JPH0864892A - 放電励起型レーザ装置における充放電装置 - Google Patents

放電励起型レーザ装置における充放電装置

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JPH0864892A
JPH0864892A JP20227394A JP20227394A JPH0864892A JP H0864892 A JPH0864892 A JP H0864892A JP 20227394 A JP20227394 A JP 20227394A JP 20227394 A JP20227394 A JP 20227394A JP H0864892 A JPH0864892 A JP H0864892A
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計 溝口
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Abstract

(57)【要約】 【目的】予備電離電極の消耗を低減して、レーザ光のパ
ワーの低下を防止する。 【構成】1次コンデンサC1から放電されるパルス電流
がパルストランス20によって昇圧されて2次コンデン
サC2に充電がなされる。このとき2次コンデンサC2の
後段に接続された磁気スイッチSRは飽和状態で導通状
態となっており、この磁気スイッチSRと直列に接続さ
れた予備電離電極6を電流が通過する。2次コンデンサ
へC2の電荷の移行が完了した時点より、2次コンデン
サC2に逆向きの放電電流が流れようとするが、磁気ス
イッチSRはこの逆電流を阻止する作用をなし、予備電
離放電を停止させる。これと同期してパルストランス2
0の磁芯は飽和して、2次コンデンサC2からピーキン
グコンデンサC4への電荷の移行が開始される。そして
ピーキングコンデンサC4の電圧が上昇し、放電開始電
圧に達し、レーザ発振がなされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、材料の加工、縮小投影
露光用の光源等に用いられる放電励起型レーザ装置に関
し、特にその充放電装置に関する。
【0002】
【従来の技術】放電励起型のレーザ装置は、マーキン
グ、穴開け、アニーリングなどの材料加工のほか大規模
集積回路(LSI)の回路パターン製作のための光リソ
グラフィー用光源として用いられている。
【0003】ガスレーザの中でも特にエキシマレーザ
は、強力な紫外光源であり、その特性を生かして材料加
工用として主に樹脂等の有機材料へのマーキング、穴開
けなどに用いられている。また、光リソグラフィーに
は、主に縮小投影法が使われており、照明光源により照
らされた原画(レチクル)パターンの透過光を縮小投影
光学系により半導体基板上の光感光性物質に投影して回
路パターンを形成する。
【0004】この投影像の分解能は、用いられる光源の
波長で制限されるため、光源の波長は、可視領域から紫
外領域へと次第に短波長化している。従来、この紫外領
域の光源として高圧水銀ランプから発生するg線(43
6nm)、i線(365nm)が使用されてきた。しか
しながら、最小パターン線幅が64MBで要求される
0.35μm以下となると、i線でもすでに波長として
はそろそろ限界にきている。
【0005】この技術的限界を解決するものとして深紫
外(Deep Ultra Violet)のレーザ光
源が有望視されている。特にエキシマレーザは高出力、
高効率で媒質ガスの組成によりKrF(248nm)、
ArF(193nm)などの波長で強い発振を得ること
ができる。一方、このDeep―UV領域では、縮小投
影レンズ系を構成するガラス、結晶材料が非常に制約さ
れるため水銀ランプを用いた縮小投影レンズ系で用いら
れてきた色収差補正が困難となる。
【0006】そこで、レンズ系を色収差補正するのでは
なく、レーザ共振器内に波長選択素子を配設し、出力光
のスペクトル幅をレンズ材の色収差が無視できる程度ま
で小さくすることで、その困難さを除去している。この
方法で、自然発振の場合にスペクトル幅で数nmあった
出力光を数pmにまで細く狭帯域化することができる。
さて、このように狭帯域化に適しているエキシマレーザ
装置のレーザの出力(パワー)は、レーザを励起するた
めにコンデンサに蓄積しておいた電気エネルギを放電空
間に投入してレーザ媒質ガス中で放電させることにより
得られる。
【0007】図12は、従来のエキシマレーザ装置の構
成を、そして図13は特にその充放電回路を示してい
る。充放電回路には、一般に自動予備電離型の容量移行
型回路が、構造の簡便さから一般的に使用されている。
【0008】すなわち、充電器によって蓄積用の1次コ
ンデンサC1が所定電圧まで充電され、その後にトリガ
パルス発生器25から出力されるトリガパルスによって
サイラトロン等放電により通電がなされるスイッチ素子
Qが導通され、2次コンデンサ(ピーキングコンデン
サ)C2への充電(電荷移行)が開始される。この電荷
移行時にその充電電流i1が主電極(レーザチャンバ内
放電電極)5の両側面に配置された数十本の予備電離電
極6に通電される。このとき予備電離放電が発生され、
自動予備電離がなされる。
【0009】こうした予備電離放電によって発生した紫
外光によって放電空間が照射され、主放電空間に初期電
子を発生させる。そして2次コンデンサC2の電圧が放
電開始電圧に達すると、主放電が発生し、レーザ媒質に
反転分布が形成され、レーザ発振が生成される。
【0010】また、レーザチャンバ4内には、熱交換器
7およびレーザ媒質ガス(以下「レーザガス」という)
を強制対流、冷却させるブロア8が組み込まれており、
数十〜数百Hzの高い繰返し周波数での運転を可能とし
ている。また、運転中のレーザ出力を安定化するため
に、レーザ出力を光センサでモニタし、このモニタ結果
に基づいて充電電圧を変化させて、レーザガスの劣化、
ウインドの汚損等に伴う出力低下をきたさないような出
力安定化制御を行っている。
【0011】従来のレーザ装置に使用されているサイラ
トロンで代表される放電スイッチQは、電極の蒸発等に
伴う消耗や動作に必要なヒータ等の消耗によって耐久性
が損なわれることがあり、実用化の面で障害がある。
【0012】すなわち、図14に示されるように、サイ
ラトロンQがオフ状態からオン状態へ移行する際の導通
抵抗R(ターンオン抵抗)が高い時期に大きな電流i1
が流れることで、斜線で示される大きなサイラトロン損
失(オーム損失(i1)2・R;(i1)2とはi1の2乗
を意味する)が発生し、これと同時にサイラトロンQの
消耗が起こっていると考えられる。
【0013】そこで、こうしたスイッチング直後の高い
ターンオン抵抗が存在する時期における導通電流を抑制
するために、可飽和リアクトルを磁気スイッチとして使
用した充放電回路を用いるようにしている。この種の技
術は、例えば、日立金属技報vol.8 1992.1
「ファインメットを用いたパルスパワー用磁気スイッチ
磁芯の動特性」に記載されている。
【0014】磁気スイッチとして使用される可飽和リア
クトルは、磁性材料の磁束の飽和現象を利用した素子で
あり、層間絶縁したFe基またはCo基アモルファス巻
磁芯、Fe基超微結晶磁性合金(日立金属の商標「ファ
インメット」)を用いた磁芯等が使用されている。
【0015】ここで、磁気スイッチを用いた回路の代表
的方式である磁気パルス圧縮回路をパルスレーザのパル
ス電源に適用した場合の動作について図15を用いて説
明する。
【0016】図15において、C1=C2=C3の条件下
でコンデンサC1に蓄積された電荷がすべてC2に転送さ
れた時点で磁気スイッチSRが飽和するように設計され
た場合に、コンデンサC1に蓄積された電荷が最も効率
的にコンデンサC3に転送される。この条件が満たされ
るときの主要各部の電圧、電流波形を図16に示す。
【0017】主スイッチQがターンオン後、主コンデン
サC1に蓄積されていた電荷がすべてコンデンサC2に転
送されるまでの期間をτ1とする。τ1の期間、磁芯の動
作点は図11のループ上の非飽和領域にあり、時間の経
過と共にa点からb点に向かって移動する。このときの
磁気スイッチSRの磁芯の透磁率μrsは非常に高いた
め、出力巻き線NのインダクタンスLSRuはインダクタ
ンスL1に比べて十分大きく出力巻き線Nにはほとんど
電流は流れない。したがって、磁気スイッチSRは、図
16の斜線部分で示す電圧時間積の間、電流を阻止し次
式が成り立つ。
【0018】 vsr:磁芯印加電圧 N:磁気スイッチ巻数 Ae:磁芯有効断面積 ΔBm:最大動作磁束密度量 ここで、ターンオン後の電流パルスの時間幅τ1は次式
で与えられる。
【0019】 τ1=π√(L1C1C2/(C1+C2)) …(2) 磁芯の動作点が図11上のループ上のb点に達してから
c点を経由してd点まで移動するとき磁芯は飽和してお
り、磁芯の透磁率μrsは、真空の透磁率μ0にほぼ等し
い。このときインダクタンスLSRsはインダクタンスL1
より十分小さく、コンデンサC2に転送された電荷のほ
とんどが図16に示すパルス幅τ2でコンデンサC3に転
送される。
【0020】 τ2=π√(LSRsC2C3/(C2+C3)) …(3) 転送電流i2の向きが反転すると、磁芯の動作点は図1
1のループ上のd点からa点に向かって移動するが、確
実にa点に向かって移動する。ここで、τ1とτ2の比を
圧縮利得Gcと呼び、以下の関係がある。
【0021】Gc=τ1/τ2=I2m/I1m …(4) I1m:i1の波高値 I2m:i2の波高値 このように磁気パルス圧縮回路を用いることにより、用
いない場合に比べて主スイッチQを流れる電流のパルス
幅と波高値をおのおのGc倍と1/Gc倍にすることがで
きる。このため、主スイッチQのスイッチング損失を低
下させることができ、高出力化や高繰返し化が可能とな
る。また、サイラトロンなどの放電スイッチに比べ最大
順方向抵抗や、ターンオン時間が長い半導体スイッチ素
子を用いることができるようになる。そして磁気スイッ
チは、本質的に消耗部分が存在しないため半導体スイッ
チと組み合わせることによりメンテナンス不要な非常に
耐久性の高いパルス電源を実現できる。
【0022】さて、エキシマレーザ等のガスレーザの場
合には、運転の経過とともにレーザガス中に電極摩耗に
よる不純物ガスが発生したり、成分ガスが消耗したりし
て、光取出し用の窓が汚れ、発振効率が低下し、レーザ
出力が低下する。そこで、従来はこの出力低下を補償し
一定の出力を得るために運転電圧(充電電圧)を増加さ
せて出力の安定化を行うようにしている。
【0023】しかしながら、磁気圧縮回路を用いた場合
には、運転電圧を増加させると電流阻止時間が短くな
り、圧縮のタイミングがずれてしまい、エネルギー転送
効率が悪化し、レーザ出力が逆に低下してしまう。すな
わち、図10に示すように最大エネルギー転送効率をη
maxとして、効率がその1/2となる電圧の最大値と最
小値をそれぞれVmax、Vminとすると、この範囲Vm
(Vmin〜Vmax)を越えると、エネルギー効率的にもほ
とんど実用性が無くなってしまう。したがって、最適の
運転電圧範囲Vmin〜Vmaxというものが存在しており、
この電圧範囲を維持する電圧制御を行うようにしてい
る。
【0024】
【発明が解決しようとする課題】このように放電励起型
のレーザ装置は、産業用光源として広範に応用されてお
り、充放電回路についても耐久性向上のための種々の改
良がなされている。
【0025】しかし、上述したように、運転の経過とと
もにレーザガス中に電極摩耗による不純物ガスが発生し
たり、成分ガスが消耗したりして、光取出し用の窓が汚
れ、発振効率が低下し、レーザ出力が低下するといった
問題点は依然として解決されていない。
【0026】特にアーク放電によって紫外線を発生さ
せ、主放電領域の予備電離を行うUV予備電離方式で
は、電極表面上のアーク放電足部でのホットスポット発
生による予備電離電極の蒸発が活発におこる。このた
め、部品の耐久性の低下を招くとともにレーザ発振効率
の低下の原因となっている。この予備電離電極における
蒸発量は、電極を通過する電流値に大きく依存する。
【0027】そこで、特開平3ー257980号公報に
みられるように、従来の回路では、主放電用コンデンサ
と予備電離放電用コンデンサとを並列に接続し、両者を
分離するとともに、予備電離用のコンデンサ容量をでき
るだけ小さく調整し、電極消耗量を抑えるようにしてい
る。しかし、予備電離コンデンサの容量を過度に小さく
した場合には、主放電に悪影響が及び、レーザ出力が低
下したり、放電が不安定になる等の問題を引き起こす。
すなわち、コンデンサの容量の調整だけで電極の消耗量
を低減させることには、限界があった。
【0028】本発明はこうした実状に鑑みてなされたも
のであり、予備電離電極を通過する電流の値を小さくし
て、電極の耐久性の向上およびレーザ出力低下の防止を
図ることができる充放電装置を提供することを目的とす
るものである。
【0029】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の第1発
明では、電源と、該電源の電圧を予備電離電極および主
放電電極に印加させる主スイッチと、該主スイッチと前
記予備電離電極および前記主放電電極との間に介在され
た複数段のコンデンサを有し、前記主スイッチを作動さ
せることにより、前記電源によって初段コンデンサに蓄
積された電荷を第2段以降のコンデンサに移行させて、
最終段コンデンサの蓄積電荷に応じて前記予備電離電極
間の予備電離放電および前記主放電電極間の主放電を行
わせる充放電装置を具え、前記主放電電極間の主放電に
よってレーザガスを励起し、レーザ光を発振、出力させ
るようにした放電励起型レーザ装置における充放電装置
において、1次側巻線と直列に前記初段コンデンサが接
続されるととともに、2次側巻線と直列に第2段コンデ
ンサが接続され、初段コンデンサから放電されるパルス
電流を昇圧して第2段コンデンサに充電させるパルスト
ランスを設けるとともに、前記第2段コンデンサの後段
に該第2段コンデンサから放電される電流を阻止する磁
気スイッチを接続し、該磁気スイッチと直列に前記予備
電離電極を接続し、前記第2段コンデンサおよび前記2
次側巻線と、前記磁気スイッチおよび前記予備電離電極
と、最終段の第3段コンデンサと、前記主放電電極とを
それぞれ並列に接続するようにしている。
【0030】また、本発明の第2発明では、同様な構成
の充放電装置において、パルストランスの1次側巻線と
直列に前記初段コンデンサを接続するととともに、前記
パルストランスの2次側巻線を2つの第1および第2の
巻線に分離し、前記第1の巻線と予備電離電極用の第2
段コンデンサとを有した予備電離放電励起回路と、前記
第2の巻線と主放電電極用の第2段コンデンサとを有し
た主放電励起回路とを分離している。
【0031】
【作用】かかる第1発明の構成によれば、初段コンデン
サから放電されるパルス電流がパルストランスによって
昇圧されて第2段コンデンサに充電がなされる。このと
き第2段コンデンサの後段に接続された磁気スイッチは
飽和状態で導通状態となっており、この磁気スイッチと
直列に接続された予備電離電極を電流が通過する。この
通過電流は、蓄積コンデンサである第2段コンデンサを
パルス充電する際の充電電流であり、ピーク値が小さ
い。
【0032】第2段コンデンサへの電荷の移行が完了し
た時点より、第2段コンデンサに逆向きの放電電流が流
れようとするが、磁気スイッチはこの逆電流を阻止する
作用をなし、予備電離放電を停止させる。これと同期し
てパルストランスの磁芯は飽和して、第2段コンデンサ
からピーキングコンデンサである最終段の第3段コンデ
ンサへの電荷の移行が開始される。そしてピーキングコ
ンデンサの電圧が上昇し、放電開始電圧に達し、レーザ
発振がなされる。このように予備電離電極を通過する電
流は値が小さく、しかも予備電離放電は、磁気スイッチ
の作用により迅速に終了し主放電へと移行する。よっ
て、予備電離電極の摩耗が低減される。
【0033】また、上記第2発明の構成によれば、初段
コンデンサから放電されるパルス電流がパルストランス
によって昇圧されて予備電離電極用の第2段コンデンサ
に充電がなされ、この充電電流が予備電離電極を通過す
る。この通過電流は、パルス充電する際の充電電流であ
り、ピーク値が小さい。
【0034】そして、予備電離放電励起回路と、主放電
励起回路とが分離しており、独立なので、主放電電極の
放電タイミングへ影響を与えることなく、予備電離電極
の放電タイミングを調整することができ、レーザ発振を
安定して行うことができる。このように予備電離電極を
通過する電流は値が小さく、しかも予備電離放電のタイ
ミングを最適に調整できるので、予備電離電極の摩耗が
低減されるとともに、レーザ発振を安定して行わせるこ
とができる。
【0035】
【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る放電励起
型レーザ装置の充放電装置の実施例について説明する。
【0036】図1は、実施例におけるレーザ装置の構成
を示している。なお、従来装置と重複する構成要素には
同一符号を付しており、すでに説明した内容についての
重複した説明は省略する。
【0037】同図に示すように、実施例装置は、大きく
は、主電極5、5間における放電を行わせる充放電回路
1と、レーザガスが供給、充填され、主電極5、5間の
放電によってレーザガスの励起、レーザ光Laの発振が
行われるレーザチャンバ4と、レーザチャンバ4にレー
ザガスを供給し、チャンバ4内からレーザガスを排気す
る給・排気回路2と、後述する図9に示されるように圧
力センサ13の出力等に基づいて充放電回路1および給
・排気回路2を制御する制御器3とから構成されてい
る。
【0038】すなわち、希ガスボンベ9には、希ガス
(Xe、Kr、Ar等)が充填され、ハロゲンガスボンベ
10には、ハロゲンガス(F2、HCl等をバッファガ
スによって希釈したガス)が充填され、バッファガスボ
ンベ11には、バッファガス(He、Ne等)が充填され
ている。これら各ボンベ9、10、11とレーザチャン
バ4との間は、各バルブ14a〜14fおよび排気ポン
プ12を介して配管がなされており、制御器3から各バ
ルブ14a〜14fに対してバルブ開閉信号S1が出力
されるとともに排気ポンプ12に対してポンプ駆動信号
S2が出力されることによって、レーザチャンバ4への
レーザガスの供給およびチャンバ4内からのガス排気が
制御される。
【0039】圧力センサ13は、レーザチャンバ4内の
ガス圧Pを検出し、その検出出力Pを制御器3に入力さ
せる。
【0040】レーザチャンバ4内でレーザガスが放電励
起され、これによって発光した光が図示されていない共
振器によって共振されることによりレーザ発振が行われ
る。発振レーザ光Laは図示されていない、ウインド
ウ、フロントミラー等を介して出力される。
【0041】出力されたレーザ光Laは、光出力検出器
15に入力され、この光出力検出器15によってレーザ
出力(パワー)Eが検出され、該検出出力Eが制御器3
に入力される。なお、光出力検出器15は、たとえばピ
ンフォトダイオードのピーク値をホールドすることによ
りレーザ出力Eを検出するものである。さて、光出力検
出器15としては、光パワーを直接的に検出するもので
もよく、ハロゲンガス濃度、希ガス濃度等光パワーに関
連するパラメータを検出することによって、間接的に光
パワーを検出するものであってもよい。
【0042】また、光出力検出器15で光が検出される
毎にこれをカウントするカウンタ(図示せず)が設けら
れている。このカウンタによってレーザ光Laの発振パ
ルス数Nがカウントされ、このカウンタの出力Nが制御
器3に入力される。
【0043】充放電回路1は、直流高圧電源17を駆動
源として主電極5、5間で放電を行わせる。この電源1
7の充電電圧Vも図示されていない電圧検出器によって
検出され、制御器3に入力される。
【0044】制御器3は、光出力検出器15で検出した
レーザ出力E、圧力センサ13で検出したガス圧P、上
記パルスカウンタで検出したカウント数Nおよび上記電
圧検出器で検出した電源17の充電電圧Vに基づいて電
源17に指令電圧Vaを出力し、該電源17の充電電圧
Vが指令した電圧値Vaになるように充電電圧の制御を
行う。
【0045】・充放電回路の第1の構成例 図1は充放電回路の第1の構成例を示している。
【0046】すなわち、充放電回路1は、磁気アシスト
(可飽和リアクトル)19が付設された主スイッチであ
るGTOサイリスタ18がオンされることにより動作す
る。制御器3は、充放電回路1を動作させるための駆動
信号S3を駆動回路16に送出し、これに応じて駆動回
路16がオン信号S4を主スイッチ18に加えることに
より充放電回路1が動作する。
【0047】なお、主スイッチ18は、GTOサイリス
タを使用しているが、他の半導体スイッチ(例えば通常
のサイリスタ、IGBT)あるいは放電管素子(例えば
サイラトロン、クロサトロン)を使用することができ
る。充放電回路1は、パルストランス(可飽和トラン
ス)20を有した磁気圧縮回路で構成されており、図3
の等価回路に示すように、パルストランス20の1次側
巻線20aと直列に1次コンデンサC1が接続されると
とともに、2次側巻線20bと直列に2次コンデンサC
2が接続されている。パルストランス20は、1次コン
デンサC1から放電されるパルス電流を昇圧して2次コ
ンデンサC2を充電させる作用をなす。
【0048】2次コンデンサC2の後段には、該2次コ
ンデンサC2から放電される電流を阻止する磁気スイッ
チ(可飽和リアクトル)SRが接続されており、この磁
気スイッチSRと直列に予備電離電極6が複数配列され
ている。複数の予備電離電極6には、それぞれ安定化用
のインダクタ21が直列に接続されている。
【0049】そして、2次コンデンサC2および2次側
巻線20bと、磁気スイッチSRおよび複数の予備電離
電極6と、ピーキングコンデンサC4と、主放電電極5
とがそれぞれ並列に接続されている。
【0050】直流高圧電源17によって1次コンデンサ
C1が充電される。その後、主スイッチ18がオンさ
れ、主スイッチ18が導通状態になると、磁気アシスト
19によって一定時間だけ立ち上がり電流が阻止された
後、1次コンデンサC1から放電されるパルス電流がパ
ルストランス20によって昇圧されて2次コンデンサC
2に充電される。このとき、2次コンデンサC2の後段に
接続された磁気スイッチSRは、飽和状態であり、導通
状態となっており、この磁気スイッチSRと直列に接続
された複数の予備電離電極6を電流が通過することで、
充電が行われる。ここで、コンデンサC1からコンデン
サC2への電荷の移行時間は、1μ〜数μ秒であり、2
次側の充電電流のピーク値は数百Aである。
【0051】このように予備電離電極6を通過する電流
は、蓄積コンデンサである2次コンデンサC2をパルス
充電する際の充電電流であり、ピーク値は小さいもので
あることがわかる。
【0052】2次コンデンサC2への電荷の移行が完了
した時点より、2次コンデンサC2に逆向きの放電電流
が流れようとするが、磁気スイッチSRはこの逆電流を
阻止する作用をなし、事実上予備電離電極6を通過する
電流は停止し、予備電離放電は停止することになる。こ
れと同期してパルストランス20の磁芯は飽和し、実効
的な透磁率は極めて小さくなるため、2次コンデンサC
2とピーキングコンデンサC4は直結された状態となり、
コンデンサC2からコンデンサC4への電荷の移行が開始
される。ここで、コンデンサC2からコンデンサC4への
電荷の移行時間は100ns〜数百ns、ピーク電流は
数kAである。
【0053】こうした電荷の移行とともに、ピーキング
コンデンサC4の電圧が上昇し、やがて主電極5間の電
圧が放電開始電圧に達する。すると、コンデンサC4に
蓄積されたエネルギーおよびコンデンサC2に残留する
エネルギーが放電空間に注入され(移行時間10ns〜
数十ns、ピーク電流は10kA〜数十kA)、この結
果、放電により形成された反転分布によってレーザの発
振が開始される。
【0054】このように予備電離電極6を通過する電流
は値が小さく、しかも予備電離放電は、磁気スイッチS
Rの作用により迅速に終了してしまい主放電に迅速に移
行される。このため複数の予備電離電極6の摩耗が低減
され、レーザガスが不純物によって汚れることがなく、
レーザ出力の低下を防止することができる。
【0055】なお、この第1の構成例において、パルス
トランス20を可飽和でないトランスとすることもでき
る。また、インダクタ21の代わりに可飽和リアクトル
を使用してもよく、省略してもよい。
【0056】・充放電回路の第2の構成例 図2は、充放電回路1の第2の構成例を示しており、図
4はその等価回路を示している。
【0057】図1の構成と異なる点は、予備電離電極6
と主放電電極5との間に、従来技術で説明した磁気スイ
ッチ(可飽和リアクトル)SRを有した磁気圧縮回路2
2を介在させた点である。この場合、コンデンサC4へ
の電荷の移行は、上記第1の構成例と同様に行われ、コ
ンデンサC4からピーキングコンデンサであるコンデン
サC5への電荷の移行は、電流が磁気圧縮回路22によ
り磁気パルス圧縮されることにより行われる。
【0058】・充放電回路の第3の構成例 図5は、充放電回路1の第3の構成例を示しており、図
7はその等価回路を示している。
【0059】上記第1の構成例と異なる点は、パルスト
ランス20の2次側巻線を2つの第1の巻線20cと第
2の巻線20bに分離し、第1の巻線20cと予備電離
電極用の2次コンデンサC2´とを有した予備電離放電
励起回路24´と、第2の巻線20bと主放電電極用の
2次コンデンサC2とを有した主放電励起回路24とに
分離した点である。
【0060】つぎに作用について説明する。
【0061】直流高圧電源17によって1次コンデンサ
C1が充電されると、その後、主スイッチ18がオンさ
れ、主スイッチ18が導通状態になる。すると、磁気ア
シスト19によって一定時間だけ立ち上がり電流が阻止
された後、1次コンデンサC1から放電されるパルス電
流がパルストランス20によって昇圧されて主放電電極
用の2次コンデンサC2に充電がなされる。
【0062】これと同時に、予備電離放電励起回路24
´の2次コンデンサC2´が充電され、予備電離放電例
起回路24´中に接続された磁気スイッチ(可飽和リア
クトル)SRによって一定時間だけ電流が阻止された後
に、複数の予備電離電極6に電流が流れ始め、予備電離
放電が開始される。この充電の速度は、パルストランス
20の2次側巻線20cに直列接続されたインダクタ2
1´のインダクタンス値により調整され、主放電とのタ
イミングを調整することができる。
【0063】一方、このとき、主放電励起回路24の2
次コンデンサC2の後段に接続された磁気スイッチSR
は、飽和状態で導通状態となっており、この磁気スイッ
チSRを介して充電が行われる。ここで、コンデンサC
1からコンデンサC2への電荷の移行時間は、1μ〜数μ
秒であり、2次側の充電電流のピーク値は数百Aであ
る。
【0064】このように予備電離電極6を通過する電流
は、蓄積コンデンサである予備電離電極用の2次コンデ
ンサC2´をパルス充電する際の充電電流であり、ピー
ク値は小さいものであることがわかる。
【0065】主放電電極用の2次コンデンサC2への電
荷の移行が完了した時点より、2次コンデンサC2に逆
向きの放電電流が流れようとするが、主放電励起回路2
4中の磁気スイッチSRはこの逆電流を阻止する作用を
なす。
【0066】これと同期してパルストランス20の磁芯
は飽和し、実効的な透磁率は極めて小さくなるため、2
次コンデンサC2とピーキングコンデンサC4は直結され
た状態となり、コンデンサC2からコンデンサC4への電
荷の移行が開始される。ここで、コンデンサC2からコ
ンデンサC4への電荷の移行時間は100ns〜数百n
s、ピーク電流は数kAである。
【0067】こうした電荷の移行とともに、ピーキング
コンデンサC4の電圧が上昇し、やがて主電極5間の電
圧が放電開始電圧に達する。すると、コンデンサC4に
蓄積されたエネルギーおよびコンデンサC2に残留する
エネルギーが放電空間に注入され(移行時間10ns〜
数十ns、ピーク電流は10kA〜数十kA)、この結
果、放電により形成された反転分布によってレーザの発
振が開始される。
【0068】このように複数の予備電離電極6を通過す
る電流は値が小さいので、複数の予備電離電極6の摩耗
が低減され、不純物によってレーザガスが汚れることが
なく、レーザ出力の低下を防止することができる。
【0069】また、予備電離放電励起回路と、主放電励
起回路とが分離しており、独立なので、主放電電極の放
電タイミングへ影響を与えることなく、予備電離電極の
放電タイミングを調整することができ、レーザ発振を安
定して行うことができる。なお、この構成例では、予備
電離放電励起回路24´中に磁気スイッチ(可飽和リア
クトル)SRが挿入されているので、予備電離後のリン
ギングが防止され、不要な予備電離が抑制され、予備電
離電極の劣化が防止されるという効果が得られる。な
お、この磁気スイッチSRは場合によっては省略しても
よい。
【0070】また、上記第1の構成例と同様に、パルス
トランス20を可飽和でないトランスとすることもでき
る。また、インダクタ21の代わりに可飽和リアクトル
を使用してもよく、省略してもよい。
【0071】・充放電回路の第4の構成例 図6は、充放電回路1の第4の構成例を示しており、図
8はその等価回路を示している。
【0072】図5の第3の構成例と異なる点は、主放電
例起回路24中の2次コンデンサC2と主放電電極5と
の間に、2段の磁気圧縮回路23を介在させた点であ
る。
【0073】この場合、コンデンサC2への電荷の移行
は、上記第3の構成例と同様に行われ、コンデンサC2
からコンデンサC3を介してピーキングコンデンサであ
るコンデンサC4への電荷の移行は、電流が磁気圧縮回
路23により磁気パルス圧縮されることにより行われ
る。
【0074】つぎに、図9を参照して制御器3が行う制
御について説明する。
【0075】レーザ装置の運転開始にあたり、まず真空
ポンプによって所定のガス圧になるまで排気が行われ、
レーザチャンバ4内の旧ガスが排気される。つぎにバル
ブ14a…が所要に開閉され、圧力センサ13の出力P
が所定の設定値になるまで、希ガス、ハロゲンガスおよ
びバッファガスのそれぞれが順次注入される。
【0076】こうしたレーザガスのチャンバ4内への注
入がなされると、その後チャンバ4内のガス循環用のブ
ロア8の起動、電源17のウオームアップ等といったシ
ーケンシャルな制御が順次実行されていき、レーザ装置
の運転が可能な状態となる。そこで、レーザ装置の運転
に先だって、まず、図9のステップ101に示されるよ
うに、目標レーザ出力Ec、ハロゲンガス注入パルス数
間隔Nc、充電電圧変化量ΔV、希ガスについての1回
分の補給ガス量ΔG1、ハロゲンガスについての同補給
ガス量ΔG2、バッファガスについての同補給ガス量Δ
G3および1回分の排気ガスの排気量ΔG4、限界ガス圧
力(Pmax、Pmin)が予め設定されるとともに、パルス
数カウンタのリセット(N=0)が行われる。
【0077】その後、レーザ装置の運転が開始される
と、光出力検出器15によって検出されたレーザ出力
E、圧力センサ13によって検出されたチャンバ内圧力
Pおよび電圧検出器によって検出された充電電圧Vが制
御器3に逐次取り込まれる。ただし、充電電圧Vは、指
令電圧Vaで代用することもできる(ステップ10
2)。
【0078】制御器3は、検出レーザ出力Eを目標レー
ザ出力Ecと比較し(ステップ103)、E<Ecであれ
ば、充電電圧Vを上記微小電圧ΔVだけ増加させて指令
充電電圧Vaとし(ステップ105)、E=Ecであれ
ば、検出電圧Vをそのまま指令充電電圧Vaとし(ステ
ップ104)、E>Ecであれば、検出充電電圧Vを上
記微小電圧ΔVだけ下げて指令充電電圧Vaとする(ス
テップ106)。
【0079】さて、一般に、目標値に近づける制御を行
う場合には、検出器の分解能や各種ノイズを考慮して不
感帯が設けられる。よって、上記目標レーザ出力Ec
は、ある幅をもっていてもよい。すなわち、目標範囲を
設定して、この目標範囲内にレーザ出力が入るような制
御を行うようにしてもよい。
【0080】さらに、制御器3は、上記指令充電電圧V
a(現在の充電電圧V)を充電電圧制御範囲Vmの最大値
Vmaxおよび最小値Vminと比較し(ステップ107)、
Va≦VmaxかつVa≧Vminであれば、ガス圧Pを現在
の圧力に維持した状態で(ステップ108)、つぎのス
テップ111に移行させる。
【0081】しかし、指令充電電圧Vaが、Va>Vmax
のときは、希ガスボンベ9およびバッファガスボンベ1
1から所定量の希ガスΔG1およびバッファガスΔG3を
レーザチャンバ4内に補給する処理を行い、ガス圧Pを
微小量ΔPだけ増加させた後ステップ111に移行させ
る(ステップ110)。また、Va<Vminとのときに
は、レーザチャンバ4内のレーザガスが所定量ΔG4だ
け排気する処理を行い、ガス圧Pを微小量ΔPだけ減少
させた後ステップ111に移行させる(ステップ10
9)。
【0082】通常は、不純物ガスの発生およびウインド
等の汚損によりレーザ出力は低下する傾向にあり、全圧
はガス補給と共に上昇するので、排気工程を省略できる
場合が多い。よってステップ109の処理を省略するよ
うにしてもよい。
【0083】レーザ装置の運転中には、ハロゲンガスを
補給する制御も行われている(ステップ113〜11
6)。
【0084】すなわち、レーザ装置の運転中には、電極
蒸発物との反応等によってハロゲンガスが減少し、この
減少量は運転時間、つまり運転パルス数Nに比例してい
る。そこで、運転パルス数Nに比例した量のハロゲンガ
スを補給するために、カウントパルス数Nが所定の値N
cに達する毎に、ハロゲンガスを所定量ΔG2だけ補給し
ている。そしてハロゲンガスの補給がなされた時点でカ
ウント値Nが零にリセットされ、つぎの処理であるステ
ップ111に移行される(ステップ114、115、1
16)。なお、この実施例では、パルス数Nは、光出力
検出器15の検出信号をカウントすることによって求め
ているが、発振命令であるトリガ信号をカウントするこ
とによって求めるようにしてもよい。
【0085】ステップ111では、レーザチャンバ4内
のガス圧力Pが所定の範囲Pmin≦P≦Pmaxにあるか否
かを判断しており、この圧力範囲を越えた場合には、レ
ーザ出力Eの維持が困難となるため、ガス交換あるいは
劣化部品の交換等を行うためのサービスリクエスト信号
の出力等、所要のアラーム表示あるいはエラー処理とい
った異常処理がなされる(ステップ112)。
【0086】なお、この実施例では、充電電圧制御範囲
Vm内に入るように充電電圧Vを制御しているが、充電
電圧を一定のままとしレーザガスの給排気制御のみを行
うようにしてもよい。
【0087】この場合は、ステップ103の処理に引き
続きステップ108〜110の処理が行われて(ステッ
プ104〜106の処理の代わりに)、ステップ111
に移行されることになる。
【0088】すなわち、制御器3は、検出レーザ出力E
を目標レーザ出力Ecと比較し(ステップ103)、E
<Ecであれば、レーザチャンバ4内のレーザガスが所
定量ΔG4だけ排気する処理を行い(ステップ10
9)、E=Ecであれば、ガス圧Pを現在の圧力に維持
し(ステップ108)、E>Ecであれば、希ガスボン
ベ9およびバッファガスボンベ11から所定量の希ガス
ΔG1およびバッファガスΔG3をレーザチャンバ4内に
補給する処理を行う(ステップ110)。
【0089】また、この実施例では、定期的にハロゲン
ガスを補給する処理(ステップ113〜116)を行っ
ているが、場合によってはこれを省略してもよい。ま
た、ハロゲンガスの補給は、ステップ110において他
の希ガス、バッファガスの補給と併せて行うようにして
もよい。
【0090】また、この実施例では、充電電圧Vを直接
検出しているが、充電電圧Vとレーザ光Laのビーム幅
Δwは、ほぼ比例関係にあるため、ビーム幅Δwを検出
することによって充電電圧Vを検出するようにしてもよ
い。ここで、ビーム幅Δwとは、主電極5、5間の放電
方向に垂直な方向の幅のことをいい、レーザ光をライン
センサ上に転写することによって検出することができ
る。
【0091】また、充電電圧Vとレーザ光Laの周波数
スペクトル分布におけるスペクトル幅Δλ、たとえば半
値幅との関係も、ほぼ比例関係にあるため、スペクトル
幅Δλを検出することによって充電電圧Vを検出するよ
うにしてもよい。
【0092】以上のようにこの実施例によれば、出力レ
ーザ光のパワーが目標値になるように、電源の電圧を一
定値に維持するか、あるいは一定範囲内に収まるように
電圧を制御しつつ、レーザガスの給・排気量を制御する
ようにしたので、磁気スイッチを有した充放電回路を放
電励起型のレーザ装置に適用した場合であっても、レー
ザ出力変動に対する補償を、制御性よく行うことができ
る。
【0093】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、予
備電離電極を通過する電流の値を小さくするよう充放電
装置を構成したので、予備電離電極の耐久性が向上する
とともに、不純物によるレーザガスの劣化を低減するこ
とができ、レーザ出力の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明に係る放電励起型レーザ装置の充
放電装置の第1の構成例を示す図である。
【図2】図2は本発明に係る放電励起型レーザ装置の充
放電装置の第2の構成例を示す図である。
【図3】図3は第1の構成例の等価回路を示す図であ
る。
【図4】図4は第2の構成例の等価回路を示す図であ
る。
【図5】図5は本発明に係る放電励起型レーザ装置の充
放電装置の第3の構成例を示す図である。
【図6】図6は本発明に係る放電励起型レーザ装置の充
放電装置の第4の構成例を示す図である。
【図7】図7は第3の構成例の等価回路を示す図であ
る。
【図8】図8は第4の構成例の等価回路を示す図であ
る。
【図9】図9は実施例の処理手順を示すフローチャート
である。
【図10】図10は、磁気圧縮回路を使用した場合にお
ける正規化運転電圧とエネルギー転送効率の関係を示す
グラフである。
【図11】図11は、磁気スイッチ磁芯の動作を示すグ
ラフである。
【図12】図12は従来のレーザ装置の構成を示す図で
ある。
【図13】図13は従来のレーザ装置の充放電回路の構
成を示す回路図である。
【図14】図14は図13の回路における主スイッチの
電圧、電流の波形を示すグラフである。
【図15】図15は磁気圧縮回路を示す回路図である。
【図16】図16は、図15の磁気圧縮回路の各部の電
圧、電流の波形を示すグラフである。
【符号の説明】
1 充放電回路 2 給・排気回路 3 制御器 4 レーザチャンバ 5 主電極 SR 磁気スイッチ 15 光出力検出器 17 直流高圧電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H02M 9/04 C

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源と、該電源の電圧を予備電離電
    極および主放電電極に印加させる主スイッチと、該主ス
    イッチと前記予備電離電極および前記主放電電極との間
    に介在された複数段のコンデンサを有し、前記主スイッ
    チを作動させることにより、前記電源によって初段コン
    デンサに蓄積された電荷を第2段以降のコンデンサに移
    行させて、最終段コンデンサの蓄積電荷に応じて前記予
    備電離電極間の予備電離放電および前記主放電電極間の
    主放電を行わせる充放電装置を具え、前記主放電電極間
    の主放電によってレーザガスを励起し、レーザ光を発
    振、出力させるようにした放電励起型レーザ装置におけ
    る充放電装置において、 1次側巻線と直列に前記初段コンデンサが接続されると
    とともに、2次側巻線と直列に第2段コンデンサが接続
    され、初段コンデンサから放電されるパルス電流を昇圧
    して第2段コンデンサに充電させるパルストランスを設
    けるとともに、 前記第2段コンデンサの後段に該第2段コンデンサから
    放電される電流を阻止する磁気スイッチを接続し、該磁
    気スイッチと直列に前記予備電離電極を接続し、 前記第2段コンデンサおよび前記2次側巻線と、前記磁
    気スイッチおよび前記予備電離電極と、最終段の第3段
    コンデンサと、前記主放電電極とをそれぞれ並列に接続
    するようにした放電励起型レーザ装置における充放電装
    置。
  2. 【請求項2】 前記予備電離電極と前記主放電電極
    との間に、磁気圧縮回路を介在させた請求項1記載の放
    電励起型レーザ装置における充放電装置。
  3. 【請求項3】 電源と、該電源の電圧を予備電離電
    極および主放電電極に印加させる主スイッチと、該主ス
    イッチと前記予備電離電極および前記主放電電極との間
    に介在された複数段のコンデンサを有し、前記主スイッ
    チを作動させることにより、前記電源によって初段コン
    デンサに蓄積された電荷を第2段以降のコンデンサに移
    行させて、最終段コンデンサの蓄積電荷に応じて前記予
    備電離電極間の予備電離放電および前記主放電電極間の
    主放電を行わせる充放電装置を具え、前記主放電電極間
    の主放電によってレーザガスを励起し、レーザ光を発
    振、出力させるようにした放電励起型レーザ装置におけ
    る充放電装置において、 パルストランスの1次側巻線と直列に前記初段コンデン
    サを接続するとともに、前記パルストランスの2次側巻
    線を2つの第1および第2の巻線に分離し、前記第1の
    巻線と予備電離電極用の第2段コンデンサとを有した予
    備電離放電励起回路と、前記第2の巻線と主放電電極用
    の第2段コンデンサとを有した主放電励起回路とを分離
    した放電励起型レーザ装置における充放電装置。
  4. 【請求項4】 前記予備電離放電励起回路の第1の
    巻線と直列に、予備電離放電と主放電とのタイミングを
    調整するインダクタを接続した請求項3記載の放電励起
    型レーザ装置における充放電装置。
  5. 【請求項5】 前記主放電電極用の第2段コンデン
    サの後段に該第2段コンデンサから放電される電流を阻
    止する磁気スイッチを接続し、 該磁気スイッチと、最終段の第3段コンデンサと、前記
    主放電電極とをそれぞれ並列に接続するようにした請求
    項3記載の放電励起型レーザ装置における充放電装置。
  6. 【請求項6】 前記主放電電極用第2段コンデンサ
    と前記主放電電極との間に、磁気圧縮回路を介在させた
    請求項3記載の放電励起型レーザ装置における充放電装
    置。
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JPWO2022123714A1 (ja) * 2020-12-10 2022-06-16

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101254246B1 (ko) * 2012-09-12 2013-04-12 (주) 블루코어컴퍼니 아이지비티 소자를 적용한 엔디야그 레이저용 고압 펄스 제어장치
JPWO2022123714A1 (ja) * 2020-12-10 2022-06-16
WO2022123714A1 (ja) * 2020-12-10 2022-06-16 ギガフォトン株式会社 ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法
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