JPH0862394A - Curved graphite monochromator and manufacturing method thereof - Google Patents
Curved graphite monochromator and manufacturing method thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 X線源からのX線をできるだけ大量に利用す
ることができる曲面グラファイトモノクロメータならび
にその製造方法を提供すること。
【構成】 高分子フィルムを400℃以上でかつ10K
g/cm2以下の 圧力を断続または継続的に加え、かつ
所定の曲面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型2
6,27に加熱圧着することにより曲面グラファイトモ
ノクロメータを得る。
(57) [Abstract] [PROBLEMS] To provide a curved graphite monochromator capable of utilizing a large amount of X-rays from an X-ray source and a manufacturing method thereof. [Structure] Polymer film at 400 ℃ or above and 10K
An isotropic graphite mold 2 in which a pressure of g / cm 2 or less is applied intermittently or continuously, and a predetermined curved surface is processed into a part of the structure.
A curved graphite monochromator is obtained by thermocompression bonding to 6, 27.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、X線光学素子、X線
モノクロメータ、中性子線回折ミラー等として利用され
る放物面、球面、非球面、トロイダル曲面等の曲面を有
する曲面グラファイトモノクロメータおよびその製造方
法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a curved graphite monochromator having a curved surface such as a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface or a toroidal curved surface which is used as an X-ray optical element, an X-ray monochromator, a neutron diffraction mirror and the like. And a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】X線は、電子線などに比べ、測定強度の
定量性に優れ、物質の定量構造解析、蛍光X線を利用し
た化学分析などに広く使われている。しかしながら、X
線のようにレンズが存在しないために、X線を集光させ
ることができない。そのため、ミクロンオーダーの非常
に微少領域からの構造や歪などの情報を取り出したい場
合、強度を犠牲にしてピンホールを使い、X線を微少領
域に限定して照射し、その情報を取り出すのが通常行わ
れている方法である。しかし、この方法は著しく強度低
下を伴い、それを補うために、できるだけ大きい立体角
を一度に測定できるように、カウンターに工夫を凝らす
などの方法がとられている。また、最近X線を非常に低
角度で物質に入射させると全反射する現象を利用し、ト
ロイダルミラーを用いて集光させる方法が、非常に強度
が強く、平行性のよいビームが得られる放射光などで用
いられてる。このような方法は、放射光に比べて強度
が、1000分の1以下で、発散光しか得られない通常
のX線線封入管球や回転対陰極管型のX線発生器では、
用いることができない。放射光に用いられるミラーは、
大型で、曲率半径が大きく、CVDを用いた結晶や、小
さく切断して平面のグラファイトなどの結晶をはりつけ
て所定の形状を得るなどの方法がとられていた。これら
従来の方法では、通常のX線封入管球や回転対陰極管型
のX線発生器には用いることができない。また、グラフ
ァイトは、抜群の耐熱性や耐薬品性、高伝導性等を備え
ているため、工業材料として重要な位置を占め、電極や
発熱体、構造材として広く使用されている。なかでも、
単結晶グラファイトは、X線や中性子線に対する優れた
分光、反射特性を有するため、X線や中性子線のモノク
ロメータ、フィルタあるいは分光結晶として広く用いら
れている。2. Description of the Related Art X-rays are superior in quantitative intensity to measurement intensity as compared with electron beams and are widely used for quantitative structural analysis of substances, chemical analysis using fluorescent X-rays and the like. However, X
X-rays cannot be focused because there is no lens like rays. Therefore, if you want to extract information such as structure and strain from a very small area of the micron order, you can use a pinhole at the expense of strength to irradiate X-rays in a very small area and extract that information. This is the usual method. However, this method is accompanied by a marked decrease in strength, and in order to compensate for it, measures have been taken such as devising a counter so that the largest possible solid angle can be measured at one time. In addition, a method of collecting light using a toroidal mirror, which utilizes the phenomenon of total reflection when X-rays are made incident on a substance at a very low angle, is a radiation that has a very high intensity and good parallelism. Used in light etc. Such a method has an intensity of 1/1000 or less as compared with synchrotron radiation, and an ordinary X-ray encapsulation tube or a rotating anticathode tube type X-ray generator that can obtain only divergent light,
It cannot be used. The mirror used for synchrotron radiation is
There have been adopted methods such as a large crystal having a large radius of curvature and using CVD, or cutting into small pieces and sticking a flat crystal such as graphite to obtain a predetermined shape. These conventional methods cannot be used for ordinary X-ray encapsulation bulbs or rotating anticathode tube type X-ray generators. Further, since graphite has excellent heat resistance, chemical resistance, high conductivity, etc., it occupies an important position as an industrial material and is widely used as an electrode, a heating element, and a structural material. Above all,
Since single crystal graphite has excellent spectral and reflection characteristics for X-rays and neutron rays, it is widely used as a monochromator for X-rays and neutron rays, a filter or a dispersive crystal.
【0003】このような単結晶グラファイトを得ること
には、天然に産するものを利用するのが簡単であるが、
良質の天然グラファイトは生産量が非常に限られてお
り、しかも、取り扱いが困難な粉末状、あるいは非常に
小さなブロック状であるため、使用できる用途が限定さ
れてしまう。To obtain such single crystal graphite, it is easy to use a naturally occurring graphite,
The production amount of high-quality natural graphite is very limited, and since it is in the form of powder that is difficult to handle, or in the form of a very small block, its usable applications are limited.
【0004】そこで、上記のような天然の単結晶グラフ
ァイトと同等の特性を有する人工グラファイトを製造す
ることが考えられた。一般的な人工グラファイトの製造
方法は、主として次の2つの方法に分類することができ
る。Therefore, it has been considered to produce artificial graphite having properties equivalent to those of the above-mentioned natural single crystal graphite. The general method for producing artificial graphite can be classified into the following two methods.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】第1の方法は、Fe,
Ni/C系溶融体からの折出、Si,Al等の炭化物の
分類、あるいは高温、高圧下での炭素溶融の冷却によっ
てグラファイトを製造する方法である。このような方法
によって得られたグラファイトは、キッシュグラファイ
トと呼ばれ、天然グラファイトと同等の物性を示す。し
かし、上記のような方法では、微小な薄片状のグラファ
イトしか得られず、製造工程の煩雑さやコスト的に高く
つくこともあって、工業的にはほとんど利用されていな
い。The first method is to use Fe,
This is a method for producing graphite by extruding from a Ni / C-based melt, classifying carbides such as Si and Al, or cooling the carbon melt under high temperature and high pressure. The graphite obtained by such a method is called quiche graphite and exhibits physical properties equivalent to those of natural graphite. However, in the above-mentioned method, only minute flaky graphite is obtained, and since the manufacturing process is complicated and the cost is high, it is hardly used industrially.
【0006】第2の方法は、気相中での炭化水素ガスの
高温分解沈積と、その熱間加工による方法であり、圧力
を印加しつつ3400℃で長時間再焼鈍とするという工
程によってグラファイトが製造される。このようにして
得られたグラファイトは、高配向パイログラファイト
(HOPG)と呼ばれ、その特性は天然グラファイトと
ほぼ同等の優れたものである。この方法では、前記キッ
シュグラファイトとは異なり、かなり大きなサイズのも
のも製造できるが、製造工程が複雑であって歩留りが低
く、非常に高価であるという欠点があるばかりでなく、
曲率の大きなシングルベントがようやく後加工により成
形可能な程度であり、ダブルベントやその他の曲面を有
するミラーをグラファイトで得ることは不可能であっ
た。The second method is a method in which hydrocarbon gas is decomposed and deposited at high temperature in a vapor phase and hot working thereof, and graphite is obtained by a step of re-annealing at 3400 ° C. for a long time while applying pressure. Is manufactured. The graphite obtained in this way is called highly oriented pyrographite (HOPG), and its properties are almost the same as those of natural graphite. In this method, unlike the above-mentioned quiche graphite, it is possible to manufacture a considerably large size, but the manufacturing process is complicated, the yield is low, and not only the disadvantage that it is very expensive,
Only a single bent having a large curvature can be finally formed by post-processing, and it was impossible to obtain a double bent or other mirror having a curved surface from graphite.
【0007】これらの2つの製造方法の欠点を解消し、
製造が容易でコスト安価な製造方法が考案され、様々な
有機物あるいは炭素質物を、3000℃以上で加熱して
グラファイト化する方法が考えられた。しかし、この方
法では、天然グラファイトやキッシュグラファイトと同
等の優れた特性を有するグラファイトを得ることはでき
なかった。例えば、グラファイトの最も典型的な物性で
あるab面方向の電気伝導度は、天然グラファイトやキ
ッシュグラファイトでは1〜2.5×104 S/cmで
あるのに対し、上記方法のものでは、一般に1〜2×1
03S /cmのものしか得られない。このことは、上記
方法ではグラファイト化が完全には進行しないことを示
している。また、グラファイト化が完全に進んでいない
ことは、面という単位で均等なグラファイト化されたも
のを得ることが困難なことを示している。By eliminating the drawbacks of these two manufacturing methods,
A manufacturing method that is easy to manufacture and inexpensive is devised, and a method of heating various organic substances or carbonaceous substances at 3000 ° C. or higher to graphitize them has been considered. However, with this method, it was not possible to obtain graphite having excellent properties equivalent to those of natural graphite and quiche graphite. For example, the most typical physical property of graphite, that is, the electric conductivity in the ab plane direction, is 1 to 2.5 × 10 4 S / cm for natural graphite and quiche graphite, whereas that for the above method is generally 1-2 x 1
Only 0 3 S / cm can be obtained. This indicates that graphitization does not proceed completely with the above method. In addition, the fact that the graphitization has not progressed completely indicates that it is difficult to obtain a uniformly graphitized product in units of planes.
【0008】上記方法の場合、通常は、出発原料として
コークスなどの炭素質物とコールタール等のバインダー
が使用されるが、コークスやチャーコールを3000度
程度に加熱すねことによって生成される炭素の構造は、
比較的グラファイト(黒鉛)構造に近いものから、それ
とは程遠いものまで、様々な種類のものが存在する。こ
のような炭素の構造のうち、単なる熱処理によって比較
的容易に黒鉛的な構造に変わる炭素を易黒鉛化性炭素と
呼び、そうでないものを難黒鉛化炭素と呼んでいる。こ
のような構造上の相違が生じる原因は、黒鉛化の機構と
密接に関連していて、炭素前駆体中に存在する構造欠陥
が、より高温での加熱処理によって除去され易いか否か
による。したがって、炭素前駆体の微細構造が黒鉛化性
に対して重要な役割を果たすことになる。In the case of the above method, a carbonaceous material such as coke and a binder such as coal tar are usually used as a starting material, but the structure of carbon produced by heating the coke or charcoal to about 3000 degrees. Is
There are various types, ranging from those relatively close to the graphite structure to those far from it. Among such carbon structures, carbon which is relatively easily converted into a graphitic structure by heat treatment is called graphitizable carbon, and carbon which is not such is called non-graphitizable carbon. The cause of such a structural difference is closely related to the mechanism of graphitization, and whether structural defects existing in the carbon precursor are easily removed by heat treatment at a higher temperature. Therefore, the microstructure of the carbon precursor plays an important role for graphitization.
【0009】上記のようなコークス等を出発原料とする
方法に対し、高分子材料を用いて、これを熱処理するこ
とによってグラファイトフィルムを製造する方法に関し
て、いくつかの研究が行われており、この方法は、高分
子材料の分子構造を生かすことによって、炭素前駆体の
微細構造を制御しようとするものである。In contrast to the above-mentioned method using coke as a starting material, some studies have been conducted on a method for producing a graphite film by using a polymer material and heat-treating it. The method seeks to control the microstructure of the carbon precursor by taking advantage of the molecular structure of the polymeric material.
【0010】上記方法は、高分子を真空中あるいは不活
性気体中で熱処理し、分解および重縮合反応を経て炭素
質物を変え、この炭素質物をさらにグラファイト化する
方法である。しかし、この方法の場合、任意の高分子出
発原料として用いても、優れた特性のグラファイトフィ
ルムが得られるわけではなく、むしろほとんどの高分子
材料は、この目的には使用できないことが判っている。
例えば、上記のようなグラファイト化を目的として熱処
理が試みられた高分子としては、フェノールホルムアル
デヒド樹脂、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニンレ
ンオキシド、ポリ塩化ビニルなどがあるが、これらの高
分子は、いずれも難黒鉛化材料に属しており、高いグラ
ファイト化率を有するものではなかった。The above method is a method in which a polymer is heat treated in a vacuum or in an inert gas, a carbonaceous material is changed through decomposition and polycondensation reaction, and the carbonaceous material is further graphitized. However, in the case of this method, even if it is used as an arbitrary polymer starting material, a graphite film having excellent properties is not obtained, and it is known that most polymer materials cannot be used for this purpose. .
For example, as a polymer for which heat treatment has been attempted for the purpose of graphitization as described above, there are phenol formaldehyde resin, polyparaphenylene, polyparaphenylene oxide, polyvinyl chloride, and the like. All of them belonged to non-graphitizable materials and did not have a high graphitization rate.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな高分子を用いるグラファイトの製造方法の問題点を
解決するために種々の研究を行い、数多くの高分子につ
いてグラファイト化を試みた結果、フィルム状のポリベ
ンゾチアゾール(PBT)、ポリアミドイミド(PA
I)、ポリベンゾビスイミダゾール(PBI)、ポリベ
ンゾビスイミダゾール(PBBI)、ポリテレフタルア
ミド(PTA)、ポリフェニレンビニレン(PPV)、
芳香族ポリアミド(PA)、3種類のポリベンゾビスチ
アゾール(PBBT)、ポリベンゾオキサゾール(PB
O)、ポリベンゾビスオキサゾール(PBBO)、ポリ
チアゾール(PT)芳香族ポリイミド(PI)等の高分
子を特定の温度で熱処理するときに、従来既知の高分子
材料よりも容易にグラファイト化することを見出した。
それらの知見に基づき、本発明者らは特許出願を行って
おり、これらは、特開昭61−275114号公報、特
開昭61−275115号公報、特開昭61−2751
17号公報等に開示されている。この方法によれば、上
記のような高分子を、1800℃以上、好ましくは25
00℃以上で加熱することによって、グラファイト化率
の高いグラファイトを容易に短時間で製造することがで
きるようになった。[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted various studies to solve the problems of the method for producing graphite using a polymer as described above, and tried graphitization of many polymers. As a result, film-like polybenzothiazole (PBT), polyamide-imide (PA
I), polybenzobisimidazole (PBI), polybenzobisimidazole (PBBI), polyterephthalamide (PTA), polyphenylenevinylene (PPV),
Aromatic polyamide (PA), three kinds of polybenzobisthiazole (PBBT), polybenzoxazole (PB)
O), polybenzobisoxazole (PBBO), polythiazole (PT) aromatic polyimide (PI), etc. When heat-treated at a specific temperature, graphitized more easily than conventionally known polymer materials. Found.
The inventors of the present invention have filed patent applications based on these findings, and these patent applications are disclosed in JP-A-61-275114, JP-A-61-275115, and JP-A-61-2751.
No. 17, for example. According to this method, the polymer as described above is treated at 1800 ° C or higher, preferably 25
By heating at a temperature of 00 ° C. or higher, graphite having a high graphitization rate can be easily produced in a short time.
【0012】グラファイト化の程度を表わすには、格子
定数、C軸方向の結晶子の大きさなどX線解析のパラメ
ータ、あるいはそれから算出される黒鉛化率がよく用い
られ、また、電気伝導度値もしばしば用いられる。格子
定数は、X線の(0002)回折線の位置から計算さ
れ、天然単結晶グラファイトの格子定数である6.70
8Aに近いほどグラファイト構造が発達していることを
示している。CX軸方向の結晶子の大きさは、(000
2)回折線の半値幅から計算され、結晶子の値が大きい
ほどグラファイトの平面構造がよく発達していることを
示しており、天然単結晶グラファイトの結晶子の大きさ
は1000A以上である。黒鉛化率は、結晶面間隔(d
022)から計算される(文献:カルボン第1巻129
頁、1965年(Les Carbons Vol.1 p129,1965参
照))。そして、天然単結晶グラファイトの黒鉛化率は
勿論100%である。電気伝導度数は、グラファイトの
ab面方向の値で示し、伝導度値が大きいほどグラファ
イト構造に近いことを示しており、天然単結晶グラファ
イトでは1〜2.5×104S/cmである。In order to express the degree of graphitization, parameters of X-ray analysis such as the lattice constant and the size of the crystallite in the C-axis direction, or the graphitization rate calculated from them are often used, and the electric conductivity value is also used. Is also often used. The lattice constant is calculated from the position of the (0002) diffraction line of X-ray and is 6.70 which is the lattice constant of natural single crystal graphite.
It is shown that the closer to 8A, the more the graphite structure is developed. The crystallite size in the CX axis direction is (000
2) It was calculated from the half-width of the diffraction line, and it was shown that the larger the crystallite value was, the better the planar structure of graphite was developed, and the crystallite size of natural single crystal graphite is 1000 A or more. The graphitization ratio is the crystal plane spacing (d
022 ) (Reference: Carvone Vol. 1, 129)
Page, 1965 (see Les Carbons Vol.1 p129, 1965)). And, naturally, the graphitization rate of natural single crystal graphite is 100%. The electric conductivity is shown by the value in the ab plane direction of graphite, and the larger the conductivity value is, the closer it is to the graphite structure. It is 1 to 2.5 × 10 4 S / cm for natural single crystal graphite.
【0013】さらに、グラファイト構造を評価するため
のX線回折パラメータの1つに、ab面の重なり方を示
すロッキング特性がある。これは、回折強度曲線と言わ
れ、単色で平行なX線束が入射したときに結晶を回転し
て得られる回折強度曲線であって(000l)回折線の
出現する角度で2θを固定し、θを回転することによっ
て測定される。この値は、吸収の半値幅をもって評価さ
れ、回転角度(°)で表わされる。この値が小さいほど
ab面がきれいに重なっていることを示している。Further, one of the X-ray diffraction parameters for evaluating the graphite structure is a rocking characteristic which shows how the ab planes overlap. This is called a diffraction intensity curve, and is a diffraction intensity curve obtained by rotating a crystal when a monochromatic and parallel X-ray flux is incident, and 2θ is fixed at an angle at which a (000 l) diffraction line appears, and θ Is measured by rotating. This value is evaluated by the full width at half maximum of absorption and is represented by the rotation angle (°). The smaller this value, the more clearly the ab planes overlap.
【0014】本申請の曲面グラファイト結晶とは、発散
型のX線を作り出す通常のX線発生装置に取り付けて使
うことを主な目的とし、トロイダル形状に組み立て加工
したグラファイト結晶を使って、従来のピンホールを用
いた場合のように強度を著しく低下させることなく、X
線を集光させ、微少領域からの定量X線回折を可能にす
る。さらに、本曲面グラファイトモノクロメータは、ト
ロイダルミラーを用いた場合のように、X線を0.1度
程度の低角で入射させ、反射(reflection)させること
を利用しているのではなく、グラファイト単結晶の(0
002)面からの回折(diffraction)を用いているた
め、集光と同時に単色化を行うことができる。この点だ
けでも、従来のピンホールを用いる方法に比べ、測定デ
ータを改善し、強度の定量性を著しく向上させる曲面グ
ラファイトモノクロメータである。The curved graphite crystal of the present application is mainly intended to be used by attaching it to a normal X-ray generator that produces divergent X-rays, and a graphite crystal assembled and processed into a toroidal shape is used. Without significantly reducing the strength as when using a pinhole, X
Focuses the rays and enables quantitative X-ray diffraction from a minute area. Furthermore, this curved graphite monochromator does not utilize the incidence and reflection of X-rays at a low angle of about 0.1 degree, as in the case of using a toroidal mirror, but rather the use of graphite Single crystal (0
Since the diffraction (diffraction) from the (002) plane is used, it is possible to perform monochromaticization at the same time as condensing. Even in this respect alone, the curved graphite monochromator improves the measurement data and significantly improves the quantitativeness of strength as compared with the conventional method using a pinhole.
【0015】さらに加えては、先に述べた、特定の高分
子フィルムからグラファイトを製造する方法は、容易で
コスト安価である等、非常に優れた方法であり、特に、
面内で均質なグラファイト化がなされていることがわか
ったが、この方法について、さらに、曲面、非球面、グ
ラファイト曲面などの曲面グラファイト結晶を製造する
ためには、その後いろいろな検討を加えた結果、次のよ
うないくつかの改良すべき問題点があることが明らかに
なった。In addition, the above-mentioned method for producing graphite from a specific polymer film is a very excellent method because it is easy and inexpensive, and in particular,
It was found that in-plane homogeneous graphitization was performed.However, in order to manufacture curved graphite crystals such as curved surface, aspherical surface, and graphite curved surface, this method was subjected to various studies afterwards. , It became clear that there are some problems to be improved as follows.
【0016】その第1の問題点は、この方法では、薄手
のトロイダル形状グラファイト結晶を製造することがで
きないばかりでなく、厚手のトロイダル形状グラファイ
ト結晶、すなわちブロック状トロイダル形状グラファイ
ト結晶を製造することができないということである。グ
ラファイト化の反応は一見、出発原料フィルムの厚さと
は無関係のように考えられるが、実際には、グラファイ
ト化反応は原料の厚さに強く依存している。フィルムの
厚さと、グラファイト化については、発明者らは、種々
の実験を行った結果を特許出願している。そして、その
技術をさらに発展させる形で、球面、非球面、トロイダ
ル曲面の曲面グラファイト結晶の製造方法に取り組んで
きた。The first problem is that not only is it impossible to produce thin toroidal graphite crystals by this method, but it is also possible to produce thick toroidal graphite crystals, that is, block-shaped toroidal graphite crystals. That is not possible. At first glance, the graphitization reaction seems to be independent of the thickness of the starting material film, but in reality, the graphitization reaction strongly depends on the thickness of the material. Regarding the film thickness and graphitization, the inventors have applied for a patent for the results of various experiments. Then, in the form of further developing the technology, we have been working on a method for producing a curved graphite crystal having a spherical surface, an aspherical surface, or a toroidal curved surface.
【0017】この発明の課題は、平行フィルム面内でグ
ラファイト化が進むフィルムのグラファイト化をグラフ
ァイト化が進むプロセスを改良し、球面、非球面、トロ
イダル曲面等(以下これらを総称し曲面)の各曲面等方
性黒鉛型形状に沿ったグラファイト化を解決することで
あり、特に、この製造方法を用いて、発散型のX線の強
度を著しく強化するという課題を解決する曲面グラファ
イト結晶の製造方法であるのである。An object of the present invention is to improve the graphitization process in which the film is graphitized in the plane of parallel film, and to improve the process of graphitization, such as spherical surface, aspherical surface, toroidal curved surface (hereinafter collectively referred to as curved surface). A method for producing a curved graphite crystal, which solves the problem of graphitization along a curved isotropic graphite mold shape, and particularly solves the problem of remarkably strengthening the intensity of divergent X-rays using this method. It is.
【0018】上記課題を解決する、この発明のうち、請
求項1記載の発明は、少なくとも1個以上のあらかじめ
設計された形状の分割された一部からなる曲面を持ち、
他の各個片は、それ以外の設計の一部である形状を有
し、それらを組み合わせることにより放物面、球面、非
球面、トロイダル曲面等を形成する曲面グラファイトモ
ノクロメータである。Among the inventions for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 has a curved surface consisting of at least one predesigned shape and a divided part,
Each of the other individual pieces is a curved graphite monochromator having a shape that is part of the other design and combining them to form a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface, a toroidal curved surface, or the like.
【0019】また、請求項2記載の発明は、高分子フィ
ルムを400℃以上でかつ10Kg/cm2以上の圧力
を断続または継続的に加え、かつ所定の曲面を構成の一
部に加工された等方性黒鉛型に加熱圧着することによ
り、曲面を有する曲面グラファイトモノクロメータを得
る曲面グラファイトモノクロメータの製造方法である。According to the second aspect of the invention, the polymer film is intermittently or continuously applied with a pressure of 400 ° C. or higher and a pressure of 10 kg / cm 2 or higher, and a predetermined curved surface is processed into a part. It is a method for manufacturing a curved graphite monochromator, which obtains a curved graphite monochromator having a curved surface by heating and pressure bonding to an isotropic graphite mold.
【0020】また、請求項3記載の発明は、ポリベンゾ
チアゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリペンゾオ
キサゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリアミド
イミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスイミ
ダゾール、ポリテレフタルアミド、ポリフェニレンビニ
レン、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
サジアゾールの中から選ばれた厚さ1〜400μmの単
独または複数の高分子フィルムを400〜2000℃で
熱処理して炭素質フィルムを作製し、得られた炭素質フ
ィルムを単独または、複数枚重ねて、2200℃以下の
温度領域では20Kg/cm2以下、2200℃以上の
温度領域では20Kg/cm2以上の圧力を断続または
継続的に加えながら所定の放物面、球面、非球面、トロ
イダル曲面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型に加
熱圧着して得られた少なくとも1個以上の曲面形状を有
するグラファイト結晶で構成されることを特徴とする放
物面、球面、非球面、トロイダル曲面などの曲面グラフ
ァイトモノクロメータの製造方法である。The invention according to claim 3 is polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polybenzobisoxazole, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzobisimidazole, polyterephthalamide, polyphenylenevinylene. , An aromatic polyimide, an aromatic polyamide, and a polyoxadiazole, a single or a plurality of polymer films having a thickness of 1 to 400 μm are heat-treated at 400 to 2000 ° C. to prepare a carbonaceous film. The carbonaceous film is used alone or in a plurality of layers, and a predetermined pressure is applied while intermittently or continuously applying a pressure of 20 Kg / cm 2 or less in the temperature range of 2200 ° C. or less and 20 Kg / cm 2 or more in the temperature range of 2200 ° C. or more. Of parabolic, spherical, aspherical and toroidal surfaces Parabolic surface, spherical surface, aspherical surface, toroidal curved surface, etc., characterized by being composed of at least one graphite crystal having a curved surface shape obtained by thermocompression bonding to an isotropic graphite mold Is a method for manufacturing a curved graphite monochromator.
【0021】また、請求項4記載の発明は、ポリベンゾ
チアゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリペンゾオ
キサゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリアミド
イミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスイミ
ダゾール、ポリテレフタルアミド、ポリフェニレンビニ
レン、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
サジアゾールの中から選ばれた厚さ1〜400μmの高
分子フィルムを熱処理して炭素質フィルムを作製し、得
られた炭素質フィルムを単独または、複数枚重ねて10
Kg/cm2以上の圧力を断続的に加えながら400℃
以上で所定 の放物面、球面、非球面、トロイダル曲面
を構成の一部に加工された型に加熱圧着して得られた少
なくとも1個以上の曲面形状を有するグラファイト結晶
で構成されることを特徴とする放物面、球面、非球面、
トロイダル曲面等の曲面グラファイトモノクロメータの
製造方法。The invention according to claim 4 is polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polybenzobisoxazole, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzobisimidazole, polyterephthalamide, polyphenylenevinylene. , A heat-resistant polymer film having a thickness of 1 to 400 μm selected from aromatic polyimide, aromatic polyamide, and polyoxadiazole to prepare a carbonaceous film, and the obtained carbonaceous film may be used alone or in combination. Stack 10
400 ° C while intermittently applying a pressure of Kg / cm 2 or more
As described above, it is composed of at least one graphite crystal having a curved surface shape obtained by thermocompression bonding a predetermined parabolic surface, spherical surface, aspherical surface, and toroidal curved surface to a mold processed into a part of the structure. Characteristic paraboloid, spherical surface, aspherical surface,
A method for manufacturing a curved graphite monochromator such as a toroidal curved surface.
【0022】さらに、請求項5記載の発明は、前記請求
項2、請求項3、請求項4記載のグラファイト型の曲面
が、上下の型ではさみつけた状態で、上下の型の力のベ
クトルが約約上下のみとなるように設計されたグラファ
イト型を用いて製造されたことを特徴とする曲面グラフ
ァイトモノクロメータの製造方法である。Further, according to the invention of claim 5, in the state where the curved surfaces of the graphite molds of claim 2, claim 3, and claim 4 are sandwiched between the upper and lower molds, the force vector of the upper and lower molds is obtained. Is a curved graphite monochromator, which is manufactured by using a graphite mold designed so as to be only about approximately above and below.
【0023】[0023]
【作用】請求項1記載の発明によれば、曲面グラファイ
ト結晶とは、所望する領域にX線光を集光または平行光
として取り出すことを目的として、より好ましくは発散
型のX線を作り出す通常のX線を作り出す通常のX線発
生装置に取り付けて使うことを主な目的とし、特に焦点
集光形のトロイダル形状に組み立て加工したグラファイ
ト結晶においては、それを使って、従来のスリットまた
はピンホールを用いた場合のように、強度を著しく低下
させることなく、X線を所望する領域に集光させ、微少
領域からの定量X線回折を可能にする。さらに、本曲面
グラファイトモノクロメータは、トロイダルミラーを用
いた場合のように、X線を0.1度程度の低角で入射さ
せ、反射(reflection)させることを利用しているので
はなく、グラファイト単結晶の(0002)面からの回
折(diffraction)を用いているため、集光と同時に単
色化を行うことができる。この点だけでも、従来のピン
ホールを用いる方法に比べ、測定データを改善し、強度
の定量性を著しく向上させる曲面グラファイトモノクロ
メータである。According to the invention as set forth in claim 1, the curved graphite crystal is preferably a divergent type X-ray which is preferably used for the purpose of collecting X-ray light in a desired region or extracting it as parallel light. The main purpose is to attach it to an ordinary X-ray generator that produces X-rays, and especially for a graphite crystal that has been assembled and processed into a toroidal shape of focus concentrating type, it can be used as a conventional slit or pinhole. As in the case of using, the X-ray is focused on a desired region without significantly lowering the intensity, and quantitative X-ray diffraction from a minute region is enabled. Furthermore, this curved graphite monochromator does not utilize the incidence and reflection of X-rays at a low angle of about 0.1 degree, as in the case of using a toroidal mirror, but rather the use of graphite Since the diffraction (diffraction) from the (0002) plane of the single crystal is used, it is possible to perform monochromaticization at the same time as condensing. Even in this respect alone, the curved graphite monochromator improves the measurement data and significantly improves the quantitativeness of strength as compared with the conventional method using a pinhole.
【0024】また、請求項2記載の発明によれば、高分
子フィルムをグラファイト化して得られ曲面グラファイ
トモノクロメータを製造することを特徴とし、前記特定
の高分子フィルムを熱処理することによって良好な品質
の炭素質フィルムを作製できるというグラファイト結晶
化を利用することによって得られるものである。According to the second aspect of the present invention, a curved graphite monochromator obtained by graphitizing a polymer film is manufactured, and by heat-treating the specific polymer film, good quality is obtained. It is obtained by utilizing the graphite crystallization that can produce the carbonaceous film.
【0025】さらに、請求項3、請求項4記載の発明に
よれば、この炭素質フィルムを複数枚重ねて加熱圧着す
る際に、所定の放物面、球面、非球面、トロイダル曲面
を構成の一部に加工された等法性黒鉛型に加熱圧着し
て、400℃以上でかつ10Kg/cm2以上の圧力を
継続または、断続的に加えることによって、ロッキ ン
グ特性等の諸特性に非常に優れているとともに、単層の
フィルムでは得られない分厚いブロック状のグラファイ
ト結晶を製造することができるというものである。Further, according to the inventions of claims 3 and 4, when a plurality of carbonaceous films are stacked and thermocompression-bonded, predetermined paraboloids, spherical surfaces, aspherical surfaces, and toroidal curved surfaces are formed. By thermocompression bonding to a partially processed isotropic graphite mold and applying a pressure of 400 Kg or more and 10 Kg / cm 2 or more continuously or intermittently, various properties such as rocking properties can be greatly improved. In addition to being excellent, it is possible to produce thick block-shaped graphite crystals that cannot be obtained with a single-layer film.
【0026】請求項5記載の発明によれば、前記等法性
黒鉛型の曲面が、上下の型で、はさみつけた状態で上下
の型の力のベクトルが、約約加圧方向すなわち、上下の
みとなるように設計された等方性黒鉛型を用いて製造さ
れたことを特徴とする曲面の製造方法であり、それによ
って優れたX線の反射特性とモノクロ特性を持つ曲面グ
ラファイトモノクロメータを得ることができるものであ
る。According to the fifth aspect of the present invention, the curved surfaces of the isotropic graphite mold are the upper and lower molds, and the force vectors of the upper and lower molds when sandwiched are about about the pressing direction, that is, the upper and lower molds. It is a method for manufacturing a curved surface characterized by being manufactured using an isotropic graphite mold designed so that only a curved graphite monochromator having excellent X-ray reflection characteristics and monochrome characteristics can be obtained. Is what you can get.
【0027】[0027]
(実施例1)まず、この発明では、出発原料となる高分
子フィルムとして、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミ
ド、ポリオキサジアゾールの中から選ばれた高分子から
なるフィルムを用いる。上記各種ポリイミドには、ポリ
ベンゾチアゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリペ
ンゾオキサゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリ
アミドイミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビ
スイミダゾール、ポリテレフタルアミド、ポリフェニレ
ンビニレン、下記の一般式(1)で代表される芳香族ポ
リイミドがある。Example 1 First, in the present invention, a polymer film selected from aromatic polyimide, aromatic polyamide, and polyoxadiazole is used as a polymer film as a starting material. The various polyimides include polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polypentoxoxazole, polybenzobisoxazole, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzobisimidazole, polyterephthalamide, polyphenylenevinylene, and the following general formula (1 ) Is an aromatic polyimide.
【0028】[0028]
【化1】 Embedded image
【0029】[0029]
【化2】 Embedded image
【0030】[0030]
【化3】 [Chemical 3]
【0031】上記各種ポリアミドには、下記の一般式
(2)で代表される芳香族ポリアミドがある。Among the various polyamides, there are aromatic polyamides represented by the following general formula (2).
【0032】[0032]
【化4】 [Chemical 4]
【0033】具体的な高分子フィルムの材料組成や配合
は、用途や製造条件によって適宜選択して実施される。
高分子フィルムの厚みは、400μm以下、好ましくは
1〜400μmの範囲のものが用いられる。フィルム厚
が400μmよりも厚くなると、炭素化およびグラファ
イト化の過程において発生するガスのために、内部構造
の乱れた炭素前駆体(すなわち難黒鉛化炭素)しかでき
ず、その後にトロイダル形状の一部の形状を有する型に
加熱圧着する、すなわちホットプレス工程を行っても良
質のグラファイトを得ることができない。フィルム厚が
薄い場合には特に大きな制限はない。1μmよりも薄く
なるとね同じ厚さのグラファイトブロックを製造するの
に、より多数枚の炭素質フィルムを製造しておく必要が
あるので、経済的に不利である。The specific material composition and blending of the polymer film are appropriately selected and carried out depending on the application and manufacturing conditions.
The thickness of the polymer film is 400 μm or less, preferably 1 to 400 μm. When the film thickness is more than 400 μm, only carbon precursor with disordered internal structure (that is, non-graphitizable carbon) can be formed due to gas generated in the process of carbonization and graphitization, and then part of the toroidal shape is formed. It is not possible to obtain good quality graphite even by performing thermocompression bonding to a mold having the above shape, that is, performing a hot pressing process. There is no particular limitation when the film thickness is thin. If it is thinner than 1 μm, it is economically disadvantageous because it is necessary to manufacture a larger number of carbonaceous films in order to manufacture a graphite block having the same thickness.
【0034】炭素質フィルムを製造するための熱処理温
度は400〜2000℃の範囲で実施される。2000
℃以上の温度領域で熱処理を行うこともできるが、上記
温度範囲内で熱処理したものを、図1および図2に示し
たミラーまたはモノクロメータを得るため図3(c),
(d),(e),(f)のような形状まで分割し、放物
面、球面、非球面、トロイダル曲面を構成の一部に加工
された等法性黒鉛型に加熱圧着して、ホットプレスした
方が、最終的に製造されるグラファイトの品質に良い結
果を与える。この工程は、ホットプレスの前の予備的な
熱処理工程であるが、この段階では高分子フィルムを重
ねないで別々に熱処理したほうがよく、特に、400μ
m以上の厚さには重ねないほうがよい。これは、高分子
フィルムを重ねた状態で熱処理すると、高分子フィルム
からのガス発生が抑えられ、厚いフィルムを使用したの
と同じような欠点が生じるからである。上記のような予
備的な熱処理工程を経て炭素質フィルムを製造した後、
複数枚の炭素質フィルムを重ねて、本格的な加熱および
圧着工程であるホットプレス工程を行い、炭素質のグラ
ファイト化を進行させて、図1、図2および図3に示し
たミラーまたはモノクロメータを得るため放物面、球
面、非球面、トロイダル曲面を構成の一部に加工された
等方性黒鉛型に加熱圧着して得られる曲面グラファイト
結晶、すなわち図3(c),(d),(e),(f)の
ような形状まで分割し、4分割の場合はトロイダル曲面
グラファイト結晶19を有するトロイダル曲面グラファ
イト結晶モノクロメータ18を得ることであり、8分割
の場合はトロイダル曲面グラファイト結晶21を有する
トロイダル曲面グラファイト結晶モノクロメータ20の
形状で加工製造することができる。すなわち、X線入射
口17とX線モノクロ出射口16を有するトロイダル曲
面グラファイト結晶15を有するトロイダル曲面グラフ
ァイト結晶モノクロメータ14を製造することができる
のである。このホットプレス工程では、圧力印加の方法
と温度制御が重要である。すなわち、このホットプレス
工程では、熱処理中に炭素質フィルムに発生するシワを
取り除きながら圧着することが必要である。そのような
処理条件を研究した結果、2200℃以下の温度領域で
は20Kg/cm2以下の圧力であることが必要であ
り、 この温度領域で上記圧力以上に圧力印加すると、
炭素質フィルムが割れてしまう。なお、圧力を急激に印
加せず徐々に圧力を加えるようにすれば、割れを防ぐ上
でより有効である。2200℃以上の温度領域では、完
全な装着を実現するために20Kg/cm2以上の圧力
が必要であり、それ以下の圧力では圧着が充 分に行わ
れない。The heat treatment temperature for producing the carbonaceous film is in the range of 400 to 2000 ° C. 2000
Although the heat treatment can be performed in a temperature range of ℃ or more, the heat treatment in the above temperature range is performed in order to obtain the mirror or the monochromator shown in FIGS.
Divide into shapes such as (d), (e), and (f), and heat-press on a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface, and a toroidal curved surface to an isotropic graphite mold that is partly processed. Hot pressing gives better results on the quality of the finally produced graphite. This step is a preliminary heat treatment step before hot pressing, but at this stage it is better to separately heat treat the polymer films without stacking them, especially 400 μm.
It is better not to stack on a thickness of m or more. This is because when the polymer films are heat-treated in a stacked state, gas generation from the polymer films is suppressed, and the same drawbacks as when using a thick film occur. After manufacturing the carbonaceous film through the preliminary heat treatment step as described above,
A plurality of carbonaceous films are superposed on each other, and a hot pressing process, which is a full-scale heating and pressure bonding process, is performed to promote graphitization of carbonaceous matter, and the mirror or the monochromator shown in FIGS. Curved graphite crystal obtained by thermocompression bonding to an isotropic graphite mold in which a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface, and a toroidal curved surface are processed in order to obtain, that is, FIG. 3 (c), (d), (E) and (f) are divided, and in the case of 4 divisions, a toroidal curved surface graphite crystal monochromator 18 having a toroidal curved surface graphite crystal 19 is obtained, and in the case of 8 divisions, a toroidal curved surface graphite crystal 21 is obtained. It can be processed and manufactured in the shape of the toroidal curved surface graphite crystal monochromator 20 having. That is, the toroidal curved graphite crystal monochromator 14 having the toroidal curved graphite crystal 15 having the X-ray entrance 17 and the X-ray monochrome exit 16 can be manufactured. In this hot pressing process, the method of pressure application and temperature control are important. That is, in this hot pressing step, it is necessary to press-bond while removing wrinkles generated in the carbonaceous film during heat treatment. As a result of studying such a treatment condition, it is necessary that the pressure is 20 Kg / cm 2 or less in the temperature range of 2200 ° C. or lower.
The carbonaceous film breaks. It should be noted that it is more effective in preventing cracking if the pressure is gradually applied without being applied suddenly. In the temperature range of 2200 ° C. or higher, a pressure of 20 Kg / cm 2 or more is required to realize complete mounting, and pressure lower than that requires sufficient pressure bonding.
【0035】上記のような製造工程を経ることによっ
て、分厚いブロック状をなすとともにロッキング特性が
著しく改良された所定のあらかじめ設計された少なくと
も1個以上の曲面形状を有する放物面、球面、非球面、
トロイダル曲面の構成の一部として加工された、曲面グ
ラファイト結晶を製造することができる。例えば、従来
技術で挙げた前記PODフィルム(厚み4,25,10
0,450μm)を100℃で熱処理して炭素質フィル
ムを製造した後、それぞれの厚みのフィルムを10枚ず
つ重ねてホットプレス工程を行う。ホットプレス工程
は、昇温過程で、2200℃までは4Kg/cm2の圧
力を印加し、2200以上になると20 Kg/cm2の
圧力を印加し、3000℃で一定時間処理を行って曲面
グラ ファイト結晶を製造する。Through the above manufacturing steps, a parabolic surface, a spherical surface, or an aspherical surface having a predetermined block shape and a predetermined block shape having a thick block shape and significantly improved locking characteristics. ,
Curved graphite crystals can be manufactured that have been processed as part of the construction of a toroidal curved surface. For example, the POD film (thickness 4, 25, 10
(0,450 μm) is heat-treated at 100 ° C. to produce a carbonaceous film, and 10 films of each thickness are superposed on each other to carry out a hot pressing step. Hot pressing was performed with a heating process, until 2200 ° C. by applying a pressure of 4 Kg / cm 2, becomes 2200 or more by applying a pressure of 20 Kg / cm 2, a curved graph by performing a predetermined time processing at 3000 ° C. Produce a fight crystal.
【0036】つぎに、上記方法とは一部異なる製造方法
であって、同様にロッキング特性等に優れるともに、分
厚い曲面グラファイト結晶を製造できる方法について説
明する。Next, a manufacturing method which is partially different from the above method and which is similarly excellent in rocking characteristics and the like and which can manufacture a thick curved graphite crystal will be described.
【0037】高分子フィルムの材質や、炭素質フィルム
を製造するための熱処理工程については、前記した実施
例の製造工程と同様に実施できるので、詳細な説明は省
略する。この実施例の製造方法では、ホットプレス工程
において、400℃以上の温度領域で圧力を断続的に加
えることを特徴とする。前記したように、炭素質フィル
ムのホットプレス工程においては、熱処理によって生じ
るシワや歪みをいかにうまく取り除くかということが重
要であり、また、放物面、球面、非球面、トロイダル曲
面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型の形状とセッ
ティング方法が重要である。この点を踏まえて、圧力を
断続的に印加することが非常に有効である。図1、図2
および図3に示したミラーまたはモノクロメータを得る
ためには、それらの放物面、球面、非球面、トロイダル
曲面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型に加熱圧着
して曲面グラファイト結晶モノクロメータを製造するの
である。Since the material of the polymer film and the heat treatment process for producing the carbonaceous film can be carried out in the same manner as the production process of the above-mentioned embodiment, detailed description thereof will be omitted. The manufacturing method of this embodiment is characterized by intermittently applying pressure in a temperature range of 400 ° C. or higher in the hot pressing step. As described above, in the hot pressing process of the carbonaceous film, it is important how well the wrinkles and distortions caused by the heat treatment are removed, and the parabolic surface, the spherical surface, the aspherical surface, and the toroidal curved surface are constituted. The shape and setting method of the isotropic graphite mold that is processed into the part are important. Based on this point, it is very effective to apply pressure intermittently. 1 and 2
In order to obtain the mirror or monochromator shown in FIG. 3, the parabolic surface, spherical surface, aspherical surface, and toroidal curved surface are subjected to thermocompression bonding to an isotropic graphite mold processed into a part of the structure to form a curved graphite. A crystal monochromator is manufactured.
【0038】継続的な圧力の加え方としては、熱処理過
程の低い温度領域では、加える圧力の最大値を比較的小
さくしておき、高い温度領域では圧力の最大値を大きく
していくようにすると、より効果が大きい。加える圧力
の最大値は、2200℃以下では20Kg/cm2以下
であることが最も望ましいが、10Kg/cm2以上で
あれば有効である。2200℃以上では、20Kg/c
m2あるこ とが望ましいが、10Kg/cm2以上の圧
力であればよい。As a method of continuously applying pressure, the maximum value of the pressure applied is kept relatively small in the low temperature region of the heat treatment process, and the maximum value of the pressure is increased in the high temperature region. , More effective. The maximum value of the applied pressure is most preferably 20 Kg / cm 2 or less at 2200 ° C. or less, but is effective if it is 10 Kg / cm 2 or more. 20Kg / c above 2200 ℃
It is desirable that the pressure is m 2 , but the pressure may be 10 Kg / cm 2 or more.
【0039】各実施例において、グラファイト化の程度
を評価するために、ロッキング特性を測定しており、こ
れらの物性の測定条件は下記のとおりである。In each example, rocking characteristics were measured in order to evaluate the degree of graphitization, and the measurement conditions for these physical properties are as follows.
【0040】ロッキング特性(○) 理学電機社製ロータフレックスRU−200B型X線回
折装置を用い、グラファイト(0002)線のピーク位
置におけるロッキング特性とした。Rocking characteristic (○) Using a Rotaflex RU-200B type X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd., the rocking characteristic at the peak position of the graphite (0002) line was determined.
【0041】図1に示した球面のグラファイト結晶2か
らなる球面ミラーモノクロメータ1場合は、直径面に光
源3と集光点5を設けることにより強いX線4を集光す
ることができる。また、図2に示した放物面のグラファ
イト結晶7,12の放物面ミラーモノクロメータ6,1
1場合は、2個のグラファイト結晶放物面ミラーモノク
ロメータを用いてX線源8をグラファイト結晶7放物面
ミラー6の焦点に設置し、測定物10にX線9を照射
し、しかる後に、対向して設置してなるグラファイト結
晶12からなる放物面ミラーモノクロメータ11の焦点
に設置してなるセンサー13にて分析することができる
という優れたものである。In the case of the spherical mirror monochromator 1 composed of the spherical graphite crystal 2 shown in FIG. 1, the strong X-ray 4 can be focused by providing the light source 3 and the focusing point 5 on the diameter surface. Also, a parabolic mirror monochromator 6,1 of the parabolic graphite crystal 7,12 shown in FIG.
In one case, the X-ray source 8 is installed at the focal point of the graphite crystal 7 parabolic mirror 6 by using two graphite crystal parabolic mirror monochromators, and the measurement object 10 is irradiated with X-rays 9, and after that, The sensor 13 provided at the focal point of the parabolic mirror monochromator 11 composed of the graphite crystals 12 installed opposite to each other is excellent in that analysis can be performed.
【0042】(実施例2)トロイダル曲面結晶を得るた
めの設計手法の原理、特にトロイダル結晶モノクロメー
タの原理を図4で説明する。(Embodiment 2) The principle of a design method for obtaining a toroidal curved surface crystal, particularly the principle of a toroidal crystal monochromator will be described with reference to FIG.
【0043】トロイダル結晶モノクロメータの集光原理
図を図4に示す。図中はX線ターゲットの商店、Sは試
料、(AA′B′B)はトロイダル結晶モノクロメータ
本体、XX′はX線の本体、OおよびO′はそれぞれ紙
面上の焦点円の中心、円弧FCSおよびFC′Sがこれ
ら中心に該当する焦点円である。したがって、距離FS
は、X線ターゲットと試料との距離であり、回折装置に
依存する。また、焦点円の半径OF(=rf)は使用す
るX線の波長λが決まれば、距離FSを使って、以下の
式から計算できる。まずブラッグの回折条件から、散乱
角Θは以下の式で与えられる。FIG. 4 shows a light collecting principle of the toroidal crystal monochromator. In the figure, an X-ray target store, S is a sample, (AA′B′B) is a toroidal crystal monochromator main body, XX ′ is an X-ray main body, O and O ′ are the centers of focal circles on the paper, and arcs. FCS and FC'S are focal circles corresponding to these centers. Therefore, the distance FS
Is the distance between the X-ray target and the sample and depends on the diffractive device. Further, the radius OF (= rf) of the focal circle can be calculated from the following formula using the distance FS if the wavelength λ of the X-ray to be used is determined. First, from the Bragg diffraction condition, the scattering angle Θ is given by the following equation.
【0044】 Θ=sin-1(λ/2d) (1) ここで、dはグラファイトの(0002)面の面間隔で
3.354Åである。したがって、 rf=FS/(2sin2Θ) (2) これは、トロイダル結晶モノクロメータの水平面内出の
焦点円の半径を与える。また、トロイダル結晶モノクロ
メータの中心部および入口の半径CMとANは、トロイ
ダル結晶モノクロメータの長さNN′、距離FS、散乱
角Θを使って、次式で与えられる。Θ = sin −1 (λ / 2d) (1) Here, d is the surface spacing of the (0002) plane of graphite, which is 3.354 Å. Therefore, r f = FS / (2sin2Θ) (2) This gives the radius of the focal circle out of the horizontal plane of the toroidal crystal monochromator. Further, the radii CM and AN of the central portion and the entrance of the toroidal crystal monochromator are given by the following expressions using the length NN ′ of the toroidal crystal monochromator, the distance FS, and the scattering angle Θ.
【0045】 CM=(FS/2)tanΘ (3) AN=(1/2)(FS−NN′)tanΘ (4) 焦点Fから発散したX線は、ブラッグ条件を満足させる
ように焦点円に沿って曲げられたグラファイト結晶モノ
クロメータ上で回折され、もう1つの焦点Sで単色化さ
れた回折ビームが集光する。CM = (FS / 2) tan Θ (3) AN = (1/2) (FS-NN ′) tan Θ (4) The X-rays diverging from the focus F form a focus circle so as to satisfy the Bragg condition. The diffracted beam, which is diffracted on the graphite crystal monochromator bent along and is monochromatic at another focal point S, is collected.
【0046】実際のトロイダル曲面結晶モノクロメータ
設計において、図5に示した実例を使って以下に説明す
る。An actual toroidal curved surface crystal monochromator design will be described below using the example shown in FIG.
【0047】(1) 式(2)から解るように散乱角が
大きくなればなるほど水平方向の曲率は大きくなる。し
たがって、波長の短い特性X線を設計の対象とするほう
が曲率は小さくなり、どちらかというと成形が容易にな
ると考えられる。(1) As can be seen from the equation (2), the larger the scattering angle, the larger the curvature in the horizontal direction. Therefore, it is considered that when the characteristic X-ray having a short wavelength is targeted for design, the curvature becomes smaller and the molding becomes easier.
【0048】(2) 距離FSは、上記したように装置
に依存する定数である。すなわち、X線ターゲットを保
持する管球シールドの大きさやゴニオメータの半径など
によって決まる。式(2)から解るように距離FSと焦
点円の半径rfは、比例 関係にあるので、FSが長くな
れば水平の曲率は小さくなり、成形としては、より容易
になる方向である。(2) The distance FS is a device-dependent constant as described above. That is, it is determined by the size of the tube shield holding the X-ray target and the radius of the goniometer. As can be seen from the equation (2), since the distance FS and the radius r f of the focal circle are in a proportional relationship, the longer the FS, the smaller the horizontal curvature, which is easier for molding.
【0049】具体的に、モリブデンKα線用のX線封入
管球を理学電機(株)製のX線管球シールドに取り付け
て、理学電機(株)製のゴニオメータを用いた場合を例
に、トロイダル曲面結晶モノクロメータの大きさを実際
に計算した。Specifically, an example is given in which an X-ray enclosing tube for molybdenum Kα rays is attached to an X-ray tube shield manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. and a goniometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. is used. The size of the toroidal curved crystal monochromator was actually calculated.
【0050】X線管球は、0.4mm×8mmの点焦点
を使ったと仮定している。 距離FS=182mm(実測値) d(0002)=3.354Å 式(1)よりΘ=6.082°。したがって、式(2)
より rf=431.9mm ここで、トロイダル曲面結晶モノクロメータの長さ、N
N′を20mmとすると、式(3.1)より、トロイダ
ル曲面結晶モノクロメータの腹の部分の半径CM=9.
70mm。式(4)より、トロイダル曲面グラファイト
結晶モノクロメータの縁の部分の半径AN=8.63m
mとなった。It is assumed that the X-ray tube used a 0.4 mm × 8 mm point focus. Distance FS = 182 mm (measured value) d (0002) = 3.354 Å From the formula (1), Θ = 6.082 °. Therefore, equation (2)
From r f = 431.9 mm where the length of the toroidal curved surface crystal monochromator, N
When N ′ is 20 mm, the radius CM of the antinode portion of the toroidal curved-surface crystal monochromator is CM = 9.
70 mm. From the equation (4), the radius of the edge portion of the toroidal curved surface graphite crystal monochromator AN = 8.63 m
It became m.
【0051】図6に、このようにして得られたトロイダ
ル曲面グラファイト結晶モノクロメータ14とX線光路
図を示した。FIG. 6 shows an X-ray optical path diagram and the toroidal curved surface graphite crystal monochromator 14 thus obtained.
【0052】X線源23からX線25がトロイダル曲面
グラファイト結晶モノクロメータ14に入射されたモノ
クロ化および集光されたX線がスポット24に集光さ
れ、約100倍のモノクロ化されたX線を集光すること
ができた。但し、完全モノクロ化をするためには、図6
の光源から直接焦点に入るX線を除去するためビームス
トッパー又は、銅(Cu)のKα線の場合にはNi箔を
光源からトロイダル形状の出口端面を結んだ線上に含ま
れる特定のフィルターを設けることにより得ることがで
きる。同様に、X線の波長によって決定される光源と集
光点を持つ図1の球面グラファイト結晶モノクロメー
タ、図2の放物面グラファイト結晶モノクロメータも得
ることができた。The X-rays 25 from the X-ray source 23 are incident on the toroidal curved surface graphite crystal monochromator 14, and the condensed X-rays are condensed on the spot 24, and the monochromatic X-rays are magnified about 100 times. Was able to be collected. However, in order to make it completely monochrome,
In order to remove the X-rays that are directly focused from the light source, a beam stopper or, in the case of copper (Cu) Kα rays, a Ni foil is provided on the line connecting the toroidal shaped exit end face with a specific filter. Can be obtained. Similarly, the spherical graphite crystal monochromator of FIG. 1 and the parabolic graphite crystal monochromator of FIG. 2 having a light source and a condensing point determined by the wavelength of X-rays could be obtained.
【0053】(実施例3)10μmの厚さのPOD、P
A、PIの各高分子フィルムを黒鉛板に挟んで、窒素雰
囲気中で毎分20℃の昇温速度で1000℃まで昇温し
た後、1000℃で1時間保持して熱処理を行い、炭素
質フィルムを得た。(Example 3) POD and P having a thickness of 10 μm
Each polymer film of A and PI is sandwiched between graphite plates, heated to 1000 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min in a nitrogen atmosphere, and then heat-treated by holding at 1000 ° C. for 1 hour to obtain a carbonaceous material. I got a film.
【0054】それぞれの材料からなる炭素質フィルムを
20枚ずつ重ね、中外炉工業株式会社製、超高温ホット
プレスを用いてホットプレス工程を行い、グラファイト
ブロックを得た。ホットプレス工程の処理条件は、毎分
10℃の昇温速度で昇温し、1000〜2200℃の温
度領域で圧力を加えながら所定の、すなわち図1および
図2に示したミラーまたはモノクロメータ、または図3
(c),(d),(e),(f)のような形状まで分割
したトロイダル曲面を構成の一部に加工された等方性黒
鉛型に加熱圧着して圧力を徐々に加え、最終的に20K
g/cm2まで増加させた。2800℃以上の温度領域
では圧力を40Kg/cm2にし、3000℃で1時間
プレスした。このときの、トロイダル曲面を構成の一部
に加工された等方性黒鉛型の形成、および、セッティン
グ位置設計によって物性が異なってくるし、成形できな
いことも発生した。このようにして得られた曲面グラフ
ァイト結晶の物性値は、上記のような処理条件で実際に
グラファイトを製造したところ、そのロッキング特性
は、0.6°(4μm)、0.8°(25μm)、1.
5°(100μm)、1.8°(450μm)となり、
ロッキング特性の著しい向上が認められた。20 carbonaceous films made of the respective materials were stacked, and a hot pressing process was performed using an ultra-high temperature hot press manufactured by Chugai Furnace Industry Co., Ltd. to obtain a graphite block. The processing conditions of the hot pressing step are as follows: the temperature is raised at a heating rate of 10 ° C./min, and a predetermined pressure, that is, the mirror or the monochromator shown in FIGS. Or Figure 3
(C), (d), (e), (f) divided into toroidal curved surface is divided into isotropic graphite mold processed into a part of the structure by heat compression and pressure is gradually applied to the final 20K
Increased to g / cm 2 . In the temperature range of 2800 ° C. or higher, the pressure was set to 40 Kg / cm 2 , and pressing was performed at 3000 ° C. for 1 hour. At this time, physical properties differed depending on the formation of the isotropic graphite mold in which the toroidal curved surface was partly processed and the setting position design, and it was impossible to mold. The physical properties of the thus-obtained curved graphite crystals were as follows. When the graphite was actually produced under the above treatment conditions, the rocking characteristics were 0.6 ° (4 μm) and 0.8 ° (25 μm). 1.
5 ° (100 μm), 1.8 ° (450 μm),
A remarkable improvement in locking characteristics was observed.
【0055】(実施例4)次に実施例3の方法にて実施
した8分割トロイダル形状グラファイト型についての発
明を図7、図8に示した等方性黒鉛型で実施した例を説
明する。(Embodiment 4) Next, an example in which the invention of the 8-segment toroidal graphite mold carried out by the method of Embodiment 3 is carried out by the isotropic graphite mold shown in FIGS. 7 and 8 will be described.
【0056】図7の等方性黒鉛上型26と下型27で
は、どのようなセッティングでも良品は得られなかっ
た。これは、上下の設計曲面28,29に挟まれたフィ
ルムがグラファイト化するに従い矢印30,31の方向
に滑りが発生するためと考えられる。この方法では、し
ばしば型を破壊する結果を招いた。図8に示した等方性
黒鉛上型34と下型35のような型で始めて良品を得る
ことができた。これは、上下の設計曲面32,33が型
の中心に曲面重心がくるように設計されているからであ
る。すなわち、上下の圧力が、できるだけ他の方向に分
散されないことが重要である。With the isotropic graphite upper mold 26 and the lower mold 27 shown in FIG. 7, no good product was obtained under any setting. It is considered that this is because slippage occurs in the directions of arrows 30 and 31 as the film sandwiched between the upper and lower design curved surfaces 28 and 29 is graphitized. This method often resulted in mold breakage. A good product could be obtained only by using the molds such as the upper mold 34 and the lower mold 35 of the isotropic graphite shown in FIG. This is because the upper and lower design curved surfaces 32 and 33 are designed such that the center of gravity of the curved surfaces is located at the center of the mold. That is, it is important that the upper and lower pressures are not distributed in other directions as much as possible.
【0057】[0057]
【発明の効果】本発明による曲面グラファイト結晶の製
造方法および曲面グラファイトモノクロメータは、今ま
で、生物の研究者や物性研究者が、必要としている小型
で、しかも高強度のX線をスリットまたは、スポットで
得ることができるという従来にない画期的なものであ
る。The curved graphite crystal manufacturing method and the curved graphite monochromator according to the present invention are capable of slitting X-rays of small size and high intensity, which biological researchers and physical property researchers have so far required. It is an unprecedented breakthrough that can be obtained at the spot.
【0058】これは、特定の高分子フィルムを重ねるこ
とにより、フィルム間で高結晶のグラファイトを得ると
いう、優れたプロセスから得られるものであり、具体的
には、ポリベンゾチアゾール、ポリベンゾビスチアゾー
ル、ポリペンゾオキサゾール、ポリベンゾビスオキサゾ
ール、ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾール、ポ
リベンゾビスイミダゾール、ポリテレフタルアミド、ポ
リフェニレンビニレン、芳香族ポリイミド、芳香族ポリ
アミド、ポリオキサジアゾールの中から選ばれた厚さ1
〜400μmの高分子フィルムを熱処理して炭素質フィ
ルムを作製し、得られた炭素質フィルムを単独または、
複数枚重ねて、10Kg/cm2以上の圧力を断続的に
加えながら400℃以上の所定の放物面、球面、非球
面、トロイダル曲面を構成の一部に加工された型に加熱
圧着して得られるというものである。このようにして得
られた少なくとも1個以上の曲面形状を有するグラファ
イトモノクロメータを得るという画期的な製造方法であ
り、球面のグラファイト結晶ミラーモノクロメータ場合
は、X線の波長によって決定される円周点に存在する光
源3と集光点5を設けることにより強いX線を集光する
ことができる。また、放物面のグラファイト結晶ミラー
モノクロメータ場合は、少なくとも1個以上のグラファ
イト結晶放物面ミラーモノクロメータを用いてX線源8
をグラファイト結晶7放物面ミラー6の焦点に設置し、
測定物10にX線9を照射し、2個の場合は、対向して
設置してなるグラファイト結晶12放物面ミラーモノク
ロメータ11の焦点に設置してなるセンサー13にて分
析することができるという優れたものである。これによ
って、スリットを使うことなく、曲線状の平行X線光を
得ることができる。特に、トロイダル曲面グラファイト
モノクロメータ14の場合、従来のX線分析装置に挿着
するだけで、約100倍以上の高強度のX線スリットま
たはスポットを得ることができるという優れた効果を得
ることができる。また、製造に必要な所定の放物面、球
面、非球面、トロイダル曲面を構成の一部に加工された
型は、加圧圧着時に加圧応力方向の圧力を、他の方向に
分散することを少なく加圧することができるように工夫
された型を用いることにより、高温時の圧力軸の損傷
や、焼成結晶グラファイトの損傷を防ぐことができると
いう効果を示した。This is obtained from an excellent process of obtaining highly crystalline graphite between films by stacking a specific polymer film, and specifically, polybenzothiazole and polybenzobisthiazole are obtained. Thickness selected from polybenzazoxazole, polybenzobisoxazole, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzobisimidazole, polyterephthalamide, polyphenylenevinylene, aromatic polyimide, aromatic polyamide, polyoxadiazole 1
~ 400 μm polymer film is heat-treated to produce a carbonaceous film, and the obtained carbonaceous film is used alone or
A plurality of layers are stacked and heated and pressure-bonded to a mold in which a predetermined parabolic surface, spherical surface, aspherical surface, and toroidal curved surface of 400 ° C. or higher are processed while applying a pressure of 10 kg / cm 2 or more intermittently. It is something that can be obtained. This is an epoch-making manufacturing method in which a graphite monochromator having at least one curved surface shape thus obtained is obtained. In the case of a spherical graphite crystal mirror monochromator, a circle determined by the wavelength of X-rays. By providing the light source 3 and the condensing point 5 existing at the peripheral points, strong X-rays can be condensed. Further, in the case of a parabolic graphite crystal mirror monochromator, at least one or more graphite crystal parabolic mirror monochromator is used.
Is placed at the focal point of the graphite crystal 7 parabolic mirror 6,
The measurement object 10 is irradiated with X-rays 9 and, in the case of two, it can be analyzed by a sensor 13 installed at the focus of a graphite crystal 12 parabolic mirror monochromator 11 installed opposite to each other. That is an excellent thing. This makes it possible to obtain curved parallel X-ray light without using a slit. In particular, in the case of the toroidal curved surface graphite monochromator 14, it is possible to obtain an excellent effect that an X-ray slit or spot having a high intensity of about 100 times or more can be obtained only by inserting it into a conventional X-ray analyzer. it can. In addition, for molds that have a predetermined parabolic surface, spherical surface, aspherical surface, or toroidal curved surface that is required for manufacturing, part of the structure must be able to disperse the pressure in the pressure stress direction during pressure bonding to other directions. It was shown that by using a mold devised so that the pressure can be reduced with less pressure, damage to the pressure shaft at high temperatures and damage to the fired crystalline graphite can be prevented.
【図1】本発明の一実施例におけるグラファイト結晶球
面ミラーモノクロメータの構成図FIG. 1 is a configuration diagram of a graphite crystal spherical mirror monochromator according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施例におけるグラファイト結晶放
物面型ミラーモノクロメータの構成図FIG. 2 is a configuration diagram of a graphite crystal parabolic mirror monochromator according to an embodiment of the present invention.
【図3】(a)は全体の組み合わせ正面図 (b)は全体の組み合わせ側面図 (c)は光路軸方向に沿って直行する2平面で切断され
た本発明のトロイダル曲面モノクロメータの4分割正面
図 (d)は図3(c)の側面図 (e)は本発明のトロイダル曲面モノクロメータの8分
割正面図 (f)は図3(e)の側面図FIG. 3 (a) is a front view of the whole combination, (b) is a side view of the whole combination, and (c) is a four-divided toroidal curved surface monochromator of the present invention cut along two planes orthogonal to the axial direction of the optical path. Front view (d) is a side view of FIG. 3 (c) (e) is a front view of the toroidal curved surface monochromator of the present invention divided into eight parts (f) is a side view of FIG. 3 (e)
【図4】グラファイト結晶トロイダルモノクロメータの
原理説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of the principle of a graphite crystal toroidal monochromator.
【図5】本発明のトロイダル曲面モノクロメータの8分
割曲面を組み立てた構成図FIG. 5 is a configuration diagram in which an 8-division curved surface of the toroidal curved-surface monochromator of the present invention is assembled.
【図6】トロイダルモノクロメータとX線光路図FIG. 6 Toroidal monochromator and X-ray optical path diagram
【図7】(a)は8分割トロイダル曲面用等方性黒鉛型
の悪い型の事例である等方性黒鉛型の側面図 (b)は8分割トロイダル曲面用等方性黒鉛型の悪い型
の事例である等方性黒鉛型の正面図FIG. 7 (a) is a side view of an isotropic graphite mold which is an example of a bad type of isotropic graphite type for 8-segment toroidal curved surface. (B) is a bad mold of isotropic graphite type for 8-segment toroidal curved surface. Front view of isotropic graphite mold
【図8】(a)は8分割トロイダル曲面用等方性黒鉛型
の良い型の事例である等方性黒鉛型の側面図 (b)は8分割トロイダル曲面用等方性黒鉛型の良い型
の事例である等方性黒鉛型の正面図FIG. 8 (a) is a side view of an isotropic graphite mold that is a good example of an isotropic graphite mold for 8-segment toroidal curved surface. (B) is a good mold of isotropic graphite mold for 8-segment toroidal curved surface. Front view of isotropic graphite mold
1 球面ミラーモノクロメータ 6,11 グラファイト結晶放物面ミラーモノクロ 14 グラファイト結晶トロイダル形状ミラーモノクロ 22 8分割グラファイト結晶トロイダル形状ミラーモ
ノクロ 34 8分割トロイダル形状用等方性黒鉛上型 35 8分割トロイダル形状用等方性黒鉛下型1 Spherical mirror monochromator 6,11 Graphite crystal parabolic mirror Monochrome 14 Graphite crystal toroidal shape mirror Monochrome 22 8-segment graphite crystal toroidal shape mirror Monochrome 34 8 Isotropic graphite upper mold for 8-segment toroidal shape 35 8-segment toroidal shape etc. Isotropic graphite lower mold
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西木 直巳 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 村上 睦明 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番1 号 松下技研株式会社内 (72)発明者 松原 英一郎 京都府京都市左京区高野西関町1 第2久 米マンション4−16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Naomi Nishiki, Inami 1006, Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Giken Co., Ltd. (72) Inventor Eiichiro Matsubara 2nd Kume Mansion 4-16 1 Nishinosekicho, Takano-Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto
Claims (5)
れた形状の分割された一部からなる曲面を持ち、他の各
個片はそれ以外の、設計の一部である形状を有し、それ
らを組み合わせることにより放物面、球面、非球面、ト
ロイダル面等を形成してなる曲面グラファイトモノクロ
メータ。1. A curved surface consisting of at least one or more pre-designed divided parts, each other piece having a shape that is part of the design, and combining them. A curved graphite monochromator formed by forming a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface, a toroidal surface, and the like.
0Kg/cm2以 上の圧力を断続または継続的に加え、
かつ所定の曲面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型
に加熱圧着することにより曲面を有する曲面グラファイ
トモノクロメータを得る曲面グラファイトモノクロメー
タの製造方法。2. A polymer film at 400 ° C. or higher and 1
Apply a pressure of 0 Kg / cm 2 or more intermittently or continuously,
A method for manufacturing a curved graphite monochromator, which obtains a curved graphite monochromator having a curved surface by thermocompression-bonding a predetermined curved surface to an isotropic graphite mold having a part thereof processed.
チアゾール、ポリペンゾオキサゾール、ポリベンゾビス
オキサゾール、ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾ
ール、ポリベンゾビスイミダゾール、ポリテレフタルア
ミド、ポリフェニレンビニレン、芳香族ポリイミド、芳
香族ポリアミド、ポリオキサジアゾールの中から選ばれ
た厚さ1〜400μmの単独または複数枚の高分子フィ
ルムを400〜2000℃で熱処理して炭素質フィルム
を作製し、得られた炭素質フィルムを単独または、複数
枚重ねて、2200℃以下の温度領域では20Kg/c
m 2以下、2200℃以上の温度領域では20Kg/c
m2以上の圧力を断続または継続的に加えながら所定の
放物面、球面、非球面、トロイダル曲面を構成の一部に
加工された等方性黒鉛型に加熱圧着し、放物面、球面、
非球面、トロイダル曲面の中の少なくとも1個以上の曲
面形状を有するグラファィト結晶を得ることを特徴とす
る曲面グラファイトモノクロメータの製造方法。3. Polybenzothiazole and polybenzobis
Thiazole, polybenzoxazole, polybenzobis
Oxazole, polyamideimide, polybenzimidazo
, Polybenzobisimidazole, polyterephthala
Mido, polyphenylene vinylene, aromatic polyimide, aromatic
Selected from aromatic polyamide and polyoxadiazole
Single or multiple polymer films with a thickness of 1 to 400 μm
Carbonaceous film by heat treatment of Rum at 400-2000 ℃
And the obtained carbonaceous film alone or in a plurality.
20Kg / c in the temperature range below 2200 ℃
m 220 kg / c in the temperature range of 2200 ° C or higher
m2While applying the above pressure intermittently or continuously,
Parabolic, spherical, aspherical, and toroidal curved surfaces are part of the composition
It is heat-pressed to a processed isotropic graphite mold to give a parabolic surface, spherical surface,
At least one song in an aspheric or toroidal surface
Characterized by obtaining a graphite crystal having a plane shape
Curved graphite monochromator manufacturing method.
チアゾール、ポリペンゾオキサゾール、ポリベンゾビス
オキサゾール、ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾ
ール、ポリベンゾビスイミダゾール、ポリテレフタルア
ミド、ポリフェニレンビニレン、芳香族ポリイミド、芳
香族ポリアミド、ポリオキサジアゾールの中から選ばれ
た厚さ1〜400μmの高分子フィルムを熱処理して炭
素質フィルムを作製し、得られた炭素質フィルムを単独
または、複数枚重ねて、10Kg/cm2以上の圧力を
断続的に加えながら400℃以上で所定の放物面、球
面、非球面、トロイダル曲面を構成の一部に加工された
型に加熱圧着し、放物面、球面、非球面、トロイダル曲
面の中の少なくとも1個以上の曲面形状を有するグラフ
ァイト結晶を得ることを特徴とする曲面グラファイトモ
ノクロメータの製造方法。4. Polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxoxazole, polybenzobisoxazole, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzobisimidazole, polyterephthalamide, polyphenylenevinylene, aromatic polyimide, aromatic polyamide , A polymer film having a thickness of 1 to 400 μm selected from polyoxadiazoles is heat-treated to produce a carbonaceous film, and the obtained carbonaceous films are stacked singly or in a plurality of layers to obtain 10 kg / cm 2 Specified paraboloid or sphere at 400 ℃ or higher while intermittently applying the above pressure
To obtain a graphite crystal having at least one of a parabolic surface, a spherical surface, an aspherical surface, and a toroidal curved surface by thermocompression bonding to a mold in which a surface, an aspherical surface, and a toroidal curved surface are partly processed. And a method for manufacturing a curved graphite monochromator.
はさみつけた状態で、上下の型の力のベクトルが、約約
上下のみとなるように設計されたグラファイト型を用い
て製造それたことを特徴とする請求項2〜4のいずれか
に記載の曲面グラファイトモノクロメータの製造方法。5. The curved surface of the graphite mold is the upper and lower molds,
5. A graphite mold designed such that the force vectors of the upper and lower molds in the sandwiched state are only about about the upper and lower sides, and are manufactured by using the graphite mold. Method for manufacturing curved graphite monochromator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15462894A JP3236446B2 (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Manufacturing method of curved graphite monochromator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15462894A JP3236446B2 (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Manufacturing method of curved graphite monochromator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0862394A true JPH0862394A (en) | 1996-03-08 |
| JP3236446B2 JP3236446B2 (en) | 2001-12-10 |
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ID=15588350
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236446B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08244119A (en) * | 1995-03-08 | 1996-09-24 | Eiichiro Matsubara | Method for producing graphite sheet |
| EP1092974A3 (en) * | 1999-10-07 | 2003-11-12 | Gemetec Gesellschaft Fur Messtechnik Und Technologie Mbh | Detector for large wafers areas |
| WO2016129442A1 (en) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社カネカ | Smooth-surfaced graphite film and method for producing same |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP15462894A patent/JP3236446B2/en not_active Expired - Lifetime
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| WO2016129442A1 (en) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社カネカ | Smooth-surfaced graphite film and method for producing same |
| JPWO2016129442A1 (en) * | 2015-02-12 | 2017-11-24 | 株式会社カネカ | Smooth surface graphite film and method for producing the same |
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| JP3236446B2 (en) | 2001-12-10 |
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