JPH0853440A - 3−(4−アミノエトキシ−ベンゾイル)ベンゾ[b]チオフェンを製造するための改良法 - Google Patents
3−(4−アミノエトキシ−ベンゾイル)ベンゾ[b]チオフェンを製造するための改良法Info
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- JPH0853440A JPH0853440A JP7183923A JP18392395A JPH0853440A JP H0853440 A JPH0853440 A JP H0853440A JP 7183923 A JP7183923 A JP 7183923A JP 18392395 A JP18392395 A JP 18392395A JP H0853440 A JPH0853440 A JP H0853440A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/52—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
- C07D333/54—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、6−アルコキシ−3−(4−アル
コキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンを、製造規模
で、濃厚な収量減少の可能性があるペーストを生成する
ことなく、優良な収率で製造するための方法を提供す
る。また本発明は、a−(−アルコキシフェニルチオ)−
4−アルコキシアセトフェノンを、6−ヒドロキシ−2
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−アミノエ
トキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンに、ジアルコ
キシベンゾ[B]チオフェンのアシル化によって変換する
ための方法を提供する。 【解決手段】 該製造法は各々、ジアルコキシアセトフ
ェノン誘導体の分子内環化に依存して、製造規模での総
収率を低くする濃厚なペーストを生成することなく、ベ
ンゾ[B]チオフェンを産生する。
コキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンを、製造規模
で、濃厚な収量減少の可能性があるペーストを生成する
ことなく、優良な収率で製造するための方法を提供す
る。また本発明は、a−(−アルコキシフェニルチオ)−
4−アルコキシアセトフェノンを、6−ヒドロキシ−2
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−アミノエ
トキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンに、ジアルコ
キシベンゾ[B]チオフェンのアシル化によって変換する
ための方法を提供する。 【解決手段】 該製造法は各々、ジアルコキシアセトフ
ェノン誘導体の分子内環化に依存して、製造規模での総
収率を低くする濃厚なペーストを生成することなく、ベ
ンゾ[B]チオフェンを産生する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薬化学の分野に関す
るものであり、6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイ
ル]ベンゾ[B]チオフェンの群を製造するのに有利な方
法を提供する。特に、本発明はこのようなチオフェン類
を製造するのに有用な中間体、即ち、ジアルコキシベン
ゾ[B]チオフェンを製造するための改良法に関する。本
方法によって、問題物を混合することなく、大規模、高
収率で所望の化合物を得る。
るものであり、6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイ
ル]ベンゾ[B]チオフェンの群を製造するのに有利な方
法を提供する。特に、本発明はこのようなチオフェン類
を製造するのに有用な中間体、即ち、ジアルコキシベン
ゾ[B]チオフェンを製造するための改良法に関する。本
方法によって、問題物を混合することなく、大規模、高
収率で所望の化合物を得る。
【0002】
【従来の技術】ジアルコキシベンゾ[B]チオフェン中間
体からの6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイル]ベン
ゾ[B]チオフェン類の製造は、米国特許第4,380,635号
に記載された。該特許に記載された方法は、ポリリン酸
(PPA)中でのα−(3−メトキシフェニル−チオ)−
4−メトキシアセトフェノンの分子内環化に依存する。
PPA中でアセトフェノン出発物質を約85℃で約1時
間加熱することによって、2つの異性体、6−メトキシ
−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンお
よび4−メトキシ−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ
[B]チオフェンの約3:1混合物を得る。このトランス
フォーメーションが製造規模で行われる時、異性体のベ
ンゾ[B]チオフェンは沈殿し、通常の製造装置で十分に
撹拌できない濃厚なペーストを生成する。
体からの6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイル]ベン
ゾ[B]チオフェン類の製造は、米国特許第4,380,635号
に記載された。該特許に記載された方法は、ポリリン酸
(PPA)中でのα−(3−メトキシフェニル−チオ)−
4−メトキシアセトフェノンの分子内環化に依存する。
PPA中でアセトフェノン出発物質を約85℃で約1時
間加熱することによって、2つの異性体、6−メトキシ
−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンお
よび4−メトキシ−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ
[B]チオフェンの約3:1混合物を得る。このトランス
フォーメーションが製造規模で行われる時、異性体のベ
ンゾ[B]チオフェンは沈殿し、通常の製造装置で十分に
撹拌できない濃厚なペーストを生成する。
【0003】異なる反応スキームにおいてペーストが原
因の問題を緩和するための溶媒の使用が試みられている
[Guy等、 Synthesis, 222(1980)]。しかし、該反応ス
キームにこのアプローチを適用する際、溶媒の添加は、
出発アセトフェノンの不完全な環化、6−メトキシ−3
−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの不完
全な再配置、および反応時間の目覚ましい増加という結
果になる。従って、反応混合物を十分に混合するのを妨
げるペーストを生成することなしに、許容し得る反応時
間内に、適当な収量で、α−(−メトキシフェニルチオ)
−4−メトキシアセトフェノンを6−メトキシ−3−
(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンに変換す
る方法の必要性が在る。本発明の方法によって製造され
る化合物の大部分は、米国特許第4,133,814号に教示さ
れている(これは本明細書の一部を構成する)。
因の問題を緩和するための溶媒の使用が試みられている
[Guy等、 Synthesis, 222(1980)]。しかし、該反応ス
キームにこのアプローチを適用する際、溶媒の添加は、
出発アセトフェノンの不完全な環化、6−メトキシ−3
−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの不完
全な再配置、および反応時間の目覚ましい増加という結
果になる。従って、反応混合物を十分に混合するのを妨
げるペーストを生成することなしに、許容し得る反応時
間内に、適当な収量で、α−(−メトキシフェニルチオ)
−4−メトキシアセトフェノンを6−メトキシ−3−
(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンに変換す
る方法の必要性が在る。本発明の方法によって製造され
る化合物の大部分は、米国特許第4,133,814号に教示さ
れている(これは本明細書の一部を構成する)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、濃厚な、収
量を減じる可能性のあるペーストを生成することなし
に、製造規模において、優良な収率で6−アルコキシ−
3−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン類
を製造するための方法を提供することを課題とする。本
発明はまた、ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンのアシ
ル化によって、α−(−アルコキシフェニルチオ)−4−
アルコキシアセトフェノン類を6−ヒドロキシ−2−
(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−アミノエト
キシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン類に変換するた
めの方法をも提供することも課題とする。これら製造法
は各々、ジアルコキシアセトフェノン誘導体の分子内環
化に依存して、製造規模における総収量を減ずる濃厚な
ペーストを生成することなしにベンゾ[B]チオフェンを
産生する。
量を減じる可能性のあるペーストを生成することなし
に、製造規模において、優良な収率で6−アルコキシ−
3−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン類
を製造するための方法を提供することを課題とする。本
発明はまた、ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンのアシ
ル化によって、α−(−アルコキシフェニルチオ)−4−
アルコキシアセトフェノン類を6−ヒドロキシ−2−
(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−アミノエト
キシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン類に変換するた
めの方法をも提供することも課題とする。これら製造法
は各々、ジアルコキシアセトフェノン誘導体の分子内環
化に依存して、製造規模における総収量を減ずる濃厚な
ペーストを生成することなしにベンゾ[B]チオフェンを
産生する。
【0005】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は式
(I):
(I):
【0006】
【化8】 [式中、R基は同じかまたは異なり、C1〜C6アルキル
を表す]
を表す]
【0007】で示される化合物を製造するための方法を
提供し、該方法はリン酸の存在下においてポリリン酸で
もって、式(II):
提供し、該方法はリン酸の存在下においてポリリン酸で
もって、式(II):
【0008】
【化9】 [式中、R基は上記のように定義される]
【0009】で示される化合物を環化することを含んで
なる方法を提供する。
なる方法を提供する。
【0010】本発明はまた、式(III):
【0011】
【化10】 [式中、R1およびR2は独立してC1〜C4アルキルであ
るか、または一緒にC4〜C6ポリメチレンもしくは−
(CH2−)2O(CH2)2−を形成する]
るか、または一緒にC4〜C6ポリメチレンもしくは−
(CH2−)2O(CH2)2−を形成する]
【0012】で示される化合物を製造するための方法を
も包含し、該方法はリン酸の存在下においてポリリン酸
でもって式IIの化合物を環化して、アルコキシ−2−
(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの混合
物を産生し、;場合によりアルコキシ基を除去し、次い
でヒドロキシ基を再保護し;フリーデル−クラフツの条
件下において、式:
も包含し、該方法はリン酸の存在下においてポリリン酸
でもって式IIの化合物を環化して、アルコキシ−2−
(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの混合
物を産生し、;場合によりアルコキシ基を除去し、次い
でヒドロキシ基を再保護し;フリーデル−クラフツの条
件下において、式:
【0013】
【化11】 [式中、R5はXまたは式:
【化12】 で示される基であり(Xはクロロ、ブロモ、活性化エス
テル、もしくは−SO2R3である);R4はクロロ、ブ
ロモ、ヨード、または活性化エステル基である;(R5
がXである時、X基を式:
テル、もしくは−SO2R3である);R4はクロロ、ブ
ロモ、ヨード、または活性化エステル基である;(R5
がXである時、X基を式:
【化13】 で示されるアミンと置換している)]
【0014】で示されるアシル化剤でもって、ヒドロキ
シ保護されたベンゾ[B]チオフェンをアシル化し;そし
てヒドロキシ保護基を開裂することを含んでなる方法を
も包含する。
シ保護されたベンゾ[B]チオフェンをアシル化し;そし
てヒドロキシ保護基を開裂することを含んでなる方法を
も包含する。
【0015】本明細書において、全ての温度は摂氏で示
されるであろう。他に指定のない限り、溶媒の比を除い
て(これらは体積単位である)、全ての量、比、濃度、
割合等は、重量単位で示されるであろう。
されるであろう。他に指定のない限り、溶媒の比を除い
て(これらは体積単位である)、全ての量、比、濃度、
割合等は、重量単位で示されるであろう。
【0016】上記の式において、常用語は通常の意味を
もつ。例えば、用語C1〜C4第一級または第二級アルキ
ルは、メチル、エチル、プロピル、s−ブチル、i−ブチ
ル等のような基を指す。用語C1〜C4アルキルは上記の
基を包含し、t−ブチルをも包含する。用語C1〜C4ア
ルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブチロキシ等のような直鎖または分枝鎖の低
級アルコキシ基を指す。用語C4〜C6ポリメチレンは、
テトラメチレン、ペンタメチレン、およびヘキサメチレ
ンを指す。用語C1〜C6アルキルは、上述のC1〜C4基
ならびに種々の直鎖または分枝鎖ペンチルおよびヘキシ
ル基を包含する。
もつ。例えば、用語C1〜C4第一級または第二級アルキ
ルは、メチル、エチル、プロピル、s−ブチル、i−ブチ
ル等のような基を指す。用語C1〜C4アルキルは上記の
基を包含し、t−ブチルをも包含する。用語C1〜C4ア
ルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブチロキシ等のような直鎖または分枝鎖の低
級アルコキシ基を指す。用語C4〜C6ポリメチレンは、
テトラメチレン、ペンタメチレン、およびヘキサメチレ
ンを指す。用語C1〜C6アルキルは、上述のC1〜C4基
ならびに種々の直鎖または分枝鎖ペンチルおよびヘキシ
ル基を包含する。
【0017】用語「置換フェニル」は、C1〜C4アルキ
ル、C1〜C5アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、クロ
ロ、フルオロ、またはトリ(クロロもしくはフルオロ)メ
チルからなる群から選択された1または2個の置換基を
有するフェニル分子を指す。「C1〜C5アルコキシ」
は、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ等のような炭素架橋によって結合したC1
〜C5アルキル基を表す。
ル、C1〜C5アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、クロ
ロ、フルオロ、またはトリ(クロロもしくはフルオロ)メ
チルからなる群から選択された1または2個の置換基を
有するフェニル分子を指す。「C1〜C5アルコキシ」
は、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ等のような炭素架橋によって結合したC1
〜C5アルキル基を表す。
【0018】本方法および本発明の代表的生成物の群を
以下に挙げて、読者が本方法の全体の目的を十分理解す
ることを確実にする。6−ヒドロキシ−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−[4−(2−ジメチルアミノエト
キシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン;3−[4−(2
−エトキシメチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−6−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシルフェニル)ベンゾ[B]
チオフェン;3−[4−(2−エトキシルイソプロピルア
ミノエトキシ)ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−(4
−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン;3−[4
−(2−ジブチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−5−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェン;3−[4−[2−(1−メチルプロピル)メチル
アミノエトキシ]ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−
(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン;6−
ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4
−[2−ジ(2−メチルプロピル)アミノエトキシ]ベンゾ
イル]ベンゾ[B]チオフェン;6−ヒドロキシ−2−(4
−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエ
トキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン;6−ヒドロ
キシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−
ピペリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェ
ン;6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−
3−[4−(2−モルホリノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ
[B]チオフェン;3−[4−(2−ヘキサメチレンイミノ
エトキシ)ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン。
以下に挙げて、読者が本方法の全体の目的を十分理解す
ることを確実にする。6−ヒドロキシ−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−[4−(2−ジメチルアミノエト
キシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン;3−[4−(2
−エトキシメチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−6−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシルフェニル)ベンゾ[B]
チオフェン;3−[4−(2−エトキシルイソプロピルア
ミノエトキシ)ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−(4
−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン;3−[4
−(2−ジブチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−5−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェン;3−[4−[2−(1−メチルプロピル)メチル
アミノエトキシ]ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−
(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン;6−
ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4
−[2−ジ(2−メチルプロピル)アミノエトキシ]ベンゾ
イル]ベンゾ[B]チオフェン;6−ヒドロキシ−2−(4
−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエ
トキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン;6−ヒドロ
キシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−[4−(2−
ピペリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェ
ン;6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)−
3−[4−(2−モルホリノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ
[B]チオフェン;3−[4−(2−ヘキサメチレンイミノ
エトキシ)ベンゾイル]−6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン。
【0019】本化合物は組織特異的エストロゲンアゴニ
スト/アンタゴニストであり、従って、エストロゲン療
法、抗エストロゲン療法、および抗アンドロゲン療法に
有用である。従って、標的内分泌器官の病理症状を治療
するのに有用である(この症状はエストロゲンまたはア
ンドロゲンに依存性または部分的に依存性である)。こ
のような症状には哺乳動物癌、哺乳動物線維細胞疾患、
前立腺癌、および良性前立腺肥大が含まれる。
スト/アンタゴニストであり、従って、エストロゲン療
法、抗エストロゲン療法、および抗アンドロゲン療法に
有用である。従って、標的内分泌器官の病理症状を治療
するのに有用である(この症状はエストロゲンまたはア
ンドロゲンに依存性または部分的に依存性である)。こ
のような症状には哺乳動物癌、哺乳動物線維細胞疾患、
前立腺癌、および良性前立腺肥大が含まれる。
【0020】米国特許第4,131,814号によって、本化合
物の幾つかは抗癌薬物および抗受精薬物としても有用で
あることが教示されている。本発明によって製造される
好ましい化合物である、6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピペリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの抗エストロゲン
および抗アンドロゲン効能は、米国特許第4,413,068号
においてさらに詳しく説明されている。
物の幾つかは抗癌薬物および抗受精薬物としても有用で
あることが教示されている。本発明によって製造される
好ましい化合物である、6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピペリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの抗エストロゲン
および抗アンドロゲン効能は、米国特許第4,413,068号
においてさらに詳しく説明されている。
【0021】化合物のヒトへの投与量はやや広範囲に変
更可能である。塩形態部分がかなりの分子量をもつラウ
リン酸塩のような塩の形態で化合物を投与する際には、
その投与量を調節する必要があることに注意すべきであ
る。本化合物の有効投与割合の通常範囲は約0.05〜
50mg/kg/日である。好ましい割合範囲は約0.1〜1
0mg/kg/日であり、最も好ましい範囲は約0.1〜5mg/
kg/日である。勿論、化合物の1日投与量をその日の異
なる時間に少量ずつ投与するのがしばしば実際的であ
る。
更可能である。塩形態部分がかなりの分子量をもつラウ
リン酸塩のような塩の形態で化合物を投与する際には、
その投与量を調節する必要があることに注意すべきであ
る。本化合物の有効投与割合の通常範囲は約0.05〜
50mg/kg/日である。好ましい割合範囲は約0.1〜1
0mg/kg/日であり、最も好ましい範囲は約0.1〜5mg/
kg/日である。勿論、化合物の1日投与量をその日の異
なる時間に少量ずつ投与するのがしばしば実際的であ
る。
【0022】本化合物の投与経路は限定的ではない。本
化合物は消化管から吸収されることが知られており、故
に都合が良いという理由から化合物を経口投与するのが
通常好ましい。しかし、特定の事例において所望される
なら、本化合物を経皮的に、または直腸による吸収のた
めに坐剤として投与するのが同様に有効である。
化合物は消化管から吸収されることが知られており、故
に都合が良いという理由から化合物を経口投与するのが
通常好ましい。しかし、特定の事例において所望される
なら、本化合物を経皮的に、または直腸による吸収のた
めに坐剤として投与するのが同様に有効である。
【0023】本化合物を医薬組成物として通常投与す
る。全ての通常の型の組成物を用いてよく、例えば、錠
剤、噛み砕ける錠剤、カプセル、溶液、非経口溶液、ト
ローチ、坐剤、および懸濁液が含まれる。1日投与量ま
たは1日投与量の好都合な分画を含有するよう、単一の
錠剤またはカプセルまたは好都合な容量の液体であって
よい投与量単位に、組成物を製剤化する。一般に、組成
物は約0.000006〜60%の化合物を含有し、そ
れは用いる組成物の型および所望の投与量に依存する。
本化合物の活性は、投与される組成物またはその組成物
の濃度に依存しない。従って、組成物を専ら好都合かつ
経済的に選択し、製剤化する。
る。全ての通常の型の組成物を用いてよく、例えば、錠
剤、噛み砕ける錠剤、カプセル、溶液、非経口溶液、ト
ローチ、坐剤、および懸濁液が含まれる。1日投与量ま
たは1日投与量の好都合な分画を含有するよう、単一の
錠剤またはカプセルまたは好都合な容量の液体であって
よい投与量単位に、組成物を製剤化する。一般に、組成
物は約0.000006〜60%の化合物を含有し、そ
れは用いる組成物の型および所望の投与量に依存する。
本化合物の活性は、投与される組成物またはその組成物
の濃度に依存しない。従って、組成物を専ら好都合かつ
経済的に選択し、製剤化する。
【0024】
【発明の実施の形態】後にアシル化して、R1およびR2
が一緒にテトラメチレンまたはペンタメチレンを形成し
ている式IIIの化合物を形成する、式Iの中間体を製造
するために、本発明の方法を用いるのが好ましい。式I
の化合物を、本発明に従い、スキームIに記載されてい
るように、ポリリン酸(PPA)およびリン酸(H3P
O4)の混合物中でa−(−アルコキシフェニルチオ)−4
−アルコキシアセトフェノンを環化して、6−アルコキ
シ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェ
ン(I)および4−アルコキシ−2−(4−アルコキシ
フェニル)ベンゾ[B]チオフェンの混合物を形成するこ
とによって製造する。
が一緒にテトラメチレンまたはペンタメチレンを形成し
ている式IIIの化合物を形成する、式Iの中間体を製造
するために、本発明の方法を用いるのが好ましい。式I
の化合物を、本発明に従い、スキームIに記載されてい
るように、ポリリン酸(PPA)およびリン酸(H3P
O4)の混合物中でa−(−アルコキシフェニルチオ)−4
−アルコキシアセトフェノンを環化して、6−アルコキ
シ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェ
ン(I)および4−アルコキシ−2−(4−アルコキシ
フェニル)ベンゾ[B]チオフェンの混合物を形成するこ
とによって製造する。
【0025】以下にさらに十分説明するように、6−ア
ルコキシ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェンの式IIIの化合物への変換を、スキームIIおよ
びIIIに概略を示した反応に従って達成することができ
る。
ルコキシ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェンの式IIIの化合物への変換を、スキームIIおよ
びIIIに概略を示した反応に従って達成することができ
る。
【0026】
【化14】
【化15】
【0027】スキームIIIにおいて、R、R1、R2、お
よびR4は上述のように定義され、Rpは−COR3また
は−SO2R3を表し、そしてR3はC1〜C4第一級もし
くは第二級アルキル、トリフルオロメチル、トリクロロ
メチル、フェニル、p−トリル、p−アニシル、またはモ
ノ−もしくはジ(ハロもしくはニトロ)フェニルである。
スキームIIに記載されているように、ジアルコキシベン
ゾ[B]チオフェンを上述のアシル化剤でアシル化し、そ
して保護基を除去して化合物IIIを得ることができる。
別法として、スキームIIIに示されているように、アセ
トフェノンIIの分子内環化に次いで、ジアルコキシベン
ゾチオフェンのアルコキシ基を除去してジヒドロキシベ
ンゾチオフェンを産生する。次いでヒドロキシ基を再保
護し、次に得られた保護されたジヒドロキシ化合物を上
述のアシル化剤と反応させ、その後保護基を除去する。
よびR4は上述のように定義され、Rpは−COR3また
は−SO2R3を表し、そしてR3はC1〜C4第一級もし
くは第二級アルキル、トリフルオロメチル、トリクロロ
メチル、フェニル、p−トリル、p−アニシル、またはモ
ノ−もしくはジ(ハロもしくはニトロ)フェニルである。
スキームIIに記載されているように、ジアルコキシベン
ゾ[B]チオフェンを上述のアシル化剤でアシル化し、そ
して保護基を除去して化合物IIIを得ることができる。
別法として、スキームIIIに示されているように、アセ
トフェノンIIの分子内環化に次いで、ジアルコキシベン
ゾチオフェンのアルコキシ基を除去してジヒドロキシベ
ンゾチオフェンを産生する。次いでヒドロキシ基を再保
護し、次に得られた保護されたジヒドロキシ化合物を上
述のアシル化剤と反応させ、その後保護基を除去する。
【0028】ポリリン酸環化 a−(−アルコキシフェニルチオ)−4−アルコキシアセ
トフェノンの環化を、リン酸と共にポリリン酸(PP
A)中において行ない、6−アルコキシ−2−(4−ア
ルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンおよび4−ア
ルコキシ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェンを産生する。濃厚で、撹拌が困難なペーストを
生成せずに、この反応は残らず進行する。本発明による
と、環化を約50〜110℃、好ましくは約75〜95
℃、そして最も好ましくは約80〜90℃の温度で行
う。アセトフェノン出発物質をPPA/H3PO4混合物
中で少なくとも30分間、好ましくは約60〜180分
間加熱する。目下実施する際には、アセトフェノンを約
85℃で約1.75時間環化する。この環化反応におい
てPPAのH3PO4に対する重量比は約10:1〜1:
1である。
トフェノンの環化を、リン酸と共にポリリン酸(PP
A)中において行ない、6−アルコキシ−2−(4−ア
ルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンおよび4−ア
ルコキシ−2−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チ
オフェンを産生する。濃厚で、撹拌が困難なペーストを
生成せずに、この反応は残らず進行する。本発明による
と、環化を約50〜110℃、好ましくは約75〜95
℃、そして最も好ましくは約80〜90℃の温度で行
う。アセトフェノン出発物質をPPA/H3PO4混合物
中で少なくとも30分間、好ましくは約60〜180分
間加熱する。目下実施する際には、アセトフェノンを約
85℃で約1.75時間環化する。この環化反応におい
てPPAのH3PO4に対する重量比は約10:1〜1:
1である。
【0029】この最初の加熱期間に次いで、反応物を約
25〜75℃、好ましくは約40〜60℃の温度に冷却
し、この時十分の水または氷を加えて残っているPPA
を破壊し、ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンを沈澱さ
せる。水の添加は事実上発熱を伴う。有機溶媒を加え、
水層を分離し、所望により有機溶媒でもって再び水層を
抽出し、有機層を一緒にし、そして一緒にした有機層を
濃縮することによる標準的な水系後処理でもって、ベン
ゾ[B]チオフェンを単離することができる。出発物質が
メトキシ誘導体である時、所望の6−アルコキシ化合物
は濃縮した溶媒中で結晶化するが、4−アルコキシ異性
体は溶液中に残る。所望の6−アルコキシ化合物を好ま
しくは濾過によって集めることができる。この方法によ
って、70%に達する収率を実現する。
25〜75℃、好ましくは約40〜60℃の温度に冷却
し、この時十分の水または氷を加えて残っているPPA
を破壊し、ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンを沈澱さ
せる。水の添加は事実上発熱を伴う。有機溶媒を加え、
水層を分離し、所望により有機溶媒でもって再び水層を
抽出し、有機層を一緒にし、そして一緒にした有機層を
濃縮することによる標準的な水系後処理でもって、ベン
ゾ[B]チオフェンを単離することができる。出発物質が
メトキシ誘導体である時、所望の6−アルコキシ化合物
は濃縮した溶媒中で結晶化するが、4−アルコキシ異性
体は溶液中に残る。所望の6−アルコキシ化合物を好ま
しくは濾過によって集めることができる。この方法によ
って、70%に達する収率を実現する。
【0030】本発明の方法の後処理(ワークアップ)に
おいて用いるのに適当な有機溶媒には、ジエチルエーテ
ル、酢酸エチル、および芳香族炭化水素(例えば、ベン
ゼンおよびトルエン)が含まれる。本発明に従う好まし
い環化方法において、出発アセトフェノンは、環化後の
後処理によって、6−メトキシ−2−(4−メトキシフ
ェニル)ベンゾ[B]チオフェンを産生するa−(−メトキ
シフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノンであ
る。上述および以下にさらに十分説明するように、この
物質を後に6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイル]ベ
ンゾ[B]チオフェンに変換することができる。
おいて用いるのに適当な有機溶媒には、ジエチルエーテ
ル、酢酸エチル、および芳香族炭化水素(例えば、ベン
ゼンおよびトルエン)が含まれる。本発明に従う好まし
い環化方法において、出発アセトフェノンは、環化後の
後処理によって、6−メトキシ−2−(4−メトキシフ
ェニル)ベンゾ[B]チオフェンを産生するa−(−メトキ
シフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノンであ
る。上述および以下にさらに十分説明するように、この
物質を後に6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3−[4−(2−アミノエトキシ)ベンゾイル]ベ
ンゾ[B]チオフェンに変換することができる。
【0031】脱アルキル化 ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンのヒドロキシ基を脱
アルキル化し、再保護する方法において、例えば、ピリ
ジン塩酸塩のような第三級アミン塩酸塩でもって、高温
で脱保護を行うことができる。混合物を冷却し、水性後
処理の後ジオールを単離することによって、脱保護した
ジオールを回収することができる。
アルキル化し、再保護する方法において、例えば、ピリ
ジン塩酸塩のような第三級アミン塩酸塩でもって、高温
で脱保護を行うことができる。混合物を冷却し、水性後
処理の後ジオールを単離することによって、脱保護した
ジオールを回収することができる。
【0032】再保護 スキームIIIに従ってベンゾ[B]チオフェンを変換する
際、当分野で既知の方法により−COR3および−SO2
R3基を脱保護したジヒドロキシ化合物に置く。例え
ば、−COR3基を所望される場合、塩化アシル、臭化
アシル、シアン化アシル、もしくはアシルアジドのよう
な物質と、または適当な無水物もしくは混合無水物とジ
ヒドロキシ化合物を反応させる。この反応を塩基性溶
媒、例えばピリジン、ルチジン、キノリンもしくはイソ
キノリン、または第三級アミン溶媒、例えばトリエチル
アミン、トリブチルアミン、メチルピペリジン等の中で
行うのが好都合である。また、この反応を不活性溶媒、
例えば酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン、ジメトキシエタン、アセトニ
トリル、アセトン、メチル、エチル、ケトン等の中で、
少なくとも1当量の第三級アミンのような酸スカベンジ
ャーを添加して行ってもよい。4−ジメチルアミノピリ
ジンまたは4−ピロリジノピリジンのようなアシル化触
媒を所望ならば用いてよい[一般に、Haslam、Tetrahed
ron 36:2429-33(1980) を参照]。−COR3基を得るア
シル化反応は−25〜100℃の範囲内の適度の温度で
行う。
際、当分野で既知の方法により−COR3および−SO2
R3基を脱保護したジヒドロキシ化合物に置く。例え
ば、−COR3基を所望される場合、塩化アシル、臭化
アシル、シアン化アシル、もしくはアシルアジドのよう
な物質と、または適当な無水物もしくは混合無水物とジ
ヒドロキシ化合物を反応させる。この反応を塩基性溶
媒、例えばピリジン、ルチジン、キノリンもしくはイソ
キノリン、または第三級アミン溶媒、例えばトリエチル
アミン、トリブチルアミン、メチルピペリジン等の中で
行うのが好都合である。また、この反応を不活性溶媒、
例えば酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン、ジメトキシエタン、アセトニ
トリル、アセトン、メチル、エチル、ケトン等の中で、
少なくとも1当量の第三級アミンのような酸スカベンジ
ャーを添加して行ってもよい。4−ジメチルアミノピリ
ジンまたは4−ピロリジノピリジンのようなアシル化触
媒を所望ならば用いてよい[一般に、Haslam、Tetrahed
ron 36:2429-33(1980) を参照]。−COR3基を得るア
シル化反応は−25〜100℃の範囲内の適度の温度で
行う。
【0033】また、このようなヒドロキシ基のアシル化
を、不活性溶媒または適切な溶媒中で適当なカルボン酸
の酸触媒反応によって行ってもよい。酸触媒、例えば硫
酸、ポリリン酸、メタンスルホン酸等を用いる。また、
適当な酸の活性エステル、例えばジシクロヘキシルカー
ボジイミド、アシルイミダゾール、ニトロフェノール、
ペンタクロロフェノール、N−ヒドロキシコハク酸イミ
ド、および1−ヒドロキシベンゾトリアゾールのような
既知の試薬によって形成されるエステルを形成すること
によって、−COR3基を得ることができる[例えば、B
ul.Chem.Soc.Japan 38:1979(1965)、およびChem.Ber. 7
88:2024(1970) を参照]。
を、不活性溶媒または適切な溶媒中で適当なカルボン酸
の酸触媒反応によって行ってもよい。酸触媒、例えば硫
酸、ポリリン酸、メタンスルホン酸等を用いる。また、
適当な酸の活性エステル、例えばジシクロヘキシルカー
ボジイミド、アシルイミダゾール、ニトロフェノール、
ペンタクロロフェノール、N−ヒドロキシコハク酸イミ
ド、および1−ヒドロキシベンゾトリアゾールのような
既知の試薬によって形成されるエステルを形成すること
によって、−COR3基を得ることができる[例えば、B
ul.Chem.Soc.Japan 38:1979(1965)、およびChem.Ber. 7
88:2024(1970) を参照]。
【0034】他の技術、例えばリン化合物の混合無水物
による方法[ShioiriとHamada、J.Org.Chem. 43:3631-3
2(1978)]、2−クロロピリジンのような2−ハロ複素
環化合物の使用による方法[Narasaka等、Chem.Let. 76
3-66(1977)]、およびチオールエステルの使用による方
法もまた知られている。−COR3基を得る上記技術の
全ては、上述のような溶媒中で実施される。反応の間に
酸生成物を産生しない技術は、勿論、反応混合物中に酸
スカベンジャーを必要としない。
による方法[ShioiriとHamada、J.Org.Chem. 43:3631-3
2(1978)]、2−クロロピリジンのような2−ハロ複素
環化合物の使用による方法[Narasaka等、Chem.Let. 76
3-66(1977)]、およびチオールエステルの使用による方
法もまた知られている。−COR3基を得る上記技術の
全ては、上述のような溶媒中で実施される。反応の間に
酸生成物を産生しない技術は、勿論、反応混合物中に酸
スカベンジャーを必要としない。
【0035】さらに他の方法、例えば、−30〜25℃
の範囲内の低温での、上述のような、不活性溶媒中のR
3−置換ケテンの使用もまた有用である。更に、上述の
試薬でもってより完全な反応を得るために、非常に強い
塩基、例えば水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシ
ド、水素化カリウム、水素化ナトリウム、n−ブチルリ
チウム等でもって処理することによって、ジヒドロキシ
化合物をそのジアニオンに最初に変換することができ
る。ジアニオン技術による保護は、上述の不活性溶媒中
で、更なる塩基または触媒の添加もなく行われる。ジア
ニオン技術による反応温度は−30〜50℃である。
の範囲内の低温での、上述のような、不活性溶媒中のR
3−置換ケテンの使用もまた有用である。更に、上述の
試薬でもってより完全な反応を得るために、非常に強い
塩基、例えば水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシ
ド、水素化カリウム、水素化ナトリウム、n−ブチルリ
チウム等でもって処理することによって、ジヒドロキシ
化合物をそのジアニオンに最初に変換することができ
る。ジアニオン技術による保護は、上述の不活性溶媒中
で、更なる塩基または触媒の添加もなく行われる。ジア
ニオン技術による反応温度は−30〜50℃である。
【0036】−SO2R3保護化合物を所望する場合に
は、KingとManoir[J.Am.Chem.Soc.97:2566-67(197
5)]によって教示されているように、ジヒドロキシ出発
化合物を、例えば、塩化スルホニル、臭化スルホニル、
またはスルホニルアンモニウム塩のような適当なスルホ
ン酸の誘導体と反応させる。また、ジヒドロキシ化合物
を適当なスルホン酸無水物と反応させることもできる。
このような反応を、ハロゲン化アシル等との反応の議論
において上述したような条件下で行う。
は、KingとManoir[J.Am.Chem.Soc.97:2566-67(197
5)]によって教示されているように、ジヒドロキシ出発
化合物を、例えば、塩化スルホニル、臭化スルホニル、
またはスルホニルアンモニウム塩のような適当なスルホ
ン酸の誘導体と反応させる。また、ジヒドロキシ化合物
を適当なスルホン酸無水物と反応させることもできる。
このような反応を、ハロゲン化アシル等との反応の議論
において上述したような条件下で行う。
【0037】また、置換ケテンとの反応について上述し
たような条件下での、適当な置換スルフェンとのジヒド
ロキシ化合物の反応によって、−SO2R3基を得ること
もできる。更に、スルホネート生成反応のいずれも、上
述のようなジアニオン型のジヒドロキシ化合物で行うこ
とができる。好ましい保護された出発化合物は、保護基
Rがメタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、アセ
チル、ベンゾイル、p−アニソイル、およびベンゼンス
ルホニルである化合物である。好ましい保護基の他のク
ラスには、RがCOR3である、Rが−SO2R3であ
る、R3がC1〜C4第一級または第二級アルキルであ
る、およびR3がフェニル、p−トリル、p−アニシル、
またはモノ−もしくはジ(ハロもしくはニトロ)フェニル
である化合物が含まれる。
たような条件下での、適当な置換スルフェンとのジヒド
ロキシ化合物の反応によって、−SO2R3基を得ること
もできる。更に、スルホネート生成反応のいずれも、上
述のようなジアニオン型のジヒドロキシ化合物で行うこ
とができる。好ましい保護された出発化合物は、保護基
Rがメタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、アセ
チル、ベンゾイル、p−アニソイル、およびベンゼンス
ルホニルである化合物である。好ましい保護基の他のク
ラスには、RがCOR3である、Rが−SO2R3であ
る、R3がC1〜C4第一級または第二級アルキルであ
る、およびR3がフェニル、p−トリル、p−アニシル、
またはモノ−もしくはジ(ハロもしくはニトロ)フェニル
である化合物が含まれる。
【0038】アシル化 スキームIIまたはIIIによる保護された出発化合物を、
所望の生成物のアミノエトキシ基を既にもつアシル化剤
か、その前駆体のいずれかでもってアシル化することが
できる。アシル化剤を以下に詳細に議論する。このアシ
ル化はフリーデル−クラフツアシル化であり、通常の方
法で行われる。ルイス酸またはプロトン酸のいずれかを
フリーデル−クラフツ触媒として用いてよい。このよう
な触媒についての優れた議論はOlahの「フリーデル−
クラフツと関連反応(Friedel-Crafts and Related Rea
ctions)」[Interscience Publ., New York, London a
nd Sidney, 1963, 第I巻, IIIおよびIV章]で見られ
る。
所望の生成物のアミノエトキシ基を既にもつアシル化剤
か、その前駆体のいずれかでもってアシル化することが
できる。アシル化剤を以下に詳細に議論する。このアシ
ル化はフリーデル−クラフツアシル化であり、通常の方
法で行われる。ルイス酸またはプロトン酸のいずれかを
フリーデル−クラフツ触媒として用いてよい。このよう
な触媒についての優れた議論はOlahの「フリーデル−
クラフツと関連反応(Friedel-Crafts and Related Rea
ctions)」[Interscience Publ., New York, London a
nd Sidney, 1963, 第I巻, IIIおよびIV章]で見られ
る。
【0039】Olahによって説明されたように、古典的
フリーデル−クラフツ触媒はルイス酸であった。塩化ア
ルミニウム、臭化アルミニウム、および塩化物、三フッ
化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四塩化チタ
ン、四臭化チタン、塩化第二スズ、臭化第二スズ、三塩
化ビスマス、および塩化第二鉄のような金属ハロゲン化
物は周知の触媒であり、このアシル化に有用である。プ
ロトン酸触媒もまたこのアシル化に有用であり、この触
媒にはリン酸、ポリリン酸、過塩素酸、クロロスルホン
酸、アルキルスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸お
よびエタンスルホン酸)、トルエンスルホン酸およびベ
ンゼンスルホン酸、硫酸、クロロ酢酸、ならびにトリフ
ルオロ酢酸のような基質が含まれる。アシル化を塩化ア
ルミニウムまたはトリフルオロメタンスルホン酸でもっ
て行うのが好ましい。
フリーデル−クラフツ触媒はルイス酸であった。塩化ア
ルミニウム、臭化アルミニウム、および塩化物、三フッ
化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四塩化チタ
ン、四臭化チタン、塩化第二スズ、臭化第二スズ、三塩
化ビスマス、および塩化第二鉄のような金属ハロゲン化
物は周知の触媒であり、このアシル化に有用である。プ
ロトン酸触媒もまたこのアシル化に有用であり、この触
媒にはリン酸、ポリリン酸、過塩素酸、クロロスルホン
酸、アルキルスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸お
よびエタンスルホン酸)、トルエンスルホン酸およびベ
ンゼンスルホン酸、硫酸、クロロ酢酸、ならびにトリフ
ルオロ酢酸のような基質が含まれる。アシル化を塩化ア
ルミニウムまたはトリフルオロメタンスルホン酸でもっ
て行うのが好ましい。
【0040】通常、溶媒中でアシル化を行い、反応条件
によって有意な攻撃を受けない任意の不活性有機溶媒を
用いることができる。例えば、ジクロロメタン、1,2
−ジクロロメタン、クロロホルム等のようなハロゲン化
溶媒を用いることができ、ならびに芳香族(例えば、ベ
ンゼン、クロロベンゼン等)、アルカン(例えば、石油
エーテル、ヘキサン等)、およびニトロ炭化水素(例え
ば、ニトロベンゼンおよびニトロアルカン)を用いるこ
とができる。フリーデル−クラフツアシル化工程におい
て用いる条件下で、トルエンはむしろ容易にアシル化さ
れることが見いだされており、故にトルエンをこの方法
の初期工程において用いる際には、保護された出発化合
物から可能な限り完全に除去し、アシル化剤の浪費を避
けることが重要である。
によって有意な攻撃を受けない任意の不活性有機溶媒を
用いることができる。例えば、ジクロロメタン、1,2
−ジクロロメタン、クロロホルム等のようなハロゲン化
溶媒を用いることができ、ならびに芳香族(例えば、ベ
ンゼン、クロロベンゼン等)、アルカン(例えば、石油
エーテル、ヘキサン等)、およびニトロ炭化水素(例え
ば、ニトロベンゼンおよびニトロアルカン)を用いるこ
とができる。フリーデル−クラフツアシル化工程におい
て用いる条件下で、トルエンはむしろ容易にアシル化さ
れることが見いだされており、故にトルエンをこの方法
の初期工程において用いる際には、保護された出発化合
物から可能な限り完全に除去し、アシル化剤の浪費を避
けることが重要である。
【0041】おおよそ周囲温度〜約100℃の温度で、
好ましいプロトン酸触媒であるトリフルオロメタンスル
ホン酸によって触媒される方法に対しては好ましくは反
応混合物の還流温度で、ルイス酸触媒方法に対しては好
ましくはおおよそ周囲温度で、アシル化を行うことがで
きる。アシル化剤は、R4が「活性基」と認識されるも
の、例えば、塩素原子、臭素原子、または活性化エステ
ルのうちの1つである、活性型の適当な安息香酸であ
る。ヒドロキシベンゾトリアゾール、アシルイミダゾー
ル、ニトロフェノール、ペンタクロロフェノール、N−
ヒドロキシコハク酸イミド、ジシクロヘキシルカーボジ
イミド等でもって、適当な活性化エステルを形成する。
また、R4基は無水物、特に小さいカルボン酸、例えば
酢酸、ギ酸、および特にスルホン酸でもって形成する無
水物のような混合無水物を指してもよい。
好ましいプロトン酸触媒であるトリフルオロメタンスル
ホン酸によって触媒される方法に対しては好ましくは反
応混合物の還流温度で、ルイス酸触媒方法に対しては好
ましくはおおよそ周囲温度で、アシル化を行うことがで
きる。アシル化剤は、R4が「活性基」と認識されるも
の、例えば、塩素原子、臭素原子、または活性化エステ
ルのうちの1つである、活性型の適当な安息香酸であ
る。ヒドロキシベンゾトリアゾール、アシルイミダゾー
ル、ニトロフェノール、ペンタクロロフェノール、N−
ヒドロキシコハク酸イミド、ジシクロヘキシルカーボジ
イミド等でもって、適当な活性化エステルを形成する。
また、R4基は無水物、特に小さいカルボン酸、例えば
酢酸、ギ酸、および特にスルホン酸でもって形成する無
水物のような混合無水物を指してもよい。
【0042】好ましいアシル化剤は、R4がクロロまた
はブロモであるアシル化剤である。従って、最も非常に
好ましい個々のアシル化剤は、4−(2−ピペリジノエ
トキシ)ベンゾイルクロリド、4−(2−ピロリジノエト
キシ)ベンゾイルブロミド、4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイルクロリド、4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイルブロミド、4−[2−(3−メチルピロリ
ジノ)エトキシ]ベンゾイルクロリド、および4−[2−
(3−メチルピロリジノ)エトキシ]ベンゾイルブロミド
である。
はブロモであるアシル化剤である。従って、最も非常に
好ましい個々のアシル化剤は、4−(2−ピペリジノエ
トキシ)ベンゾイルクロリド、4−(2−ピロリジノエト
キシ)ベンゾイルブロミド、4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイルクロリド、4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイルブロミド、4−[2−(3−メチルピロリ
ジノ)エトキシ]ベンゾイルクロリド、および4−[2−
(3−メチルピロリジノ)エトキシ]ベンゾイルブロミド
である。
【0043】塩基性側鎖をアシル化剤の一部として加え
る時、アシル化剤として少量過剰(1.05〜1.5M)
の適当なハロゲン化ベンゾイルを用いる、およびフリー
デル−クラフツ触媒として微量過剰(M)のトリフルオ
ロメタンスルホン酸、または代わりにフルオロスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ジハロリン酸、もしくは
濃硫酸を用いるのが好ましい。また別法として、大過剰
(2〜12M)の塩化アルミニウムの存在下で、実質上
過剰(1.5〜3.5M)のハロゲン化ベンゾイルを用い
ることによる好ましい方法で反応を行う。他のルイス酸
触媒、例えば臭化アルミニウム等もまた用いてよい。
る時、アシル化剤として少量過剰(1.05〜1.5M)
の適当なハロゲン化ベンゾイルを用いる、およびフリー
デル−クラフツ触媒として微量過剰(M)のトリフルオ
ロメタンスルホン酸、または代わりにフルオロスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ジハロリン酸、もしくは
濃硫酸を用いるのが好ましい。また別法として、大過剰
(2〜12M)の塩化アルミニウムの存在下で、実質上
過剰(1.5〜3.5M)のハロゲン化ベンゾイルを用い
ることによる好ましい方法で反応を行う。他のルイス酸
触媒、例えば臭化アルミニウム等もまた用いてよい。
【0044】アミノエトキシ前駆体を使用するアシル化
の場合、上述ような強酸の存在下でアシル化を行うのが
好ましい。この反応において、完全に当量な酸は必要で
ない。触媒量の酸で十分である。クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ベンゼン、1,2−ジクロロエタン等のよう
な不活性ハロゲン化溶媒中で、アシル化工程を行うのが
好ましい。一般に、このようなアシル化反応に関しては
Effenbergerによる論説[Angew.Chem.Int.Ed.Engl. 1
9:151-230 特に163-165(1980)]を参照する。
の場合、上述ような強酸の存在下でアシル化を行うのが
好ましい。この反応において、完全に当量な酸は必要で
ない。触媒量の酸で十分である。クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ベンゼン、1,2−ジクロロエタン等のよう
な不活性ハロゲン化溶媒中で、アシル化工程を行うのが
好ましい。一般に、このようなアシル化反応に関しては
Effenbergerによる論説[Angew.Chem.Int.Ed.Engl. 1
9:151-230 特に163-165(1980)]を参照する。
【0045】置換 出発化合物をアミノエトキシ前駆体でもってアシル化す
る際、X基を適当な二級アミンと置換することによっ
て、生成物のアミノ基を後に適切な位置に置く。X基は
離脱基、好ましくはクロロまたはブロモであり、これら
は既知の方法に従ってアミンと容易に置換される。例え
ば、置換は以下に挙げるような条件下で行われる:アセ
トンまたはメチルエチルケトンの性質をもつケトン、酢
酸エチルおよびギ酸プロピルのようなエステル、メタノ
ールもしくはエタノールのようなアルコール、アセトニ
トリルのようなニトリル、またはジメチルアセトアミド
およびジメチルホルムアミドのようなアミドのような不
活性溶媒中で;またはヘキサメチルホスホルアミドのよ
うな不活性溶媒中で;ならびにアルカリ金属炭酸塩、お
よび重炭酸塩等のような酸スカベンジャーの存在下で。
少なくとも等モル量の酸スカベンジャーを必要とし、適
度の過剰が好ましい。置換を周囲温度で行うか、または
おおよそ周囲温度〜反応混合物の還流温度の適度な高温
で行ってもよい。
る際、X基を適当な二級アミンと置換することによっ
て、生成物のアミノ基を後に適切な位置に置く。X基は
離脱基、好ましくはクロロまたはブロモであり、これら
は既知の方法に従ってアミンと容易に置換される。例え
ば、置換は以下に挙げるような条件下で行われる:アセ
トンまたはメチルエチルケトンの性質をもつケトン、酢
酸エチルおよびギ酸プロピルのようなエステル、メタノ
ールもしくはエタノールのようなアルコール、アセトニ
トリルのようなニトリル、またはジメチルアセトアミド
およびジメチルホルムアミドのようなアミドのような不
活性溶媒中で;またはヘキサメチルホスホルアミドのよ
うな不活性溶媒中で;ならびにアルカリ金属炭酸塩、お
よび重炭酸塩等のような酸スカベンジャーの存在下で。
少なくとも等モル量の酸スカベンジャーを必要とし、適
度の過剰が好ましい。置換を周囲温度で行うか、または
おおよそ周囲温度〜反応混合物の還流温度の適度な高温
で行ってもよい。
【0046】より好ましくは、置換用触媒として作用す
る触媒量のヨウ化物イオンがさらに存在する下で置換を
行ってもよい。ヨウ化物を混合物中で用いる時、温度範
囲は低く、約0℃〜好ましくは周囲温度であるが、幾つ
かの場合においては高温が可能である。さらに、水素化
ナトリウムまたはアルキル−リチウム化合物のような非
常に強い塩基との接触によるように、反応が行われる前
にアミンのアニオンを形成してもよい。アニオンの使用
により、酸スカベンジャーが必要でないことを除いて、
置換を行う方法は他の点で変化しない。
る触媒量のヨウ化物イオンがさらに存在する下で置換を
行ってもよい。ヨウ化物を混合物中で用いる時、温度範
囲は低く、約0℃〜好ましくは周囲温度であるが、幾つ
かの場合においては高温が可能である。さらに、水素化
ナトリウムまたはアルキル−リチウム化合物のような非
常に強い塩基との接触によるように、反応が行われる前
にアミンのアニオンを形成してもよい。アニオンの使用
により、酸スカベンジャーが必要でないことを除いて、
置換を行う方法は他の点で変化しない。
【0047】再保護ジヒドロキシチオフェンの脱保護 ジヒドロキシ化合物を、保護基Rをアシル化化合物から
開裂することによって得る(スキームIIIを参照)。−
COR3および−SOR3保護化合物の両方を、強塩基ま
たは適度の強さの塩基での簡単な加水分解によって脱保
護している。例えば、アルカリ金属水酸化物のような塩
基を、おおよそ周囲温度〜100℃の温度で加水分解に
用いることができる。勿論、少なくとも2当量の塩基が
必要である。このような加水分解を、ヒドロキシル溶
媒、特にアルカノール水中で行うのが好都合である。し
かし、以下に挙げるような加水分解反応に適う任意の好
都合な溶媒中で、この反応を行ってもよい:エチレング
リコールエーテルを含むポリオール;テトラヒドロフラ
ン等;アセトンおよびメチルエチルケトンのようなケト
ン;ならびにジメチルスルホキシドのような他の極性水
混和性溶媒。好ましい溶媒系は、周囲温度でのメタノー
ルとテトラヒドロフランの混合物である。例えば、ナト
リウムメトキシド、カリウム t−ブトキシド、ヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、アンモニア、アルカリ金属ア
ミド、およびジエチルアミン等のような第二級アミンを
含む他の塩基でもって開裂を行ってもよい。幾つかの場
合において、かなりの強塩基を用いる時、約0℃〜周囲
温度の範囲内の反応温度によって十分速い反応速度を得
るであろう。
開裂することによって得る(スキームIIIを参照)。−
COR3および−SOR3保護化合物の両方を、強塩基ま
たは適度の強さの塩基での簡単な加水分解によって脱保
護している。例えば、アルカリ金属水酸化物のような塩
基を、おおよそ周囲温度〜100℃の温度で加水分解に
用いることができる。勿論、少なくとも2当量の塩基が
必要である。このような加水分解を、ヒドロキシル溶
媒、特にアルカノール水中で行うのが好都合である。し
かし、以下に挙げるような加水分解反応に適う任意の好
都合な溶媒中で、この反応を行ってもよい:エチレング
リコールエーテルを含むポリオール;テトラヒドロフラ
ン等;アセトンおよびメチルエチルケトンのようなケト
ン;ならびにジメチルスルホキシドのような他の極性水
混和性溶媒。好ましい溶媒系は、周囲温度でのメタノー
ルとテトラヒドロフランの混合物である。例えば、ナト
リウムメトキシド、カリウム t−ブトキシド、ヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、アンモニア、アルカリ金属ア
ミド、およびジエチルアミン等のような第二級アミンを
含む他の塩基でもって開裂を行ってもよい。幾つかの場
合において、かなりの強塩基を用いる時、約0℃〜周囲
温度の範囲内の反応温度によって十分速い反応速度を得
るであろう。
【0048】加水分解工程は、相間移動触媒の補助を伴
う二相系での塩基との反応に十分適う。このような触媒
は現在周知であり、ハロゲン化テトラアルキルアンモニ
ウムの内に、およびジシクロヘキシル−18−クラウン
−6 エーテルのようなクラウンエーテルの内に見いだ
される。−COR3基でもって保護された化合物の場合
において、加水分解は酸触媒、例えばメタンスルホン
酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、臭化水素酸/酢酸の混合
物でもって、または酸性イオン交換樹脂でもっても容易
に行われる。このような酸触媒加水分解をヒドロキシル
溶媒、例えば水、アルカノール、水性アルカノール、ま
たはテトラヒドロフラン/メタノールの混合物中で行
う。このような加水分解を混合物のおおよその還流温度
で行うのが好ましいが、特に強酸を用いる時、周囲温度
と同じくらい低い温度が能率的である。
う二相系での塩基との反応に十分適う。このような触媒
は現在周知であり、ハロゲン化テトラアルキルアンモニ
ウムの内に、およびジシクロヘキシル−18−クラウン
−6 エーテルのようなクラウンエーテルの内に見いだ
される。−COR3基でもって保護された化合物の場合
において、加水分解は酸触媒、例えばメタンスルホン
酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、臭化水素酸/酢酸の混合
物でもって、または酸性イオン交換樹脂でもっても容易
に行われる。このような酸触媒加水分解をヒドロキシル
溶媒、例えば水、アルカノール、水性アルカノール、ま
たはテトラヒドロフラン/メタノールの混合物中で行
う。このような加水分解を混合物のおおよその還流温度
で行うのが好ましいが、特に強酸を用いる時、周囲温度
と同じくらい低い温度が能率的である。
【0049】アシル化ジアルコキシベンゾ[B]チオフェ
ンの脱保護 ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンを直接アシル化する
際(スキームII)、得られた物質を脱保護して、メチオ
ニンおよび式:
ンの脱保護 ジアルコキシベンゾ[B]チオフェンを直接アシル化する
際(スキームII)、得られた物質を脱保護して、メチオ
ニンおよび式:
【0050】
【化16】X−S−Y [式中、Xは水素または非分枝C1〜C4アルキルであ
り;そしてYはC1〜C4アルキルまたはフェニルであ
る]
り;そしてYはC1〜C4アルキルまたはフェニルであ
る]
【0051】で示される化合物からなる群から選択され
る硫黄化合物でもって、アシル化ジアルコキシ物質を処
理することにより、所望のジヒドロキシ最終生成物を得
ることができる。別法として、環化中間体を単離せずに
環化反応混合物に該硫黄化合物を単に加えることによっ
て脱保護を行ってもよい。
る硫黄化合物でもって、アシル化ジアルコキシ物質を処
理することにより、所望のジヒドロキシ最終生成物を得
ることができる。別法として、環化中間体を単離せずに
環化反応混合物に該硫黄化合物を単に加えることによっ
て脱保護を行ってもよい。
【0052】硫黄化合物は、好ましくはアルキルチオー
ル、例えばメタンチオール、エタンチオール、より好ま
しい物質であるイソプロパンチオール、ブタンチオール
等;ジアルキルスルフィド、例えばジエチルスルフィ
ド、ブチル s−ブチルスルフィド、エチルプロピルスル
フィド、ブチルイソプロピルスルフィド、ジメチルスル
フィド、メチルエチルスルフィド等;ベンゼンチオー
ル;メチオニン、およびアルキルフェニルスルフィド、
例えばメチルフェニルスルフィド、エチルフェニルスル
フィド、ブチルフェニルスルフィド等である。
ル、例えばメタンチオール、エタンチオール、より好ま
しい物質であるイソプロパンチオール、ブタンチオール
等;ジアルキルスルフィド、例えばジエチルスルフィ
ド、ブチル s−ブチルスルフィド、エチルプロピルスル
フィド、ブチルイソプロピルスルフィド、ジメチルスル
フィド、メチルエチルスルフィド等;ベンゼンチオー
ル;メチオニン、およびアルキルフェニルスルフィド、
例えばメチルフェニルスルフィド、エチルフェニルスル
フィド、ブチルフェニルスルフィド等である。
【0053】実質上過剰量の硫黄化合物を用いる時、出
発ベンゾチオフェン1モルにつき約4〜10モルの範囲
内で、最もよく脱メチル化が進むことが見いだされてい
る。効率は悪いが、出発化合物1モルにつき約2または
3モルの範囲内のより少量の硫黄化合物でもってこの方
法を行い、約1〜3モルのアルカリ金属のハロゲン化
物、例えばナトリウム、カリウム、またはリチウムの塩
化物、ヨウ化物、または臭化物の添加によって収率を改
善することができる(ヨウ化ナトリウムの同様の効果が
Niwa等によって示されている[Tet.Let. 22:4239-40(1
981)])。
発ベンゾチオフェン1モルにつき約4〜10モルの範囲
内で、最もよく脱メチル化が進むことが見いだされてい
る。効率は悪いが、出発化合物1モルにつき約2または
3モルの範囲内のより少量の硫黄化合物でもってこの方
法を行い、約1〜3モルのアルカリ金属のハロゲン化
物、例えばナトリウム、カリウム、またはリチウムの塩
化物、ヨウ化物、または臭化物の添加によって収率を改
善することができる(ヨウ化ナトリウムの同様の効果が
Niwa等によって示されている[Tet.Let. 22:4239-40(1
981)])。
【0054】脱メチル化反応はおおよそ周囲温度、約1
5〜30℃の範囲内でよく進行し、このような操作が望
ましい。しかし所望されるなら、脱メチル化工程を約−
30〜50℃の範囲内の温度で行ってもよい。約1時間
の範囲内の短い反応時間で十分であることが見いだされ
る。生成物を脱メチル化した後、常法によって回収し単
離する。水を加えてアシル化触媒の複合体を分解するの
が通例であり、希釈した水性の酸の添加が好都合であ
る。多くの場合、生成物を沈澱させるか、または常法に
より有機溶媒で抽出してもよい。
5〜30℃の範囲内でよく進行し、このような操作が望
ましい。しかし所望されるなら、脱メチル化工程を約−
30〜50℃の範囲内の温度で行ってもよい。約1時間
の範囲内の短い反応時間で十分であることが見いだされ
る。生成物を脱メチル化した後、常法によって回収し単
離する。水を加えてアシル化触媒の複合体を分解するの
が通例であり、希釈した水性の酸の添加が好都合であ
る。多くの場合、生成物を沈澱させるか、または常法に
より有機溶媒で抽出してもよい。
【0055】上記のようなある特定の工程を除いて化学
量論量の反応物を用いる時、全反応工程によって許容し
得る収率を得る。有機化学の場合普通そうであるよう
に、過剰量の一反応物の使用によって改善された収率を
得、そして過剰量のより安価なまたはより入手し易い反
応物を用いるのが実際的である。例えば、保護された出
発化合物の形成において、過剰のアシル化またはスルホ
ン化剤を用いてより高価なジヒドロキシ出発化合物の完
全な反応を確実にするのが実際的かつ経済的である。過
剰の一反応物を所望するなら、約1〜25%の範囲内の
過剰を用いるのが好都合である。
量論量の反応物を用いる時、全反応工程によって許容し
得る収率を得る。有機化学の場合普通そうであるよう
に、過剰量の一反応物の使用によって改善された収率を
得、そして過剰量のより安価なまたはより入手し易い反
応物を用いるのが実際的である。例えば、保護された出
発化合物の形成において、過剰のアシル化またはスルホ
ン化剤を用いてより高価なジヒドロキシ出発化合物の完
全な反応を確実にするのが実際的かつ経済的である。過
剰の一反応物を所望するなら、約1〜25%の範囲内の
過剰を用いるのが好都合である。
【0056】本化合物を酸付加塩の形態で投与すること
が非常に多い。有機化学において通常であるように、本
発明に従って製造した化合物を適当な酸と反応させるこ
とによって、塩を形成するのが好都合である。塩は、適
度な温度で高収率で速やかに形成され、合成の最終工程
のように適当な酸の洗浄から化合物を単に単離すること
によって製造することが多い。例えば、無機または有機
酸でもって塩を形成することができる。
が非常に多い。有機化学において通常であるように、本
発明に従って製造した化合物を適当な酸と反応させるこ
とによって、塩を形成するのが好都合である。塩は、適
度な温度で高収率で速やかに形成され、合成の最終工程
のように適当な酸の洗浄から化合物を単に単離すること
によって製造することが多い。例えば、無機または有機
酸でもって塩を形成することができる。
【0057】このような塩を形成するのに用いられる典
型的な無機酸には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
硝酸、硫酸、リン酸、次リン酸等が含まれる。また、有
機酸、例えば、脂肪族モノおよびジカルボン酸、フェニ
ル置換アルカン酸、ヒドロキシアルカン酸およびヒドロ
キシアルカン二酸、芳香族酸、脂肪族および芳香族スル
ホン酸から誘導された塩を用いてもよい。例えば、この
ような薬学的に許容し得る塩には、以下に挙げる塩が含
まれる:酢酸塩、フェニル酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、アクリル酸塩、アスコルビン酸塩、安息香酸塩、ク
ロロ安息香酸塩、ジニトロ安息香酸塩、ヒドロキシ安息
香酸塩、メトキシ安息香酸塩、メチル安息香酸塩、o−
アセトキシ安息香酸塩、ナフタレン−2−安息香酸塩、
臭化物、イソ酪酸塩、フェニル酪酸塩、β−ヒドロキシ
酪酸塩、ブチン−1,4−二酸塩、ヘキシン−1,4−二
酸塩、カプリン酸塩、カプリル酸塩、塩化物、ケイ皮酸
塩、クエン酸塩、ギ酸塩、フマル酸塩、グリコール酸
塩、ヘプタン酸塩、馬尿酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、マ
レイン酸塩、ヒドロキシマレイン酸塩、マロン酸塩、マ
ンデル酸塩、メシル酸塩、ニコチン酸塩、イソニコチン
酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、フタル酸塩、テレフタル酸
塩、リン酸塩、リン酸一水素塩、リン酸二水素塩、メタ
リン酸塩、ピロリン酸塩、プロピオール酸塩、プロピオ
ン酸塩、フェニルプロピオン酸塩、サリチル酸塩、セバ
シン酸塩、コハク酸塩、スベリン酸塩、硫酸塩、硫酸水
素塩、ピロ硫酸塩、亜硫酸塩、次亜硫酸塩、スルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−ブロモフェニルスルホ
ン酸塩、クロロベンゼンスルホン酸塩、エタンスルホン
酸塩、2−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ナフタレン−1−スルホン酸塩、ナフタレン
−2−スルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、キシ
レンスルホン酸塩、酒石酸塩等。好ましい塩は塩酸塩で
ある。
型的な無機酸には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
硝酸、硫酸、リン酸、次リン酸等が含まれる。また、有
機酸、例えば、脂肪族モノおよびジカルボン酸、フェニ
ル置換アルカン酸、ヒドロキシアルカン酸およびヒドロ
キシアルカン二酸、芳香族酸、脂肪族および芳香族スル
ホン酸から誘導された塩を用いてもよい。例えば、この
ような薬学的に許容し得る塩には、以下に挙げる塩が含
まれる:酢酸塩、フェニル酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、アクリル酸塩、アスコルビン酸塩、安息香酸塩、ク
ロロ安息香酸塩、ジニトロ安息香酸塩、ヒドロキシ安息
香酸塩、メトキシ安息香酸塩、メチル安息香酸塩、o−
アセトキシ安息香酸塩、ナフタレン−2−安息香酸塩、
臭化物、イソ酪酸塩、フェニル酪酸塩、β−ヒドロキシ
酪酸塩、ブチン−1,4−二酸塩、ヘキシン−1,4−二
酸塩、カプリン酸塩、カプリル酸塩、塩化物、ケイ皮酸
塩、クエン酸塩、ギ酸塩、フマル酸塩、グリコール酸
塩、ヘプタン酸塩、馬尿酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、マ
レイン酸塩、ヒドロキシマレイン酸塩、マロン酸塩、マ
ンデル酸塩、メシル酸塩、ニコチン酸塩、イソニコチン
酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、フタル酸塩、テレフタル酸
塩、リン酸塩、リン酸一水素塩、リン酸二水素塩、メタ
リン酸塩、ピロリン酸塩、プロピオール酸塩、プロピオ
ン酸塩、フェニルプロピオン酸塩、サリチル酸塩、セバ
シン酸塩、コハク酸塩、スベリン酸塩、硫酸塩、硫酸水
素塩、ピロ硫酸塩、亜硫酸塩、次亜硫酸塩、スルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−ブロモフェニルスルホ
ン酸塩、クロロベンゼンスルホン酸塩、エタンスルホン
酸塩、2−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ナフタレン−1−スルホン酸塩、ナフタレン
−2−スルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、キシ
レンスルホン酸塩、酒石酸塩等。好ましい塩は塩酸塩で
ある。
【0058】上記または下記に引用された全文書、例え
ば、特許および雑誌論文は、そのまま本明細書の一部を
構成する。以下の実施例は本発明をさらに説明するが、
本発明の範囲または真意を実施例中に記載した特定の方
法に制限すると解釈すべきではない。多くの生成物を核
磁気共鳴(NMR)分析によって同定した。他に記述がな
ければ、ジュウテリオクロロホルム中100mHzで該分
析を行った。
ば、特許および雑誌論文は、そのまま本明細書の一部を
構成する。以下の実施例は本発明をさらに説明するが、
本発明の範囲または真意を実施例中に記載した特定の方
法に制限すると解釈すべきではない。多くの生成物を核
磁気共鳴(NMR)分析によって同定した。他に記述がな
ければ、ジュウテリオクロロホルム中100mHzで該分
析を行った。
【0059】
【実施例】実施例1 6−メトキシ−2−(4−メトキシフェニル)
ベンゾ[B]チオフェン 水(300ml)に溶解した3−メトキシベンゼンチオー
ルの一部(100g)および水酸化カリウム(39g)を
変性エタノール(750ml)に加え、このフラスコを冷
却浴中に置いた。次いで、全部で164gのa−ブロモ−
4−メトキシアセトフェノンを少量ずつ加え、添加を完
了した後この混合物を冷却浴中で10分間撹拌し、次い
で周囲温度で3時間撹拌した。次に、溶媒を真空下で蒸
発させ、水(200ml)を加えた。この混合物を酢酸エ
チルで抽出し、有機層を水で2回、炭酸水素ナトリウム
水溶液で2回、次いで塩化ナトリウム水溶液で2回洗浄
した。次に、この有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、濾過し、そして真空下で蒸発させて、粗製のa−(−
メトキシフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノン
(202g)を得た。これをメタノールから再結晶さ
せ、ヘキサンで洗浄して精製した生成物を得た(158
g、融点53℃)。
ベンゾ[B]チオフェン 水(300ml)に溶解した3−メトキシベンゼンチオー
ルの一部(100g)および水酸化カリウム(39g)を
変性エタノール(750ml)に加え、このフラスコを冷
却浴中に置いた。次いで、全部で164gのa−ブロモ−
4−メトキシアセトフェノンを少量ずつ加え、添加を完
了した後この混合物を冷却浴中で10分間撹拌し、次い
で周囲温度で3時間撹拌した。次に、溶媒を真空下で蒸
発させ、水(200ml)を加えた。この混合物を酢酸エ
チルで抽出し、有機層を水で2回、炭酸水素ナトリウム
水溶液で2回、次いで塩化ナトリウム水溶液で2回洗浄
した。次に、この有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、濾過し、そして真空下で蒸発させて、粗製のa−(−
メトキシフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノン
(202g)を得た。これをメタノールから再結晶さ
せ、ヘキサンで洗浄して精製した生成物を得た(158
g、融点53℃)。
【0060】別法として、2B−3 エタノール(24m
l)中のKOH(1.06g)溶液に、3−メトキシベン
ゼンチオール(2.26g)を室温で5分かけて滴下し
た。a−(3−メトキシフェニルチオ)−4−メトキシア
セトフェノン(3.69g)を20分かけて少量ずつ加え
た。a−(3−メトキシフェニルチオ)−4−メトキシア
セトフェノンの添加の間、6−メトキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾ[b]チオフェンおよび臭化ナ
トリウムが沈澱した。HPLCを用いて出発物質の消費
を測定した(撹拌時間=約1.5時間)。この反応物を
水(48ml)で希釈し、濾過した。この生成物を水(1
0ml)で洗浄し、室温で一晩真空乾燥させた。 収量=4.54g(98%);融点=52.5〜54℃;
力価=99.3%;正確な収率=97%
l)中のKOH(1.06g)溶液に、3−メトキシベン
ゼンチオール(2.26g)を室温で5分かけて滴下し
た。a−(3−メトキシフェニルチオ)−4−メトキシア
セトフェノン(3.69g)を20分かけて少量ずつ加え
た。a−(3−メトキシフェニルチオ)−4−メトキシア
セトフェノンの添加の間、6−メトキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾ[b]チオフェンおよび臭化ナ
トリウムが沈澱した。HPLCを用いて出発物質の消費
を測定した(撹拌時間=約1.5時間)。この反応物を
水(48ml)で希釈し、濾過した。この生成物を水(1
0ml)で洗浄し、室温で一晩真空乾燥させた。 収量=4.54g(98%);融点=52.5〜54℃;
力価=99.3%;正確な収率=97%
【0061】ポリリン酸(41.5g)にリン酸(13.
8g)を加えた(50℃までの発熱を観測)。a−(3−
メトキシフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノン
(6.92g)を0.5時間かけて絶え間なく加えた。こ
の反応物を85℃に加熱した。この反応をHPLCによ
って出発アセトフェノンの消失についてモニターする。
反応時間は1.75時間であった。この反応物を50℃
に冷却した。水(20.7ml)を加え(80℃までの発
熱を観測)、所望の物質および4−メトキシ異性体を沈
澱させた(6−異性体:4−異性体の比率は3:1)。
トルエン(41.5ml)を加え、反応物を>90℃に加
熱した。水層を分離し、さらに2回トルエン(2×2
0.7ml)で熱いうちに抽出した。トルエン層を一緒に
して、水(20.7ml)で熱いうちに洗浄し、濃縮して
体積を41.5mlにした。0℃に冷却することにより、
化合物の所望の6−異性体が優先的に結晶化した。この
生成物を濾過によって集め、冷トルエン(8ml)で洗浄
し、そして真空下40℃で乾燥させた。 収量=13.04g(69%);融点=(収縮175℃)
195〜197℃
8g)を加えた(50℃までの発熱を観測)。a−(3−
メトキシフェニルチオ)−4−メトキシアセトフェノン
(6.92g)を0.5時間かけて絶え間なく加えた。こ
の反応物を85℃に加熱した。この反応をHPLCによ
って出発アセトフェノンの消失についてモニターする。
反応時間は1.75時間であった。この反応物を50℃
に冷却した。水(20.7ml)を加え(80℃までの発
熱を観測)、所望の物質および4−メトキシ異性体を沈
澱させた(6−異性体:4−異性体の比率は3:1)。
トルエン(41.5ml)を加え、反応物を>90℃に加
熱した。水層を分離し、さらに2回トルエン(2×2
0.7ml)で熱いうちに抽出した。トルエン層を一緒に
して、水(20.7ml)で熱いうちに洗浄し、濃縮して
体積を41.5mlにした。0℃に冷却することにより、
化合物の所望の6−異性体が優先的に結晶化した。この
生成物を濾過によって集め、冷トルエン(8ml)で洗浄
し、そして真空下40℃で乾燥させた。 収量=13.04g(69%);融点=(収縮175℃)
195〜197℃
【0062】トルエンを加える代わりに、本質的に同一
の調製において以下の任意の後処理を利用した。水(4
1.5ml)を加え、6−異性体および4−異性体化合物
を沈澱させた。沈澱物を濾過し、40℃で真空乾燥させ
た。トルエン(41.5ml)またはアセトンもしくはメ
タノール中のスラリー(41.5ml)からの再結晶化に
より所望されない4−異性体を除去して、純粋な6−メ
トキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオ
フェンを得た。
の調製において以下の任意の後処理を利用した。水(4
1.5ml)を加え、6−異性体および4−異性体化合物
を沈澱させた。沈澱物を濾過し、40℃で真空乾燥させ
た。トルエン(41.5ml)またはアセトンもしくはメ
タノール中のスラリー(41.5ml)からの再結晶化に
より所望されない4−異性体を除去して、純粋な6−メ
トキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ[B]チオ
フェンを得た。
【0063】実施例1a 6−メトキシ−2−(4−メト
キシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの調製 ポリリン酸(202g)にリン酸(67g)を加えた(5
0℃までの発熱を観測)。a−(−メトキシフェニルチ
オ)−4−メトキシアセトフェノン(20.19g)を0.
5時間かけて絶え間なく加えた。この反応物を85℃に
加熱し、HPLCによってモニターした。この反応をH
PLCによって出発アセトフェノンおよび6−メトキシ
−3−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの
消失についてモニターする。反応時間は3時間であっ
た。この反応物を50℃に冷却した。水(202ml)を
加え(80℃までの発熱を観測)、所望の生成物および
4−メトキシ−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]
チオフェンを3:1の比率で沈澱させた。トルエン(2
00ml)を加え、反応物を>90℃に加熱した。水層を
分離し、トルエン(200ml)で2回目の熱した抽出を
した。トルエン層を一緒にし、濃縮して体積を200ml
にした。0℃に冷却することにより、トルエン中に溶解
した4−メトキシベンゾチオフェンを残して標記化合物
が結晶化した。この生成物を濾過によって集め、冷トル
エン(40ml)で洗浄し、そして真空下40℃で乾燥さ
せた。
キシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの調製 ポリリン酸(202g)にリン酸(67g)を加えた(5
0℃までの発熱を観測)。a−(−メトキシフェニルチ
オ)−4−メトキシアセトフェノン(20.19g)を0.
5時間かけて絶え間なく加えた。この反応物を85℃に
加熱し、HPLCによってモニターした。この反応をH
PLCによって出発アセトフェノンおよび6−メトキシ
−3−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの
消失についてモニターする。反応時間は3時間であっ
た。この反応物を50℃に冷却した。水(202ml)を
加え(80℃までの発熱を観測)、所望の生成物および
4−メトキシ−2−(4−メトキシフェニル)ベンゾ[B]
チオフェンを3:1の比率で沈澱させた。トルエン(2
00ml)を加え、反応物を>90℃に加熱した。水層を
分離し、トルエン(200ml)で2回目の熱した抽出を
した。トルエン層を一緒にし、濃縮して体積を200ml
にした。0℃に冷却することにより、トルエン中に溶解
した4−メトキシベンゾチオフェンを残して標記化合物
が結晶化した。この生成物を濾過によって集め、冷トル
エン(40ml)で洗浄し、そして真空下40℃で乾燥さ
せた。
【0064】実施例2 ジメトキシベンゾ[B]チオフェ
ンの脱保護 ピリジン塩酸塩(90g)を蒸留ヘッド、コンデンサ
ー、および収集フラスコを備えたフラスコに加え、蒸留
ヘッド中の温度が220℃になるまで撹拌しながら加熱
した。次いで、この蒸留装置を取り外し、ポットを21
0℃まで冷却し、そして上記調製したジメトキシ中間体
(30g)を加えた。この混合物を210℃で30分間
撹拌し、次いで氷水(250ml)に注ぎ入れた。この沈
澱物を酢酸エチル(500ml)中に抽出し、有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水(150ml)で洗浄し、次いで
塩化ナトリウム飽和水(150ml)で洗浄した。次に、
この有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、
そして真空下で蒸発乾燥させて、所望の中間体生成物を
得た(25.5g、融点>260℃)。
ンの脱保護 ピリジン塩酸塩(90g)を蒸留ヘッド、コンデンサ
ー、および収集フラスコを備えたフラスコに加え、蒸留
ヘッド中の温度が220℃になるまで撹拌しながら加熱
した。次いで、この蒸留装置を取り外し、ポットを21
0℃まで冷却し、そして上記調製したジメトキシ中間体
(30g)を加えた。この混合物を210℃で30分間
撹拌し、次いで氷水(250ml)に注ぎ入れた。この沈
澱物を酢酸エチル(500ml)中に抽出し、有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水(150ml)で洗浄し、次いで
塩化ナトリウム飽和水(150ml)で洗浄した。次に、
この有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、
そして真空下で蒸発乾燥させて、所望の中間体生成物を
得た(25.5g、融点>260℃)。
【0065】実施例3 6−アセトキシ−2−(4−ア
セトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン 6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
[B]チオフェン(40g)を無水ピリジン(800ml)
に溶解し、そして無水酢酸(41.6g)および4−ジメ
チルアミノピリジン(100mg)を加えた。この混合物
を周囲温度で一晩放置し、次いで真空下で蒸発させて油
状残留物にした。この残留物を水(3L)で強く撹拌し
てスラリーにし、沈澱した結晶を濾過によって集め、そ
して水で完全に洗浄した。次いで、この固体を真空下8
0℃で乾燥させて、アセチル保護中間体を得た(52.
5g、融点308〜310℃)。
セトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン 6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
[B]チオフェン(40g)を無水ピリジン(800ml)
に溶解し、そして無水酢酸(41.6g)および4−ジメ
チルアミノピリジン(100mg)を加えた。この混合物
を周囲温度で一晩放置し、次いで真空下で蒸発させて油
状残留物にした。この残留物を水(3L)で強く撹拌し
てスラリーにし、沈澱した結晶を濾過によって集め、そ
して水で完全に洗浄した。次いで、この固体を真空下8
0℃で乾燥させて、アセチル保護中間体を得た(52.
5g、融点308〜310℃)。
【0066】実施例4 6−アセトキシ−2−(4−ア
セトキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの塩酸塩 4−(2−ピロリジノエトキシ)安息香酸の塩酸塩の一部
(25g)を、1,2−ジクロロエタン(200ml)に溶
解し、一滴のジメチルホルムアミドおよび塩化チオニル
(36.5g)を加えることによって、その酸塩化物に変
換した。この混合物を還流下2時間、窒素ブランケット
の下で撹拌し、次いで真空下で蒸発させて、白黄褐色の
酸塩化物を得た。この酸塩化物に、1,2−ジクロロエ
タン(1L)、b−アセトキシ−2−(4−アセトキシフ
ェニル)ベンゾ[B]チオフェン(20g)、および塩化ア
ルミニウム(73.4g)を加え、最後の塩化アルミニウ
ムは約3分間かけて強く撹拌しながら加えた。次いで、
この混合物を1時間撹拌し、氷水(1L)の上に注い
だ。この層を分離し、水層を水/クロロホルムで3回抽
出した(200mlずつ)。この有機層を一緒にし、硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そして真空下で蒸
発させて、それ以上精製しない黄色の油を得た。
セトキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの塩酸塩 4−(2−ピロリジノエトキシ)安息香酸の塩酸塩の一部
(25g)を、1,2−ジクロロエタン(200ml)に溶
解し、一滴のジメチルホルムアミドおよび塩化チオニル
(36.5g)を加えることによって、その酸塩化物に変
換した。この混合物を還流下2時間、窒素ブランケット
の下で撹拌し、次いで真空下で蒸発させて、白黄褐色の
酸塩化物を得た。この酸塩化物に、1,2−ジクロロエ
タン(1L)、b−アセトキシ−2−(4−アセトキシフ
ェニル)ベンゾ[B]チオフェン(20g)、および塩化ア
ルミニウム(73.4g)を加え、最後の塩化アルミニウ
ムは約3分間かけて強く撹拌しながら加えた。次いで、
この混合物を1時間撹拌し、氷水(1L)の上に注い
だ。この層を分離し、水層を水/クロロホルムで3回抽
出した(200mlずつ)。この有機層を一緒にし、硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そして真空下で蒸
発させて、それ以上精製しない黄色の油を得た。
【0067】実施例5 6−アセトキシ−2−(4−ア
セトキシフェニル)−3−[4−(2−ピペリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの塩酸塩 1,2−ジクロロエタン(200ml)中で、4−(2−ピ
ペリジノエトキシ)安息香酸の塩酸塩(26.3g)、チ
オニルクロリド(36.5g)、およびジメチルホルムア
ミド(一滴)を混合し、そして還流下2時間、窒素雰囲
気下で混合物を撹拌することによって、酸塩化物型のア
シル化剤を調製した。次いで、この混合物を真空下で蒸
発乾固させて所望の4−(2−ピペリジノエトキシ)ベン
ゾイルクロリドの塩酸塩を得、これを1,2−ジクロロ
エタン(1L)に溶解した。この溶液に6−アセトキシ
−2−(4−アセトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン
(20g)を加え、この混合物を強く撹拌した。次い
で、これに約3分かけて塩化アルミニウム(73.4g)
を加えた。添加の間、この反応混合物は暗褐色に変化
し、塩化水素を放出した。次いで、この混合物を1時間
撹拌し、そして氷水(1L)の上に注いだ。この層を分
離し、水層を温クロロホルムで3回抽出した(200ml
ずつ)。この有機層を一緒にし、硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、次いで濾過し、真空下で蒸発させて、褐色が
かった黄色の油を得た。この油は精製しなかった。所望
の生成物の存在を、9/1のクロロホルム/メタノールで
溶離するシリカゲルの薄層クロマトグラフィー(TL
C)により確認し、これによって主な成分が、真正の6
−アセトキシ−2−(4−アセトキシフェニル)−3−
[4−(2−ピペリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]
チオフェンと同じRで流れることが示された。
セトキシフェニル)−3−[4−(2−ピペリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンの塩酸塩 1,2−ジクロロエタン(200ml)中で、4−(2−ピ
ペリジノエトキシ)安息香酸の塩酸塩(26.3g)、チ
オニルクロリド(36.5g)、およびジメチルホルムア
ミド(一滴)を混合し、そして還流下2時間、窒素雰囲
気下で混合物を撹拌することによって、酸塩化物型のア
シル化剤を調製した。次いで、この混合物を真空下で蒸
発乾固させて所望の4−(2−ピペリジノエトキシ)ベン
ゾイルクロリドの塩酸塩を得、これを1,2−ジクロロ
エタン(1L)に溶解した。この溶液に6−アセトキシ
−2−(4−アセトキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェン
(20g)を加え、この混合物を強く撹拌した。次い
で、これに約3分かけて塩化アルミニウム(73.4g)
を加えた。添加の間、この反応混合物は暗褐色に変化
し、塩化水素を放出した。次いで、この混合物を1時間
撹拌し、そして氷水(1L)の上に注いだ。この層を分
離し、水層を温クロロホルムで3回抽出した(200ml
ずつ)。この有機層を一緒にし、硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、次いで濾過し、真空下で蒸発させて、褐色が
かった黄色の油を得た。この油は精製しなかった。所望
の生成物の存在を、9/1のクロロホルム/メタノールで
溶離するシリカゲルの薄層クロマトグラフィー(TL
C)により確認し、これによって主な成分が、真正の6
−アセトキシ−2−(4−アセトキシフェニル)−3−
[4−(2−ピペリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]
チオフェンと同じRで流れることが示された。
【0068】実施例6 6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン 6−アセトキシ−2−(4−アセトキシフェニル)−3−
[4−(2−ピロリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]
チオフェンをメタノール(275ml)に加え、5N 水
酸化ナトリウム(55ml)を加えた。この混合物を還流
下で45分間撹拌し、次いで溶媒を真空下で除去した。
この残留物をメタノール(300ml)に溶解し、ジエチ
ルエーテルで2回抽出した。このエーテル層を一緒に
し、1N水酸化ナトリウムで溶媒相洗浄した。この水層
を一緒にし、pH2〜3まで酸性化し、次いでpH8まで
塩基性にした。次ぎに、この塩基性溶液を酢酸エチルで
数回抽出し、その有機層を一緒にし、硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、濾過し、そして真空下で蒸発乾固させ
た。周囲温度で数時間真空乾燥させた後、固体の重量は
10.5gであった。NMR分光法による分析によって、
この生成物は所望の6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロ
キシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキシ)ベ
ンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンであるが、約等モル量
の酢酸エチルもまた存在することが示された。粗生成物
の多くが結晶化および精製法の実験に用いられたので、
正確な総精製収量は測定されなかった。試料(1.02
g)を、溶離に9/1の酢酸エチル/メタノールを用いる
シリカゲル(8g)のクロマトグラフィーにかけた。カ
ラムの寸法は3×27cmであり、50mlの分画を集め
た。分画#13〜27から黄色の油を得、これを1N
水酸化ナトリウム(30ml)に溶解し、周囲温度で15
分間撹拌した。1N 塩酸(32ml)で酸性化し、次い
で過剰の炭酸水素ナトリウム(固体)で塩基性化した
後、黄色の固体を集め、一晩真空乾燥した後の固体の重
量は0.57gであった。NMRおよび紫外線スペクトル
データ、ならびに元素分析によって判断したところ、こ
の物質は本質的に純粋生成物であった。
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン 6−アセトキシ−2−(4−アセトキシフェニル)−3−
[4−(2−ピロリジノエトキシ)ベンゾイル]ベンゾ[B]
チオフェンをメタノール(275ml)に加え、5N 水
酸化ナトリウム(55ml)を加えた。この混合物を還流
下で45分間撹拌し、次いで溶媒を真空下で除去した。
この残留物をメタノール(300ml)に溶解し、ジエチ
ルエーテルで2回抽出した。このエーテル層を一緒に
し、1N水酸化ナトリウムで溶媒相洗浄した。この水層
を一緒にし、pH2〜3まで酸性化し、次いでpH8まで
塩基性にした。次ぎに、この塩基性溶液を酢酸エチルで
数回抽出し、その有機層を一緒にし、硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、濾過し、そして真空下で蒸発乾固させ
た。周囲温度で数時間真空乾燥させた後、固体の重量は
10.5gであった。NMR分光法による分析によって、
この生成物は所望の6−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロ
キシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキシ)ベ
ンゾイル]ベンゾ[B]チオフェンであるが、約等モル量
の酢酸エチルもまた存在することが示された。粗生成物
の多くが結晶化および精製法の実験に用いられたので、
正確な総精製収量は測定されなかった。試料(1.02
g)を、溶離に9/1の酢酸エチル/メタノールを用いる
シリカゲル(8g)のクロマトグラフィーにかけた。カ
ラムの寸法は3×27cmであり、50mlの分画を集め
た。分画#13〜27から黄色の油を得、これを1N
水酸化ナトリウム(30ml)に溶解し、周囲温度で15
分間撹拌した。1N 塩酸(32ml)で酸性化し、次い
で過剰の炭酸水素ナトリウム(固体)で塩基性化した
後、黄色の固体を集め、一晩真空乾燥した後の固体の重
量は0.57gであった。NMRおよび紫外線スペクトル
データ、ならびに元素分析によって判断したところ、こ
の物質は本質的に純粋生成物であった。
【0069】上記調製した粗生成物の一部(10g)
を、1/9のメタノール/クロロホルムで溶離する、シリ
カゲルカラム(3×30cm)のクロマトグラフィーにか
けた。試料(50ml)を集め、分画13〜30を一緒に
し、蒸発乾燥させて黄色の油を得、これを1N 水酸化
ナトリウム(30ml)に溶解した。窒素をこの溶液に1
5分間吹き込み、氷および1N 塩酸(32ml)を加え
た。次いで、炭酸水素ナトリウム飽和水(8ml)を加
え、そして混合物を1時間撹拌し、濾過した。この固体
を水で洗浄し、真空乾燥させ、試料をNMRによって分
析した。100mHz NMR dmso-d6−d1.72(4H,
m,N(CH2CH 2)、2.68(4H,m,N(CH2CH 2)
2、2.94(2H,t,J=6Hz,OCH2CH2N)、4.
15(2H,t,J=6Hz,OCH 2CH2N)、6.68(2
H,d,J=9Hz,芳香族oからOH)、6.85(1H,q,
JH4-H5=4Hz,JH5-H7=2Hz,ベンゾチオフェン環の
H5)、6.93(2H,d,J=9Hz,芳香族oからOCH
2CH2N)、7.18(2H,d,J=9Hz,芳香族mからO
H)、7.25(1H,d,J=9Hz,ベンゾチオフェン環の
H4)、7.67(2H,d,J=9Hz,芳香族oからC
O)、9.75(2H,ブロード5,OH)
を、1/9のメタノール/クロロホルムで溶離する、シリ
カゲルカラム(3×30cm)のクロマトグラフィーにか
けた。試料(50ml)を集め、分画13〜30を一緒に
し、蒸発乾燥させて黄色の油を得、これを1N 水酸化
ナトリウム(30ml)に溶解した。窒素をこの溶液に1
5分間吹き込み、氷および1N 塩酸(32ml)を加え
た。次いで、炭酸水素ナトリウム飽和水(8ml)を加
え、そして混合物を1時間撹拌し、濾過した。この固体
を水で洗浄し、真空乾燥させ、試料をNMRによって分
析した。100mHz NMR dmso-d6−d1.72(4H,
m,N(CH2CH 2)、2.68(4H,m,N(CH2CH 2)
2、2.94(2H,t,J=6Hz,OCH2CH2N)、4.
15(2H,t,J=6Hz,OCH 2CH2N)、6.68(2
H,d,J=9Hz,芳香族oからOH)、6.85(1H,q,
JH4-H5=4Hz,JH5-H7=2Hz,ベンゾチオフェン環の
H5)、6.93(2H,d,J=9Hz,芳香族oからOCH
2CH2N)、7.18(2H,d,J=9Hz,芳香族mからO
H)、7.25(1H,d,J=9Hz,ベンゾチオフェン環の
H4)、7.67(2H,d,J=9Hz,芳香族oからC
O)、9.75(2H,ブロード5,OH)
【0070】実施例7 6−ヒドロキシ−2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン 上記実施例4から得られた黄色の油をメタノール(70
0ml)に溶解し、5N水酸化ナトリウム(100ml)を
加えた。この混合物を周囲温度で2時間撹拌し、次いで
溶媒を真空下で除去した。この残留物を水(500ml)
に溶解し、ジエチルエーテルで2回抽出した(500ml
ずつ)。この水層を冷メタンスルホン酸でpH2に酸性
化し、約3Lに希釈し、再びジエチルエーテルで2回抽
出した(1Lずつ)。この水層を分離し、真空下で気体
を除去し、炭酸水素ナトリウムの添加によって塩基性に
した。沈殿させ、これを濾過によって集め、水で洗浄し
た。この固体を70℃で真空乾燥させて不純生成物(1
3g)を得た。これを温アセトン(500ml)に溶解
し、濾過し、そして蒸発させて体積を約100mlに落と
した。この溶液を冷却し、かき集めて生成物(11.3
g)を得た。
ドロキシフェニル)−3−[4−(2−ピロリジノエトキ
シ)ベンゾイル]ベンゾ[B]チオフェン 上記実施例4から得られた黄色の油をメタノール(70
0ml)に溶解し、5N水酸化ナトリウム(100ml)を
加えた。この混合物を周囲温度で2時間撹拌し、次いで
溶媒を真空下で除去した。この残留物を水(500ml)
に溶解し、ジエチルエーテルで2回抽出した(500ml
ずつ)。この水層を冷メタンスルホン酸でpH2に酸性
化し、約3Lに希釈し、再びジエチルエーテルで2回抽
出した(1Lずつ)。この水層を分離し、真空下で気体
を除去し、炭酸水素ナトリウムの添加によって塩基性に
した。沈殿させ、これを濾過によって集め、水で洗浄し
た。この固体を70℃で真空乾燥させて不純生成物(1
3g)を得た。これを温アセトン(500ml)に溶解
し、濾過し、そして蒸発させて体積を約100mlに落と
した。この溶液を冷却し、かき集めて生成物(11.3
g)を得た。
【0071】以上より、本発明の特定の態様が例示のた
めに本明細書に記載されているが、本発明の真意および
範囲から逸脱することなく、様々な改良がなされること
が認められるであろう。
めに本明細書に記載されているが、本発明の真意および
範囲から逸脱することなく、様々な改良がなされること
が認められるであろう。
Claims (2)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R基は同じかまたは異なり、C1〜C6アルキル
を表す]で示されるベンゾ[B]チオフェンを製造するた
めの方法であり、ポリリン酸およびリン酸の存在下で、
式: 【化2】 で示されるジアルコキシ化合物を環化することを含んで
なる方法。 - 【請求項2】 式: 【化3】 [式中、R1およびR2は独立してC1〜C4アルキルであ
るか、または一緒にC4〜C6ポリメチレンもしくは−
(CH2−)2O(CH2)2−を形成する]で示される化合物
またはその薬学的に許容し得る塩を製造するための方法
であり、リン酸の存在下においてポリリン酸でもって、
式: 【化4】 [式中、R基は同じかまたは異なり、C1〜C6アルキル
を表す]で示される化合物を環化して、アルコキシ−2
−(4−アルコキシフェニル)ベンゾ[B]チオフェンの混
合物を産生し、;場合によりアルコキシ基を除去し、次
いでヒドロキシ基を再保護し;フリーデル−クラフツの
条件下で、式: 【化5】 [式中、R5はXまたは式: 【化6】 で示される基であり(Xはクロロ、ブロモ、もしくは−
SO2R1である);R4はクロロ、ブロモ、ヨード、ま
たは活性化エステル基である;(R5がXである時、X
基を式: 【化7】 で示されるアミンと置換している)]で示されるアシル
化剤でもって、保護されたベンゾ[B]チオフェンをアシ
ル化し;そしてヒドロキシ保護基を開裂することを含ん
でなる方法。
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