JPH0851083A - 縦型熱処理炉 - Google Patents
縦型熱処理炉Info
- Publication number
- JPH0851083A JPH0851083A JP12995095A JP12995095A JPH0851083A JP H0851083 A JPH0851083 A JP H0851083A JP 12995095 A JP12995095 A JP 12995095A JP 12995095 A JP12995095 A JP 12995095A JP H0851083 A JPH0851083 A JP H0851083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- heat treatment
- wafer boat
- holding jig
- vertical heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 炉内でウエーハーボートが傾くことがない、
長期に亘って安定した半導体ウエーハの熱処理を可能に
する縦型熱処理炉を提供する。 【構成】 本発明の縦型熱処理炉は、縦型の炉芯管1
と、これを加熱する加熱体2と、ウエーハボート3を載
置する保持治具4と、このウエーハボート3を炉内に挿
入する駆動部材5と昇降装置6からなり、前記保持治具
4は、駆動部材5によりウエーハボート3を炉内に挿入
した際に、炉高温部外に露出した下部に微細気泡入り石
英ガラス層7を形成した構成である。
長期に亘って安定した半導体ウエーハの熱処理を可能に
する縦型熱処理炉を提供する。 【構成】 本発明の縦型熱処理炉は、縦型の炉芯管1
と、これを加熱する加熱体2と、ウエーハボート3を載
置する保持治具4と、このウエーハボート3を炉内に挿
入する駆動部材5と昇降装置6からなり、前記保持治具
4は、駆動部材5によりウエーハボート3を炉内に挿入
した際に、炉高温部外に露出した下部に微細気泡入り石
英ガラス層7を形成した構成である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエーハの熱処
理に用いられる縦型の熱処理炉に関する。
理に用いられる縦型の熱処理炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の縦型熱処理炉を用いた半導体ウエ
ーハの熱処理について、図2の模式図を用いて説明す
る。上記縦型熱処理炉は、縦型の炉芯管11とこれを加
熱する加熱体12と、ウエーハボート13を載置する円
筒状ウエーハボートの保持治具14と、ウエーハボート
13を押し上げて炉芯管内に挿入する駆動部材15と昇
降装置16からなり、上記保持治具14には、複数の半
導体ウエーハWを積載したウエーハボート13が載置さ
れ、保持治具14は、その下端縁を形成するフランジ1
8で昇降装置16に連結した駆動部材15にゴムパッキ
ン19等の部材を介して固定される。
ーハの熱処理について、図2の模式図を用いて説明す
る。上記縦型熱処理炉は、縦型の炉芯管11とこれを加
熱する加熱体12と、ウエーハボート13を載置する円
筒状ウエーハボートの保持治具14と、ウエーハボート
13を押し上げて炉芯管内に挿入する駆動部材15と昇
降装置16からなり、上記保持治具14には、複数の半
導体ウエーハWを積載したウエーハボート13が載置さ
れ、保持治具14は、その下端縁を形成するフランジ1
8で昇降装置16に連結した駆動部材15にゴムパッキ
ン19等の部材を介して固定される。
【0003】熱処理にあたっては、半導体ウエーハWを
積載したウエーハボート13は、加熱体12により高温
にされた炉心管11の中に、駆動部材15の移動によっ
て該炉心管11の下方開口部より押し上げられて挿入さ
れ、この状態で熱処理が行なわれる。熱処理時間中は、
保持治具14の上端部は炉芯管内の高温部10にあり、
下部は炉芯管等の高温部10外にある状態が保持され
る。
積載したウエーハボート13は、加熱体12により高温
にされた炉心管11の中に、駆動部材15の移動によっ
て該炉心管11の下方開口部より押し上げられて挿入さ
れ、この状態で熱処理が行なわれる。熱処理時間中は、
保持治具14の上端部は炉芯管内の高温部10にあり、
下部は炉芯管等の高温部10外にある状態が保持され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような縦型熱処理
炉を用いた半導体ウエーハ熱処理方式において、熱処理
時間中は、ウエーハボートの保持治具14の下部は、常
時、縦型炉の高温部10外に露出していてほぼ室温と同
じであるのにもかかわらず、保持治具14下端のフラン
ジ18に当接するゴムパッキン19等の部材が予想を超
えたスピードで熱的劣化を引き起こして、ウエーハボー
ト13が傾斜するので、適宜ゴムパッキン19等の部材
を交換しなければならない。
炉を用いた半導体ウエーハ熱処理方式において、熱処理
時間中は、ウエーハボートの保持治具14の下部は、常
時、縦型炉の高温部10外に露出していてほぼ室温と同
じであるのにもかかわらず、保持治具14下端のフラン
ジ18に当接するゴムパッキン19等の部材が予想を超
えたスピードで熱的劣化を引き起こして、ウエーハボー
ト13が傾斜するので、適宜ゴムパッキン19等の部材
を交換しなければならない。
【0005】この交換作業は、高度のクリーン度を維持
している縦型炉の直下で行なわなければならないので、
クリーン度低下のための準備、パッキンの交換、クリー
ン度の回復という一連の作業を必要とするため生産性を
著しく阻害する。
している縦型炉の直下で行なわなければならないので、
クリーン度低下のための準備、パッキンの交換、クリー
ン度の回復という一連の作業を必要とするため生産性を
著しく阻害する。
【0006】本発明者らは、前記部材の熱的劣化の原因
について検討した結果、熱処理中の炉内で発生した赤外
線輻射は、透明石英ガラス製のウエーハボート保持治具
の上端高温部から保持治具内を内面全反射を繰り返しな
がら下端面に達すること、そして、空気に接した面のよ
うに全反射する部分では、赤外線の吸収がないため発熱
することはないが、保持治具の下端のゴムパッキンとの
当接面では、内面全反射が起こらずゴムパッキン及びそ
の周囲に赤外線輻射が吸収されて発熱し、これがゴムパ
ッキン等の部材の熱的劣化を促進していることを究明し
た。
について検討した結果、熱処理中の炉内で発生した赤外
線輻射は、透明石英ガラス製のウエーハボート保持治具
の上端高温部から保持治具内を内面全反射を繰り返しな
がら下端面に達すること、そして、空気に接した面のよ
うに全反射する部分では、赤外線の吸収がないため発熱
することはないが、保持治具の下端のゴムパッキンとの
当接面では、内面全反射が起こらずゴムパッキン及びそ
の周囲に赤外線輻射が吸収されて発熱し、これがゴムパ
ッキン等の部材の熱的劣化を促進していることを究明し
た。
【0007】本発明は、上記の点に鑑み、熱処理中に炉
内で発生した赤外線輻射が、ウエーハボート保持治具の
下端縁に当接するゴムパッキン等の部材に吸収されるこ
とのない手段を該保持治具に付与して、上記部材の耐久
性を向上させて、長期に亘って安定した半導体ウエーハ
の熱処理を可能にする縦型熱処理炉を提供することを課
題としている。
内で発生した赤外線輻射が、ウエーハボート保持治具の
下端縁に当接するゴムパッキン等の部材に吸収されるこ
とのない手段を該保持治具に付与して、上記部材の耐久
性を向上させて、長期に亘って安定した半導体ウエーハ
の熱処理を可能にする縦型熱処理炉を提供することを課
題としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、炉芯管とこれを加熱する加熱体と、ウエ
ーハボートを載置する保持治具と、ウエーハボートを炉
芯管内に挿入する駆動部材と昇降装置で構成させた縦型
熱処理炉の前記保持治具に、駆動部材によりウエーハボ
ートを炉芯管内に挿入した際に、炉高温部外に露出した
下部に、融着一体化した微細気泡入りの半透明石英ガラ
ス層を形成するという技術的手段を講じている。
決するために、炉芯管とこれを加熱する加熱体と、ウエ
ーハボートを載置する保持治具と、ウエーハボートを炉
芯管内に挿入する駆動部材と昇降装置で構成させた縦型
熱処理炉の前記保持治具に、駆動部材によりウエーハボ
ートを炉芯管内に挿入した際に、炉高温部外に露出した
下部に、融着一体化した微細気泡入りの半透明石英ガラ
ス層を形成するという技術的手段を講じている。
【0009】本発明の縦型熱処理炉に用いられる炉芯
管、加熱体、駆動部材及び昇降装置は、従来の縦型熱処
理炉に使用されているものを採用できる。また、上記縦
型熱処理炉のウエーハボートの保持治具は、その下部に
融着一体化した微細気泡入り半透明石英ガラス層が形成
される。このウエーハボートの保持治具の下部は、上記
から理解されるように、この保持治具が駆動部材の移動
によりウエーハを載置したウエーハボートを炉芯管内に
押し上げた状態で、炉高温部より下側に露出している部
分である。
管、加熱体、駆動部材及び昇降装置は、従来の縦型熱処
理炉に使用されているものを採用できる。また、上記縦
型熱処理炉のウエーハボートの保持治具は、その下部に
融着一体化した微細気泡入り半透明石英ガラス層が形成
される。このウエーハボートの保持治具の下部は、上記
から理解されるように、この保持治具が駆動部材の移動
によりウエーハを載置したウエーハボートを炉芯管内に
押し上げた状態で、炉高温部より下側に露出している部
分である。
【0010】微細気泡入り石英ガラス層とする部分は、
ウエーハボートの保持治具の少なくともこの露出部に形
成する必要がある。これは、一般に、保持治具の上部は
炉内に挿入されて高温となり、熱処理中に不純物が表面
より浸透するので、適宜表面層をエッチングによって洗
浄しなければならないが、この部分に気泡があるとエッ
チングによって開気孔となり、ここに取り込まれた不純
物を除去することがさらに困難になってしまうからであ
る。
ウエーハボートの保持治具の少なくともこの露出部に形
成する必要がある。これは、一般に、保持治具の上部は
炉内に挿入されて高温となり、熱処理中に不純物が表面
より浸透するので、適宜表面層をエッチングによって洗
浄しなければならないが、この部分に気泡があるとエッ
チングによって開気孔となり、ここに取り込まれた不純
物を除去することがさらに困難になってしまうからであ
る。
【0011】これに対して、本発明に係るウエーハボー
ドの保持治具のように、下部に微細気泡入り半透明石英
層を形成しても、この半透明石英層は、高温に加熱され
ることがないため、開気孔に汚染が取り込まれる心配は
ない。
ドの保持治具のように、下部に微細気泡入り半透明石英
層を形成しても、この半透明石英層は、高温に加熱され
ることがないため、開気孔に汚染が取り込まれる心配は
ない。
【0012】なお、本発明のウエーハボートの保持治具
では、従来のようにゴムパッキンに吸収されてこれを加
熱していた赤外線輻射が微細気泡入り半透明石英ガラス
層中で散乱吸収されて発熱するので、この部分は従来例
のように室温と等しいわけにはゆかず200℃以上にな
るが、この部分の遮蔽効果により、保持治具下端縁部の
耐熱性の低いゴムパッキン等の部材は室温と同様に保つ
ことが出来るので、劣化は殆ど進行しない。
では、従来のようにゴムパッキンに吸収されてこれを加
熱していた赤外線輻射が微細気泡入り半透明石英ガラス
層中で散乱吸収されて発熱するので、この部分は従来例
のように室温と等しいわけにはゆかず200℃以上にな
るが、この部分の遮蔽効果により、保持治具下端縁部の
耐熱性の低いゴムパッキン等の部材は室温と同様に保つ
ことが出来るので、劣化は殆ど進行しない。
【0013】上記微細気泡入り半透明石英ガラス層にお
ける気泡は、例えば径が15〜1000μmの球状もし
くは楕円球が好適で、この範囲より小さいと製造が困難
であり、大きいとウエーハボートを保持するための機械
的強度が低下するので好ましくない。
ける気泡は、例えば径が15〜1000μmの球状もし
くは楕円球が好適で、この範囲より小さいと製造が困難
であり、大きいとウエーハボートを保持するための機械
的強度が低下するので好ましくない。
【0014】本発明の縦型熱処理炉に係るウエーハボー
トの保持治具の微細気泡入り半透明石英ガラス層は、例
えば、微細気泡入り半透明石英ガラス管を製造し、これ
を適当な長さにカットしたものを保持治具の下側端部に
融着一体化することにより容易に形成させることができ
る。また、必要であれば、さらにその微細気泡入り半透
明石英ガラス管の下側に透明石英ガラスを融着一体化し
てもよい。
トの保持治具の微細気泡入り半透明石英ガラス層は、例
えば、微細気泡入り半透明石英ガラス管を製造し、これ
を適当な長さにカットしたものを保持治具の下側端部に
融着一体化することにより容易に形成させることができ
る。また、必要であれば、さらにその微細気泡入り半透
明石英ガラス管の下側に透明石英ガラスを融着一体化し
てもよい。
【0015】以下、本発明の縦型熱処理炉を添付図面に
より説明する。図1(a)は、本発明の縦型熱処理炉の
一例の使用状態を示す模式図であり、図1(b)は、こ
の縦型熱処理炉に用いるウエーハボート保持治具の下端
部の拡大断面図である。本発明の縦型熱処理炉は、炉芯
管1とこれを加熱する加熱体2と、ウエーハボート3を
載置する保持治具4と、このウエーハボート3を炉芯管
内に挿入する駆動部材5、及び昇降装置6から構成され
ている。
より説明する。図1(a)は、本発明の縦型熱処理炉の
一例の使用状態を示す模式図であり、図1(b)は、こ
の縦型熱処理炉に用いるウエーハボート保持治具の下端
部の拡大断面図である。本発明の縦型熱処理炉は、炉芯
管1とこれを加熱する加熱体2と、ウエーハボート3を
載置する保持治具4と、このウエーハボート3を炉芯管
内に挿入する駆動部材5、及び昇降装置6から構成され
ている。
【0016】上記ウエーハボートの保持治具4は、透明
石英ガラス製の円筒状であり、その下部には微細気泡入
り半透明石英ガラス層7がリング状に融着一体化され、
さらにその下部端縁にはフランジ8が一体に形成されて
いる。上記微細気泡入り半透明石英ガラス層7は、駆動
部材5によりウエーハボート3を炉芯管1内に挿入した
際に、炉高温部20外に露出した上記保持治具の下部に
形成されている。熱処理中の炉芯管内で発生した赤外線
輻射は、図1(b)で、矢印で示すように、微細気泡入
り半透明石英ガラス層7で散乱吸収されて発熱し、保持
治具4の下端縁には達しない。
石英ガラス製の円筒状であり、その下部には微細気泡入
り半透明石英ガラス層7がリング状に融着一体化され、
さらにその下部端縁にはフランジ8が一体に形成されて
いる。上記微細気泡入り半透明石英ガラス層7は、駆動
部材5によりウエーハボート3を炉芯管1内に挿入した
際に、炉高温部20外に露出した上記保持治具の下部に
形成されている。熱処理中の炉芯管内で発生した赤外線
輻射は、図1(b)で、矢印で示すように、微細気泡入
り半透明石英ガラス層7で散乱吸収されて発熱し、保持
治具4の下端縁には達しない。
【0017】
【作用】本発明の縦型熱処理炉において、加熱体によっ
て炉芯管の内部は高温化され、保持治具は、駆動部材と
昇降装置によって、その上に載置したウエーハボートを
押し上げて炉芯管内に挿入する。ウエーハボートの保持
治具の下部に形成された、微細気泡入り半透明石英ガラ
ス層は、炉芯管内の高温部から放射された赤外線輻射
が、透明石英ガラス体内部を内面全反射を繰り返しなが
ら、微細気泡入り半透明石英ガラス層に到達した際、該
層内に形成された無数の気泡面に当たって散乱吸収され
て発熱し、保持治具下端縁に到達することはない。その
結果、ウエーハボート保持治具と駆動部材間に介在する
ゴムパッキン等の部材が、高温となって熱的劣化するこ
とがなく、本発明の技術的課題は解決される。なお、本
発明の縦型熱処理炉の作用は、ゴムパッキンに限らずウ
エーハボート保持治具と駆動部材間に介在する部材であ
れば、同様に熱的劣化を防止できることは言うまでもな
い。
て炉芯管の内部は高温化され、保持治具は、駆動部材と
昇降装置によって、その上に載置したウエーハボートを
押し上げて炉芯管内に挿入する。ウエーハボートの保持
治具の下部に形成された、微細気泡入り半透明石英ガラ
ス層は、炉芯管内の高温部から放射された赤外線輻射
が、透明石英ガラス体内部を内面全反射を繰り返しなが
ら、微細気泡入り半透明石英ガラス層に到達した際、該
層内に形成された無数の気泡面に当たって散乱吸収され
て発熱し、保持治具下端縁に到達することはない。その
結果、ウエーハボート保持治具と駆動部材間に介在する
ゴムパッキン等の部材が、高温となって熱的劣化するこ
とがなく、本発明の技術的課題は解決される。なお、本
発明の縦型熱処理炉の作用は、ゴムパッキンに限らずウ
エーハボート保持治具と駆動部材間に介在する部材であ
れば、同様に熱的劣化を防止できることは言うまでもな
い。
【0018】
実施例1 図1(a)に示すような本発明の縦型熱処理炉で、半導
体ウエーハの熱処理を行った。上記縦型熱処理炉で使用
したウエーハボート保持治具は、その下部に、径が10
〜1000μm、1cm3 当たり約30,000個の微
細気泡入り半透明石英ガラス層を設けたものを用いた。
体ウエーハの熱処理を行った。上記縦型熱処理炉で使用
したウエーハボート保持治具は、その下部に、径が10
〜1000μm、1cm3 当たり約30,000個の微
細気泡入り半透明石英ガラス層を設けたものを用いた。
【0019】この保持治具に、80枚の6インチシリコ
ン半導体ウエーハWを積載したウエーハボート3を載置
し、昇降装置6に連結した駆動部材5にゴムパッキング
9を介して固定した。次いで、このウエーハボート3と
保持治具4を、昇降装置6により駆動部材5を押し上げ
て、加熱体2で1150℃にされた炉芯管1の内部に、
下方開口部より挿入し、8時間熱処理を行った。このプ
ロセスを10回繰り返したが、ゴムパッキンの劣化は全
くみられず、安定した半導体ウエーハの熱処理が行え
た。
ン半導体ウエーハWを積載したウエーハボート3を載置
し、昇降装置6に連結した駆動部材5にゴムパッキング
9を介して固定した。次いで、このウエーハボート3と
保持治具4を、昇降装置6により駆動部材5を押し上げ
て、加熱体2で1150℃にされた炉芯管1の内部に、
下方開口部より挿入し、8時間熱処理を行った。このプ
ロセスを10回繰り返したが、ゴムパッキンの劣化は全
くみられず、安定した半導体ウエーハの熱処理が行え
た。
【0020】
【発明の効果】本発明の縦型熱処理炉では、従来のよう
な炉内に発生した赤外線輻射がウエーハボート保持治具
の下端縁に設けられるゴムパッキン等の部材に吸収され
て、熱的劣化を引き起こすことがないため、ゴムパッキ
ン等の部材の耐久性が著しく向上し、変形等によるウエ
ーハボートの傾斜を防止できる。それ故、パッキン等の
部材の交換作業のためにクリーンルームのクリーン度を
しばしば低下させる必要がなくなり、結果として、長期
に亘って安定した半導体ウエーハの熱処理が可能とな
る。
な炉内に発生した赤外線輻射がウエーハボート保持治具
の下端縁に設けられるゴムパッキン等の部材に吸収され
て、熱的劣化を引き起こすことがないため、ゴムパッキ
ン等の部材の耐久性が著しく向上し、変形等によるウエ
ーハボートの傾斜を防止できる。それ故、パッキン等の
部材の交換作業のためにクリーンルームのクリーン度を
しばしば低下させる必要がなくなり、結果として、長期
に亘って安定した半導体ウエーハの熱処理が可能とな
る。
【図1】(a)本発明の縦型熱処理炉を用いた半導体ウ
エーハの熱処理状態を示す模式図であり、(b)は、上
記熱処理炉に使用する保持治具の下端部の部分拡大断面
図である。
エーハの熱処理状態を示す模式図であり、(b)は、上
記熱処理炉に使用する保持治具の下端部の部分拡大断面
図である。
【図2】従来の縦型熱処理炉を用いた図1と同様の模式
図である。
図である。
1,11 炉心管 2,12 加熱体 3,13 ウエーハボート 4,14 保持治具 5,15 駆動部材 6,16 昇降装置 7 微細気泡入り半透明石英ガラス層 8 フランジ 9 ゴムパッキン 10,20 炉の高温部 W 半導体ウエーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 剣持 克彦 福島県郡山市田村町金屋字川久保88 信越 石英株式会社石英技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体ウエーハの熱処理に用いられる縦
型熱処理炉において、縦型の炉芯管と、これを加熱する
加熱体と、ウエーハボートを載置する保持治具と、この
ウエーハボートを炉芯管内に挿入する駆動部材と昇降装
置からなり、前記保持治具は、駆動部材によりウエーハ
ボートを炉芯管内に挿入した際に、炉高温部外に露出し
た下部に微細気泡入り石英ガラス層を形成した透明石英
ガラスでなる縦型熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7129950A JP2716076B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 縦型熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7129950A JP2716076B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 縦型熱処理炉 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2099800A Division JPH0648679B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 石英ガラス製ウエーハボート保持治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0851083A true JPH0851083A (ja) | 1996-02-20 |
| JP2716076B2 JP2716076B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=15022451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7129950A Expired - Lifetime JP2716076B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 縦型熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2716076B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015133405A (ja) * | 2014-01-14 | 2015-07-23 | 日立金属株式会社 | 半導体製造装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5751639U (ja) * | 1980-09-09 | 1982-03-25 |
-
1995
- 1995-05-29 JP JP7129950A patent/JP2716076B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5751639U (ja) * | 1980-09-09 | 1982-03-25 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015133405A (ja) * | 2014-01-14 | 2015-07-23 | 日立金属株式会社 | 半導体製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2716076B2 (ja) | 1998-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08102447A (ja) | 半導体熱処理用の石英ガラス治具とその製造方法 | |
| JPH05275429A (ja) | 接合された基板中に真性ゲッタリング・サイトを作る方法およびシリコン半導体基板中の可動性イオンを捕捉する方法 | |
| JPH09167793A (ja) | 半導体ウエハ支持装置、半導体ウエハ支持方法およびそれに用いられるウエハ弾性支持体の製造方法 | |
| JPH0851083A (ja) | 縦型熱処理炉 | |
| JPH0648679B2 (ja) | 石英ガラス製ウエーハボート保持治具 | |
| JPH11168131A (ja) | ウエハ搬送チャック | |
| JP4029611B2 (ja) | ウェーハ支持具 | |
| JPH10199848A (ja) | 炭化ケイ素ウエハの表面汚染除去方法および炭化ケイ素ウエハ | |
| JP2804003B2 (ja) | 半導体ウエハーの熱処理装置 | |
| JPH1192295A (ja) | SiCダミーウェハ | |
| JP2688082B2 (ja) | 半導体基板の接合方法および接合装置 | |
| JPH08102446A (ja) | ウエハボート | |
| JP2837423B2 (ja) | 半導体基板の前処理方法 | |
| JPH0566967U (ja) | 縦型基板熱処理装置における基板ボート | |
| JPH0845801A (ja) | 半導体装置のマーキング方法 | |
| JP2000021958A (ja) | SiCウエハボート | |
| JP3871369B2 (ja) | 半導体ウエーハ処理用治具 | |
| JP2897891B2 (ja) | ウェハ搬送装置 | |
| JP2566340B2 (ja) | シリコン製ウエハ支持ボートの製造方法 | |
| JP2000016821A (ja) | 半導体ウエーハ処理用治具の製作方法及び治具 | |
| JP2763893B2 (ja) | 縦型熱処理炉 | |
| JP2002203801A (ja) | 石英管洗浄装置 | |
| JPH0468279B2 (ja) | ||
| KR100392983B1 (ko) | 에스오아이 기판의 제조방법 | |
| JPS60143628A (ja) | 熱処理用管 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |