JPH0871978A - マニピュレータ - Google Patents
マニピュレータInfo
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- JPH0871978A JPH0871978A JP15930495A JP15930495A JPH0871978A JP H0871978 A JPH0871978 A JP H0871978A JP 15930495 A JP15930495 A JP 15930495A JP 15930495 A JP15930495 A JP 15930495A JP H0871978 A JPH0871978 A JP H0871978A
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- manipulator
- strain sensor
- gel
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Abstract
(57)【要約】
【目的】摩擦抵抗が小さく、小型で、形状記憶合金やケ
モメカニカルゲルなどの大きな歪み量を発生するアクチ
ュエータを用いながら高精度なセンサーを利用して高精
度な位置制御ができる。 【構成】複数の硬性部13と、隣合う硬性部間に設けら
れた可撓性を有する軟性部14とからなる湾曲構造体1
1と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータ15と、
前記構造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動
制御用歪みセンサー22と制御回路21とを有する。前
記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性部
に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてお
り、これらセンサーと、制御回路とは配線22により電
気的に接続されている。
モメカニカルゲルなどの大きな歪み量を発生するアクチ
ュエータを用いながら高精度なセンサーを利用して高精
度な位置制御ができる。 【構成】複数の硬性部13と、隣合う硬性部間に設けら
れた可撓性を有する軟性部14とからなる湾曲構造体1
1と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータ15と、
前記構造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動
制御用歪みセンサー22と制御回路21とを有する。前
記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性部
に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてお
り、これらセンサーと、制御回路とは配線22により電
気的に接続されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、内視鏡など
に用いられる、湾曲可能なマニピュレータに関する。
に用いられる、湾曲可能なマニピュレータに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、マイクロマシン技術に関心が集ま
ってきており特に、この技術を産業用及び医療用マイク
ロロボット等へ応用することが期待されている。このた
めには、グリッパ等を任意の部位にアクセスするための
マイクロマニピュレータの実現が必須である。これに関
しては、特に、LSI製造技術を応用したシリコンマイ
クロマシニングについて様々な研究が報告されている。
そして、これらの中にはマイクロマニピュレータに関す
るものも多いが、駆動体としてシリコンを用いたアクチ
ュエータは、いずれも変形量と発生量において十分なも
のではなかった。
ってきており特に、この技術を産業用及び医療用マイク
ロロボット等へ応用することが期待されている。このた
めには、グリッパ等を任意の部位にアクセスするための
マイクロマニピュレータの実現が必須である。これに関
しては、特に、LSI製造技術を応用したシリコンマイ
クロマシニングについて様々な研究が報告されている。
そして、これらの中にはマイクロマニピュレータに関す
るものも多いが、駆動体としてシリコンを用いたアクチ
ュエータは、いずれも変形量と発生量において十分なも
のではなかった。
【0003】一方、変位量と発生力量において優れてい
る形状記憶合金アクチュエータを用いたマイクロマニピ
ュレータとしては、例えば特開平6−91582号公報
に開示されているものが知られている。この公知例に
は、リンク構造を有する多関節構造体の各関節に、アク
チュエータやアクチュエータに設けられた歪みセンサー
やそれを制御する制御回路が一体化されたマニピュレー
タが示されている。また、変形量において優れているケ
モメカニカルゲルアクチュエータを利用したマニピュレ
ータについても知られている。
る形状記憶合金アクチュエータを用いたマイクロマニピ
ュレータとしては、例えば特開平6−91582号公報
に開示されているものが知られている。この公知例に
は、リンク構造を有する多関節構造体の各関節に、アク
チュエータやアクチュエータに設けられた歪みセンサー
やそれを制御する制御回路が一体化されたマニピュレー
タが示されている。また、変形量において優れているケ
モメカニカルゲルアクチュエータを利用したマニピュレ
ータについても知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術に示されている構造のマニピュレータを更に小型化、
高効率化、高機能化するためには幾つかの問題点があ
る。例えば、特開平6−91582号に示されているよ
うな、リンク構造を有する関節構造体を用いたマニピュ
レータの場合は、リンク部の摺動摩擦抵抗が問題とな
り、特に小型化に伴いマニピュレータで発生する力量に
対する摺動摩擦抵抗の割合が大きくなるために駆動の妨
げとなる恐れがある。また、形状記憶合金などの大きな
歪み量を発生するアクチュエータを用いたマニピュレー
タにおいては、アクチュエータに設けられた歪みセンサ
ーによって位置制御を行う場合、歪みセンサーにも大き
な歪みが加わるために、高感度なピエゾ抵抗素子や感圧
ダイオードなどの歪みセンサーは半導体の延性が小さい
ので適用は困難である。また、金属箔などの抵抗変化を
利用した金属歪みゲージではゲージ率が小さいので高精
度の歪み測定は困難である。
術に示されている構造のマニピュレータを更に小型化、
高効率化、高機能化するためには幾つかの問題点があ
る。例えば、特開平6−91582号に示されているよ
うな、リンク構造を有する関節構造体を用いたマニピュ
レータの場合は、リンク部の摺動摩擦抵抗が問題とな
り、特に小型化に伴いマニピュレータで発生する力量に
対する摺動摩擦抵抗の割合が大きくなるために駆動の妨
げとなる恐れがある。また、形状記憶合金などの大きな
歪み量を発生するアクチュエータを用いたマニピュレー
タにおいては、アクチュエータに設けられた歪みセンサ
ーによって位置制御を行う場合、歪みセンサーにも大き
な歪みが加わるために、高感度なピエゾ抵抗素子や感圧
ダイオードなどの歪みセンサーは半導体の延性が小さい
ので適用は困難である。また、金属箔などの抵抗変化を
利用した金属歪みゲージではゲージ率が小さいので高精
度の歪み測定は困難である。
【0005】したがって、この発明はこれらの問題を克
服し、摩擦抵抗が小さく、小型で、形状記憶合金やケモ
メカニカルゲルなどのような大きな歪み量を発生するア
クチュエータを用いながら高精度な半導体歪みセンサー
のような駆動制御用歪みセンサーを利用して高精度な位
置制御ができるマニピュレータを提供することを目的と
する。
服し、摩擦抵抗が小さく、小型で、形状記憶合金やケモ
メカニカルゲルなどのような大きな歪み量を発生するア
クチュエータを用いながら高精度な半導体歪みセンサー
のような駆動制御用歪みセンサーを利用して高精度な位
置制御ができるマニピュレータを提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係わるマニピ
ュレータは、少なくとも2つの硬性部と、この硬性部間
に設けられた可撓性を有する軟性部とからなる湾曲構造
体と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータと、前記
構造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動制御
用歪みセンサーと制御回路とを有し、前記アクチュエー
タの駆動を制御するデバイスと、このアクチュエータに
駆動エネルギーを供給して前記軟性部を屈曲させるエネ
ルギー供給手段とを具備するマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性
部に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてい
ることを特徴とする。
ュレータは、少なくとも2つの硬性部と、この硬性部間
に設けられた可撓性を有する軟性部とからなる湾曲構造
体と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータと、前記
構造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動制御
用歪みセンサーと制御回路とを有し、前記アクチュエー
タの駆動を制御するデバイスと、このアクチュエータに
駆動エネルギーを供給して前記軟性部を屈曲させるエネ
ルギー供給手段とを具備するマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性
部に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてい
ることを特徴とする。
【0007】
【作用】この発明に係わるマニピュレータにいおいて、
アクチュエータにエネルギーを供給することにより、ア
クチュエータは湾曲構造体を軟性部の所で湾曲させる。
そして、この湾曲度合は駆動制御用歪みセンサーによっ
て検出され、この検出信号に応じた信号が制御回路に送
られ、この制御回路によりアクチュエータに供給される
エネルギーが制御される。このようにして、アクチュエ
ータをフイードバック制御することにより、湾曲構造体
は所定の度合に湾曲される。
アクチュエータにエネルギーを供給することにより、ア
クチュエータは湾曲構造体を軟性部の所で湾曲させる。
そして、この湾曲度合は駆動制御用歪みセンサーによっ
て検出され、この検出信号に応じた信号が制御回路に送
られ、この制御回路によりアクチュエータに供給される
エネルギーが制御される。このようにして、アクチュエ
ータをフイードバック制御することにより、湾曲構造体
は所定の度合に湾曲される。
【0008】
【実施例】次に、図1ないし図3を参照してこの発明の
第1実施例に係わるマニピュレータを説明する。このマ
ニピュレータは、軸方向に貫通した透孔を有する細長い
円筒状の湾曲構造体11を有する。この湾曲構造体11
は、夫々円形空腔12を有する硬性部13と軟性部14
とを軸方向に沿って同軸的に交互に配置させた構成を持
つ。即ち、隣り合う2つの硬性部13間に1つの軟性部
14が接続されている。このような湾曲構造体11とし
ては、軟性部14は伸縮性を有するプラスチックなど高
分子材料から構成されているが、軟性部14に一部分硬
性部の部材を補強材として延在させた構造としても良
い。特に、軟性部14として、円周方向には伸縮量が小
さく水平方向に伸縮しやすい異方性伸縮材料などを用い
ることが望ましい。このような異方性伸縮材料として
は、例えば、ゴム状高分子材料にコイルバネを埋設した
ような複合材料などが使用される。また、硬性部13
は、金属射出成形などの方法で形成される金属構造体
や、熱により軟化しにくい樹脂、例えば、熱硬化性樹脂
などの材料からなる構造体が用いられる。また、この構
造体11は、硬性部を剛性の高い樹脂で、光造形法で形
成した後、樹脂を入れ替えて剛性の低い樹脂を用いて軟
性部を光造形法で形成する、複合光造形法を用いて製作
することができる。なお、この複合光造形法について
は、例えば、特開平7−60843に詳細に開示されて
いる。
第1実施例に係わるマニピュレータを説明する。このマ
ニピュレータは、軸方向に貫通した透孔を有する細長い
円筒状の湾曲構造体11を有する。この湾曲構造体11
は、夫々円形空腔12を有する硬性部13と軟性部14
とを軸方向に沿って同軸的に交互に配置させた構成を持
つ。即ち、隣り合う2つの硬性部13間に1つの軟性部
14が接続されている。このような湾曲構造体11とし
ては、軟性部14は伸縮性を有するプラスチックなど高
分子材料から構成されているが、軟性部14に一部分硬
性部の部材を補強材として延在させた構造としても良
い。特に、軟性部14として、円周方向には伸縮量が小
さく水平方向に伸縮しやすい異方性伸縮材料などを用い
ることが望ましい。このような異方性伸縮材料として
は、例えば、ゴム状高分子材料にコイルバネを埋設した
ような複合材料などが使用される。また、硬性部13
は、金属射出成形などの方法で形成される金属構造体
や、熱により軟化しにくい樹脂、例えば、熱硬化性樹脂
などの材料からなる構造体が用いられる。また、この構
造体11は、硬性部を剛性の高い樹脂で、光造形法で形
成した後、樹脂を入れ替えて剛性の低い樹脂を用いて軟
性部を光造形法で形成する、複合光造形法を用いて製作
することができる。なお、この複合光造形法について
は、例えば、特開平7−60843に詳細に開示されて
いる。
【0009】前記湾曲構造体11の外面には、少なくと
も1つ(図1に示す実施例では2つ)のアクチュエータ
15が構造体11の長手方向に沿って延出するように配
設されている。このアクチュエータ15は、TiNi合
金などからなる形状記憶合金でできたストリップ形状を
なし、この両端が軟性部14の両端から、硬性部13に
向かって延出するように中央部が軟性部14に設けられ
ている。この形状記憶合金には、温度変化により2方向
性の屈曲変形をする全方向形状記憶処理が予め施されて
いる。そして、このアクチュエータ15の両端部は、硬
性部13の外面に設けられた支持部材16により支持さ
れている。この支持部材16は、支持部材16と硬性部
13の外面との間にアクチュエータ15の一端部が挿入
されるように中央が硬性部13の表面から離間した板状
に形成されている。尚、このアクチュエータ15の端部
は、少なくとも一方が支持部材16に対して長手方向に
移動可能なように、支持部材16に支持されている。こ
の支持部材は、湾曲構造体とは別体のものをこれに取着
することにより形成しても、構造体の一部を変形するこ
とにより形成しても良い。
も1つ(図1に示す実施例では2つ)のアクチュエータ
15が構造体11の長手方向に沿って延出するように配
設されている。このアクチュエータ15は、TiNi合
金などからなる形状記憶合金でできたストリップ形状を
なし、この両端が軟性部14の両端から、硬性部13に
向かって延出するように中央部が軟性部14に設けられ
ている。この形状記憶合金には、温度変化により2方向
性の屈曲変形をする全方向形状記憶処理が予め施されて
いる。そして、このアクチュエータ15の両端部は、硬
性部13の外面に設けられた支持部材16により支持さ
れている。この支持部材16は、支持部材16と硬性部
13の外面との間にアクチュエータ15の一端部が挿入
されるように中央が硬性部13の表面から離間した板状
に形成されている。尚、このアクチュエータ15の端部
は、少なくとも一方が支持部材16に対して長手方向に
移動可能なように、支持部材16に支持されている。こ
の支持部材は、湾曲構造体とは別体のものをこれに取着
することにより形成しても、構造体の一部を変形するこ
とにより形成しても良い。
【0010】このようにアクチュエータとして形状記憶
合金を使用すると、アクチュエータの変形量及び変形力
を大きく設定することができるので、湾曲変形量及び変
形力の大きいマニピュレータを制御することができる。
合金を使用すると、アクチュエータの変形量及び変形力
を大きく設定することができるので、湾曲変形量及び変
形力の大きいマニピュレータを制御することができる。
【0011】前記湾曲構造体11の外表面には、テバイ
ス17が接着又は熱溶着などにより取着されている。こ
のデバイス17は、所定の形状にパターン化された可撓
性薄膜の内部または表面に形成された制御回路21、駆
動制御用歪みセンサー22、電熱変換素子25、マニピ
ュレータを動作させる外部のコントローラに接続するた
めの電極パッド26、並びに、これらを電気的に接続す
る配線24により構成されている。このデバイス17
は、例えば、以下のようなプロセスによって形成され
る。
ス17が接着又は熱溶着などにより取着されている。こ
のデバイス17は、所定の形状にパターン化された可撓
性薄膜の内部または表面に形成された制御回路21、駆
動制御用歪みセンサー22、電熱変換素子25、マニピ
ュレータを動作させる外部のコントローラに接続するた
めの電極パッド26、並びに、これらを電気的に接続す
る配線24により構成されている。このデバイス17
は、例えば、以下のようなプロセスによって形成され
る。
【0012】まず、P型で(100)の面方位を有する
単結晶シリコン基板の所定の領域に、電子回路を形成す
る深いN型拡散層と半導体歪みセンサーとして機能させ
る浅いN型拡散層とを形成し、次に、この深いN型拡散
層の領域に通常の半導体製造技術を用いてCMOS構成
の電子回路を形成する。この深いN型拡散層と浅いN型
拡散層とは、図2における電子回路21と歪みセンサー
22とにそれぞれ該当する。
単結晶シリコン基板の所定の領域に、電子回路を形成す
る深いN型拡散層と半導体歪みセンサーとして機能させ
る浅いN型拡散層とを形成し、次に、この深いN型拡散
層の領域に通常の半導体製造技術を用いてCMOS構成
の電子回路を形成する。この深いN型拡散層と浅いN型
拡散層とは、図2における電子回路21と歪みセンサー
22とにそれぞれ該当する。
【0013】続いて、シリコン異方性エッチングのエッ
チングストッパー層であるシリコン窒化膜を成膜し、こ
の膜の制御回路21及び駆動制御用歪みセンサー22に
対応する箇所にリソグラフィ方法によりコンタクトホー
ルを形成する。
チングストッパー層であるシリコン窒化膜を成膜し、こ
の膜の制御回路21及び駆動制御用歪みセンサー22に
対応する箇所にリソグラフィ方法によりコンタクトホー
ルを形成する。
【0014】次に、この上に膜厚2μmのポリイミドを
成膜し、そして必要な箇所にリソグラフィ方法によりコ
ンタクトホールを形成する。この後、このポリイミド膜
の上にアルミニウム等からなる配線24、及び電熱変換
素子25をリソグラフィ方法により形成する。更に、こ
の上にもう一度、膜厚2μmのポリイミドを成膜し、さ
らにこのポリイミド膜の電極パッド26となる箇所にリ
ソグラフィ方法によりコンタクトホールを形成する。こ
うして、配線24、及び電熱変換素子25を内部に埋設
した構成のポリイミド膜からなる絶縁性を有する可撓性
薄膜23を形成する。
成膜し、そして必要な箇所にリソグラフィ方法によりコ
ンタクトホールを形成する。この後、このポリイミド膜
の上にアルミニウム等からなる配線24、及び電熱変換
素子25をリソグラフィ方法により形成する。更に、こ
の上にもう一度、膜厚2μmのポリイミドを成膜し、さ
らにこのポリイミド膜の電極パッド26となる箇所にリ
ソグラフィ方法によりコンタクトホールを形成する。こ
うして、配線24、及び電熱変換素子25を内部に埋設
した構成のポリイミド膜からなる絶縁性を有する可撓性
薄膜23を形成する。
【0015】最後に、アルミニウム等からなる電極パッ
ド26を可撓性薄膜23上にリソグラフィ方法により形
成する。このように、シリコン基板に一体形成されたデ
バイス17は、制御回路21及び駆動制御用歪みセンサ
ー22が形成されているN型拡散領域を陽極に、また水
酸化カリウム水溶液等のエッチング液中に浸した白金等
の電極を陰極として数ボルトの電圧を印加しながら異方
性エッチングを行う電気化学エッチング法を使用して、
N型拡散領域及びシリコン窒化膜等で保護されない部分
のシリコンを除去する加工を施す。この異方性エッチン
グを行う前に、可撓性薄膜23や配線24、及び電熱変
換素子25等が形成されているシリコン基板の表面側を
エッチング液に侵されないように保護しており、シリコ
ン基板の裏面側の異方性エッチングを施さないところを
シリコン窒化膜等で保護している。
ド26を可撓性薄膜23上にリソグラフィ方法により形
成する。このように、シリコン基板に一体形成されたデ
バイス17は、制御回路21及び駆動制御用歪みセンサ
ー22が形成されているN型拡散領域を陽極に、また水
酸化カリウム水溶液等のエッチング液中に浸した白金等
の電極を陰極として数ボルトの電圧を印加しながら異方
性エッチングを行う電気化学エッチング法を使用して、
N型拡散領域及びシリコン窒化膜等で保護されない部分
のシリコンを除去する加工を施す。この異方性エッチン
グを行う前に、可撓性薄膜23や配線24、及び電熱変
換素子25等が形成されているシリコン基板の表面側を
エッチング液に侵されないように保護しており、シリコ
ン基板の裏面側の異方性エッチングを施さないところを
シリコン窒化膜等で保護している。
【0016】異方性エッチングの後は、不要なエッチン
グストッパーを反応性イオンエッチング法等で除去し、
その後、可撓性薄膜23をシリコン基板から切り出し、
薄膜化されたデバイス17を得る。
グストッパーを反応性イオンエッチング法等で除去し、
その後、可撓性薄膜23をシリコン基板から切り出し、
薄膜化されたデバイス17を得る。
【0017】この可撓性薄膜23は、図2に示すよう
に、共通直線部23aと、この直線部23aの途中か
ら、これに直交し、かつ互いに異なる方向に分岐した第
1の分岐部23b並びに第2の分岐部23cとからな
る。各第1の分岐部23bは、硬性部13の所で前記支
持部材16に向かって分岐し、この支持部材16の所で
直角に折曲して隣の支持部材16の所まで軟性部14上
を通って軸方向に延出している。一方、前記第2の分岐
部23cは軟性部14のほぼ中間の所で分岐し、所定長
さ直線状に延出し軟性部14の中央部の所で終端してい
る。そして、この配線24は、各線を互いに絶縁するよ
うに分離して形成された電源線、グランド線、信号線、
及び同期信号線により構成されている。この制御回路2
1は、共通直線部23a上の前記第1の分岐部23bの
分岐する箇所に、前述の電気化学エッチングによって選
択的に残存させられた深いN型拡散領域内の回路領域と
して配置されている。なお、この手法の詳細について
は、特開平6−91582に開示されている。一方、前
記歪みセンサー22は、第2の分岐部23cの終端部に
配置された、前述の電気化学エッチングによって選択的
に残存させられた浅いN型拡散領域であり、ピエゾ抵抗
効果による半導体歪みゲージとして機能する。また、前
記電熱変換素子25は、アクチュエータ15の下に、こ
れに沿って延出するようにして、前記第1の分岐部23
bの支持部材16間の部分に取着されている。そして、
前記電極パッド26は、通常の半導体集積回路と同様な
形態で、共通直線部23aの一端に形成される。また、
このデバイス17は、マニピュレータの湾曲変形により
伸び変形もしくは破断などしないように、湾曲構造体に
配置する際に適当なたるみを持たせるように、複数の箇
所において湾曲構造体に接着もしくは熱溶着などの方法
で固定される。固定部位としては、電熱変換素子の領域
25がアクチュエータ15の表面又は裏面のほぼ全域で
接着もしくは溶着により張り付けられ、制御回路21と
その近傍領域が湾曲構造体の硬性部14に、全面もしく
は部分的な溶着によって固定される。位置的に軟性部1
3に沿って配置される配線24の領域は、適度なたるみ
をもって、硬性部に対応する両端で支持された状態で湾
曲構造体から遊離しているか、もしくは離散的ないくつ
かの箇所において部分的に接着もしくは溶着されてい
る。但し、センサー22の部分については、マニピュレ
ータの湾曲量を検出するために、軟性部14に対して接
着もしくは溶着によって固定されていることが必要であ
ることは言うまでもない。尚、前記電熱変換素子25と
しては、形状記憶合金の大きな変形量によって塑性変形
や破断しないように、超弾性を有する金属材料を、半導
体構造技術などを利用して所定形状に加工したものが使
用されている。また、この電熱変換素子は、アクチュエ
ータ15に対しては、熱が伝えやすいように、上述のよ
うに張り付けて配置しているが、前記湾曲構造体11の
軟性部に対しては、歪みの影響をさけるため、離間して
配置することが好ましい。
に、共通直線部23aと、この直線部23aの途中か
ら、これに直交し、かつ互いに異なる方向に分岐した第
1の分岐部23b並びに第2の分岐部23cとからな
る。各第1の分岐部23bは、硬性部13の所で前記支
持部材16に向かって分岐し、この支持部材16の所で
直角に折曲して隣の支持部材16の所まで軟性部14上
を通って軸方向に延出している。一方、前記第2の分岐
部23cは軟性部14のほぼ中間の所で分岐し、所定長
さ直線状に延出し軟性部14の中央部の所で終端してい
る。そして、この配線24は、各線を互いに絶縁するよ
うに分離して形成された電源線、グランド線、信号線、
及び同期信号線により構成されている。この制御回路2
1は、共通直線部23a上の前記第1の分岐部23bの
分岐する箇所に、前述の電気化学エッチングによって選
択的に残存させられた深いN型拡散領域内の回路領域と
して配置されている。なお、この手法の詳細について
は、特開平6−91582に開示されている。一方、前
記歪みセンサー22は、第2の分岐部23cの終端部に
配置された、前述の電気化学エッチングによって選択的
に残存させられた浅いN型拡散領域であり、ピエゾ抵抗
効果による半導体歪みゲージとして機能する。また、前
記電熱変換素子25は、アクチュエータ15の下に、こ
れに沿って延出するようにして、前記第1の分岐部23
bの支持部材16間の部分に取着されている。そして、
前記電極パッド26は、通常の半導体集積回路と同様な
形態で、共通直線部23aの一端に形成される。また、
このデバイス17は、マニピュレータの湾曲変形により
伸び変形もしくは破断などしないように、湾曲構造体に
配置する際に適当なたるみを持たせるように、複数の箇
所において湾曲構造体に接着もしくは熱溶着などの方法
で固定される。固定部位としては、電熱変換素子の領域
25がアクチュエータ15の表面又は裏面のほぼ全域で
接着もしくは溶着により張り付けられ、制御回路21と
その近傍領域が湾曲構造体の硬性部14に、全面もしく
は部分的な溶着によって固定される。位置的に軟性部1
3に沿って配置される配線24の領域は、適度なたるみ
をもって、硬性部に対応する両端で支持された状態で湾
曲構造体から遊離しているか、もしくは離散的ないくつ
かの箇所において部分的に接着もしくは溶着されてい
る。但し、センサー22の部分については、マニピュレ
ータの湾曲量を検出するために、軟性部14に対して接
着もしくは溶着によって固定されていることが必要であ
ることは言うまでもない。尚、前記電熱変換素子25と
しては、形状記憶合金の大きな変形量によって塑性変形
や破断しないように、超弾性を有する金属材料を、半導
体構造技術などを利用して所定形状に加工したものが使
用されている。また、この電熱変換素子は、アクチュエ
ータ15に対しては、熱が伝えやすいように、上述のよ
うに張り付けて配置しているが、前記湾曲構造体11の
軟性部に対しては、歪みの影響をさけるため、離間して
配置することが好ましい。
【0018】前記歪みセンサー22は、前記配線24に
より制御回路21に電気的に接続され、電極パッド26
に接続されたマニピュレータのコントローラに信号を伝
達し、コントローラ内で歪みセンサーの歪み量からマニ
ピュレータの屈曲角を計算し、アクチュエータのフィー
ドバック制御する。
より制御回路21に電気的に接続され、電極パッド26
に接続されたマニピュレータのコントローラに信号を伝
達し、コントローラ内で歪みセンサーの歪み量からマニ
ピュレータの屈曲角を計算し、アクチュエータのフィー
ドバック制御する。
【0019】前記電熱変換素子25は、上述したように
アクチュエータ15の下にこれに沿って配設されてお
り、また配線24を介して制御回路21に電気的に接続
されている。この結果、この電熱変換素子25には、制
御回路21から制御された電流が供給され発熱して、こ
の供給電流値に対応した度合でアクチュエータ15を湾
曲させる。このように、アクチュエータ15は、電熱変
換素子25に対して、熱伝達を受けられるように配置さ
れており、電熱変換素子25に接合されていても、電熱
変換素子25に対して摺動可能に設けられていても良
い。
アクチュエータ15の下にこれに沿って配設されてお
り、また配線24を介して制御回路21に電気的に接続
されている。この結果、この電熱変換素子25には、制
御回路21から制御された電流が供給され発熱して、こ
の供給電流値に対応した度合でアクチュエータ15を湾
曲させる。このように、アクチュエータ15は、電熱変
換素子25に対して、熱伝達を受けられるように配置さ
れており、電熱変換素子25に接合されていても、電熱
変換素子25に対して摺動可能に設けられていても良
い。
【0020】上記構成のマニピュレータの作用を以下に
説明する。まず、電極パッド26を外部コントローラに
接続すると共に、図示しない電源をONにする。この結
果、外部コントローラから電力が、電極パッド26並び
に制御回路21を介して電熱変換素子25に与えられ
る。この電熱変換素子25は通電により加熱し、形状記
憶合金からなるアクチュエータ15に熱を伝え、形状記
憶合金の変態温度以上に加熱された時点で形状記憶させ
た形状に屈曲変形をする。このときのアクチュエータ1
5によって発生した変形量及び変形力は、支持部材16
によって、硬性部13に伝達し、更に硬性部13を介し
て軟性部14に伝達され、それに応じて軟性部14は変
形して、図3に示したようにマニピュレータは湾曲変形
される。また、この軟性部14の変形によって、駆動制
御用歪みセンサー22に歪みが与えられ、それに応じた
出力信号を歪みセンサー22は制御回路21に出力す
る。この歪みセンサー22の出力に応じて、外部コント
ローラは制御回路21に電熱変換素子25に供給する電
力を制御するための信号を送り、それによりアクチュエ
ータ15の屈曲角を制御するといったフィードバック制
御を行う。
説明する。まず、電極パッド26を外部コントローラに
接続すると共に、図示しない電源をONにする。この結
果、外部コントローラから電力が、電極パッド26並び
に制御回路21を介して電熱変換素子25に与えられ
る。この電熱変換素子25は通電により加熱し、形状記
憶合金からなるアクチュエータ15に熱を伝え、形状記
憶合金の変態温度以上に加熱された時点で形状記憶させ
た形状に屈曲変形をする。このときのアクチュエータ1
5によって発生した変形量及び変形力は、支持部材16
によって、硬性部13に伝達し、更に硬性部13を介し
て軟性部14に伝達され、それに応じて軟性部14は変
形して、図3に示したようにマニピュレータは湾曲変形
される。また、この軟性部14の変形によって、駆動制
御用歪みセンサー22に歪みが与えられ、それに応じた
出力信号を歪みセンサー22は制御回路21に出力す
る。この歪みセンサー22の出力に応じて、外部コント
ローラは制御回路21に電熱変換素子25に供給する電
力を制御するための信号を送り、それによりアクチュエ
ータ15の屈曲角を制御するといったフィードバック制
御を行う。
【0021】このように本実施例は、軟性部14が変形
することによりマニピュレータが湾曲変形する構成であ
るので、湾曲部分の摺動抵抗がなく、アクチュエータ1
5で発生した変形量及び変形力を低減することなくマニ
ピュレータの湾曲動作に作用させることができる。ま
た、制御回路21が硬性部13に配置しているために、
制御回路21の変形による回路特性の変動を回避するこ
とができるので、常に正常に制御することができる。そ
して、大きな変形量を発生する形状記憶合金を用いたア
クチュエータ15においても、軟性部14にこの歪みセ
ンサー22が配置されているために加わる歪みが小さ
く、高感度な半導体歪みセンサー22を使用できる。
することによりマニピュレータが湾曲変形する構成であ
るので、湾曲部分の摺動抵抗がなく、アクチュエータ1
5で発生した変形量及び変形力を低減することなくマニ
ピュレータの湾曲動作に作用させることができる。ま
た、制御回路21が硬性部13に配置しているために、
制御回路21の変形による回路特性の変動を回避するこ
とができるので、常に正常に制御することができる。そ
して、大きな変形量を発生する形状記憶合金を用いたア
クチュエータ15においても、軟性部14にこの歪みセ
ンサー22が配置されているために加わる歪みが小さ
く、高感度な半導体歪みセンサー22を使用できる。
【0022】なお、本実施例の各構成は、当然、各種の
変形、変更が可能である。例えば、駆動制御用歪みセン
サー22において、複数の半導体抵抗体を用い、温度補
償などの補償を可能とするためのブリッジ回路を形成す
ることが可能である。
変形、変更が可能である。例えば、駆動制御用歪みセン
サー22において、複数の半導体抵抗体を用い、温度補
償などの補償を可能とするためのブリッジ回路を形成す
ることが可能である。
【0023】次に、図4を参照してにこの発明の第2の
実施例に係わるマニピュレータを説明する。この実施例
のマニピュレータは、第1の実施例とほぼ同じ構成を持
つが、軟性部14並びにアクチュエータ15に代わっ
て、これらを兼用する手段として電気応答型ケモメカニ
カルゲル51が使用されている。このケモメカニカルゲ
ル51は、硬性部13と同形状の円筒状をなし、隣接す
る1対の硬性部13間に同軸的に挟持されている。ま
た、前記第1の分岐部23bは、1つの制御回路21に
対して、互いに反対方向に延びるようにして2つ形成さ
れている。そして、これら第1の分岐部23bの終端部
上には、即ち、ケモメカニカルゲル51上には、前記電
熱変換素子25に代えて、このゲル51に電圧を印加す
るためのストリップ形状の電極52が、制御回路21と
電気的に接続し、互いに対向するように取着されてい
る。これら電極52は、軸方向に延びたストリップ形状
をなし、導電性薄膜、例えば、白金薄膜により形成され
ている。そして、この電極はゲル表面もしくは表層部
に、このゲルの変形を妨げにくいように、好ましくは摺
動可能に配置されている。この電極の配置位置について
は、マニピュレータが湾曲変形するように設定されてい
る。また、好ましくは、図示のように、一方の電極52
の近くに前記駆動制御用歪みセンサー22が配設されて
いる。
実施例に係わるマニピュレータを説明する。この実施例
のマニピュレータは、第1の実施例とほぼ同じ構成を持
つが、軟性部14並びにアクチュエータ15に代わっ
て、これらを兼用する手段として電気応答型ケモメカニ
カルゲル51が使用されている。このケモメカニカルゲ
ル51は、硬性部13と同形状の円筒状をなし、隣接す
る1対の硬性部13間に同軸的に挟持されている。ま
た、前記第1の分岐部23bは、1つの制御回路21に
対して、互いに反対方向に延びるようにして2つ形成さ
れている。そして、これら第1の分岐部23bの終端部
上には、即ち、ケモメカニカルゲル51上には、前記電
熱変換素子25に代えて、このゲル51に電圧を印加す
るためのストリップ形状の電極52が、制御回路21と
電気的に接続し、互いに対向するように取着されてい
る。これら電極52は、軸方向に延びたストリップ形状
をなし、導電性薄膜、例えば、白金薄膜により形成され
ている。そして、この電極はゲル表面もしくは表層部
に、このゲルの変形を妨げにくいように、好ましくは摺
動可能に配置されている。この電極の配置位置について
は、マニピュレータが湾曲変形するように設定されてい
る。また、好ましくは、図示のように、一方の電極52
の近くに前記駆動制御用歪みセンサー22が配設されて
いる。
【0024】前記電気応答型ケモメカニカルゲルは、電
気刺激に対して変形をするもので、例えば、ポリビニル
アルコールとポリアクリル酸ナトリウムの共重合体(P
VA−PAA)ゲルや、ポリ−2−アクリルアミド−−
2−メチルプロバンスルホン酸(PAMPS)ゲル、ア
クリルニトリルゲル、アクリルアミドゲルなどの高分子
ゲルであり、また、パーフルオロスルホン酸、ポリエチ
レンスルホン酸といったイオン交換樹脂なども含む。
気刺激に対して変形をするもので、例えば、ポリビニル
アルコールとポリアクリル酸ナトリウムの共重合体(P
VA−PAA)ゲルや、ポリ−2−アクリルアミド−−
2−メチルプロバンスルホン酸(PAMPS)ゲル、ア
クリルニトリルゲル、アクリルアミドゲルなどの高分子
ゲルであり、また、パーフルオロスルホン酸、ポリエチ
レンスルホン酸といったイオン交換樹脂なども含む。
【0025】この第2の実施例において、電極52より
このゲル51に電圧を印加することにより、この当ゲル
は屈曲変形を起こし、マニピュレータは湾曲変形する。
このように、この実施例によれば、ケモメカニカルゲル
51が、湾曲構造体の軟性部とアクチュエータとを兼ね
るので、構成が簡略化され、小型化が可能となる。ま
た、ケモメカニカルゲルは、変形量が大きいので、マニ
ピュレータの湾曲量を大きくすることが可能である。さ
らに、応答性及び制御性が良い効果もある。
このゲル51に電圧を印加することにより、この当ゲル
は屈曲変形を起こし、マニピュレータは湾曲変形する。
このように、この実施例によれば、ケモメカニカルゲル
51が、湾曲構造体の軟性部とアクチュエータとを兼ね
るので、構成が簡略化され、小型化が可能となる。ま
た、ケモメカニカルゲルは、変形量が大きいので、マニ
ピュレータの湾曲量を大きくすることが可能である。さ
らに、応答性及び制御性が良い効果もある。
【0026】次に、この発明の第3実施例を説明する。
この実施例のマニピュレータは、特に図示しないが、以
下のように構成されている。第1の実施例とほぼ同じ構
成を持つが、図1における軟性部14に該当する部分が
熱応答型ケモメカニカルゲルで構成され、この部位が加
熱・冷却によって湾曲動作する。即ち、軟性部自体がア
クチュエータとして機能するので、図1におけるアクチ
ュエータ15及び支持部材16に該当する部分は不要と
なる。本実施例においては、アチュエータを動作させる
ために熱応答型ケモメカニカルゲルで構成された軟性部
を加熱する機構が必要となるが、これは図2に示された
可撓性薄膜の電熱変換素子25が直接軟性部を加熱する
ように配置することによって容易に実現できる。本実施
例においても、第1の実施例と同様に、センサーの歪み
量からマニピュレータの屈曲角を計算し、アクチュエー
タをフィードバック制御する。
この実施例のマニピュレータは、特に図示しないが、以
下のように構成されている。第1の実施例とほぼ同じ構
成を持つが、図1における軟性部14に該当する部分が
熱応答型ケモメカニカルゲルで構成され、この部位が加
熱・冷却によって湾曲動作する。即ち、軟性部自体がア
クチュエータとして機能するので、図1におけるアクチ
ュエータ15及び支持部材16に該当する部分は不要と
なる。本実施例においては、アチュエータを動作させる
ために熱応答型ケモメカニカルゲルで構成された軟性部
を加熱する機構が必要となるが、これは図2に示された
可撓性薄膜の電熱変換素子25が直接軟性部を加熱する
ように配置することによって容易に実現できる。本実施
例においても、第1の実施例と同様に、センサーの歪み
量からマニピュレータの屈曲角を計算し、アクチュエー
タをフィードバック制御する。
【0027】前記熱応答型ケモメカニカルゲルは、熱の
変化に対応して変形をするもので、例えば、ポリビニル
メチルエーテル(PVME)ゲルやN置換アクリルアミ
ドゲルなどの高分子ゲルである。
変化に対応して変形をするもので、例えば、ポリビニル
メチルエーテル(PVME)ゲルやN置換アクリルアミ
ドゲルなどの高分子ゲルである。
【0028】また、この当ゲルを加熱するための電熱変
換素子は、超弾性材料などの金属材料を、半導体製造技
術などを利用して所定形状に加工して、通電によりジュ
ール熱を発生させるものである。そして、この電熱変換
素子は、このゲルの表面もしくは表層部に、このゲルの
変形を妨げにくいように摺動可能、且つ、熱を伝えやす
いように配置されている。
換素子は、超弾性材料などの金属材料を、半導体製造技
術などを利用して所定形状に加工して、通電によりジュ
ール熱を発生させるものである。そして、この電熱変換
素子は、このゲルの表面もしくは表層部に、このゲルの
変形を妨げにくいように摺動可能、且つ、熱を伝えやす
いように配置されている。
【0029】この実施例においては、電熱変換素子に制
御された電流を供給することによりこれが加熱し、この
素子に近いゲルの部分を加熱して収縮変形を起こさせ
る。かくして、このゲルからなる軟性部は収縮変形を起
こした方向に屈曲変形する。また、加熱を停止すること
により、このゲルの温度が低下し、それに応じて膨潤変
形して元の形状に戻る。このようにして、マニピュレー
タは湾曲変形することができる。
御された電流を供給することによりこれが加熱し、この
素子に近いゲルの部分を加熱して収縮変形を起こさせ
る。かくして、このゲルからなる軟性部は収縮変形を起
こした方向に屈曲変形する。また、加熱を停止すること
により、このゲルの温度が低下し、それに応じて膨潤変
形して元の形状に戻る。このようにして、マニピュレー
タは湾曲変形することができる。
【0030】尚、この第3の実施例のマニピュレータ
は、前記第2の実施例のものと同様の効果を奏する。次
に、図5を参照してこの発明の第4実施例を説明する。
は、前記第2の実施例のものと同様の効果を奏する。次
に、図5を参照してこの発明の第4実施例を説明する。
【0031】この実施例は。各軟性部14に2つの駆動
制御用歪みセンサーが設けられている点を除けば、第1
の実施例と実質的に同じなので、以下に相違点のみ説明
する。
制御用歪みセンサーが設けられている点を除けば、第1
の実施例と実質的に同じなので、以下に相違点のみ説明
する。
【0032】この実施例では、共通直線部23aから、
1つの軟性部14に対して2本の第2の分岐部23cが
互いに平行に延出されている。これら第2の分岐部23
cは、各軟性部14の軸方向の前部並びに後部に沿って
(第1の実施例では1本の第2の分岐部23cが軟性部
14のほぼ中心に延びている)延びており適当な箇所で
終端している。そして、これら第2の分岐部23cの終
端部上には歪みセンサー22が夫々取着されている。ま
た、これら歪みセンサー22は可撓性薄膜23上に配設
された配線24により制御回路21に電気的に接続され
ている。尚、各配線24に設けられた1対の歪みセンサ
ー22は、等価のセンサーであり、配置位置のみが一方
は軸方向前方に、また他方が軸方向後方にと、配置位置
が相違しているだけである。
1つの軟性部14に対して2本の第2の分岐部23cが
互いに平行に延出されている。これら第2の分岐部23
cは、各軟性部14の軸方向の前部並びに後部に沿って
(第1の実施例では1本の第2の分岐部23cが軟性部
14のほぼ中心に延びている)延びており適当な箇所で
終端している。そして、これら第2の分岐部23cの終
端部上には歪みセンサー22が夫々取着されている。ま
た、これら歪みセンサー22は可撓性薄膜23上に配設
された配線24により制御回路21に電気的に接続され
ている。尚、各配線24に設けられた1対の歪みセンサ
ー22は、等価のセンサーであり、配置位置のみが一方
は軸方向前方に、また他方が軸方向後方にと、配置位置
が相違しているだけである。
【0033】このように、各軟性部14に、1対の歪み
センサー22が配置されていることにより、本実施例の
マニピュレータが外部から力を受け、軟性部14が変形
した場合に、同一の軟性部に配置された1対のこの歪み
センサー22出力信号の強度差や強度の大きさによっ
て、外力が加わっている部位や強さが推測することがで
きる。このために、外力の影響に応じた駆動制御がで
き、より高精度な位置決めが可能となる。
センサー22が配置されていることにより、本実施例の
マニピュレータが外部から力を受け、軟性部14が変形
した場合に、同一の軟性部に配置された1対のこの歪み
センサー22出力信号の強度差や強度の大きさによっ
て、外力が加わっている部位や強さが推測することがで
きる。このために、外力の影響に応じた駆動制御がで
き、より高精度な位置決めが可能となる。
【0034】上記歪みセンサー22は、各軟性部14に
対して2つに限定されるものではなく、多ければ多いほ
ど湾曲の正確な制御ができるが、構造が複雑かつ大型化
するので、使用する歪みセンサー22の数は、使用目的
に応じて適宜選定すれば良い。
対して2つに限定されるものではなく、多ければ多いほ
ど湾曲の正確な制御ができるが、構造が複雑かつ大型化
するので、使用する歪みセンサー22の数は、使用目的
に応じて適宜選定すれば良い。
【0035】尚、上記第2並びに第4の実施例を示す第
4図並びに第5図には、配線22を省略しているが、図
3と同様の配線が各電気部品を電気的に接続するために
配線が可撓性薄膜23に形成されている。
4図並びに第5図には、配線22を省略しているが、図
3と同様の配線が各電気部品を電気的に接続するために
配線が可撓性薄膜23に形成されている。
【0036】以上説明した第1ないし第4の実施例にお
ける湾曲構造体は、管状をなし内部に前端から他端に連
続した空腔が形成され、光ファイバや、カメラ、グリッ
パなどの機能要素を挿入することができる。これによ
り、空腔内に挿入したグリッパなどを任意の部位にアク
セスすることのできるマニピュレータが可能となる。し
かし、この発明の湾曲構造体は、管状のものに限定され
るものではなく、詰まっていても良く、また、外形も円
形に限定されることはなく、例えば、矩形やフイラメン
ト状など他の形態をしていても良い。
ける湾曲構造体は、管状をなし内部に前端から他端に連
続した空腔が形成され、光ファイバや、カメラ、グリッ
パなどの機能要素を挿入することができる。これによ
り、空腔内に挿入したグリッパなどを任意の部位にアク
セスすることのできるマニピュレータが可能となる。し
かし、この発明の湾曲構造体は、管状のものに限定され
るものではなく、詰まっていても良く、また、外形も円
形に限定されることはなく、例えば、矩形やフイラメン
ト状など他の形態をしていても良い。
【0037】また、各アクチュエータの変形方向を任意
に設定して配置すした場合は、各軟性部ごとに複数の自
由度を持たせることができる。前記駆動制御用歪みセン
サーとしては、これに限定されるものではないが、軟性
部の変形による歪みに応じた電気信号を出力するピエゾ
抵抗素子や感圧ダイオードなどの半導体歪みセンサーが
好ましい。このような半導体歪みセンサーは、金属歪み
センサーに比べてゲージ率が大きいために、歪みセンサ
ーの配置位置をアクチュエータではなく軟性部に配置で
きることにより、軟性部の歪みを直接歪みゲージにより
測定できるので、より正確な湾曲角を求めることができ
る。
に設定して配置すした場合は、各軟性部ごとに複数の自
由度を持たせることができる。前記駆動制御用歪みセン
サーとしては、これに限定されるものではないが、軟性
部の変形による歪みに応じた電気信号を出力するピエゾ
抵抗素子や感圧ダイオードなどの半導体歪みセンサーが
好ましい。このような半導体歪みセンサーは、金属歪み
センサーに比べてゲージ率が大きいために、歪みセンサ
ーの配置位置をアクチュエータではなく軟性部に配置で
きることにより、軟性部の歪みを直接歪みゲージにより
測定できるので、より正確な湾曲角を求めることができ
る。
【0038】前記湾曲構造体においては、少なくとも2
つの硬性部と、これらの間に設けられた1つの軟性部と
があれば、所定の湾曲機能を奏することができるが、複
数の軟性部を設けることにより、マニピュレータの湾曲
変形がスムースに行われる。また、各軟性部を同一方向
に変形させることにより、マニピュレータの湾曲角を大
きくすることができる。
つの硬性部と、これらの間に設けられた1つの軟性部と
があれば、所定の湾曲機能を奏することができるが、複
数の軟性部を設けることにより、マニピュレータの湾曲
変形がスムースに行われる。また、各軟性部を同一方向
に変形させることにより、マニピュレータの湾曲角を大
きくすることができる。
【0039】以上各実施例に基づいて、本発明を説明し
たが、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨の範囲内で種々の変形や応用が可能で
ある。
たが、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨の範囲内で種々の変形や応用が可能で
ある。
【0040】ここで、本発明の要旨をまとめると以下の
ようになる。この発明の第1の態様に係わるマニピュレ
ータは、少なくとも2つの硬性部と、この硬性部間に設
けられた可撓性を有する軟性部とからなる湾曲構造体
と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータと、前記構
造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動制御用
歪みセンサーと制御回路とを有し、前記アクチュエータ
の駆動を制御するデバイスと、このアクチュエータに駆
動エネルギーを供給して前記軟性部を屈曲させるエネル
ギー供給手段とを具備するマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性
部に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてい
ることを特徴とする。
ようになる。この発明の第1の態様に係わるマニピュレ
ータは、少なくとも2つの硬性部と、この硬性部間に設
けられた可撓性を有する軟性部とからなる湾曲構造体
と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータと、前記構
造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動制御用
歪みセンサーと制御回路とを有し、前記アクチュエータ
の駆動を制御するデバイスと、このアクチュエータに駆
動エネルギーを供給して前記軟性部を屈曲させるエネル
ギー供給手段とを具備するマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性
部に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてい
ることを特徴とする。
【0041】この第1の態様は、全ての図に対応するも
のであり、以下のような作用並びに効果を奏する。湾曲
構造体としては、軟性部は伸縮性を有するプラスチック
など高分子材料から構成されているが、軟性部に一部分
硬性部を補強材として延在させた構造も含む。特に、軟
性部として円周方向には伸縮量が小さく水平方向に伸縮
しやすい異方性伸縮材料などを用いることが望ましい。
前記異方性伸縮材料としては、例えば、ゴム状高分子材
料にコイルバネを埋設したような複合材料などが考えら
れる。また、硬性部は、金属射出成形などの方法で形成
される金属構造体や、熱により軟化しにくい樹脂、例え
ば、熱硬化性樹脂などの材料からなる構造体が用いられ
る。
のであり、以下のような作用並びに効果を奏する。湾曲
構造体としては、軟性部は伸縮性を有するプラスチック
など高分子材料から構成されているが、軟性部に一部分
硬性部を補強材として延在させた構造も含む。特に、軟
性部として円周方向には伸縮量が小さく水平方向に伸縮
しやすい異方性伸縮材料などを用いることが望ましい。
前記異方性伸縮材料としては、例えば、ゴム状高分子材
料にコイルバネを埋設したような複合材料などが考えら
れる。また、硬性部は、金属射出成形などの方法で形成
される金属構造体や、熱により軟化しにくい樹脂、例え
ば、熱硬化性樹脂などの材料からなる構造体が用いられ
る。
【0042】制御回路については、硬性部に配置され、
駆動制御用歪みセンサーは軟性部に配置される。該歪み
センサーは、軟性部の歪みを受ける部位に配置する。こ
こで歪みセンサーは軟性部に接着などの方法で固定され
る訳であるが、歪みセンサーと軟性部の剛性を適切に選
ぶことによって、アクチュエータの屈曲角に対する歪み
センサーの歪み量を最適化できる。
駆動制御用歪みセンサーは軟性部に配置される。該歪み
センサーは、軟性部の歪みを受ける部位に配置する。こ
こで歪みセンサーは軟性部に接着などの方法で固定され
る訳であるが、歪みセンサーと軟性部の剛性を適切に選
ぶことによって、アクチュエータの屈曲角に対する歪み
センサーの歪み量を最適化できる。
【0043】前記アクチュエータについては、軟性部を
変形することのできる変形量及び変形力を有するもので
あれば特に限定されるものではない。湾曲構造体として
硬性部と軟性部を交互に配置したことによって、アクチ
ュエータの変形量及び変形力が軟性部に作用し、アクチ
ュエータの変形に応じて軟性部が湾曲変形する。
変形することのできる変形量及び変形力を有するもので
あれば特に限定されるものではない。湾曲構造体として
硬性部と軟性部を交互に配置したことによって、アクチ
ュエータの変形量及び変形力が軟性部に作用し、アクチ
ュエータの変形に応じて軟性部が湾曲変形する。
【0044】前記硬性部に配置された制御回路は、硬性
部が変形しないために制御回路部に歪みを与えないの
で、アクチュエータの駆動によって回路特性が変動する
ことはない。 また、軟性部に配置された駆動制御用歪
みセンサーについては、軟性部の変形によりピエゾ抵抗
素子や感圧ダイオードなどの半導体歪みセンサーに歪み
が加わり、歪み量の計測ができる。こうして、該歪みセ
ンサーは制御回路に接続され、マニピュレータのコント
ローラに信号を伝達し、コントローラ内で歪みセンサー
の歪み量からマニピュレータの屈曲角を計算し、アクチ
ュエータのフィードバック制御する。
部が変形しないために制御回路部に歪みを与えないの
で、アクチュエータの駆動によって回路特性が変動する
ことはない。 また、軟性部に配置された駆動制御用歪
みセンサーについては、軟性部の変形によりピエゾ抵抗
素子や感圧ダイオードなどの半導体歪みセンサーに歪み
が加わり、歪み量の計測ができる。こうして、該歪みセ
ンサーは制御回路に接続され、マニピュレータのコント
ローラに信号を伝達し、コントローラ内で歪みセンサー
の歪み量からマニピュレータの屈曲角を計算し、アクチ
ュエータのフィードバック制御する。
【0045】このように、制御回路が硬性部に配置して
いるために、制御回路部の変形による回路特性の変動が
なく、常にアクチュエータを正常に制御することができ
る。更に、大きな変形量を発生するアクチュエータを用
いた場合においても、軟性部に該歪みセンサーが配置さ
れているために加わる歪みを小さくできるので、高感度
な半導体歪みセンサーを使用できる。また、該歪みセン
サーが軟性部自体に配置されているために、軟性部の歪
みを直接測定することができる。
いるために、制御回路部の変形による回路特性の変動が
なく、常にアクチュエータを正常に制御することができ
る。更に、大きな変形量を発生するアクチュエータを用
いた場合においても、軟性部に該歪みセンサーが配置さ
れているために加わる歪みを小さくできるので、高感度
な半導体歪みセンサーを使用できる。また、該歪みセン
サーが軟性部自体に配置されているために、軟性部の歪
みを直接測定することができる。
【0046】それぞれの軟性部に対して複数のアクチュ
エータを配置することも可能である。複数のアクチュエ
ータを配置する場合は、各アクチュエータの変形方向を
同一にして構造体に配置する構成や、変形方向を任意に
設定して配置する構成などがある。
エータを配置することも可能である。複数のアクチュエ
ータを配置する場合は、各アクチュエータの変形方向を
同一にして構造体に配置する構成や、変形方向を任意に
設定して配置する構成などがある。
【0047】第2の態様に係わるマニピュレータは、第
1の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記湾曲構
造体は、3つ以上の硬性部と、隣合う硬性部間に夫々設
けられた2つ以上の軟性部とが連節した構成を持ち、各
軟性部に対応して、前記アクチュエータと前記駆動制御
用歪みセンサーと前記制御回路とが設けられていること
を特徴とする。
1の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記湾曲構
造体は、3つ以上の硬性部と、隣合う硬性部間に夫々設
けられた2つ以上の軟性部とが連節した構成を持ち、各
軟性部に対応して、前記アクチュエータと前記駆動制御
用歪みセンサーと前記制御回路とが設けられていること
を特徴とする。
【0048】この第2の態様は、全ての図に示す実施例
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。上記複数のアクチュエータは、各アクチュエー
タの変形方向を同一にして構造体に配置したり、変形方
向を任意に設定して配置したりする。
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。上記複数のアクチュエータは、各アクチュエー
タの変形方向を同一にして構造体に配置したり、変形方
向を任意に設定して配置したりする。
【0049】複数の軟性部がそれぞれアクチュエータ及
び駆動制御用歪みセンサー及び制御回路を有することに
よって、各軟性部ごとにアクチュエータの変形量及び変
形力が軟性部に作用し、アクチュエータの変形に応じて
軟性部が湾曲変形する。
び駆動制御用歪みセンサー及び制御回路を有することに
よって、各軟性部ごとにアクチュエータの変形量及び変
形力が軟性部に作用し、アクチュエータの変形に応じて
軟性部が湾曲変形する。
【0050】また、各軟性部ごとに歪みセンサーの信号
によって、アクチュエータをフィードバック制御する。
このように、複数の軟性部を有することにより、マニピ
ュレータの湾曲変形がスムースに行われる。また、各軟
性部を同一方向に変形させることにより、マニピュレー
タの湾曲角を大きくすることができる。
によって、アクチュエータをフィードバック制御する。
このように、複数の軟性部を有することにより、マニピ
ュレータの湾曲変形がスムースに行われる。また、各軟
性部を同一方向に変形させることにより、マニピュレー
タの湾曲角を大きくすることができる。
【0051】第3の態様に係わるマニピュレータは、前
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記アクチュエータは、隣接した2つの硬性部に
より両端が夫々支持された形状記憶合金アクチュエータ
を有し、また、前記エネルギー供給手段は前記形状記憶
合金アクチュエータを加熱するための電熱変換素子を有
することを特徴とする。
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記アクチュエータは、隣接した2つの硬性部に
より両端が夫々支持された形状記憶合金アクチュエータ
を有し、また、前記エネルギー供給手段は前記形状記憶
合金アクチュエータを加熱するための電熱変換素子を有
することを特徴とする。
【0052】この第3の態様は、図1ないし図3並びに
図5の実施例に対応するものであり、以下のような作用
並びに効果を奏する。前記形状記憶合金アクチュエータ
は、例えばTiNi合金などからなり、これの支持につ
いては、図1に示したように硬性部に設けた固定支持部
材による支持以外に、長手方向に伸縮性のある物質で被
覆したり、硬性部に設けた孔にアクチュエータを挿入し
たりする方法等でも良い。この形状記憶合金アクチュエ
ータは、両端もしくは一端が摺動可能なように指示部材
に支持されている。そして、形状記憶合金は温度変化に
より、2方向性の屈曲変形をする全方向形状記憶処理が
施されている。
図5の実施例に対応するものであり、以下のような作用
並びに効果を奏する。前記形状記憶合金アクチュエータ
は、例えばTiNi合金などからなり、これの支持につ
いては、図1に示したように硬性部に設けた固定支持部
材による支持以外に、長手方向に伸縮性のある物質で被
覆したり、硬性部に設けた孔にアクチュエータを挿入し
たりする方法等でも良い。この形状記憶合金アクチュエ
ータは、両端もしくは一端が摺動可能なように指示部材
に支持されている。そして、形状記憶合金は温度変化に
より、2方向性の屈曲変形をする全方向形状記憶処理が
施されている。
【0053】前記形状記憶合金アクチュエータを加熱す
るための電熱変換素子は、形状記憶合金の大きな変形量
によって塑性変形や破断しないように、超弾性を有する
金属材料を、半導体構造技術などを利用して所定形状に
加工されている。また、この電熱変換素子は、熱が伝え
やすいように、アクチュエータ15に対して、張り付
け、または、沿うようにして配置するとともに、軟性部
の変形による歪みの影響をさけるため、前記湾曲構造体
11の軟性部に対しては、離間して配置することが好ま
しい。
るための電熱変換素子は、形状記憶合金の大きな変形量
によって塑性変形や破断しないように、超弾性を有する
金属材料を、半導体構造技術などを利用して所定形状に
加工されている。また、この電熱変換素子は、熱が伝え
やすいように、アクチュエータ15に対して、張り付
け、または、沿うようにして配置するとともに、軟性部
の変形による歪みの影響をさけるため、前記湾曲構造体
11の軟性部に対しては、離間して配置することが好ま
しい。
【0054】前記電熱変換素子に通電することによりジ
ュール熱を発生して、形状記憶合金を加熱し、形状記憶
合金が変態温度に達した時点で形状記憶処理を施した形
状に変形する。形状記憶合金は硬性部によって支持され
ているので、形状記憶合金アクチュエータによって発生
した変形力及び変形量は硬性部に伝達されるが、硬性部
は変形しないために、隣接した硬性部間に配置された軟
性部にアクチュエータの変形力及び変形量が硬性部を介
して作用し、軟性部が変形する。
ュール熱を発生して、形状記憶合金を加熱し、形状記憶
合金が変態温度に達した時点で形状記憶処理を施した形
状に変形する。形状記憶合金は硬性部によって支持され
ているので、形状記憶合金アクチュエータによって発生
した変形力及び変形量は硬性部に伝達されるが、硬性部
は変形しないために、隣接した硬性部間に配置された軟
性部にアクチュエータの変形力及び変形量が硬性部を介
して作用し、軟性部が変形する。
【0055】かくして、変形量及び変形力の大きい形状
記憶合金をアクチュエータとして使用できるために、湾
曲変形量及び変形力の大きいマニピュレータを制御する
ことができる。また、形状記憶合金の加熱を電熱変換素
子にしたことにより、制御性が向上する。
記憶合金をアクチュエータとして使用できるために、湾
曲変形量及び変形力の大きいマニピュレータを制御する
ことができる。また、形状記憶合金の加熱を電熱変換素
子にしたことにより、制御性が向上する。
【0056】第4の態様に係わるマニピュレータは、前
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記湾曲構造体の硬性部と軟性部とは光硬化性樹
脂で形成されていることを特徴とする。
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記湾曲構造体の硬性部と軟性部とは光硬化性樹
脂で形成されていることを特徴とする。
【0057】この第4の態様は、全ての図に示す実施例
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。前記湾曲構造体の硬性部と軟性部が、特性の異
なった光硬化性樹脂からなる構成であり、硬性部と軟性
部を光造形法及び犠牲層エッチング技術などを利用して
一体成形される。また、同時にアクチュエータの支持部
材を一体成形することや、可撓性薄膜からなる配線など
が配置される部位を一部窪ませるようにしても良い。
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。前記湾曲構造体の硬性部と軟性部が、特性の異
なった光硬化性樹脂からなる構成であり、硬性部と軟性
部を光造形法及び犠牲層エッチング技術などを利用して
一体成形される。また、同時にアクチュエータの支持部
材を一体成形することや、可撓性薄膜からなる配線など
が配置される部位を一部窪ませるようにしても良い。
【0058】この態様のマニピュレータでは、軟性部に
アクチュエータによって発生した変形量及び変形力が作
用し、軟性部はアクチュエータの変形に応じた変形をし
て、マニピュレータを湾曲変形させる。
アクチュエータによって発生した変形量及び変形力が作
用し、軟性部はアクチュエータの変形に応じた変形をし
て、マニピュレータを湾曲変形させる。
【0059】かくして、光造形法により軟性部と硬性部
からなる湾曲構造体が一体成形されることにより、組立
工程が省略でき、より高精度で、小さいマニピュレータ
を得ることができる。
からなる湾曲構造体が一体成形されることにより、組立
工程が省略でき、より高精度で、小さいマニピュレータ
を得ることができる。
【0060】第5の態様に係わるマニピュレータは、前
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記軟性部はケモメカニカルゲルで構成され、こ
のケモメカニカルゲルが前記アクチュエータを構成して
いることを特徴とする。
記第1もしくは第2の態様に係わるマニピュレータにお
いて、前記軟性部はケモメカニカルゲルで構成され、こ
のケモメカニカルゲルが前記アクチュエータを構成して
いることを特徴とする。
【0061】この第5の態様は、図4に示す実施例に対
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータでは、前記軟性部がケモメカニ
カルゲルからなり、該ケモメカニカルゲルがアクチュエ
ータの機能を有する。すなわち、該当ケモメカニカルゲ
ルに、熱変化やpH変化、イオン濃度変化、電気刺激、
光刺激及び溶媒変換などの外部刺激を加えることによ
り、該ケモメカニカルゲルが膨潤や収縮などの形状を変
化を起こし、アクチュエータとして作用させる。
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータでは、前記軟性部がケモメカニ
カルゲルからなり、該ケモメカニカルゲルがアクチュエ
ータの機能を有する。すなわち、該当ケモメカニカルゲ
ルに、熱変化やpH変化、イオン濃度変化、電気刺激、
光刺激及び溶媒変換などの外部刺激を加えることによ
り、該ケモメカニカルゲルが膨潤や収縮などの形状を変
化を起こし、アクチュエータとして作用させる。
【0062】かくして、軟性部がアクチュエータの機能
を有することにより、構成が簡略化され、小型化が可能
となる。また、ケモメカニカルゲルは、変形量が大きい
ので、マニピュレータの湾曲量が大きくできる。
を有することにより、構成が簡略化され、小型化が可能
となる。また、ケモメカニカルゲルは、変形量が大きい
ので、マニピュレータの湾曲量が大きくできる。
【0063】第6の態様に係わるマニピュレータは、前
記第4の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記軟
性部は電気応答型ケモメカニカルゲルで構成され、ま
た、エネルギー供給手段は、この電気応答型ケモメカニ
カルゲルに電圧を印加する電極を有することを特徴とす
る。
記第4の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記軟
性部は電気応答型ケモメカニカルゲルで構成され、ま
た、エネルギー供給手段は、この電気応答型ケモメカニ
カルゲルに電圧を印加する電極を有することを特徴とす
る。
【0064】この第6の態様は、図4に示す実施例に対
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータにおいては、前記湾曲構造体の
軟性部が、電気応答型ケモメカニカルゲルからなり、ア
クチュエータを兼ねる。該ゲルは、電気刺激に対して変
形をするもので、例えば、ポリビニルアルコールとポリ
アクリル酸ナトリウムの共重合体(PVA−PAA)ゲ
ルや、ポリ−2−アクリルアミド−−2−メチルプロバ
ンスルホン酸(PAMPS)ゲル、アクリルニトリルゲ
ル、アクリルアミドゲルなどの高分子ゲルであり、パー
フルオロスルホン酸、ポリエチレンスルホン酸といった
イオン交換樹脂なども含む。
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータにおいては、前記湾曲構造体の
軟性部が、電気応答型ケモメカニカルゲルからなり、ア
クチュエータを兼ねる。該ゲルは、電気刺激に対して変
形をするもので、例えば、ポリビニルアルコールとポリ
アクリル酸ナトリウムの共重合体(PVA−PAA)ゲ
ルや、ポリ−2−アクリルアミド−−2−メチルプロバ
ンスルホン酸(PAMPS)ゲル、アクリルニトリルゲ
ル、アクリルアミドゲルなどの高分子ゲルであり、パー
フルオロスルホン酸、ポリエチレンスルホン酸といった
イオン交換樹脂なども含む。
【0065】また、該ゲルの駆動エネルギーを供給する
電極は、白金などの金属材料からなり、ゲル表面もしく
は表層部に、該ゲルの変形を妨げにくいように摺動可能
に配置される。該電極の配置位置については、マニピュ
レータが湾曲変形するように設定されている。
電極は、白金などの金属材料からなり、ゲル表面もしく
は表層部に、該ゲルの変形を妨げにくいように摺動可能
に配置される。該電極の配置位置については、マニピュ
レータが湾曲変形するように設定されている。
【0066】かくして、軟性部兼アクチュエータである
電気応答型ケモメカニカルゲルに電圧を印加することに
より、電極の配置及び極性に応じて該ゲルが変形をし、
それによって、マニピュレータが湾曲変形する。
電気応答型ケモメカニカルゲルに電圧を印加することに
より、電極の配置及び極性に応じて該ゲルが変形をし、
それによって、マニピュレータが湾曲変形する。
【0067】第7の態様に係わるマニピュレータは、前
記第5の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記軟
性部は熱応答型ケモメカニカルゲルで構成され、また、
前記エネルギー供給手段はケモメカニカルゲルを加熱す
るための電熱変換素子を有することを特徴とする。
記第5の態様に係わるマニピュレータにおいて、前記軟
性部は熱応答型ケモメカニカルゲルで構成され、また、
前記エネルギー供給手段はケモメカニカルゲルを加熱す
るための電熱変換素子を有することを特徴とする。
【0068】この第7の態様は、図4に示す実施例に対
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータでは、湾曲構造体の軟性部が、
熱応答型ケモメカニカルゲルからなり、アクチュエータ
を兼ねる。該ゲルは、熱の変化に対応して変形をするも
ので、例えば、ポリビニルメチルエーテル(PVME)
ゲルやN置換アクリルアミドゲルなどの高分子ゲルであ
る。
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータでは、湾曲構造体の軟性部が、
熱応答型ケモメカニカルゲルからなり、アクチュエータ
を兼ねる。該ゲルは、熱の変化に対応して変形をするも
ので、例えば、ポリビニルメチルエーテル(PVME)
ゲルやN置換アクリルアミドゲルなどの高分子ゲルであ
る。
【0069】また、該当ゲルを加熱するための電熱変換
素子は、超弾性材料などの金属材料を、半導体製造技術
などを利用して所定形状に加工して、通電によりジュー
ル熱を発生する。電熱変換素子は、該ゲルの表面もしく
は表層部に、該ゲルの変形を妨げにくいように摺動可
能、且つ、熱を伝えやすいように配置されている。
素子は、超弾性材料などの金属材料を、半導体製造技術
などを利用して所定形状に加工して、通電によりジュー
ル熱を発生する。電熱変換素子は、該ゲルの表面もしく
は表層部に、該ゲルの変形を妨げにくいように摺動可
能、且つ、熱を伝えやすいように配置されている。
【0070】電熱変換素子により軟性部が加熱されるこ
とにより、加熱された部分のゲルが伸縮変形をする。例
えば、高温収縮型のゲルの場合は収縮する。これによ
り、該ゲルの変形に応じて、マニピュレータが湾曲変形
をする。
とにより、加熱された部分のゲルが伸縮変形をする。例
えば、高温収縮型のゲルの場合は収縮する。これによ
り、該ゲルの変形に応じて、マニピュレータが湾曲変形
をする。
【0071】かくして、熱応答型ケモメカニカルゲル
が、湾曲構造体の軟性部及びアクチュエータを兼ねるの
で、構成が簡略化され、小型化が可能となる。第8の態
様に係わるマニピュレータは、前記いずれかの態様に係
わるマニピュレータにおいて、前記硬性部及び軟性部
は、互いに接続された管状であることを特徴とする。
が、湾曲構造体の軟性部及びアクチュエータを兼ねるの
で、構成が簡略化され、小型化が可能となる。第8の態
様に係わるマニピュレータは、前記いずれかの態様に係
わるマニピュレータにおいて、前記硬性部及び軟性部
は、互いに接続された管状であることを特徴とする。
【0072】この第8の態様は、全ての図に示す実施例
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。このマニピュレータにおいては、湾曲構造体が
管状であることによって、空腔を有する。
に対応するものであり、以下のような作用並びに効果を
奏する。このマニピュレータにおいては、湾曲構造体が
管状であることによって、空腔を有する。
【0073】この結果、管状の湾曲構造体の空腔内に、
光ファイバや、カメラ、グリッパなどの機能要素を挿入
することができる。これにより、空腔内に挿入したグリ
ッパなどを任意の部位にアクセスすることのできるマニ
ピュレータが可能となる第9の態様に係わるマニピュレ
ータは、前記いずれかの態様に係わるマニピュレータに
おいて、前記駆動制御用歪みセンサーは、湾曲構造体の
軟性部に、複数配置されたことを特徴とする。
光ファイバや、カメラ、グリッパなどの機能要素を挿入
することができる。これにより、空腔内に挿入したグリ
ッパなどを任意の部位にアクセスすることのできるマニ
ピュレータが可能となる第9の態様に係わるマニピュレ
ータは、前記いずれかの態様に係わるマニピュレータに
おいて、前記駆動制御用歪みセンサーは、湾曲構造体の
軟性部に、複数配置されたことを特徴とする。
【0074】この第9の態様は、図5に示す実施例に対
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータにおいては、軟性部の変形量を
計測するために、例えば半導体よりなる駆動用制御歪み
センサーが、軟性部に複数配置されている。
応するものであり、以下のような作用並びに効果を奏す
る。このマニピュレータにおいては、軟性部の変形量を
計測するために、例えば半導体よりなる駆動用制御歪み
センサーが、軟性部に複数配置されている。
【0075】軟性部の複数の駆動制御用歪みセンサーを
配置したことにより、外部から力を受けるような場合
に、外力が作用している方向及び部位を、該歪みセンサ
ーの出力信号により推測できる。該歪みセンサーの個数
が多ければ、外力の分布を求めることができる。また、
該歪みセンサーの出力信号の強度により、外力の大きさ
も推測できる。
配置したことにより、外部から力を受けるような場合
に、外力が作用している方向及び部位を、該歪みセンサ
ーの出力信号により推測できる。該歪みセンサーの個数
が多ければ、外力の分布を求めることができる。また、
該歪みセンサーの出力信号の強度により、外力の大きさ
も推測できる。
【0076】かくして、マニピュレータに及ぼす外力の
強さ、及び外力が作用している方向及び部位の推測が可
能であるために、外力の影響に応じた駆動制御ができる
ため、より高精度な位置決めができる。
強さ、及び外力が作用している方向及び部位の推測が可
能であるために、外力の影響に応じた駆動制御ができる
ため、より高精度な位置決めができる。
【0077】第10の態様に係わるマニピュレータは、
前記いずれかの態様に係わるマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、半導体歪みセンサーで
あることを特徴とする。
前記いずれかの態様に係わるマニピュレータにおいて、
前記駆動制御用歪みセンサーは、半導体歪みセンサーで
あることを特徴とする。
【0078】この第10の態様は、全ての図に示す実施
例に対応するものであり、以下のような作用並びに効果
を奏する。このマニピュレータにおいては、前記駆動制
御用歪みセンサーが、ピエゾ抵抗素子や感圧ダイオード
などの半導体歪みセンサーである。
例に対応するものであり、以下のような作用並びに効果
を奏する。このマニピュレータにおいては、前記駆動制
御用歪みセンサーが、ピエゾ抵抗素子や感圧ダイオード
などの半導体歪みセンサーである。
【0079】前記軟性部の歪みを受ける部位に配置され
た駆動制御用歪みセンサーにより、軟性部の変形により
歪みセンサーに歪みが加わり、これによる半導体の抵抗
値の変化によって歪み量の計測をする。
た駆動制御用歪みセンサーにより、軟性部の変形により
歪みセンサーに歪みが加わり、これによる半導体の抵抗
値の変化によって歪み量の計測をする。
【0080】この半導体歪みセンサーは、金属歪みセン
サーに比べてゲージ率が大きいために、歪みセンサーの
配置位置をアクチュエータではなく軟性部に配置できる
ことにより、軟性部の歪みを直接歪みゲージにより測定
できるので、より正確な湾曲角を求めることができる。
サーに比べてゲージ率が大きいために、歪みセンサーの
配置位置をアクチュエータではなく軟性部に配置できる
ことにより、軟性部の歪みを直接歪みゲージにより測定
できるので、より正確な湾曲角を求めることができる。
【0081】第11の態様に係わるマニピュレータは、
前記いずれかの態様に係わるマニピュレータにおいて、
前記配線は可撓性薄膜に形成されていることを特徴とす
る。
前記いずれかの態様に係わるマニピュレータにおいて、
前記配線は可撓性薄膜に形成されていることを特徴とす
る。
【0082】この第11の態様は、全ての図に示す実施
例に対応するものであり、以下のような作用並びに効果
を奏する。前記配線は、可撓性薄膜により、汚染、機械
的衝撃から保護されていると共に、湾曲構造体に対して
電気的に絶縁されている。
例に対応するものであり、以下のような作用並びに効果
を奏する。前記配線は、可撓性薄膜により、汚染、機械
的衝撃から保護されていると共に、湾曲構造体に対して
電気的に絶縁されている。
【0083】第12の態様に係わるマニュビレータは、
前記第1、第2の態様に係わるマニュピレータにおい
て、前記駆動制御用歪みセンサーと前記制御回路とが、
これらを接続する配線とともに可撓性薄膜に一体形成さ
れており、この可撓性薄膜の配線保持部分が、前記湾曲
構造体に対して、遊離しているか、もしくは、離散的な
いくつかの箇所において部分的に接着もしくは溶着等に
より取着さていることを特徴とする。
前記第1、第2の態様に係わるマニュピレータにおい
て、前記駆動制御用歪みセンサーと前記制御回路とが、
これらを接続する配線とともに可撓性薄膜に一体形成さ
れており、この可撓性薄膜の配線保持部分が、前記湾曲
構造体に対して、遊離しているか、もしくは、離散的な
いくつかの箇所において部分的に接着もしくは溶着等に
より取着さていることを特徴とする。
【0084】この第12の態様は、全ての実施例に対応
するものであり、以下のような作用効果を奏する。歪み
センサー、制御回路とともに可撓性薄膜に一体形成され
た配線部は、湾曲構造体に対して、遊離しているか、も
しくは、離散的ないくつかの箇所において部分的に接着
もしくは溶着等により取り着けられているので、構造体
の湾曲動作による歪みを受けにくく疲労による破断など
がおこりにくく、安定した制御ができる。
するものであり、以下のような作用効果を奏する。歪み
センサー、制御回路とともに可撓性薄膜に一体形成され
た配線部は、湾曲構造体に対して、遊離しているか、も
しくは、離散的ないくつかの箇所において部分的に接着
もしくは溶着等により取り着けられているので、構造体
の湾曲動作による歪みを受けにくく疲労による破断など
がおこりにくく、安定した制御ができる。
【0085】第13の態様に係わるマニュビレータは、
前記第2の態様に係わるマニュピレータにおいて、前記
可撓性薄膜に、さらに、前記エネルギー供給手段が一体
形成されていることを特徴とする。
前記第2の態様に係わるマニュピレータにおいて、前記
可撓性薄膜に、さらに、前記エネルギー供給手段が一体
形成されていることを特徴とする。
【0086】この第13の態様は全ての実施例に対応す
るものであり、以下のような作用効果を奏する。可撓性
薄膜に歪みセンサー、制御回路、アクチュエータへのエ
ネルギー供給手段、これらを接続する配線部が一体形成
されているので、アクチュエータの駆動制御とそれに伴
う構造体の湾曲動作を円滑に行うことができる。
るものであり、以下のような作用効果を奏する。可撓性
薄膜に歪みセンサー、制御回路、アクチュエータへのエ
ネルギー供給手段、これらを接続する配線部が一体形成
されているので、アクチュエータの駆動制御とそれに伴
う構造体の湾曲動作を円滑に行うことができる。
【0087】
【発明の効果】本発明のマニピュレータにおいては、軟
性部が変形することによりマニピュレータが湾曲変形す
る構成であるので、駆動制御用歪みセンサーを湾曲構造
体の軟性部に配置することにより、軟性部の変形に応じ
たアクチュエータの制御ができる。また、制御回路が硬
性部に配置されているので、制御回路の変形による回路
特性の変動を回避することができ、常に正常に制御する
ことができる。そして、大きな変形量を発生する形状記
憶合金を用いたアクチュエータにおいても、軟性部に駆
動制御用歪みセンサーが配置されているために加わる歪
みが小さく、半導体歪みセンサーのような高感度の歪み
センサーを使用することが可能となる。
性部が変形することによりマニピュレータが湾曲変形す
る構成であるので、駆動制御用歪みセンサーを湾曲構造
体の軟性部に配置することにより、軟性部の変形に応じ
たアクチュエータの制御ができる。また、制御回路が硬
性部に配置されているので、制御回路の変形による回路
特性の変動を回避することができ、常に正常に制御する
ことができる。そして、大きな変形量を発生する形状記
憶合金を用いたアクチュエータにおいても、軟性部に駆
動制御用歪みセンサーが配置されているために加わる歪
みが小さく、半導体歪みセンサーのような高感度の歪み
センサーを使用することが可能となる。
【図1】この発明の第1の実施例にかかわるマニピュレ
ータを示す斜視図である。
ータを示す斜視図である。
【図2】図1に示すマニピュレータで使用されている配
線を展開して示す平面図である。
線を展開して示す平面図である。
【図3】図1に示すマニピュレータの湾曲された状態を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図4】この発明の第2の実施例にかかわるマニピュレ
ータを示す斜視図である。
ータを示す斜視図である。
【図5】この発明の第4の実施例にかかわるマニピュレ
ータを示す斜視図である。
ータを示す斜視図である。
11…湾曲構造体、13…硬性部、14…軟性部、15
…アクチュエータ、21…制御回路、22…駆動制御用
歪みセンサー、24…配線。
…アクチュエータ、21…制御回路、22…駆動制御用
歪みセンサー、24…配線。
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくとも2つの硬性部と、この硬性部
間に設けられた可撓性を有する軟性部とからなる湾曲構
造体と、この軟性部を湾曲させるアクチュエータと、前
記構造体に配置され、互いに電気的に接続された駆動制
御用歪みセンサーと制御回路とを有し、前記アクチュエ
ータの駆動を制御するデバイスと、このアクチュエータ
に駆動エネルギーを供給して前記軟性部を屈曲させるエ
ネルギー供給手段とを具備するマニピュレータにおい
て、 前記駆動制御用歪みセンサーは、前記湾曲構造体の軟性
部に配置され、前記制御回路は、硬性部に配置されてい
ることを特徴とするマニピュレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15930495A JPH0871978A (ja) | 1994-06-27 | 1995-06-26 | マニピュレータ |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-144652 | 1994-06-27 | ||
| JP14465294 | 1994-06-27 | ||
| JP15930495A JPH0871978A (ja) | 1994-06-27 | 1995-06-26 | マニピュレータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0871978A true JPH0871978A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=26476004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15930495A Withdrawn JPH0871978A (ja) | 1994-06-27 | 1995-06-26 | マニピュレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0871978A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017538187A (ja) * | 2014-10-30 | 2017-12-21 | ビーボップ センサーズ、インコーポレイテッド | グローブと一体化されたセンサシステム |
| GB2560354A (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-12 | Rolls Royce Plc | Continuum robots |
| CN111333019A (zh) * | 2018-12-19 | 2020-06-26 | 湖南早晨纳米机器人有限公司 | 纳米机器人与纳米机器人运动控制系统 |
| US10802641B2 (en) | 2012-03-14 | 2020-10-13 | Bebop Sensors, Inc. | Piezoresistive sensors and applications |
| US10884496B2 (en) | 2018-07-05 | 2021-01-05 | Bebop Sensors, Inc. | One-size-fits-all data glove |
| US11147510B2 (en) | 2014-06-09 | 2021-10-19 | Bebop Sensors, Inc. | Flexible sensors and sensor systems |
| US11480481B2 (en) | 2019-03-13 | 2022-10-25 | Bebop Sensors, Inc. | Alignment mechanisms sensor systems employing piezoresistive materials |
-
1995
- 1995-06-26 JP JP15930495A patent/JPH0871978A/ja not_active Withdrawn
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10802641B2 (en) | 2012-03-14 | 2020-10-13 | Bebop Sensors, Inc. | Piezoresistive sensors and applications |
| US11204664B2 (en) | 2012-03-14 | 2021-12-21 | Bebop Sensors, Inc | Piezoresistive sensors and applications |
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| US20180257235A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Rolls-Royce Plc | Continuum robots |
| US10884496B2 (en) | 2018-07-05 | 2021-01-05 | Bebop Sensors, Inc. | One-size-fits-all data glove |
| CN111333019A (zh) * | 2018-12-19 | 2020-06-26 | 湖南早晨纳米机器人有限公司 | 纳米机器人与纳米机器人运动控制系统 |
| CN111333019B (zh) * | 2018-12-19 | 2023-07-14 | 湖南早晨纳米机器人有限公司 | 纳米机器人与纳米机器人运动控制系统 |
| US11480481B2 (en) | 2019-03-13 | 2022-10-25 | Bebop Sensors, Inc. | Alignment mechanisms sensor systems employing piezoresistive materials |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |