JPH0855322A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0855322A JPH0855322A JP18932394A JP18932394A JPH0855322A JP H0855322 A JPH0855322 A JP H0855322A JP 18932394 A JP18932394 A JP 18932394A JP 18932394 A JP18932394 A JP 18932394A JP H0855322 A JPH0855322 A JP H0855322A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板としてカーボン材料を採用した場合にお
ける問題点、すなわちノイズの問題点を解決することで
ある。 【構成】 カーボン基板と、このカーボン基板上に設け
られたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、この
Ｔｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金からなる
Ｃｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性膜とを具
備する磁気記録媒体。
ける問題点、すなわちノイズの問題点を解決することで
ある。 【構成】 カーボン基板と、このカーボン基板上に設け
られたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、この
Ｔｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金からなる
Ｃｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性膜とを具
備する磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ等の外部
記憶装置に使用される磁気ディスク等の磁気記録媒体に
関するものである。
記憶装置に使用される磁気ディスク等の磁気記録媒体に
関するものである。
【０００２】
【発明の背景】現在、ハードディスク用基板の材料とし
てはアルミニウム合金が主流であり、その表面に１０μ
ｍ程度のＮｉ−Ｐメッキを施したものが使用されてい
る。しかしながら、アルミニウム合金製の基板には、厚
さが薄くなると、剛性が不足するという問題点が有る。
すなわち、剛性が不足すると、鏡面加工の際、基板にう
ねりが生じて平坦化できない。そして、これに起因し
て、回転むらが生じ、あるいは磁気ヘッドの浮上量を小
さく出来ないという不都合を生じたり、さらにはスピン
ドルへのチャッキングの際にディスクが変形すると言う
不都合も生じる。
てはアルミニウム合金が主流であり、その表面に１０μ
ｍ程度のＮｉ−Ｐメッキを施したものが使用されてい
る。しかしながら、アルミニウム合金製の基板には、厚
さが薄くなると、剛性が不足するという問題点が有る。
すなわち、剛性が不足すると、鏡面加工の際、基板にう
ねりが生じて平坦化できない。そして、これに起因し
て、回転むらが生じ、あるいは磁気ヘッドの浮上量を小
さく出来ないという不都合を生じたり、さらにはスピン
ドルへのチャッキングの際にディスクが変形すると言う
不都合も生じる。
【０００３】ディスクの製造は基板上に蒸着やスパッリ
ング等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が一般的
である。この際、基板温度が数百℃となる為、基板には
耐熱性が要求される。しかしながら、アルミニウム合金
を主材料とした基板では、耐熱性が不十分であり、基板
が熱変形するという不都合が生じる。ところで、成膜後
に基板を加熱すると磁性膜の保磁力が高くなることが知
られており、この観点から熱処理が行われることもある
ので、耐熱性の向上が一層要求される。
ング等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が一般的
である。この際、基板温度が数百℃となる為、基板には
耐熱性が要求される。しかしながら、アルミニウム合金
を主材料とした基板では、耐熱性が不十分であり、基板
が熱変形するという不都合が生じる。ところで、成膜後
に基板を加熱すると磁性膜の保磁力が高くなることが知
られており、この観点から熱処理が行われることもある
ので、耐熱性の向上が一層要求される。
【０００４】このようなことから、アルミニウム合金と
は全く異なる材料としてカーボン、特にガラス状カーボ
ンが注目を集め、本出願人によっても、ガラス状カーボ
ンをハードディスクの基板として利用することが提案
（特開昭６０−３５３３３号公報）されている。
は全く異なる材料としてカーボン、特にガラス状カーボ
ンが注目を集め、本出願人によっても、ガラス状カーボ
ンをハードディスクの基板として利用することが提案
（特開昭６０−３５３３３号公報）されている。
【０００５】
【発明の開示】すなわち、ガラス状カーボンは、 基板加工時における内外周加工やチャンファー加工
の際、割れや欠けが起き難く、又、テクスチヤー形成や
薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の面か
ら高強度であること、 磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 耐食性、耐候性が良好であること、 耐衝撃性に富むこと、 製造時の信頼性、及びＣＳＳ特性（耐久性）の面か
ら高硬度であること、 ＣＳＳ特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいこと 等の長所を有し、ガラス状カーボンをハードディスクの
基板とした磁気記録媒体が提案され、各方面から称賛を
浴びている。
の際、割れや欠けが起き難く、又、テクスチヤー形成や
薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の面か
ら高強度であること、 磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 耐食性、耐候性が良好であること、 耐衝撃性に富むこと、 製造時の信頼性、及びＣＳＳ特性（耐久性）の面か
ら高硬度であること、 ＣＳＳ特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいこと 等の長所を有し、ガラス状カーボンをハードディスクの
基板とした磁気記録媒体が提案され、各方面から称賛を
浴びている。
【０００６】ところで、このような優れた特長を呈する
ガラス状カーボンを用いて磁気記録媒体を構成する場合
にも幾つかの問題点の有ることが判って来た。例えば、
アルミニウム合金製の基板上に金属薄膜型の磁性膜をス
パッタリング等で成膜する場合には、通常、磁性膜の下
地として非磁性のＣｒ系膜が設けられている。しかし、
この技術を、そのまま、ガラス状カーボン製基板に適用
すると、ノイズが相対的に大きくなるとの指摘がなされ
た。
ガラス状カーボンを用いて磁気記録媒体を構成する場合
にも幾つかの問題点の有ることが判って来た。例えば、
アルミニウム合金製の基板上に金属薄膜型の磁性膜をス
パッタリング等で成膜する場合には、通常、磁性膜の下
地として非磁性のＣｒ系膜が設けられている。しかし、
この技術を、そのまま、ガラス状カーボン製基板に適用
すると、ノイズが相対的に大きくなるとの指摘がなされ
た。
【０００７】そこで、この問題に対する検討を進める過
程で、下地膜として設けたＣｒが基板であるガラス状カ
ーボンと反応し、これによって前記の問題が発生するの
ではないかとの知見を得るに至った。この知見を基にし
て更に検討を行った結果、下地膜であるＣｒ系膜とガラ
ス状カーボン基板との間にバリヤー膜を介在させておけ
ば、Ｃｒがガラス状カーボン基板と反応することがな
く、ノイズの問題は解決されるであろうと考えたのであ
る。そして、この考えに基づいてバリヤー材料の検討を
進めた結果、ＴｉあるいはＴｉ合金の膜が最適なことを
見出したのである。
程で、下地膜として設けたＣｒが基板であるガラス状カ
ーボンと反応し、これによって前記の問題が発生するの
ではないかとの知見を得るに至った。この知見を基にし
て更に検討を行った結果、下地膜であるＣｒ系膜とガラ
ス状カーボン基板との間にバリヤー膜を介在させておけ
ば、Ｃｒがガラス状カーボン基板と反応することがな
く、ノイズの問題は解決されるであろうと考えたのであ
る。そして、この考えに基づいてバリヤー材料の検討を
進めた結果、ＴｉあるいはＴｉ合金の膜が最適なことを
見出したのである。
【０００８】本発明はこのような過程を経て達成された
ものであり、本発明の目的は、基板としてカーボン材料
を採用した場合における問題点、すなわちノイズの問題
点を解決することである。この本発明の目的は、カーボ
ン基板と、このカーボン基板上に設けられたＴｉあるい
はＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、このＴｉ系膜上に設け
られたＣｒあるいはＣｒ合金からなるＣｒ系膜と、この
Ｃｒ系膜上に設けられた磁性膜とを具備することを特徴
とする磁気記録媒体によって達成される。
ものであり、本発明の目的は、基板としてカーボン材料
を採用した場合における問題点、すなわちノイズの問題
点を解決することである。この本発明の目的は、カーボ
ン基板と、このカーボン基板上に設けられたＴｉあるい
はＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、このＴｉ系膜上に設け
られたＣｒあるいはＣｒ合金からなるＣｒ系膜と、この
Ｃｒ系膜上に設けられた磁性膜とを具備することを特徴
とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００９】又、カーボン基板と、このカーボン基板上
に設けられたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜
と、このＴｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金
からなるＣｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性
膜と、この磁性膜上に設けられた保護膜と、この保護膜
上に設けられた潤滑剤膜とを具備してなり、前記潤滑剤
膜は極性基を持つ潤滑剤（有極性潤滑剤）と末端に極性
基を持たない潤滑剤（無極性潤滑剤）とを用いて構成さ
れたものであることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成される。尚、このような構成では走行性や耐久性も
向上する。
に設けられたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜
と、このＴｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金
からなるＣｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性
膜と、この磁性膜上に設けられた保護膜と、この保護膜
上に設けられた潤滑剤膜とを具備してなり、前記潤滑剤
膜は極性基を持つ潤滑剤（有極性潤滑剤）と末端に極性
基を持たない潤滑剤（無極性潤滑剤）とを用いて構成さ
れたものであることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成される。尚、このような構成では走行性や耐久性も
向上する。
【００１０】上記本発明における磁気記録媒体の基板は
カーボンで構成されるが、中でもガラス状カーボンで構
成されることが好ましい。そして、このカーボン基板
は、その表面粗さ（中心線平均粗さＲａ）が０．５〜２
ｎｍのものが好ましい。本発明の磁気記録媒体は金属薄
膜型である。すなわち、基板上の磁性膜は、例えば真空
蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーティング等
の乾式メッキ手段で設けられる。磁性膜を構成する材料
としては、例えばＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＮｉＸ，
ＣｏＷＸ等で表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の磁性
合金が挙げられる。尚、ここでＸとしては、Ｔａ，Ｐ
ｔ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐ
ｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，
Ａｓ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓ
ｂ，Ｈｆよりなる群から選ばれる１種又は２種以上の元
素が挙げられる。中でも、ＣｏＣｒやＣｏＣｒＰｔを好
ましいものとして挙げることが出来る。このような磁性
膜の膜厚は通常３００〜１０００Å程度である。
カーボンで構成されるが、中でもガラス状カーボンで構
成されることが好ましい。そして、このカーボン基板
は、その表面粗さ（中心線平均粗さＲａ）が０．５〜２
ｎｍのものが好ましい。本発明の磁気記録媒体は金属薄
膜型である。すなわち、基板上の磁性膜は、例えば真空
蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーティング等
の乾式メッキ手段で設けられる。磁性膜を構成する材料
としては、例えばＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＮｉＸ，
ＣｏＷＸ等で表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の磁性
合金が挙げられる。尚、ここでＸとしては、Ｔａ，Ｐ
ｔ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐ
ｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，
Ａｓ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓ
ｂ，Ｈｆよりなる群から選ばれる１種又は２種以上の元
素が挙げられる。中でも、ＣｏＣｒやＣｏＣｒＰｔを好
ましいものとして挙げることが出来る。このような磁性
膜の膜厚は通常３００〜１０００Å程度である。
【００１１】この金属薄膜型の磁性膜の下地膜としてＣ
ｒあるいはＣｒ合金からなる非磁性のＣｒ系膜が、例え
ば真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーティ
ング等の乾式メッキ手段で設けられる。尚、この非磁性
の下地膜（Ｃｒ系膜）は、上層に設けられる磁性膜の配
向性などを向上させる為に設けられる。その厚さは２０
〜２００ｎｍであることが好ましい。
ｒあるいはＣｒ合金からなる非磁性のＣｒ系膜が、例え
ば真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーティ
ング等の乾式メッキ手段で設けられる。尚、この非磁性
の下地膜（Ｃｒ系膜）は、上層に設けられる磁性膜の配
向性などを向上させる為に設けられる。その厚さは２０
〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００１２】ところで、下地膜として非磁性のＣｒ系膜
が直接カーボン基板上に設けられた場合には上述したノ
イズの問題が発生するので、本発明ではＴｉ、あるいは
ＴｉＡｌＶ，ＴｉＣｒ，ＴｉＭｏ，ＴｉＴａ等のＴｉ合
金からなるＴｉ系膜が、例えば真空蒸着、スパッタリン
グあるいはイオンプレーティング等の乾式メッキ手段で
設けられるが、このＴｉ系膜の厚さは１〜２００ｎｍで
あることが好ましい。
が直接カーボン基板上に設けられた場合には上述したノ
イズの問題が発生するので、本発明ではＴｉ、あるいは
ＴｉＡｌＶ，ＴｉＣｒ，ＴｉＭｏ，ＴｉＴａ等のＴｉ合
金からなるＴｉ系膜が、例えば真空蒸着、スパッタリン
グあるいはイオンプレーティング等の乾式メッキ手段で
設けられるが、このＴｉ系膜の厚さは１〜２００ｎｍで
あることが好ましい。
【００１３】又、金属薄膜型の磁気記録媒体では、一般
的に、磁性膜上に保護膜がスパッタリング等の乾式メッ
キ手段やＣＶＤ手段で設けられる。保護膜の材料として
は、耐摩耗性の点から硬度の高いものが望ましく、例え
ばＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，
Ｗ等の金属の酸化物、窒化物、炭化物などが挙げられ
る。更に、カーボンあるいはボロンナイトライド等も用
いることが出来る。中でも、ガラス状カーボンやダイヤ
モンドライクカーボン、あるいはこれらのカーボンとセ
ラミックスとの複合カーボン系の材料は好ましいもので
ある。尚、保護膜の厚さは５〜２０ｎｍの程度である。
的に、磁性膜上に保護膜がスパッタリング等の乾式メッ
キ手段やＣＶＤ手段で設けられる。保護膜の材料として
は、耐摩耗性の点から硬度の高いものが望ましく、例え
ばＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，
Ｗ等の金属の酸化物、窒化物、炭化物などが挙げられ
る。更に、カーボンあるいはボロンナイトライド等も用
いることが出来る。中でも、ガラス状カーボンやダイヤ
モンドライクカーボン、あるいはこれらのカーボンとセ
ラミックスとの複合カーボン系の材料は好ましいもので
ある。尚、保護膜の厚さは５〜２０ｎｍの程度である。
【００１４】そして、走行性を向上させる為に、保護膜
上には、例えば厚さが１〜３ｎｍ程度の潤滑剤の膜が設
けられる。潤滑剤としては、上述した通り、有極性潤滑
剤と無極性潤滑剤とを用いることが好ましい。例えば、
有極性潤滑剤溶液を塗布し、次いで無極性潤滑剤溶液を
塗布する。あるいは、保護膜上にこれら潤滑剤の混合溶
液を塗布し、主として保護膜側に近い下層側に有極性潤
滑剤を、上層側に無極性潤滑剤を存在させるようにして
も良い。
上には、例えば厚さが１〜３ｎｍ程度の潤滑剤の膜が設
けられる。潤滑剤としては、上述した通り、有極性潤滑
剤と無極性潤滑剤とを用いることが好ましい。例えば、
有極性潤滑剤溶液を塗布し、次いで無極性潤滑剤溶液を
塗布する。あるいは、保護膜上にこれら潤滑剤の混合溶
液を塗布し、主として保護膜側に近い下層側に有極性潤
滑剤を、上層側に無極性潤滑剤を存在させるようにして
も良い。
【００１５】有極性潤滑剤は、数平均分子量が１０００
〜１００００のパーフロロポリエーテル系のものであ
り、末端に芳香族環を持つものが好ましい。特に、−
（ＣＦ2ＣＦ2 Ｏ）n −（ＣＦ2 Ｏ）m −の骨格を有
し、末端に芳香族環を持ち、数平均分子量が２０００〜
４０００であるものが好ましい。具体例としては、フォ
ンブリンＡＭ２００１、フォンブリンＺＤ０Ｌ、フォン
ブリンＺＤＩＡＣ（以上、モンテカチーニ社製）やデム
ナムＳＡ、デムナムＳＨ、デムナムＳＰ、デムナムＳＹ
（以上、ダイキン工業社製）等が挙げられる。
〜１００００のパーフロロポリエーテル系のものであ
り、末端に芳香族環を持つものが好ましい。特に、−
（ＣＦ2ＣＦ2 Ｏ）n −（ＣＦ2 Ｏ）m −の骨格を有
し、末端に芳香族環を持ち、数平均分子量が２０００〜
４０００であるものが好ましい。具体例としては、フォ
ンブリンＡＭ２００１、フォンブリンＺＤ０Ｌ、フォン
ブリンＺＤＩＡＣ（以上、モンテカチーニ社製）やデム
ナムＳＡ、デムナムＳＨ、デムナムＳＰ、デムナムＳＹ
（以上、ダイキン工業社製）等が挙げられる。
【００１６】無極性潤滑剤は、数平均分子量が１０００
〜２００００のパーフロロポリエーテル系のものが好ま
しい。特に、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −（ＣＦ2
Ｏ） m −ＣＦ3 で表され、数平均分子量が２０００〜１
００００であるものが好ましい。具体例としては、フォ
ンブリンＺ０３（モンテカチーニ社製）等が挙げられ
る。
〜２００００のパーフロロポリエーテル系のものが好ま
しい。特に、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −（ＣＦ2
Ｏ） m −ＣＦ3 で表され、数平均分子量が２０００〜１
００００であるものが好ましい。具体例としては、フォ
ンブリンＺ０３（モンテカチーニ社製）等が挙げられ
る。
【００１７】そして、上記のように構成させた磁気記録
媒体は、ノイズが小さく、エラーも少なく、かつ、耐食
性にも優れたものである。更には、摩擦係数が小さく、
走行性およびＣＳＳ耐久性にも優れるものである。
媒体は、ノイズが小さく、エラーも少なく、かつ、耐食
性にも優れたものである。更には、摩擦係数が小さく、
走行性およびＣＳＳ耐久性にも優れるものである。
【００１８】
〔実施例１〕密度１．８ｇ／ｃｍ3 、ビッカース硬度６
５０ｋｇ／ｍｍ2 の特性のガラス状カーボンを用いてカ
ーボン基板１を作製した。このカーボン基板１は、表面
粗さＲａが２ｎｍに仕上げられている。尚、表面粗さＲ
ａは、触針式表面粗さ計により評価した。
５０ｋｇ／ｍｍ2 の特性のガラス状カーボンを用いてカ
ーボン基板１を作製した。このカーボン基板１は、表面
粗さＲａが２ｎｍに仕上げられている。尚、表面粗さＲ
ａは、触針式表面粗さ計により評価した。
【００１９】このようなカーボン基板１上に、ＤＣマグ
ネトロンスパッタリングで１００ｎｍ厚さのＴｉ膜２を
設けた。この後、Ｔｉ膜２上にＤＣマグネトロンスパッ
タリングで１００ｎｍ厚さのＣｒ膜３を設け、次いで４
０ｎｍ厚さのＣｏＣｒ系合金磁性膜４を設けた。更に、
ＤＣマグネトロンスパッタリングによりＣｏＣｒ系合金
磁性膜４上に２０ｎｍ厚さの保護膜（ガラス状カーボン
膜）５を設けた。
ネトロンスパッタリングで１００ｎｍ厚さのＴｉ膜２を
設けた。この後、Ｔｉ膜２上にＤＣマグネトロンスパッ
タリングで１００ｎｍ厚さのＣｒ膜３を設け、次いで４
０ｎｍ厚さのＣｏＣｒ系合金磁性膜４を設けた。更に、
ＤＣマグネトロンスパッタリングによりＣｏＣｒ系合金
磁性膜４上に２０ｎｍ厚さの保護膜（ガラス状カーボン
膜）５を設けた。
【００２０】次いで、フォンブリンＡＭ２００１溶液を
塗布し、５Å厚さの有極性潤滑剤膜６ａを設け、この後
フォンブリンＺ０３溶液を塗布し、２０Å厚さの無極性
潤滑剤膜６ｂを設け、図１に示す磁気ディスクを得た。 〔実施例２〕Ｔｉ膜２の厚さを５０ｎｍとした以外は実
施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
塗布し、５Å厚さの有極性潤滑剤膜６ａを設け、この後
フォンブリンＺ０３溶液を塗布し、２０Å厚さの無極性
潤滑剤膜６ｂを設け、図１に示す磁気ディスクを得た。 〔実施例２〕Ｔｉ膜２の厚さを５０ｎｍとした以外は実
施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
【００２１】〔実施例３〕Ｔｉ膜２の厚さを１５０ｎｍ
とした以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。 〔実施例４〕Ｃｒ膜３の厚さを５０ｎｍとした以外は実
施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
とした以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。 〔実施例４〕Ｃｒ膜３の厚さを５０ｎｍとした以外は実
施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
【００２２】〔実施例５〕Ｃｒ膜３の厚さを２００ｎｍ
とした以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。 〔実施例６〕保護膜５をＳｉＣを含有するガラス状カー
ボン膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気デ
ィスクを得た。
とした以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。 〔実施例６〕保護膜５をＳｉＣを含有するガラス状カー
ボン膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気デ
ィスクを得た。
【００２３】〔実施例７〕保護膜５を水素化ガラス状カ
ーボン膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気
ディスクを得た。 〔実施例８〕保護膜５をアモルファスカーボン膜で構成
した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。
ーボン膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気
ディスクを得た。 〔実施例８〕保護膜５をアモルファスカーボン膜で構成
した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得
た。
【００２４】〔実施例９〕Ｔｉ膜２をＡｌ（５４ａｔ
％）−Ｖ（３６ａｔ％）−Ｔｉ合金膜で構成した以外は
実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１０〕Ｔｉ膜２をＣｒ（１０ａｔ％）−Ｔｉ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
％）−Ｖ（３６ａｔ％）−Ｔｉ合金膜で構成した以外は
実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１０〕Ｔｉ膜２をＣｒ（１０ａｔ％）−Ｔｉ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
【００２５】〔実施例１１〕Ｔｉ膜２をＭｏ（１０ａｔ
％）−Ｔｉ合金膜で構成した以外は実施例１に準じて行
い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１２〕Ｔｉ膜２をＴａ（１０ａｔ％）−Ｔｉ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
％）−Ｔｉ合金膜で構成した以外は実施例１に準じて行
い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１２〕Ｔｉ膜２をＴａ（１０ａｔ％）−Ｔｉ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
【００２６】〔実施例１３〕Ｃｒ膜３をＭｏ（１０ａｔ
％）−Ｃｒ合金膜で構成した以外は実施例１に準じて行
い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１４〕Ｃｒ膜３をＴｉ（１０ａｔ％）−Ｃｒ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
％）−Ｃｒ合金膜で構成した以外は実施例１に準じて行
い、磁気ディスクを得た。 〔実施例１４〕Ｃｒ膜３をＴｉ（１０ａｔ％）−Ｃｒ合
金膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。
【００２７】〔実施例１５〕ＣｏＣｒ系合金磁性膜４を
Ｃｒ（９ａｔ％）−Ｐｔ（１２ａｔ％）−Ｃｏ系合金磁
性膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。 〔比較例１〕Ｔｉ膜２を設けなかった以外は実施例１に
準じて行い、磁気ディスクを得た。
Ｃｒ（９ａｔ％）−Ｐｔ（１２ａｔ％）−Ｃｏ系合金磁
性膜で構成した以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。 〔比較例１〕Ｔｉ膜２を設けなかった以外は実施例１に
準じて行い、磁気ディスクを得た。
【００２８】〔比較例２〕Ｃｒ膜３を設けなかった以外
は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔特性〕上記各例で得た磁気ディスクについて、１ビッ
トエラー（ノイズの程度を表す）、耐食性、ＣＳＳ耐久
性を調べた。その結果を表−１に示す。
は実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔特性〕上記各例で得た磁気ディスクについて、１ビッ
トエラー（ノイズの程度を表す）、耐食性、ＣＳＳ耐久
性を調べた。その結果を表−１に示す。
【００２９】尚、１ビットエラーは、米国プロキップ社
製のＭＧ１５０を用い、線記録密度５７ｋｆｃｉ、トラ
ック幅７．５μｍで行い、１ビットエラーの個数を測定
したものである。耐食性は、温度６０℃、湿度８０％の
環境下に１週間保持した後、顕微鏡でディスク表面を観
察したものである。
製のＭＧ１５０を用い、線記録密度５７ｋｆｃｉ、トラ
ック幅７．５μｍで行い、１ビットエラーの個数を測定
したものである。耐食性は、温度６０℃、湿度８０％の
環境下に１週間保持した後、顕微鏡でディスク表面を観
察したものである。
【００３０】ＣＳＳ耐久性は、米国ＧＬＩＤＥ／ＷＲＩ
ＴＥ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッド荷重６ｇ、ヘッド
浮上量０．１μｍ、３６００ｒｐｍで１５秒間稼働、１
５秒間停止のサイクルを１万回繰り返して行い、その際
の摩擦係数の増加を調べたものである。 表−１ １ビットエラー 耐食性 ＣＳＳ耐久性 実施例１ ○ ○ ◎ 実施例２ ○ ○ ◎ 実施例３ ○ ○ ◎ 実施例４ ○ ○ ◎ 実施例５ ○ ○ ◎ 実施例６ ○ ○ ◎ 実施例７ ○ ○ ◎ 実施例８ ○ ○ ◎ 実施例９ ○ ○ ◎ 実施例１０ ○ ○ ◎ 実施例１１ ○ ○ ◎ 実施例１２ ○ ○ ◎ 実施例１３ ○ ○ ◎ 実施例１４ ○ ○ ◎ 実施例１５ ○ ○ ◎ 比較例１ × × ◎ 比較例２ ＊ ○ ◎ ＊比較例２における１ビットエラーは、保磁力1000Oe以下の為、測定不可 ＊１ビットエラーの欄の○印はエラー個数が０〜１０個 △印はエラー個数が１１〜５０個 ×印はエラー個数が５１個以上 ＊耐食性の欄の○印は異常なし ×印は析出物有り ＊ＣＳＳ耐久性の欄の◎印は摩擦係数が０．３〜０．４ ○印は摩擦係数が０．４〜０．５ △印は摩擦係数が０．５〜０．６ ×印は摩擦係数が０．６以上 以上のように、本発明の磁気記録媒体は、カーボン基板
上にＴｉ系膜が設けられ、このＴｉ系膜上にＣｒ系膜が
設けられ、そして磁性膜が設けられた構成を具備してな
り、１ビットエラーが少なく、かつ、耐食性にも優れた
ものであることが判る。更には、摩擦係数が小さく、走
行性およびＣＳＳ耐久性にも優れることが判る。
ＴＥ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッド荷重６ｇ、ヘッド
浮上量０．１μｍ、３６００ｒｐｍで１５秒間稼働、１
５秒間停止のサイクルを１万回繰り返して行い、その際
の摩擦係数の増加を調べたものである。 表−１ １ビットエラー 耐食性 ＣＳＳ耐久性 実施例１ ○ ○ ◎ 実施例２ ○ ○ ◎ 実施例３ ○ ○ ◎ 実施例４ ○ ○ ◎ 実施例５ ○ ○ ◎ 実施例６ ○ ○ ◎ 実施例７ ○ ○ ◎ 実施例８ ○ ○ ◎ 実施例９ ○ ○ ◎ 実施例１０ ○ ○ ◎ 実施例１１ ○ ○ ◎ 実施例１２ ○ ○ ◎ 実施例１３ ○ ○ ◎ 実施例１４ ○ ○ ◎ 実施例１５ ○ ○ ◎ 比較例１ × × ◎ 比較例２ ＊ ○ ◎ ＊比較例２における１ビットエラーは、保磁力1000Oe以下の為、測定不可 ＊１ビットエラーの欄の○印はエラー個数が０〜１０個 △印はエラー個数が１１〜５０個 ×印はエラー個数が５１個以上 ＊耐食性の欄の○印は異常なし ×印は析出物有り ＊ＣＳＳ耐久性の欄の◎印は摩擦係数が０．３〜０．４ ○印は摩擦係数が０．４〜０．５ △印は摩擦係数が０．５〜０．６ ×印は摩擦係数が０．６以上 以上のように、本発明の磁気記録媒体は、カーボン基板
上にＴｉ系膜が設けられ、このＴｉ系膜上にＣｒ系膜が
設けられ、そして磁性膜が設けられた構成を具備してな
り、１ビットエラーが少なく、かつ、耐食性にも優れた
ものであることが判る。更には、摩擦係数が小さく、走
行性およびＣＳＳ耐久性にも優れることが判る。
【００３１】尚、比較例１から判る通り、Ｔｉ膜が設け
られていない場合には、１ビットエラーが多く、又、耐
食性にも劣っている。又、比較例２から判る通り、Ｔｉ
膜が設けられていても、Ｃｒ膜が設けられていない場合
には、保磁力が１０００Ｏｅ以下となり、磁気特性が悪
化し、正常な磁気記録媒体としての性能が得られない。
られていない場合には、１ビットエラーが多く、又、耐
食性にも劣っている。又、比較例２から判る通り、Ｔｉ
膜が設けられていても、Ｃｒ膜が設けられていない場合
には、保磁力が１０００Ｏｅ以下となり、磁気特性が悪
化し、正常な磁気記録媒体としての性能が得られない。
【００３２】すなわち、カーボン基板−非磁性Ｔｉ系膜
−非磁性Ｃｒ系膜−磁性膜の構成が必須であることが明
確に示されている。そして、本発明では、カーボン基板
を用いたが故にＡｌ合金製の基板の問題点が解決され、
かつ、Ｔｉ系膜−Ｃｒ系膜を積層した構成としたから、
１ビットエラーが少なく、かつ、耐食性にも優れたもの
となった。
−非磁性Ｃｒ系膜−磁性膜の構成が必須であることが明
確に示されている。そして、本発明では、カーボン基板
を用いたが故にＡｌ合金製の基板の問題点が解決され、
かつ、Ｔｉ系膜−Ｃｒ系膜を積層した構成としたから、
１ビットエラーが少なく、かつ、耐食性にも優れたもの
となった。
【００３３】
【効果】本発明によれば、記録再生特性に優れ、高密度
記録に対応でき、かつ、耐久性および耐食性にも優れる
磁気記録媒体が得られる。
記録に対応でき、かつ、耐久性および耐食性にも優れる
磁気記録媒体が得られる。
【図１】磁気記録媒体の概略図
１ カーボン基板 ２ Ｔｉ膜 ３ Ｃｒ膜 ４ ＣｏＣｒ合金磁性膜 ５ 保護膜 ６ａ 有極性潤滑剤膜 ６ｂ 無極性潤滑剤膜
フロントページの続き (72)発明者 金木 章郎 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】 カーボン基板と、このカーボン基板上に
設けられたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、
このＴｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金から
なるＣｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性膜と
を具備することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 カーボン基板と、このカーボン基板上に
設けられたＴｉあるいはＴｉ合金からなるＴｉ系膜と、
このＴｉ系膜上に設けられたＣｒあるいはＣｒ合金から
なるＣｒ系膜と、このＣｒ系膜上に設けられた磁性膜
と、この磁性膜上に設けられた保護膜と、この保護膜上
に設けられた潤滑剤膜とを具備してなり、前記潤滑剤膜
は極性基を持つ潤滑剤と末端に極性基を持たない潤滑剤
とを用いて構成されたものであることを特徴とする磁気
記録媒体。 - 【請求項３】 基板がガラス状カーボンで構成されてな
ることを特徴とする請求項１または請求項２の磁気記録
媒体。 - 【請求項４】 磁性膜は金属薄膜型の磁性膜であること
を特徴とする請求項１または請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 Ｔｉ系膜は、その厚さが１〜２００ｎｍ
であることを特徴とする請求項１または請求項２の磁気
記録媒体。 - 【請求項６】 Ｃｒ系膜は、その厚さが２０〜２００ｎ
ｍであることを特徴とする請求項１または請求項２の磁
気記録媒体。 - 【請求項７】 保護膜はカーボン系の材料を用いて構成
されたものであることを特徴とする請求項２の磁気記録
媒体。 - 【請求項８】 有極性潤滑剤は、数平均分子量が１００
０〜１００００のパーフロロポリエーテル系のものであ
り、末端に芳香族環を持つものであることを特徴とする
請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項９】 無極性潤滑剤は、数平均分子量が１００
０〜２００００のパーフロロポリエーテル系のものであ
ることを特徴とする請求項２の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18932394A JPH0855322A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18932394A JPH0855322A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855322A true JPH0855322A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16239439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18932394A Pending JPH0855322A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855322A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009158053A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 傾斜記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-08-11 JP JP18932394A patent/JPH0855322A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009158053A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 傾斜記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
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