JPH0867813A - 選択された5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤により安定化されたポリウレタン - Google Patents
選択された5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤により安定化されたポリウレタンInfo
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- JPH0867813A JPH0867813A JP7236100A JP23610095A JPH0867813A JP H0867813 A JPH0867813 A JP H0867813A JP 7236100 A JP7236100 A JP 7236100A JP 23610095 A JP23610095 A JP 23610095A JP H0867813 A JPH0867813 A JP H0867813A
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
-
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- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリウレタン、ポリ尿素又はポリウレタン−
ポリ尿素を、光分解から有効に保護する。 【解決手段】 吸収特性がレッドシフトした(red-shift
ed) 選択された5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収
剤(単独又は障害アミン光安定剤及び/又はフェノール
系若しくは芳香族アミン酸化防止剤と組み合わせる)の
有効安定化量を、ポリウレタン、ポリ尿素又はポリウレ
タン−ポリ尿素に配合する。
ポリ尿素を、光分解から有効に保護する。 【解決手段】 吸収特性がレッドシフトした(red-shift
ed) 選択された5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収
剤(単独又は障害アミン光安定剤及び/又はフェノール
系若しくは芳香族アミン酸化防止剤と組み合わせる)の
有効安定化量を、ポリウレタン、ポリ尿素又はポリウレ
タン−ポリ尿素に配合する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】吸収特性がレッドシフトした
(red-shifted) 選択された5−置換ベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤は、単独又は障害アミン光安定剤及び/又
はフェノール系若しくは芳香族アミン酸化防止剤と組み
合わせて、芳香族ポリウレタン又はポリ尿素を安定化す
るために特に有用である。
(red-shifted) 選択された5−置換ベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤は、単独又は障害アミン光安定剤及び/又
はフェノール系若しくは芳香族アミン酸化防止剤と組み
合わせて、芳香族ポリウレタン又はポリ尿素を安定化す
るために特に有用である。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アメリ
カ合衆国特許第4433067号;第4659747
号;第4686242号;第4767796号及び第5
182310号の各明細書には、反応射出成形された
(RIM)ポリウレタン及びポリ尿素は、本発明の安定
剤によって効果的に安定化され得るということが記載さ
れている。
カ合衆国特許第4433067号;第4659747
号;第4686242号;第4767796号及び第5
182310号の各明細書には、反応射出成形された
(RIM)ポリウレタン及びポリ尿素は、本発明の安定
剤によって効果的に安定化され得るということが記載さ
れている。
【0003】アメリカ合衆国特許第5278314号及
び第5280124号の各明細書には、吸収特性がレッ
ドシフトした5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤
が記載されている。前記ベンゾトリアゾールは、増大し
た吸収を有するのみならず、それは又、長波長側にシフ
トしている。前記特許には、ポリマー状物質からなる基
材(ポリウレタンに関する何等の特定の記載もない)中
での前記ベンゾトリアゾール単独の、及び更に他の補助
添加剤の存在下(前記ベンゾトリアゾールが障害アミン
光安定剤と混合された場合に得られる特定の共生効果に
関する何等の記載もない)での一般的用途も記載されて
いる。
び第5280124号の各明細書には、吸収特性がレッ
ドシフトした5−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤
が記載されている。前記ベンゾトリアゾールは、増大し
た吸収を有するのみならず、それは又、長波長側にシフ
トしている。前記特許には、ポリマー状物質からなる基
材(ポリウレタンに関する何等の特定の記載もない)中
での前記ベンゾトリアゾール単独の、及び更に他の補助
添加剤の存在下(前記ベンゾトリアゾールが障害アミン
光安定剤と混合された場合に得られる特定の共生効果に
関する何等の記載もない)での一般的用途も記載されて
いる。
【0004】ポリオールと芳香族イソシアネート例えば
4,4′−メチレンビス(フェニルイソシアネート)
(MDI)との反応に基づくポリウレタンは、ビー.ラ
ンディ(B. Randy)ら,「ポリマーの光分解,光酸化及び
光安定化、原理及び応用(Photodegradation,Photo-oxid
ation and Photostabilization of Polymers,Principle
s and Application)」,ワイリ(Wiley) ,1975年,
第221頁、によって教示された如く、光への暴露に際
して、脂肪族ポリウレタンよりも安定化することが一層
困難であることが良く知られている。芳香族ポリウレタ
ンは、褪色すること並びに有用な機械的及び物理的性質
を失うことの両方の傾向を示す。このことは、芳香族ポ
リウレタンの広範な用途を制限した。ポリウレタンの褪
色は、特定の選択された色に対してポリウレタンに色又
は顔料を望む成形加工を困難にする。
4,4′−メチレンビス(フェニルイソシアネート)
(MDI)との反応に基づくポリウレタンは、ビー.ラ
ンディ(B. Randy)ら,「ポリマーの光分解,光酸化及び
光安定化、原理及び応用(Photodegradation,Photo-oxid
ation and Photostabilization of Polymers,Principle
s and Application)」,ワイリ(Wiley) ,1975年,
第221頁、によって教示された如く、光への暴露に際
して、脂肪族ポリウレタンよりも安定化することが一層
困難であることが良く知られている。芳香族ポリウレタ
ンは、褪色すること並びに有用な機械的及び物理的性質
を失うことの両方の傾向を示す。このことは、芳香族ポ
リウレタンの広範な用途を制限した。ポリウレタンの褪
色は、特定の選択された色に対してポリウレタンに色又
は顔料を望む成形加工を困難にする。
【0005】選択された5−置換ベンゾトリアゾール
は、乾燥キセノンウェザロメーター暴露下で芳香族ポリ
ウレタンの安定化に対して予期せぬ効果を示す。前記5
−置換ベンゾトリアゾールは、単独でか又は障害アミン
光安定剤(HALS)と組み合わせるかの何れかで、ベ
ンゾトリアゾールのベンゾ環の5位にレッドシフト置換
基を含まない慣用のベンゾトリアゾールよりも光安定剤
として一層有効である。
は、乾燥キセノンウェザロメーター暴露下で芳香族ポリ
ウレタンの安定化に対して予期せぬ効果を示す。前記5
−置換ベンゾトリアゾールは、単独でか又は障害アミン
光安定剤(HALS)と組み合わせるかの何れかで、ベ
ンゾトリアゾールのベンゾ環の5位にレッドシフト置換
基を含まない慣用のベンゾトリアゾールよりも光安定剤
として一層有効である。
【0006】特に、レッドシフトしたベンゾトリアゾー
ルは、慣用のベンゾトリアゾールに比べて芳香族ポリウ
レタンにおける黄変速度の減少に効果を示す。機械的性
質も、レッドシフトしたベンゾトリアゾールを用いて安
定化された前記ポリウレタンにおいて改善されるであろ
うということが予想される。
ルは、慣用のベンゾトリアゾールに比べて芳香族ポリウ
レタンにおける黄変速度の減少に効果を示す。機械的性
質も、レッドシフトしたベンゾトリアゾールを用いて安
定化された前記ポリウレタンにおいて改善されるであろ
うということが予想される。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、(a)ポリウ
レタン、ポリ尿素又はポリウレタン−ポリ尿素と、
(b)次式I,II又はIII :
レタン、ポリ尿素又はポリウレタン−ポリ尿素と、
(b)次式I,II又はIII :
【化2】 〔式中、R1 は水素原子、直鎖状若しくは分岐鎖状の炭
素原子数1ないし24のアルキル基、炭素原子数5ない
し12のシクロアルキル基又は炭素原子数7ないし15
のフェニルアルキル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは
分岐鎖状の炭素原子数1ないし24のアルキル基、炭素
原子数5ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数
7ないし15のフェニルアルキル基を表わし、R3 は炭
素原子数8ないし18のアルキル基、炭素原子数3ない
し18のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシク
ロアルキル基、炭素原子数7ないし15のフェニルアル
キル基、炭素原子数6ないし10のアリール基又は1個
若しくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基で置
換された炭素原子数6ないし10のアリール基を表わ
し、Lは−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わ
し、Tは−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S−
E−S−基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E−
SO2 −基を表わし、Eは炭素原子数2ないし12のア
ルキレン基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキレ
ン基、又は炭素原子数8ないし12のシクロヘキシレン
基により中断若しくは末端閉鎖された炭素原子数2ない
し12のアルキレン基を表わし、nは1又は2を表わし
nが1を表わす場合には、R5 は−OR6 基又は−NH
2 基を表わし、ここでR6 は水素原子又は炭素原子数1
ないし24のアルキル基を表わし、又は1個若しくはそ
れより多くの−OH基により置換された炭素原子数1な
いし24のアルキル基を表わし、又は−OR6 基は−
(OCH2 CH2 )w OH基若しくは−(OCH2 CH
2 )w OR7 基を表わし、ここでwは1又は12を表わ
し、そしてR7 は炭素原子数1ないし12のアルキル基
を表わし、そしてnが2を表わす場合には、R5 は−O
−R8 −O−基を表わし、ここでR8 は1個ないし11
個の−O−基により中断された炭素原子数2ないし24
のアルキレン基を表わし、又はR8 は−CH2 −CHO
H−CH2 −O−R9 −O−CH2 −CHOH−CH2
−基を表わし、ここでR9 はフェニレン基、フェニレン
−G−フェニレン基を表わし、ここでGは直接結合、炭
素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−S−
基又は−SO2 −基を表わす〕で表わされるレッドシフ
トした(red-shifted) ベンゾトリアゾールの有効安定化
量とからなる化学線の有害な効果に対して安定化された
組成物に関するものである。
素原子数1ないし24のアルキル基、炭素原子数5ない
し12のシクロアルキル基又は炭素原子数7ないし15
のフェニルアルキル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは
分岐鎖状の炭素原子数1ないし24のアルキル基、炭素
原子数5ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数
7ないし15のフェニルアルキル基を表わし、R3 は炭
素原子数8ないし18のアルキル基、炭素原子数3ない
し18のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシク
ロアルキル基、炭素原子数7ないし15のフェニルアル
キル基、炭素原子数6ないし10のアリール基又は1個
若しくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基で置
換された炭素原子数6ないし10のアリール基を表わ
し、Lは−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わ
し、Tは−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S−
E−S−基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E−
SO2 −基を表わし、Eは炭素原子数2ないし12のア
ルキレン基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキレ
ン基、又は炭素原子数8ないし12のシクロヘキシレン
基により中断若しくは末端閉鎖された炭素原子数2ない
し12のアルキレン基を表わし、nは1又は2を表わし
nが1を表わす場合には、R5 は−OR6 基又は−NH
2 基を表わし、ここでR6 は水素原子又は炭素原子数1
ないし24のアルキル基を表わし、又は1個若しくはそ
れより多くの−OH基により置換された炭素原子数1な
いし24のアルキル基を表わし、又は−OR6 基は−
(OCH2 CH2 )w OH基若しくは−(OCH2 CH
2 )w OR7 基を表わし、ここでwは1又は12を表わ
し、そしてR7 は炭素原子数1ないし12のアルキル基
を表わし、そしてnが2を表わす場合には、R5 は−O
−R8 −O−基を表わし、ここでR8 は1個ないし11
個の−O−基により中断された炭素原子数2ないし24
のアルキレン基を表わし、又はR8 は−CH2 −CHO
H−CH2 −O−R9 −O−CH2 −CHOH−CH2
−基を表わし、ここでR9 はフェニレン基、フェニレン
−G−フェニレン基を表わし、ここでGは直接結合、炭
素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−S−
基又は−SO2 −基を表わす〕で表わされるレッドシフ
トした(red-shifted) ベンゾトリアゾールの有効安定化
量とからなる化学線の有害な効果に対して安定化された
組成物に関するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】好ましくは、R1 は水素原子、分
岐鎖状の炭素原子数3ないし12のアルキル基、シクロ
ヘキシル基又は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは分岐鎖状の炭素原
子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル基又は
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、
R3 は炭素原子数12ないし18のアルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基、フェニル基又は1個若しくは2個のメチ
ル基により置換されたフェニル基を表わし、Lは−S−
基、−SO−基又は−SO2 −基を表わし、そしてTは
−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S−E−S−
基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E−SO2 −
基を表わし、Eは炭素原子数2ないし6のアルキレン
基、炭素原子数6ないし8のシクロアルキレン基、又は
炭素原子数8ないし10のシクロヘキシレン基により末
端閉鎖されたアルキレン基を表わす。
岐鎖状の炭素原子数3ないし12のアルキル基、シクロ
ヘキシル基又は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは分岐鎖状の炭素原
子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル基又は
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、
R3 は炭素原子数12ないし18のアルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基、フェニル基又は1個若しくは2個のメチ
ル基により置換されたフェニル基を表わし、Lは−S−
基、−SO−基又は−SO2 −基を表わし、そしてTは
−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S−E−S−
基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E−SO2 −
基を表わし、Eは炭素原子数2ないし6のアルキレン
基、炭素原子数6ないし8のシクロアルキレン基、又は
炭素原子数8ないし10のシクロヘキシレン基により末
端閉鎖されたアルキレン基を表わす。
【0009】最も好ましくは、R1 は水素原子、分岐鎖
状の炭素原子数4ないし8のアルキル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα,α−
ジメチルベンジル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは分
岐鎖状の炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα,
α−ジメチルベンジル基を表わし、R3 はフェニル基を
表わし、Lは−S−基又は−SO2 −基を表わし、そし
てTは−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わ
す。
状の炭素原子数4ないし8のアルキル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα,α−
ジメチルベンジル基を表わし、R2 は直鎖状若しくは分
岐鎖状の炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα,
α−ジメチルベンジル基を表わし、R3 はフェニル基を
表わし、Lは−S−基又は−SO2 −基を表わし、そし
てTは−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わ
す。
【0010】本発明の別の好ましい態様は、式中、R1
が第三ブチル基を表わし、nが1を表わし、R3 がフェ
ニル基を表わし、そしてR5 が−OR6 基を表わし、こ
こでR6 は直鎖状若しくは置換されたオクチル基を表わ
す式III で表わされる化合物である。本発明の更に別の
好ましい態様は、式中、nが2を表わし、R1 が第三ブ
チル基を表わし、R3 がフェニル基を表わし、そしてR
5 が−O−R8 −O−基を表わし、ここでR8 は1個な
いし7個の−O−基により中断された炭素原子数2ない
し16のアルキレン基を表わし、又はR8 は−CH2 −
CHOH−CH 2 −O−R9 −O−CH2 −CHOH−
CH2 −基を表わし、ここでR9 はフェニレン−G−フ
ェニレン基を表わし、ここでGは2,2−イソプロピリ
デン基を表わす式III で表わされる化合物である。
が第三ブチル基を表わし、nが1を表わし、R3 がフェ
ニル基を表わし、そしてR5 が−OR6 基を表わし、こ
こでR6 は直鎖状若しくは置換されたオクチル基を表わ
す式III で表わされる化合物である。本発明の更に別の
好ましい態様は、式中、nが2を表わし、R1 が第三ブ
チル基を表わし、R3 がフェニル基を表わし、そしてR
5 が−O−R8 −O−基を表わし、ここでR8 は1個な
いし7個の−O−基により中断された炭素原子数2ない
し16のアルキレン基を表わし、又はR8 は−CH2 −
CHOH−CH 2 −O−R9 −O−CH2 −CHOH−
CH2 −基を表わし、ここでR9 はフェニレン−G−フ
ェニレン基を表わし、ここでGは2,2−イソプロピリ
デン基を表わす式III で表わされる化合物である。
【0011】炭素原子数1ないし8のアルキル基とし
て、R1 は例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第
三ブチル基、n−ペンチル基、第三アミル基、n−ヘキ
シル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチル
ヘキシル基又は第三オクチル基を表わす。第三ブチル基
が好ましい。
て、R1 は例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第
三ブチル基、n−ペンチル基、第三アミル基、n−ヘキ
シル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチル
ヘキシル基又は第三オクチル基を表わす。第三ブチル基
が好ましい。
【0012】R1 ないしR9 の何れかがアルキル基を表
わす場合には、前記基は、例えば、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第
三ブチル基、第三アミル基、2−エチルヘキシル基、第
三オクチル基、ラウリル基、第三ドデシル基、トリデシ
ル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基及びエ
イコシル基を表わし;前記基の何れかがアルケニル基を
表わす場合には、前記基は、例えば、アリル基又はオレ
イル基を表わす;前記基の何れかがシクロアルキル基を
表わす場合には、前記基は、例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基及びシクロドデシル基を表わす;前記基の何れか
がフェニルアルキル基を表わす場合には、前記基は、例
えば、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基及びα,α−ジメチルベンジル基を表わす;前記基の
何れかがアリール基を表わす場合には、前記基は、例え
ば、フェニル基、ナフチル基、又はアルキル基によって
置換された場合には、例えば、トリル基又はキシリル基
を表わす。R6 が1個又はそれより多くの−O−基によ
って置換された及び/又は1個又はそれより多くの−O
H基によって置換されたアルキル基を表わす場合には、
−OR6 部分は−(OCH2 CH2 )w OH基又は−
(OCH2 CH2 )w OR7 基(ここで、wは1ないし
12を表わし、そしてR7 は、例えば、炭素原子数1な
いし12のアルキル基を表わす)であってよい。
わす場合には、前記基は、例えば、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第
三ブチル基、第三アミル基、2−エチルヘキシル基、第
三オクチル基、ラウリル基、第三ドデシル基、トリデシ
ル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基及びエ
イコシル基を表わし;前記基の何れかがアルケニル基を
表わす場合には、前記基は、例えば、アリル基又はオレ
イル基を表わす;前記基の何れかがシクロアルキル基を
表わす場合には、前記基は、例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基及びシクロドデシル基を表わす;前記基の何れか
がフェニルアルキル基を表わす場合には、前記基は、例
えば、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基及びα,α−ジメチルベンジル基を表わす;前記基の
何れかがアリール基を表わす場合には、前記基は、例え
ば、フェニル基、ナフチル基、又はアルキル基によって
置換された場合には、例えば、トリル基又はキシリル基
を表わす。R6 が1個又はそれより多くの−O−基によ
って置換された及び/又は1個又はそれより多くの−O
H基によって置換されたアルキル基を表わす場合には、
−OR6 部分は−(OCH2 CH2 )w OH基又は−
(OCH2 CH2 )w OR7 基(ここで、wは1ないし
12を表わし、そしてR7 は、例えば、炭素原子数1な
いし12のアルキル基を表わす)であってよい。
【0013】Eがアルキレン基を表わす場合には、それ
は例えば、エチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチ
レン基、オクタメチレン基、デカメチレン基及びドデカ
メチレン基を表わす;Eがシクロアルキレン基を表わす
場合には、それは例えば、シクロペンチレン基、シクロ
ヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン
基及びシクロドデシレン基を表わす;そしてEがシクロ
ヘキシレン基によって中断又は末端閉鎖された場合に
は、それは例えば、リモネンから誘導された飽和ジイル
基(本文中では、ジヒドロリモネンジイル基と呼ぶ)を
表わす。
は例えば、エチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチ
レン基、オクタメチレン基、デカメチレン基及びドデカ
メチレン基を表わす;Eがシクロアルキレン基を表わす
場合には、それは例えば、シクロペンチレン基、シクロ
ヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン
基及びシクロドデシレン基を表わす;そしてEがシクロ
ヘキシレン基によって中断又は末端閉鎖された場合に
は、それは例えば、リモネンから誘導された飽和ジイル
基(本文中では、ジヒドロリモネンジイル基と呼ぶ)を
表わす。
【0014】本化合物が遊離のカルボキシル部分(ここ
で、R2 は−CH2 CH2 COOR6 基を表わし、R6
は水素原子を表わす)を含む場合には、前記酸のアルカ
リ金属塩又はアミン塩も本発明の一部をなし、このよう
な本化合物の増強された水溶性に起因して水性系におい
て使用されるような紫外線吸収剤を構成する。
で、R2 は−CH2 CH2 COOR6 基を表わし、R6
は水素原子を表わす)を含む場合には、前記酸のアルカ
リ金属塩又はアミン塩も本発明の一部をなし、このよう
な本化合物の増強された水溶性に起因して水性系におい
て使用されるような紫外線吸収剤を構成する。
【0015】本発明の安定化された組成物は、更に、
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンから誘導され
た障害アミンの有効安定化量を含んでよい。
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンから誘導され
た障害アミンの有効安定化量を含んでよい。
【0016】通常、本発明の化合物は、安定化された組
成物の約0.01ないし5重量%用いられる。都合の良
い範囲は、約0.5ないし約3%、及び特に0.5ない
し約1%である。
成物の約0.01ないし5重量%用いられる。都合の良
い範囲は、約0.5ないし約3%、及び特に0.5ない
し約1%である。
【0017】本安定剤によって安定化されたポリウレタ
ンは、ジオールとジイソシアネートの均衡された化学量
論から製造されたもの、及びジオール又はジイソシアネ
ートが過剰で製造されたものであることが予想される。
更に、ジオールはアルカンジオール、ポリオール、ポリ
(エーテルポリオール)又はポリ(エステルポリオー
ル)であってよい。ジイソシアネートは本質的に脂肪
族、脂環式又は芳香族であってよく、例えばイソホロン
ジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(フェニル
イソシアネート)又はトリレンジイソシアネートであっ
てよい。
ンは、ジオールとジイソシアネートの均衡された化学量
論から製造されたもの、及びジオール又はジイソシアネ
ートが過剰で製造されたものであることが予想される。
更に、ジオールはアルカンジオール、ポリオール、ポリ
(エーテルポリオール)又はポリ(エステルポリオー
ル)であってよい。ジイソシアネートは本質的に脂肪
族、脂環式又は芳香族であってよく、例えばイソホロン
ジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(フェニル
イソシアネート)又はトリレンジイソシアネートであっ
てよい。
【0018】更に特別には、本発明において安定化され
るポリマーは、1種又はそれより多くのポリイソシアネ
ートと1種又はそれより多くのポリオール及び/又はポ
リアミンとから合成される全ての種類の脂肪族、脂環式
及び/又は芳香族ポリウレタン、ポリ尿素又はポリ尿素
−ポリウレタンである。好ましいポリマーは芳香族構
造、例えばベンゼン基を含む。ポリオールはポリヒドロ
キシポリマー又はモノマー状のグリコール若しくはジオ
ールを含み、そして何れかの架橋又は鎖延長化合物であ
る。ポリウレタン及び/又はポリ尿素の製造のために知
られている何れかの触媒が含まれる。他の所望の添加
剤、例えば、分散剤、界面活性剤、防炎加工剤、着色
剤、強化剤も本組成物中の成分であってよい。
るポリマーは、1種又はそれより多くのポリイソシアネ
ートと1種又はそれより多くのポリオール及び/又はポ
リアミンとから合成される全ての種類の脂肪族、脂環式
及び/又は芳香族ポリウレタン、ポリ尿素又はポリ尿素
−ポリウレタンである。好ましいポリマーは芳香族構
造、例えばベンゼン基を含む。ポリオールはポリヒドロ
キシポリマー又はモノマー状のグリコール若しくはジオ
ールを含み、そして何れかの架橋又は鎖延長化合物であ
る。ポリウレタン及び/又はポリ尿素の製造のために知
られている何れかの触媒が含まれる。他の所望の添加
剤、例えば、分散剤、界面活性剤、防炎加工剤、着色
剤、強化剤も本組成物中の成分であってよい。
【0019】ポリウレタンの用途は、屋外暴露及び化学
光(actinic light)の悪効果に対するポリウレタンの安
定化が有利であろう熱可塑性又は熱硬化性ポリウレタン
の全ての用途を包含する。前記用途は下記の用途を包含
するが、しかしこれらに限定されるものではない。 a.RIMで製造されたポリウレタン製品(微孔性RI
M及び一体RIMポリウレタン); b.エラストマー; c.可撓性及び剛性フォーム; d.成形品;及び e.被覆フォーム、例えば外部自動車車体部品のための
RIM成形品。
光(actinic light)の悪効果に対するポリウレタンの安
定化が有利であろう熱可塑性又は熱硬化性ポリウレタン
の全ての用途を包含する。前記用途は下記の用途を包含
するが、しかしこれらに限定されるものではない。 a.RIMで製造されたポリウレタン製品(微孔性RI
M及び一体RIMポリウレタン); b.エラストマー; c.可撓性及び剛性フォーム; d.成形品;及び e.被覆フォーム、例えば外部自動車車体部品のための
RIM成形品。
【0020】イソシアネートモノマーは下記のものを包
含するが、しかしこれらに限定されるものではない。 a.“MDI”として知られる2,4′−又は4,4′
−ジフェニルメタンジイソシアネート; b.“TDI”として知られるトリレン2,4−及び
2,6−ジイソシアネート; c.MDI及びTDIプレポリマー; d.“NDI”として知られる1,5−ナフタレンジイ
ソシアネート; e.“HMDI”として知られる1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート; f.1,3−及び1,4−フェニレンジイソシアネー
ト; g.エチレンジイソシアネート; h.1,12−ドデカメチレンジイソシアネート; i.シクロブタン−1,3−ジイソシアネート; j.シクロヘキサン−1,3−及び1,4−ジイソシア
ネート; k.1,5−ジイソシアナト−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン; l.2,4−及び2,6−ヘキサヒドロトルエンジイソ
シアネート; m.パーヒドロ−2,4′−及び4,4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート; n.イソホロンジイソシアネート; o.トリフェニルメタン−4,4′,4″−トリイソシ
アネート;及び p.ポリフェニルポリメチレンポリイソシアネート。
含するが、しかしこれらに限定されるものではない。 a.“MDI”として知られる2,4′−又は4,4′
−ジフェニルメタンジイソシアネート; b.“TDI”として知られるトリレン2,4−及び
2,6−ジイソシアネート; c.MDI及びTDIプレポリマー; d.“NDI”として知られる1,5−ナフタレンジイ
ソシアネート; e.“HMDI”として知られる1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート; f.1,3−及び1,4−フェニレンジイソシアネー
ト; g.エチレンジイソシアネート; h.1,12−ドデカメチレンジイソシアネート; i.シクロブタン−1,3−ジイソシアネート; j.シクロヘキサン−1,3−及び1,4−ジイソシア
ネート; k.1,5−ジイソシアナト−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン; l.2,4−及び2,6−ヘキサヒドロトルエンジイソ
シアネート; m.パーヒドロ−2,4′−及び4,4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート; n.イソホロンジイソシアネート; o.トリフェニルメタン−4,4′,4″−トリイソシ
アネート;及び p.ポリフェニルポリメチレンポリイソシアネート。
【0021】ポリオールの例は下記のものを包含する
が、しかしこれらに限定されるものではない。 a.ポリエーテルポリオール、好ましくは構造HO−
(RO)n H(式中、nは2ないし1000の数を表わ
し、Rはエチレン基、プロピレン基、ブチレン基又は同
種のものを表わす)のポリエーテルポリオール; b.ポリエステルポリオール、好ましくは構造HO−R
−O−(CO−R′−COO−R−O)n H(式中、n
は2ないし1000の数を表わし、Rは上記において定
義されたものと同じ意味を表わし、そしてR′は二価の
脂肪族又は芳香族部分を表わし、例えば、アメリカ合衆
国特許第4767796号明細書に見られる如く、二又
は三官能性アルコールを用いてジカルボン酸をエステル
化することによって製造されたポリエステルポリオー
ル; c.ポリカーボネートポリオール、例えばアメリカ合衆
国特許第4634743号及び第4713399号の各
明細書に見られるポリカーボネートポリオール; d.ポリ(テトラメチレングリコールエーテル),PT
MEG; e.ポリエステルエーテル; f.脂肪族ジオール又は脂肪族トリオール;及び g.アメリカ合衆国特許第4686242号明細書に見
られるようなRIMポリ尿素の製造のために有用なアミ
ン末端閉鎖ポリオールを包含するポリアミン。
が、しかしこれらに限定されるものではない。 a.ポリエーテルポリオール、好ましくは構造HO−
(RO)n H(式中、nは2ないし1000の数を表わ
し、Rはエチレン基、プロピレン基、ブチレン基又は同
種のものを表わす)のポリエーテルポリオール; b.ポリエステルポリオール、好ましくは構造HO−R
−O−(CO−R′−COO−R−O)n H(式中、n
は2ないし1000の数を表わし、Rは上記において定
義されたものと同じ意味を表わし、そしてR′は二価の
脂肪族又は芳香族部分を表わし、例えば、アメリカ合衆
国特許第4767796号明細書に見られる如く、二又
は三官能性アルコールを用いてジカルボン酸をエステル
化することによって製造されたポリエステルポリオー
ル; c.ポリカーボネートポリオール、例えばアメリカ合衆
国特許第4634743号及び第4713399号の各
明細書に見られるポリカーボネートポリオール; d.ポリ(テトラメチレングリコールエーテル),PT
MEG; e.ポリエステルエーテル; f.脂肪族ジオール又は脂肪族トリオール;及び g.アメリカ合衆国特許第4686242号明細書に見
られるようなRIMポリ尿素の製造のために有用なアミ
ン末端閉鎖ポリオールを包含するポリアミン。
【0022】鎖延長化合物及び架橋剤の例は下記のもの
を包含するが、しかしこれらに限定されるものではな
い。 a.アメリカ合衆国特許第4659747号明細書に見
られるような芳香族及び脂肪族アミン; b.アメリカ合衆国特許第4433067号明細書に見
られるようなアミン末端閉鎖ポリエチレン−オキシ−ポ
リプロピレン−オキシ−ポリエーテルを包含するホリア
ミン; c.アメリカ合衆国特許第4767796号明細書に見
られるようなグリコール並びに脂肪族のジオール及びト
リオール;及び d.トリエタノールアミンを包含するアミノアルコー
ル。
を包含するが、しかしこれらに限定されるものではな
い。 a.アメリカ合衆国特許第4659747号明細書に見
られるような芳香族及び脂肪族アミン; b.アメリカ合衆国特許第4433067号明細書に見
られるようなアミン末端閉鎖ポリエチレン−オキシ−ポ
リプロピレン−オキシ−ポリエーテルを包含するホリア
ミン; c.アメリカ合衆国特許第4767796号明細書に見
られるようなグリコール並びに脂肪族のジオール及びト
リオール;及び d.トリエタノールアミンを包含するアミノアルコー
ル。
【0023】レッドシフトしたベンゾトリアゾールと障
害アミンとの組み合わせの共生安定化効果に対する本当
の理由は、明らかではない。ベンゾトリアゾールは紫外
線を吸収し且つポリウレタン中の励起一重項を不活性化
し、それ故、褪色及び機械的性質の損失をもたらすポリ
マー中の光−フリース反応(photo-Fries reaction)を妨
げるということが提案された。障害アミン安定剤は酸化
サイクルを中断すると信じられている。このような安定
化効果の組み合わせは、正確に言えば、ポリウレタンの
ための予期せぬ実際の且つ優れた安定化を明らかに提供
する。
害アミンとの組み合わせの共生安定化効果に対する本当
の理由は、明らかではない。ベンゾトリアゾールは紫外
線を吸収し且つポリウレタン中の励起一重項を不活性化
し、それ故、褪色及び機械的性質の損失をもたらすポリ
マー中の光−フリース反応(photo-Fries reaction)を妨
げるということが提案された。障害アミン安定剤は酸化
サイクルを中断すると信じられている。このような安定
化効果の組み合わせは、正確に言えば、ポリウレタンの
ための予期せぬ実際の且つ優れた安定化を明らかに提供
する。
【0024】他の補助添加剤、例えばフェノール系酸化
防止剤、アミン酸化防止剤、障害アミン光安定剤及び同
種のものの存在も予想される。その結果得られる本発明
の安定化されたポリマー組成物は、所望により、種々の
慣用の添加剤(例えば、下記の物質又はその混合物)を
約0.01ないし約5重量%、好ましくは約0.025
ないし約2重量%、そして特に約0.1ないし約1重量
%含んでもよい。
防止剤、アミン酸化防止剤、障害アミン光安定剤及び同
種のものの存在も予想される。その結果得られる本発明
の安定化されたポリマー組成物は、所望により、種々の
慣用の添加剤(例えば、下記の物質又はその混合物)を
約0.01ないし約5重量%、好ましくは約0.025
ないし約2重量%、そして特に約0.1ないし約1重量
%含んでもよい。
【0025】レッドシフトしたベンゾトリアゾールが障
害アミン光安定剤と共に使用された場合には、障害アミ
ンの好ましい量は0.1ないし0.5重量%であり、そ
してレッドシフトしたベンゾトリアゾールの好ましい量
は0.5ないし1重量%である。
害アミン光安定剤と共に使用された場合には、障害アミ
ンの好ましい量は0.1ないし0.5重量%であり、そ
してレッドシフトしたベンゾトリアゾールの好ましい量
は0.5ないし1重量%である。
【0026】1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第
三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ第
三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4
−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−
4−ノニルフェノール。
三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ第
三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4
−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−
4−ノニルフェノール。
【0027】1.2.アルキル化ヒドロキノン、例えば 2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,
5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミル
ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシル
オキシフェノール。
5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミル
ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシル
オキシフェノール。
【0028】1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば 2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)。
ーテル、例えば 2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)。
【0029】1.4.アルキリデンビスフェノール、例
えば 2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール]、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−
シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メ
チレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニル
フェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α
−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,
2′−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三
ブチル−4−イソブチルフェノール)、4,4′−メチ
レンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノール)、4,
4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ジ(3−
第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−
4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3′−
第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレー
ト]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メ
チルフェニル)ジシクロペンタジエン、ジ[2−(3′
−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]テレフタ
レート。
えば 2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール]、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−
シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メ
チレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニル
フェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α
−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,
2′−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三
ブチル−4−イソブチルフェノール)、4,4′−メチ
レンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノール)、4,
4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ジ(3−
第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−
4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3′−
第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレー
ト]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メ
チルフェニル)ジシクロペンタジエン、ジ[2−(3′
−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]テレフタ
レート。
【0030】1.5.ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、ジ
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ス
ルフィド、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル)ジチオールテレフタレート、1,3,5
−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)イソシアヌレート、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル−ホスホン酸ジオクタデシルエステ
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−
ホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
キシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、ジ
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ス
ルフィド、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル)ジチオールテレフタレート、1,3,5
−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)イソシアヌレート、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル−ホスホン酸ジオクタデシルエステ
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−
ホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
【0031】1.6.アシルアミノフェノール、例えば 4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシス
テアリン酸アニリド、2,4−ビス−オクチルメルカプ
ト−6−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニ
リノ)−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
テアリン酸アニリド、2,4−ビス−オクチルメルカプ
ト−6−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニ
リノ)−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
【0032】1.7.下記の一価又は多価アルコールを
用いたβ−(3,5−ジ第三ブチル− 4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸エステル、例えば メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノー
ル、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、ジ(ヒドロキシエチル)蓚酸ジア
ミド。
用いたβ−(3,5−ジ第三ブチル− 4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸エステル、例えば メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノー
ル、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、ジ(ヒドロキシエチル)蓚酸ジア
ミド。
【0033】1.8.下記の一価又は多価アルコールを
用いたβ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロピン酸エステル、例えば メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノー
ル、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、ジ(ヒドロキシエチル)蓚酸ジア
ミド。
用いたβ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロピン酸エステル、例えば メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノー
ル、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、ジ(ヒドロキシエチル)蓚酸ジア
ミド。
【0034】1.9.β−(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピン酸アミド、例えば N,N′−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,
N′−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N′−
ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル)ヒドラジン。
−ヒドロキシフェニル)プロピン酸アミド、例えば N,N′−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,
N′−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N′−
ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル)ヒドラジン。
【0035】1.10.ジアリールアミン、例えば ジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミ
ン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチル
アミン、4,4′−ジ第三オクチル−ジフェニルアミ
ン、N−フェニルベンジルアミンと2,4,4−トリメ
チルペンテンとの反応生成物、ジフェニルアミンと2,
4,4−トリメチルペンテンとの反応生成物、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミンと2,4,4−トリメチルペ
ンテンとの反応生成物。
ン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチル
アミン、4,4′−ジ第三オクチル−ジフェニルアミ
ン、N−フェニルベンジルアミンと2,4,4−トリメ
チルペンテンとの反応生成物、ジフェニルアミンと2,
4,4−トリメチルペンテンとの反応生成物、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミンと2,4,4−トリメチルペ
ンテンとの反応生成物。
【0036】2.紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1.2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、例えば 5′−メチル−、3′,5′−ジ第三ブチル−、5′−
第三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメチル
ブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ第三ブチル
−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル−、
3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オクチ
ル、3′,5′−ジ第三アミル−、3′,5′−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)−、3′−第三ブチル−
5′−(2−(ω−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオ
キシ)カルボニル−エチル)−、3′−ドデシル−5′
−メチル−、及び3′−第三ブチル−5′−(2−オク
チルオキシカルボニル)エチル−、及びドデシル化−
5′−メチル誘導体。
アゾール、例えば 5′−メチル−、3′,5′−ジ第三ブチル−、5′−
第三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメチル
ブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ第三ブチル
−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル−、
3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オクチ
ル、3′,5′−ジ第三アミル−、3′,5′−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)−、3′−第三ブチル−
5′−(2−(ω−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオ
キシ)カルボニル−エチル)−、3′−ドデシル−5′
−メチル−、及び3′−第三ブチル−5′−(2−オク
チルオキシカルボニル)エチル−、及びドデシル化−
5′−メチル誘導体。
【0037】2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば 4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキシ、4−
デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキ
シ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び2′−ヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
例えば 4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキシ、4−
デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキ
シ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び2′−ヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
【0038】2.3.置換及び非置換安息香酸エステ
ル、例えば フェニルサリチレート、4−第三ブチルフェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ第三ブ
チルフェニルエステル及び3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
ル、例えば フェニルサリチレート、4−第三ブチルフェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ第三ブ
チルフェニルエステル及び3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
【0039】2.4.アクリルレート、例えば α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチルエス
テル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ桂
皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メ
トキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α
−カルボメトキシ−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステ
ル、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−
2−メチル−インドリン。
テル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ桂
皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メ
トキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α
−カルボメトキシ−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステ
ル、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−
2−メチル−インドリン。
【0040】2.5.ニッケル化合物、例えば 付加配位子例えばn−ブチルアミン、トリエタノールア
ミン又はN−シクロヘキシルジエタノールアミンを所望
により有する2,2′−チオ−ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル
錯体例えば1:1又は1:2錯体;ニッケルジブチルジ
チオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブ
チルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例えば
メチルエステル、エチルエステル又はブチルエステルの
ニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メ
チルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加
配位子を所望により有する1−フェニル−4−ラウロイ
ル−5−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。
ミン又はN−シクロヘキシルジエタノールアミンを所望
により有する2,2′−チオ−ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル
錯体例えば1:1又は1:2錯体;ニッケルジブチルジ
チオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブ
チルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例えば
メチルエステル、エチルエステル又はブチルエステルの
ニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メ
チルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加
配位子を所望により有する1−フェニル−4−ラウロイ
ル−5−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。
【0041】2.6.立体障害アミン、例えば ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)セバケート、n−ブチル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルア
ミノ−2,6−ジクロロ−s−トリアジンとの縮合生成
物、トリス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,
3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1′−
(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン)、ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
セバケート。
ケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)セバケート、n−ブチル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルア
ミノ−2,6−ジクロロ−s−トリアジンとの縮合生成
物、トリス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,
3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1′−
(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン)、ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
セバケート。
【0042】2.7.蓚酸ジアミド、例えば 4,4′−ジオクチルオキシ−オキサニリド、2,2′
−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチル−オキサ
ニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第
三ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
−オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノ
プロピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブ
チル−2′−エチルオキサニリド及びその2−エトキシ
−2′−エチル−5,4′−ジ第三ブチル−オキサニリ
ドとの混合物並びにオルト−及びパラ−メトキシ−二置
換オキサニリドの混合物並びにオルト−及びパラ−エト
キシ−二置換オキサニリドの混合物。
−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチル−オキサ
ニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第
三ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
−オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノ
プロピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブ
チル−2′−エチルオキサニリド及びその2−エトキシ
−2′−エチル−5,4′−ジ第三ブチル−オキサニリ
ドとの混合物並びにオルト−及びパラ−メトキシ−二置
換オキサニリドの混合物並びにオルト−及びパラ−エト
キシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0043】2.8.ヒドロキシフェニル−s−トリア
ジン、例えば 2,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−ト
リアジン、2,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−4−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリア
ジン、2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)
−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,
4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]−6−(4−クロロフェニル)−s−
トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2
−ヒドロキシ)−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェ
ニル]−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリ
アジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)フェニル]−6−(4−ブロモフェ
ニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキ
シ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−6−
(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビ
ス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(2,4−
ジメチルフェニル)−s−トリアジン。
ジン、例えば 2,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−ト
リアジン、2,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−4−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリア
ジン、2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)
−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,
4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]−6−(4−クロロフェニル)−s−
トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2
−ヒドロキシ)−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェ
ニル]−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリ
アジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)フェニル]−6−(4−ブロモフェ
ニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキ
シ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−6−
(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビ
ス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(2,4−
ジメチルフェニル)−s−トリアジン。
【0044】3.金属奪活剤、例えば N,N′−ジフェニル蓚酸ジアミド、N−サリチラル−
N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリ
チロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒド
ラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリ
チロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒド
ラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
【0045】4.ホスフィット及びホスホナイト、例え
ば トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ジ(2,4−ジ第三
ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、トリステアリル(ソルビトール)トリホスフィッ
ト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)−
4,4′−ジフェニリレンジホスホナイト。
ば トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ジ(2,4−ジ第三
ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、トリステアリル(ソルビトール)トリホスフィッ
ト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)−
4,4′−ジフェニリレンジホスホナイト。
【0046】5.過酸化物を破壊する化合物、例えば β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカ
プトベンズイミダゾール又は2−メルカプトベンズイミ
ダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジ
オクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテト
ラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
テアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカ
プトベンズイミダゾール又は2−メルカプトベンズイミ
ダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジ
オクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテト
ラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
【0047】6.ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエ
チルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、
N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N
−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素添加された獣
脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシ
ルアミン。
チルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、
N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N
−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素添加された獣
脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシ
ルアミン。
【0048】7.ニトロン、例えば N−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α
−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロ
ン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テト
ラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル
−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−
ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタ
デシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシル
ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロ
ン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水
素添加された獣脂アミンから誘導されたN,N−ジアル
キルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロ
ン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テト
ラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル
−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−
ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタ
デシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシル
ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロ
ン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水
素添加された獣脂アミンから誘導されたN,N−ジアル
キルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【0049】8.ポリアミド安定剤、例えば 沃化物及び/又は燐化合物及び二価マンガン塩と組み合
わせた銅塩。
わせた銅塩。
【0050】9.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウ
ムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムステ
アレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミ
テート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテ
ココレート。
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウ
ムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムステ
アレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミ
テート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテ
ココレート。
【0051】10.核剤、例えば 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸。
酸。
【0052】11.充填剤及び強化剤、例えば 炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タ
ルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸
化物、カーボンブラック、黒鉛。
ルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸
化物、カーボンブラック、黒鉛。
【0053】12.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防炎加工
剤、帯電防止剤、発泡剤及びチオ相乗剤例えばジラウリ
ルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピ
オネート。
剤、帯電防止剤、発泡剤及びチオ相乗剤例えばジラウリ
ルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピ
オネート。
【0054】13.ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば US−A−4325863、US−A−4338244
若しくはUS−A−5175312に開示されたもの、
又は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]
−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン、
5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイル
オキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラノン−2−オ
ン、3,3′−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4
−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラノ
ン−2−オン]、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エ
トキシフェニル)ベンゾフラノン−2−オン、3−(4
−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−
ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン、3−(3,
5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,
7−ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン。
例えば US−A−4325863、US−A−4338244
若しくはUS−A−5175312に開示されたもの、
又は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]
−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン、
5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイル
オキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラノン−2−オ
ン、3,3′−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4
−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラノ
ン−2−オン]、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エ
トキシフェニル)ベンゾフラノン−2−オン、3−(4
−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−
ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン、3−(3,
5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,
7−ジ第三ブチル−ベンゾフラノン−2−オン。
【0055】特に重要なフェノール系酸化防止剤は、n
−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキ
ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシン
ナメート)、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシヒドロシンナメート、ジn−オクタデシル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、チオジエチレ
ンビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)、1,3,5−トリメチル−2,4,6
−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、3,6−ジオキサオクタメチレンビス
(3−メチル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル、2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、1,3,5−トリス(2,6−ジメチ
ル−4−第三ブチル−3−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、1,3,
5−トリス[2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシヒドロシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレ
ート、3,5−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)メシトール、ヘキサメチレンビス(3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト)、1−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシア
ニリノ)−3,5−ジ(オクチルチオ)−s−トリアジ
ン、N,N′−ヘキサメチレン−ビス(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナムアミド)、カル
シウムビス(エチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホネート)、エチレンビス[3,3−
ジ(3−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート]、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート、ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)ヒドラ
ジド、及びN,N′−ビス[2−(3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ)エチ
ル]オキサミドからなる群から選択される。
−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキ
ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシン
ナメート)、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシヒドロシンナメート、ジn−オクタデシル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、チオジエチレ
ンビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)、1,3,5−トリメチル−2,4,6
−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、3,6−ジオキサオクタメチレンビス
(3−メチル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル、2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、1,3,5−トリス(2,6−ジメチ
ル−4−第三ブチル−3−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、1,3,
5−トリス[2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシヒドロシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレ
ート、3,5−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)メシトール、ヘキサメチレンビス(3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト)、1−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシア
ニリノ)−3,5−ジ(オクチルチオ)−s−トリアジ
ン、N,N′−ヘキサメチレン−ビス(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナムアミド)、カル
シウムビス(エチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホネート)、エチレンビス[3,3−
ジ(3−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート]、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート、ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)ヒドラ
ジド、及びN,N′−ビス[2−(3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ)エチ
ル]オキサミドからなる群から選択される。
【0056】最も好ましいフェノール系酸化防止剤は、
ネオペンタンテトライルテトラキス(3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、n−オク
タデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシヒドロシンナメート、1,3,5−トリメチル
−2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル又は2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ第三ブ
チルフェノール)である。
ネオペンタンテトライルテトラキス(3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、n−オク
タデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート、オクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシヒドロシンナメート、1,3,5−トリメチル
−2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル又は2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ第三ブ
チルフェノール)である。
【0057】特に重要な障害アミン化合物は、ビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート、ジ(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ブ
チルマロネート、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザ−スピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)ニトリロトリアセテート、1,2−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−3−オキソピペラジン−4−イ
ル)エタン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オキ
サ−3,20−ジアザ−21−オキソジスピロ[5.
1.11.2]ヘンエイコサン、2,4−ジクロロ−6
−第三オクチルアミノ−s−トリアジンと4,4′−ヘ
キサメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン)との縮合生成物、1−(2−ヒドロキ
シエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、4,4′
−ヘキサメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン)と1,2−ジブロモエタンとの縮
合生成物、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−1,2,3,
4−ブタンテトラカルボキシレート、2,4−ジクロロ
−6−モルホリノ−s−トリアジンと4,4′−ヘキサ
メチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンとの縮合生成物、N,N′,N″,N″′−
テトラキス[(4,6−ビス(ブチル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ−s−ト
リアジン−2−イル]−1,10−ジアミノ−4,7−
ジアザデカン、混合された[2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル/β,β,β′,β′−テト
ラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサ
スピロ[5.5]ウンデカン)ジエチル]−1,2,
3,4−ブタンテトラカルボキシレート、混合された
[1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−
イル/β,β,β′,β′−テトラメチル−3,9−
(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウ
ンデカン)ジエチル]−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、オクタメチレンビス(2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−カルボキシレー
ト)、4,4′−エチレンビス(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−3−オン)、及びビス(1−オク
チルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)セバケートからなる群から選択される。
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート、ジ(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ブ
チルマロネート、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザ−スピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)ニトリロトリアセテート、1,2−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−3−オキソピペラジン−4−イ
ル)エタン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オキ
サ−3,20−ジアザ−21−オキソジスピロ[5.
1.11.2]ヘンエイコサン、2,4−ジクロロ−6
−第三オクチルアミノ−s−トリアジンと4,4′−ヘ
キサメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン)との縮合生成物、1−(2−ヒドロキ
シエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、4,4′
−ヘキサメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン)と1,2−ジブロモエタンとの縮
合生成物、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−1,2,3,
4−ブタンテトラカルボキシレート、2,4−ジクロロ
−6−モルホリノ−s−トリアジンと4,4′−ヘキサ
メチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンとの縮合生成物、N,N′,N″,N″′−
テトラキス[(4,6−ビス(ブチル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ−s−ト
リアジン−2−イル]−1,10−ジアミノ−4,7−
ジアザデカン、混合された[2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル/β,β,β′,β′−テト
ラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサ
スピロ[5.5]ウンデカン)ジエチル]−1,2,
3,4−ブタンテトラカルボキシレート、混合された
[1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−
イル/β,β,β′,β′−テトラメチル−3,9−
(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウ
ンデカン)ジエチル]−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、オクタメチレンビス(2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−カルボキシレー
ト)、4,4′−エチレンビス(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−3−オン)、及びビス(1−オク
チルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)セバケートからなる群から選択される。
【0058】最も好ましい障害アミン化合物は、ビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン
とコハク酸との縮合生成物、2,4−ジクロロ−6−モ
ルホリノ−s−トリアジンと4,4′−ヘキサメチレン
ビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンとの縮合生成物、N,N′,N″,N″′−テトラキ
ス[(4,6−ビス(ブチル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)アミノ−s−トリアジン
−2−イル]−1,10−ジアミノ−4,7−ジアザデ
カン又はビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケートであ
る。
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン
とコハク酸との縮合生成物、2,4−ジクロロ−6−モ
ルホリノ−s−トリアジンと4,4′−ヘキサメチレン
ビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンとの縮合生成物、N,N′,N″,N″′−テトラキ
ス[(4,6−ビス(ブチル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)アミノ−s−トリアジン
−2−イル]−1,10−ジアミノ−4,7−ジアザデ
カン又はビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケートであ
る。
【0059】本安定剤の用途に関して、本レッドシフト
したベンゾトリアゾールは、慣用のo−ヒドロキシフェ
ニル−2H−ベンゾトリアゾール、o−ヒドロキシベン
ゾフェノン、及び他の種類のo−ヒドロキシフェニル−
s−トリアジンを含む幾つかの他の種類の紫外線吸収剤
に比べて、芳香族ポリウレタンにおける黄変の程度を充
分に減少させることは明らかである。このような本組成
物は、外部自動車フェーシア、バンパー等のような、長
期の光暴露が必要とされる用途に使用すべき芳香族ポリ
ウレタン製品に使用し得るであろう。
したベンゾトリアゾールは、慣用のo−ヒドロキシフェ
ニル−2H−ベンゾトリアゾール、o−ヒドロキシベン
ゾフェノン、及び他の種類のo−ヒドロキシフェニル−
s−トリアジンを含む幾つかの他の種類の紫外線吸収剤
に比べて、芳香族ポリウレタンにおける黄変の程度を充
分に減少させることは明らかである。このような本組成
物は、外部自動車フェーシア、バンパー等のような、長
期の光暴露が必要とされる用途に使用すべき芳香族ポリ
ウレタン製品に使用し得るであろう。
【0060】加えて、レッドシフトしたベンゾトリアゾ
ールと障害アミン光安定剤との組み合わせは、レッドシ
フトしたベンゾトリアゾールのみの場合に比べて、黄変
に関する別の減少を与える。これは、全安定剤配合のコ
ストが、より高価なベンゾトリアゾールの幾分かを補助
添加剤としてのより安価な障害アミンで置換することに
より減少され得る都合の良い現象である。
ールと障害アミン光安定剤との組み合わせは、レッドシ
フトしたベンゾトリアゾールのみの場合に比べて、黄変
に関する別の減少を与える。これは、全安定剤配合のコ
ストが、より高価なベンゾトリアゾールの幾分かを補助
添加剤としてのより安価な障害アミンで置換することに
より減少され得る都合の良い現象である。
【0061】本発明の式I,II又はIII で表わされるレ
ッドシフトしたベンゾトリアゾールの一部は慣用の紫外
線吸収剤を用いて置換され得ること、及び更に、化学線
によって誘起される分解に対する優れた耐性を有する安
定化された組成物を与えることも予想される。このよう
な慣用の紫外線吸収剤の代表的な例(しかし、限定的で
はない)は下記化合物である:a.2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシベンゾフェノン、b.2−(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、c.
2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)
−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、d.2−(2
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾト
リアゾール、e.2−[2−ヒドロキシ−3,5−
(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベン
ゾトリアゾール、f.2−(2−ヒドロキシ−3,5−
ジ第三アミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
g.2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニ
ル)−2H−ベンゾトリアゾール、h.2−(2−ヒド
ロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール、i.5−クロロ−2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル)−
2H−ベンゾトリアゾール、又はj.5−クロロ−2−
[2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−オクチ
ルオキシカルボニルエチル)フェニル]−2H−ベンゾ
トリアゾール。
ッドシフトしたベンゾトリアゾールの一部は慣用の紫外
線吸収剤を用いて置換され得ること、及び更に、化学線
によって誘起される分解に対する優れた耐性を有する安
定化された組成物を与えることも予想される。このよう
な慣用の紫外線吸収剤の代表的な例(しかし、限定的で
はない)は下記化合物である:a.2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシベンゾフェノン、b.2−(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、c.
2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)
−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、d.2−(2
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾト
リアゾール、e.2−[2−ヒドロキシ−3,5−
(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベン
ゾトリアゾール、f.2−(2−ヒドロキシ−3,5−
ジ第三アミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
g.2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニ
ル)−2H−ベンゾトリアゾール、h.2−(2−ヒド
ロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール、i.5−クロロ−2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル)−
2H−ベンゾトリアゾール、又はj.5−クロロ−2−
[2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−オクチ
ルオキシカルボニルエチル)フェニル]−2H−ベンゾ
トリアゾール。
【0062】
【実施例及び発明の効果】下記実施例は説明の目的を意
味し、且つそれ故、如何なる場合でも本発明の範囲及び
性質を限定するものと解釈すべきではない。実施例1 芳香族ポリウレタンの代表的な合成、及び一体ディスク
への変換を、下記試薬を使用して以下に述べる。試薬 当量 部又はg 供給源 ポリエーテルポリオール 1665 87 ダウ ケミカルズ ヴォラノール4701 (Dow Chemicals) (Voranol 4701;商標名) 1,4−ブタンジオール 45.1 13 アルドリッチ (Aldrich) ジブチル錫ジラウレート − 0.10 エア プロダクツ ダブコT12(DABCO T12 (Air Products) ;商標名) 触媒 ポリ(ジメチルシロキサ − 0.10 オルガノシリコン ン),SAG−47(商 インコーポレーテッド 標名) (Organosilicon Inc.) 4,4′−メチレンビス 144.0 49 ダウ ケミカルズ (フェニルイソシアヌレ (Dow Chemicals) ート) イソネート 143L (Isonate 143L)
味し、且つそれ故、如何なる場合でも本発明の範囲及び
性質を限定するものと解釈すべきではない。実施例1 芳香族ポリウレタンの代表的な合成、及び一体ディスク
への変換を、下記試薬を使用して以下に述べる。試薬 当量 部又はg 供給源 ポリエーテルポリオール 1665 87 ダウ ケミカルズ ヴォラノール4701 (Dow Chemicals) (Voranol 4701;商標名) 1,4−ブタンジオール 45.1 13 アルドリッチ (Aldrich) ジブチル錫ジラウレート − 0.10 エア プロダクツ ダブコT12(DABCO T12 (Air Products) ;商標名) 触媒 ポリ(ジメチルシロキサ − 0.10 オルガノシリコン ン),SAG−47(商 インコーポレーテッド 標名) (Organosilicon Inc.) 4,4′−メチレンビス 144.0 49 ダウ ケミカルズ (フェニルイソシアヌレ (Dow Chemicals) ート) イソネート 143L (Isonate 143L)
【0063】一般的な合成手順を下記に示す。 1.ガラス容器に、ポリ(エーテルポリオール)、1,
4−ブタンジオール、ダブコT12(DABCO T12 ;商標
名)触媒、及びSAG−47(商標名)消泡剤を秤量す
る。紫外線吸収剤もこの時点で添加する。混合物を、所
望により加熱しながら、全成分が溶解し且つ目視上均質
な溶液が得られるまで攪拌する。 2.前記試薬を含む容器を真空デシケーター内に置き、
そして幾分かのトラップされた空気又は水分が除去され
るまで、代表的には約30分間真空下で貯蔵する。 3.容器を取り出し、次いで櫂形攪拌機を備えた機械式
攪拌機下に置く。好ましくは、ジイソシアネートの添加
により生じる発熱反応を中和するために、容器をドライ
アイス浴で取り囲んだ場合に最良の結果が得られる。 4.前記容器の含有物を次いで、迅速に添加されるジイ
ソシアネートの秤量された量と攪拌する。重合溶液を次
いで、使用された触媒量に応じて、代表的には30秒未
満攪拌する。この重合溶液は発熱し、次いで粘稠にな
る。 5.重合混合物をポリスチレンペトリ皿に迅速に注入す
る。ポリウレタンは数秒以内ないし数分以内に固化す
る。ペトリ皿を約60℃に加熱されたオーブン中に置
く。代表的には3分間ないし5分間真空にし、次いで解
除する。形成されたポリマー板を数時間加熱し、次いで
室温で一晩貯蔵し、次いで遮光する。 6.ポリマー板をペトリ皿から取り除き、次いでキセノ
ンアークウェザロメーター(XAW)内での暴露を行う
まで遮光・貯蔵する。
4−ブタンジオール、ダブコT12(DABCO T12 ;商標
名)触媒、及びSAG−47(商標名)消泡剤を秤量す
る。紫外線吸収剤もこの時点で添加する。混合物を、所
望により加熱しながら、全成分が溶解し且つ目視上均質
な溶液が得られるまで攪拌する。 2.前記試薬を含む容器を真空デシケーター内に置き、
そして幾分かのトラップされた空気又は水分が除去され
るまで、代表的には約30分間真空下で貯蔵する。 3.容器を取り出し、次いで櫂形攪拌機を備えた機械式
攪拌機下に置く。好ましくは、ジイソシアネートの添加
により生じる発熱反応を中和するために、容器をドライ
アイス浴で取り囲んだ場合に最良の結果が得られる。 4.前記容器の含有物を次いで、迅速に添加されるジイ
ソシアネートの秤量された量と攪拌する。重合溶液を次
いで、使用された触媒量に応じて、代表的には30秒未
満攪拌する。この重合溶液は発熱し、次いで粘稠にな
る。 5.重合混合物をポリスチレンペトリ皿に迅速に注入す
る。ポリウレタンは数秒以内ないし数分以内に固化す
る。ペトリ皿を約60℃に加熱されたオーブン中に置
く。代表的には3分間ないし5分間真空にし、次いで解
除する。形成されたポリマー板を数時間加熱し、次いで
室温で一晩貯蔵し、次いで遮光する。 6.ポリマー板をペトリ皿から取り除き、次いでキセノ
ンアークウェザロメーター(XAW)内での暴露を行う
まで遮光・貯蔵する。
【0064】ポリウレタン板を次いで、下記条件下でア
トラスCi65Aキセノンウェザロメーター内で暴露す
る:乾燥キセノン,連続光,ブラックパネル温度63
℃,放射照度0.35ワット/m2 。
トラスCi65Aキセノンウェザロメーター内で暴露す
る:乾燥キセノン,連続光,ブラックパネル温度63
℃,放射照度0.35ワット/m2 。
【0065】特定の安定剤成分を含む各組成物の2枚の
ポリウレタン板を、乾燥キセノンウェザロメーター条件
に暴露する。黄色度指数(YI)値は、ASTM D1
925法を使用して、ACSクロモセンサーCS−5分
光光度計(ACS Chromo SensorCS-5 Spectrophotometer)
で測定する。
ポリウレタン板を、乾燥キセノンウェザロメーター条件
に暴露する。黄色度指数(YI)値は、ASTM D1
925法を使用して、ACSクロモセンサーCS−5分
光光度計(ACS Chromo SensorCS-5 Spectrophotometer)
で測定する。
【0066】下記のYIデーターは、各組成物の2枚の
ポリウレタン板の各々から読み取られる一つのYI値の
平均である。YIの変化(ΔYI)は、144時間暴露
におけるYI値から未暴露板のYI値を引いたものとし
て定義される。
ポリウレタン板の各々から読み取られる一つのYI値の
平均である。YIの変化(ΔYI)は、144時間暴露
におけるYI値から未暴露板のYI値を引いたものとし
て定義される。
【表1】
【表2】 * Aは、ベンゼンスルホニル−2−[2−ヒドロキシ−
3−第三ブチル−5−(2−オクチルオキシカルボニル
エチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールを表わ
す。Bは、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三アミ
ルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わす。C
は、5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わ
す。Dは、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニ
ル)−s−トリアジンを表わす。Eは、2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシベンゾフェノンを表わす。Fは、
ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−
4−イル)セバケートを表わす。Gは、5−フェニルチ
オ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わす。Hは、5
−ベンゼンスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3,5
−ジ第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
を表わす。**KJは、示された時間におけるキロジュー
ルでの蓄積されたXAWエネルギーを表わす。
3−第三ブチル−5−(2−オクチルオキシカルボニル
エチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールを表わ
す。Bは、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三アミ
ルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わす。C
は、5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わ
す。Dは、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニ
ル)−s−トリアジンを表わす。Eは、2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシベンゾフェノンを表わす。Fは、
ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−
4−イル)セバケートを表わす。Gは、5−フェニルチ
オ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾールを表わす。Hは、5
−ベンゼンスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3,5
−ジ第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
を表わす。**KJは、示された時間におけるキロジュー
ルでの蓄積されたXAWエネルギーを表わす。
【0067】低いΔYI値が示されている。レッドシフ
トしたベンゾトリアゾール紫外線吸収剤は各々、低いΔ
YI値を示し、そして他のベンゾトリアゾール、s−ト
リアジン及びベンゾフェノン紫外線吸収剤は、それらの
高いΔYI数によって示される如く、褪色からポリウレ
タンを保護しない。これらのデーターを検討することに
より、レッドシフトしたベンゾトリアゾール(但し、慣
用のベンゾトリアゾールではない)の幾分かを障害アミ
ンで置換しても、褪色に対する優れた保護が維持される
ことが示される。
トしたベンゾトリアゾール紫外線吸収剤は各々、低いΔ
YI値を示し、そして他のベンゾトリアゾール、s−ト
リアジン及びベンゾフェノン紫外線吸収剤は、それらの
高いΔYI数によって示される如く、褪色からポリウレ
タンを保護しない。これらのデーターを検討することに
より、レッドシフトしたベンゾトリアゾール(但し、慣
用のベンゾトリアゾールではない)の幾分かを障害アミ
ンで置換しても、褪色に対する優れた保護が維持される
ことが示される。
【0068】これらのベンゾトリアゾール安定剤の幾つ
かは市販されており、そして、他のものは、アメリカ合
衆国特許第5278314号及び第5280124号の
各明細書に記載されている。
かは市販されており、そして、他のものは、アメリカ合
衆国特許第5278314号及び第5280124号の
各明細書に記載されている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラマナサン ラヴィチャンドラン アメリカ合衆国,ニューヨーク 10954, ナヌート,ケンジングタン コート 7
Claims (18)
- 【請求項1】 (a)ポリウレタン、ポリ尿素又はポリ
ウレタン−ポリ尿素と、(b)次式I,II又はIII : 【化1】 〔式中、R1 は水素原子、直鎖状若しくは分岐鎖状の炭
素原子数1ないし24のアルキル基、炭素原子数5ない
し12のシクロアルキル基又は炭素原子数7ないし15
のフェニルアルキル基を表わし、 R2 は直鎖状若しくは分岐鎖状の炭素原子数1ないし2
4のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアル
キル基又は炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル
基を表わし、 R3 は炭素原子数8ないし18のアルキル基、炭素原子
数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基、炭素原子数7ないし15のフェ
ニルアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基
又は1個若しくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換された炭素原子数6ないし10のアリール基
を表わし、 Lは−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わし、 Tは−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S−E−
S−基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E−SO
2 −基を表わし、 Eは炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子
数5ないし12のシクロアルキレン基、又は炭素原子数
8ないし12のシクロヘキシレン基により中断若しくは
末端閉鎖された炭素原子数2ないし12のアルキレン基
を表わし、 nは1又は2を表わしnが1を表わす場合には、R5 は
−OR6 基又は−NH2 基を表わし、ここでR6 は水素
原子又は炭素原子数1ないし24のアルキル基を表わ
し、又は1個若しくはそれより多くの−OH基により置
換された炭素原子数1ないし24のアルキル基を表わ
し、又は−OR6 基は−(OCH2 CH2 )w OH基若
しくは−(OCH2 CH2 )w OR7 基を表わし、ここ
でwは1又は12を表わし、そしてR7 は炭素原子数1
ないし12のアルキル基を表わし、そしてnが2を表わ
す場合には、R5 は−O−R8 −O−基を表わし、ここ
でR8 は1個ないし11個の−O−基により中断された
炭素原子数2ないし24のアルキレン基を表わし、又は
R8 は−CH2 −CHOH−CH2 −O−R9 −O−C
H2 −CHOH−CH2 −基を表わし、ここでR9 はフ
ェニレン基、フェニレン−G−フェニレン基を表わし、
ここでGは直接結合、炭素原子数1ないし8のアルキレ
ン基、−O−基、−S−基又は−SO2 −基を表わす〕
で表わされるレッドシフトした(red-shifted) ベンゾト
リアゾールの有効安定化量とからなる化学線の有害な効
果に対して安定化された組成物。 - 【請求項2】 成分(b)の化合物において、 R1 が水素原子、分岐鎖状の炭素原子数3ないし12の
アルキル基、シクロヘキシル基又は炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基を表わし、 R2 が直鎖状若しくは分岐鎖状の炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、シクロヘキシル基又は炭素原子数7な
いし9のフェニルアルキル基を表わし、 R3 が炭素原子数12ないし18のアルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基、フェニル基又は1個若しくは2個のメチ
ル基により置換されたフェニル基を表わし、 Lが−S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わし、
そしてTが−S−基、−SO−基、−SO2 −基、−S
−E−S−基、−SO−E−SO−基又は−SO2 −E
−SO2 −基を表わし、 Eが炭素原子数2ないし6のアルキレン基、炭素原子数
6ないし8のシクロアルキレン基、又は炭素原子数8な
いし10のシクロヘキシレン基により末端閉鎖されたア
ルキレン基を表わす請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 成分(b)の化合物において、 R1 が水素原子、分岐鎖状の炭素原子数4ないし8のア
ルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、α−メチル
ベンジル基又はα,α−ジメチルベンジル基を表わし、 R2 が直鎖状若しくは分岐鎖状の炭素原子数1ないし8
のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、α−メ
チルベンジル基又はα,α−ジメチルベンジル基を表わ
し、 R3 がフェニル基を表わし、 Lが−S−基又は−SO2 −基を表わし、そしてTが−
S−基、−SO−基又は−SO2 −基を表わす請求項2
記載の組成物。 - 【請求項4】 成分(b)の式III で表わされる化合物
において、 R1 が第三ブチル基を表わし、 R3 がフェニル基を表わし、 nが1又は2を表わしnが1を表わす場合には、R5 は
−OR6 基を表わし、ここでR6 は直鎖状若しくは置換
されたオクチル基を表わし、又はnが2を表わす場合に
は、R5 は−O−R8 −O−基を表わし、ここでR8 は
1個ないし7個の−O−基により中断された炭素原子数
2ないし16のアルキレン基を表わし、又はR8 は−C
H2 −CHOH−CH2 −O−R9 −O−CH2−CH
OH−CH2 −基を表わし、ここでR9 はフェニレン−
G−フェニレン基を表わし、ここでGは2,2−イソプ
ロピリデン基を表わす請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】 成分(b)が、 5−ベンゼンスルホニル−2−[2−ヒドロキシ−3−
第三ブチル−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチ
ル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、 5−フェニルチオ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、又
は 5−ベンゼンスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3,
5−ジ第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾー
ルである請求項1記載の組成物。 - 【請求項6】 障害アミンの有効安定化量を更に含む請
求項1記載の組成物。 - 【請求項7】 障害アミンがビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン−4−イル)セバケートであ
る請求項6記載の組成物。 - 【請求項8】 フェノール系酸化防止剤の有効安定化量
を更に含む請求項1記載の組成物。 - 【請求項9】 芳香族アミン酸化防止剤の有効安定化量
を更に含む請求項1記載の組成物。 - 【請求項10】 障害アミンとフェノール系酸化防止剤
との組み合わせの、障害アミンと芳香族アミン酸化防止
剤との組み合わせの、又は障害アミンとフェノール系酸
化防止剤と芳香族アミン酸化防止剤との組み合わせの有
効安定化量を更に含む請求項1記載の組成物。 - 【請求項11】 o−ヒドロキシフェニル−2H−ベン
ゾトリアゾール、o−ヒドロキシベンゾフェノン、又は
o−ヒドロキシ−フェニル−s−トリアジンである第二
の紫外線吸収剤の有効安定化量を更に含む請求項1記載
の組成物。 - 【請求項12】 第二の紫外線吸収剤がo−ヒドロキシ
フェニル−2H−ベンゾトリアゾールである請求項11
記載の組成物。 - 【請求項13】 第二の紫外線吸収剤が、 a.2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノ
ン、 b.2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s
−トリアジン、 c.2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニ
ル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、 d.2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2
H−ベンゾトリアゾール、 e.2−[2−ヒドロキシ−3,5−(α,α−ジメチ
ルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、 f.2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三アミルフェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾール、 g.2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニ
ル)−2H−ベンゾトリアゾール、 h.2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三
オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、 i.5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、又は j.5−クロロ−2−[2−ヒドロキシ−3−第三ブチ
ル−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェ
ニル]−2H−ベンゾトリアゾールである請求項11記
載の組成物。 - 【請求項14】 式I,II, 又はIII で表わされるレッ
ドシフトしたベンゾトリアゾールの有効量が、ポリマー
形成性成分の重量に対して0.01ないし5重量%であ
る請求項1記載の組成物。 - 【請求項15】 有効安定化量がポリマー形成性成分の
重量に対して0.01ないし5重量%である障害アミン
を更に含む請求項14記載の組成物。 - 【請求項16】 障害アミンの有効安定化量が0.1な
いし1重量%である請求項15記載の組成物。 - 【請求項17】 ポリウレタンが、脂肪族,脂環式及び
/又は芳香族ポリイソシアネートとポリオールとの当モ
ル量又は非化学量論量から製造された請求項1記載の組
成物。 - 【請求項18】 ポリイソシアネートが、 a.“MDI”として知られる2,4′−又は4,4′
−ジフェニルメタンジイソシアネート、 b.“TDI”として知られるトリレン2,4−及び
2,6−ジイソシアネート、 c.MDI及びTDIプレポリマー、 d.“NDI”として知られる1,5−ナフタレンジイ
ソシアネート、 e.“HMDI”として知られる1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、 f.1,3−及び1,4−フェニレンジイソシアネー
ト、 g.エチレンジイソシアネート、 h.1,12−ドデカメチレンジイソシアネート、 i.シクロブタン−1,3−ジイソシアネート、 j.シクロヘキサン−1,3−及び1,4−ジイソシア
ネート、 k.1,5−ジイソシアナト−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、 l.2,4−及び2,6−ヘキサヒドロトルエンジイソ
シアネート、 m.パーヒドロ−2,4′−及び4,4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート、 n.イソホロンジイソシアネート、及び o.トリフェニルメタン−4,4′,4″−トリイソシ
アネートからなる群から選択され、そしてポリオール
が、 a.ポリエーテルポリオール、 b.ポリエステルポリオール、 c.ポリカーボネートポリオール、 d.ポリ(テトラメチレングリコールエーテル),PT
MEG、 e.ポリエステルエーテル、 f.脂肪族ジオール又は脂肪族トリオール、及び g.アミン末端閉鎖ポリオールを包含するポリアミンか
らなる群から選択された請求項17記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US29386094A | 1994-08-22 | 1994-08-22 | |
| US08/293860 | 1994-08-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867813A true JPH0867813A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=23130902
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Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0698637A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0867813A (ja) |
| KR (1) | KR960007670A (ja) |
| BR (1) | BR9503740A (ja) |
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- 1995-08-21 BR BR9503740A patent/BR9503740A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-08-21 KR KR1019950026244A patent/KR960007670A/ko not_active Ceased
- 1995-08-22 JP JP7236100A patent/JPH0867813A/ja active Pending
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| JPWO2020137819A1 (ja) * | 2018-12-26 | 2021-11-25 | ミヨシ油脂株式会社 | 耐光性、耐熱性および耐久性紫外線吸収剤 |
| US12649845B2 (en) | 2018-12-26 | 2026-06-09 | Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. | Light-resistant, heat-resistant and durable ultraviolet absorber |
| JP2025081711A (ja) * | 2020-07-30 | 2025-05-27 | 小林製薬株式会社 | 芳香剤組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960007670A (ko) | 1996-03-22 |
| EP0698637A3 (en) | 1996-07-10 |
| EP0698637A2 (en) | 1996-02-28 |
| CA2156475A1 (en) | 1996-02-23 |
| BR9503740A (pt) | 1996-04-09 |
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