け隔て られ、且つ窓（６）は、前記リボンの交差する地点で置かれることを特徴とする 、請求項２乃至２４のうち何れか１つに規定する電界放出素子。 （26）ショットキー障壁を形成する材料からなる層（10）は、アノード（１）の リボンに平行に配列されるリボンとして形成されることを特徴とする、請求項８ 及び２５に規定する電界放出素子。 （27）導電体材料からなる層（11,14）もまた、アノード（１）のリボンの少な くとも一方の上に置かれるリボンとして形成されることを特徴とする、請求項２ ５に規定する電界放出素子。 （28）互いに平行に配列されるリボンとして形成される複数のアノード（１）と 、互いに平行で且つ前記アノード（１）のリボンと交差するように配列されるリ ボンとして形成される複数のカソード（２）とを具えて、アレイを形成すること を特徴とする、請求項２５、２６、及び２７に規定する電界放出素子。 （29）同じリボン形式のカソード（２）に属する窓（６）の位置でのアノード（ １）の表面は、蛍光体層（18）で覆われ、該層（18）は、隣接の蛍光体層とは発 光色が異なることを特徴とする、請求項２８に規定する電界放出素子。 （30）フィラメント形状の熱カソードが、アレイ表面の上に形成され、前記フィ ラメントが、互いに平行に、 且つアノード（１）に沿って配列されることを特徴とする、請求項２８に規定す る電界放出素子。 （31）電子の電界放出という概念に基づいて機能し、リボン形式のアノード（１ ）と、リボン形式のカソード（２）と、リボン形導電体層（11、14）と、カソー ド（２）の材料と共にショットキー障壁を形成するリボン形の層（10）との境界 線に沿って置かれる電子スイッチ（23）を具えることを特徴とする、請求項３０ に規定する電界放出素子。