JPH0873537A - 架橋高分子粒子の製造方法 - Google Patents
架橋高分子粒子の製造方法Info
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- JPH0873537A JPH0873537A JP21280794A JP21280794A JPH0873537A JP H0873537 A JPH0873537 A JP H0873537A JP 21280794 A JP21280794 A JP 21280794A JP 21280794 A JP21280794 A JP 21280794A JP H0873537 A JPH0873537 A JP H0873537A
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Abstract
粒子を合成時の媒体中での分散性良く得る方法を提供す
る。 【構成】 エチレングリコールジメタクリレート、
アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリル酸低
級アルキルエステル、およびジビニルベンゼンとを含
有するモノマーを水性媒体中、水溶性アニオン重合反応
開始剤およびアニオン系乳化剤の存在下で重合すること
により平均粒径0.1〜2μmの架橋高分子粒子を製造
するに際し、反応開始時の水溶性アニオン重合反応開始
剤の濃度を水性媒体に対して0.01重量%以上とし、
アニオン系乳化剤の濃度を水性媒体に対して0.1重量
%以下とし、かつ、前記モノマーの一部を加え初期重合
させ、次いで残りのモノマーを連続的に添加し、引き続
き追重合することを特徴とする架橋高分子粒子の製造方
法。
Description
粒子合成時の媒体中での分散性に優れた架橋高分子粒子
の製造方法に関する。
の用途に利用される架橋高分子粒子は、乳化重合法、シ
ード乳化重合法、分散懸濁重合法により得られる。しか
しながら、乳化重合法では、耐熱性向上のため架橋度を
高めた場合は粒径を大きくすることが困難であり、シー
ド乳化重合法は数段階のステップが必要となり、また、
分散懸濁重合法では、単分散性の良好な粒子が得られに
くいといった問題がある。さらに、かかる架橋高分子粒
子は主として水性媒体中で重合合成されるが、合成時に
水性媒体中で凝集してしまい、分散性不良となることが
多い。
に鑑み、鋭意検討の結果、架橋度が高く耐熱性に優れ、
単分散性にも優れ、かつ粒子合成時の媒体中での分散性
に優れた架橋高分子粒子の粒径制御が容易な製造方法を
見いだし、本発明を完成するに至った。
リコールジメタクリレート、アクリル酸低級アルキル
エステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステル、お
よびジビニルベンゼンとを含有するモノマーを水性媒
体中、水溶性アニオン重合反応開始剤およびアニオン系
乳化剤の存在下で重合することにより平均粒径0.1〜
2μmの架橋高分子粒子を製造するに際し、反応開始時
の水溶性アニオン重合反応開始剤の濃度を水性媒体に対
して0.01重量%以上とし、アニオン系乳化剤の濃度
を水性媒体に対して0.1重量%以下とし、かつ、前記
モノマーの一部を加え初期重合させ、次いで残りのモノ
マーを連続的に添加し、引き続き追重合することを特徴
とする架橋高分子粒子の製造方法に存する。
は、架橋高分子粒子の原料となる重合性モノマーとして
少なくとも下記(a)〜(c)の3つの成分を用いる。 (a)エチレングリコールジメタクリレート (b)アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル (C)ジビニルベンゼン 架橋高分子粒子中の各成分の比率は、特に制限はない
が、好ましくは、下記のとおりである。すなわち、エチ
レングリコールジメタクリレートは、好ましくは30〜
70重量%、特に好ましくは40〜70重量%である。
たはメタクリル酸低級アルキルエステルは、好ましくは
2〜20重量%、特に好ましくは、5〜10重量%、さ
らにビニルベンゼンは、好ましくは20〜70重量%、
特に好ましくは、30〜50重量%である。エチレング
リコールジメタクリレート量が30重量%未満では、重
合反応中に反応系内で粒子が凝集しやすくなったり、得
られる粒子のポリエステル組成物中の分散性が不良とな
ることがある。また、エチレングリコールジメタクリレ
ート量が70重量%を超えると、得られる粒子の架橋度
が低くなったり、粒径を大きくすることが困難となる恐
れがある。架橋高分子粒子の架橋度が低いと耐熱性が劣
り、例えば粒子合成反応時に媒体中で粒子同士が凝集し
たり、また、得られた粒子をポリエステル組成物に含有
させた場合に、ポリエステル組成物中の分散性が不十分
となったりする傾向がある。
タクリル酸低級アルキルエステル量が2重量%未満で
は、粒子合成反応時に媒体中で粒子同士が凝集したり、
反応速度が遅くなったりすることがある。また、20重
量%を超えると、得られる粒子の架橋度が低くなる傾向
がある。ジビニルベンゼン量が20重量%未満では、得
られる粒子の架橋度が低くなる傾向がある。また、70
重量%を超えると、粒子合成反応速度が低下したり、反
応中に反応系内で粒子が凝集しやすくなる傾向がある。
また、これら(a)〜(c)の3つの成分以外の重合性
モノマーも1〜5%程度ならば含有してもよい。かかる
重合性モノマーとしては、1、4ーブタンジオールジア
クリレート、n−ブチルアクリレート、エチレングリコ
ールモノメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、スチレンなどが挙げられる。特に1、4
ーブタンジオールジアクリレートを1〜5%混合させる
と、粒子合成反応系の水性媒体中での粒子の分散性が向
上する。
合させ、次いで残りのモノマーを連続的に追加添加し、
引き続き追重合をする必要がある。この追重合により粒
径の大きい架橋高分子粒子が良好に得られるのである。
なお、本発明でいう初期重合とは、初めに添加したモノ
マーの重合反応率が90〜100%となるまでの重合反
応段階を指す。本発明において、初期に水と混合するモ
ノマー量は、全モノマー量の10〜30%が好ましい。
なお、本発明では、初期重合と追加重合に用いるモノマ
ー組成は多少異なってもよいが、通常、同様の組成のも
のがよい。本発明では、重合反応の開始剤としては、水
溶性アニオン重合反応開始剤を用いる。かかる水溶性ア
ニオン重合反応開始剤としては、例えば、過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウムなどが挙げ
られるが、特に好ましいものは過硫酸カリウムである。
重合反応開始剤の量は、反応開始時の開始剤濃度を反応
系の水に対して0.01重量%以上、好ましくは0.0
1〜1重量%にする。重合開始剤の濃度が0.01重量
%未満では、架橋高分子粒子の粒径が小さすぎ、かかる
量を増やすことにより粒径を大きくすることができる。
また、重合反応途中で水溶性アニオン重合反応開始剤を
追添加してもよい。粒子の粒径を特に大きくしたい場合
には有効な手法である。
乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ポ
リオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウ
ム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルサル
フェートアンモニウム塩などが挙げられ、特に好ましい
ものは、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウムで
ある。アニオン系乳化剤の量は、重合反応開始時の反応
系内のアニオン系乳化剤濃度が、臨界ミセル形成濃度未
満であることが必要である。すなわち、臨界ミセル形成
濃度以上であると、粒子重合反応時間が長くなったり、
粒径の大きい粒子を得ることが困難となる。具体的に
は、重合反応開始時の反応系内のアニオン系乳化剤濃度
が、反応系内の水に対して0.1重量%以下、好ましく
は0.1〜0.001重量%、さらに好ましくは0.0
05〜0.05重量%である。また、本発明では、重合
がある程度進行した以降、アニオン系乳化剤を追添加す
ることも可能であり、特に架橋高分子粒子の粒径が小さ
い場合や反応系の粒子濃度が高い場合には、反応系内で
の粒子凝集防止に有効な手法である。この場合、使用す
る全乳化剤の量が0.1重量%を超えても差し支えな
い。
期重合+追重合)が5〜90%の段階が好ましい。ま
た、操作時点でいえば、初期重合以降の追重合時が望ま
しい。この場合、追添加するアニオン系乳化剤として
は、特にラウリル硫酸ナトリウムが好ましい。重合後の
架橋高分子粒子は必要に応じて、媒体中での長期的な分
散性を向上させたり、フィラーとしてポリエステル組成
物中に添加させた場合のポリエステル組成物中の分散性
を向上させるために、重合反応終了後に架橋高分子粒子
を表面処理してもよい。例えば、アニオン系界面活性
剤、特に2個以上のスルホン酸基を有するアルキルジフ
ェニルエーテル型アニオン系界面活性剤を用いて表面処
理すると効果が大きい。本発明の架橋高分子粒子の平均
粒径は0.1〜2μmである。この平均粒径は、重合開
始時の重合開始剤および乳化剤の濃度、重合時間などを
調節することにより、コントロールすることができる。
反応中に粒子が凝集しやすくなったり、さらに当該粒子
をポリエステルフィルム用の添加粒子とした場合に、フ
ィルムの滑り性が不十分であり好ましくない。また、2
μmを越えると粒子重合反応時間が著しく長くなり実用
的でない。本発明における重合温度は、初期重合および
追加重合ともに、通常、20〜100℃、好ましくは3
0〜90℃である。重合反応率は通常、90%以上、好
ましくは95%以上とする。重合後の架橋高分子粒子を
含む重合混合物は、通常、スプレー乾燥することにより
粒子を回収するか、または重合混合物にエチレングリコ
ールを加え、水を留去してエチレングリコールスラリー
として回収される。本発明により得られる架橋高分子粒
子は特にポリエステルフィルム用添加粒子として有用で
ある。該粒子を添加したポリエステルフィルムは平坦易
滑性に優れ、例えば長時間磁気テープ用のベースフィル
ムや高密度磁気記録用テープのベースフィルムに適した
ものとなる。
明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以下の実
施例によって限定されるものではない。なお、実施例に
おける種々の物性および特性の測定方法、定義は下記の
とおりである。また、実施例および比較例中「部」とあ
るは「重量部」を示す。 (1)平均粒径 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定してその相加平均を粒子一個の粒径(直径)
とした。少なくとも粒子100個について粒径を測定
し、それらの相加平均を平均粒径とした。 (2)架橋高分子粒子の媒体中での分散性 粒子合成反応終了後の粒子含有水性媒体中の粒子濃度を
1重量%に調整した粒子水分散体サンプル500gを3
600メッシュの金網フィルター(濾過面積5cm2 )
で濾過した状況により、下記評価基準で評価した。 ランクA(良好):粒子水分散体サンプル500g全量
が濾過できる。 ランクB :粒子水分散体サンプル250g以上
500g未満が濾過できる。 ランクC(不良):粒子水分散体サンプル250g未満
を濾過した時点でフィルターが閉塞する。 (3)ポリエステルフィルム表面の粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、二光束干渉顕微
鏡を用いて測定した。測定波長は0.54μmで、3次
以上の干渉縞を示す突起数を測定した。なお、値はフィ
ルム表面10cm2 を測定した値で示した。ポリエステ
ル中の架橋高分子粒子の分散性が良好なほど、かかる高
次の粗大粗大突起数は少ない。
開始剤の過硫酸カリウム0.1部とアニオン系乳化剤と
してポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム0.1
5部を添加し均一に溶解させた後、メチルメタクリレー
ト0.13部、エチレングリコールジメタクリレート
1.6部,ジビニルベンゼン0.75部および1、4ー
ブタンジオールジアクリレート0.025部の混合液を
加えた。次いで窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら70℃
で2時間重合反応を行なった段階で、ラウリル硫酸ナト
リウム0.05部を添加した後、メチルメタクリレート
0.53部、エチレングリコールジメタクリレート6.
7部,ジビニルベンゼン3.2部および1、4ーブタン
ジオールジアクリレート0.11部の混合液を一定の割
合で7時間かけて連続的に反応系へ滴下添加していっ
た。得られた粒子の平均粒径は0.30μmであった。
テレフタレート100部、エチレングリコール60部お
よび酢酸マグネシウム4水塩0.09部を反応器にと
り、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステ
ル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230
℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させ
た。次いで上記の架橋高分子粒子0.1部をエチレング
リコールスラリーとして添加し、更にリン酸0.03
部、三酸化アンチモン0.003部、二酸化ゲルマニウ
ム0.002部を加えて重縮合反応を行い、極限粘度
0.61のポリエチレンテレフタレートを得た。得られ
たポリマーを285℃で押出機よりシート状に押し出
し、静電印加冷却法を用いて無定形シートを得た。次い
で、90℃で縦方向に4.0倍で延伸した後、テンター
で横方向に100℃で3.5倍延伸し、ついで再度、1
30℃で縦方向に1.2倍延伸し、最終的に200℃で
熱固定し、厚み8μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを得た。
うち、反応開始前に脱塩水に加えるモノマーをメチルメ
タクリレート0.13部、エチレングリコールジメタク
リレート1.3部、ジビニルベンゼン1.1部および
1、4ーブタンジオールジアクリレート0.025部の
混合液とし、さらに反応途中で連続的に滴下添加するモ
ノマー混合液をメチルメタクリレート0.53部、エチ
レングリコールジメタクリレート5.28部、ジビニル
ベンゼン4.57部および1、4ーブタンジオールジア
クリレート0.11部の混合液とし、全重合反応時間を
10時間とすること以外は、実施例1と同様にして、平
均粒径0.30μmの架橋高分子粒子を得た。 [ポリエステルフィルムの製造]上記の架橋高分子粒子
0.1部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例1と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
8μmのフィルムを得た。
うち、反応開始前に水に溶解させる過硫酸カリウム量を
0.3部、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム
量を0.1部とし、かつ重合反応時間6時間目に過硫酸
カリウム0.05部を追添加して、さらに全重合反応時間
を12時間とする以外は実施例1と同様にして、平均粒
径0.50μmの架橋高分子粒子を得た。
に水に溶解させる過硫酸カリウム量を0.02部に減量
し、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム量を
0.225部とすること以外は、実施例1と同様にし
て、平均粒径0.30μmの架橋高分子粒子を得た。し
かしながら、全重合反応時間が24時間もかかり、参考
のためそれ以上反応を継続しても粒径の増大化は困難で
あった。また、得られた粒子水分散体の濾過性が悪く、
粒子の分散性は不良であった。 [ポリエステルフィルムの製造]上記の架橋高分子粒子
0.1部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例1と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、そして実施例
1と同様にして、厚み8μmのフィルムを得た。
に水に溶解させる過硫酸カリウム量を0.2部、ポリオ
キシエチレンラウリル硫酸ナトリウム量を0.75部に
増量したこと以外は、実施例1と同様にして、平均粒径
0.30μmの架橋高分子粒子を得た。得られた粒子水
分散体の濾過性が悪く、粒子の分散性は不良であった。 [ポリエステルフィルムの製造]上記の架橋高分子粒子
0.1部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例1と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、そして実施例
1と同様にして、厚み8μmのフィルムを得た。
チルメタクリレート0.66部、エチレングリコールジ
メタクリレート8.3部,ジビニルベンゼン3.95部
および1、4ーブタンジオールジアクリレート0.13
5部の混合液を加え、反応途中でモノマー混合液を連続
的に添加してゆくことは行わないこと以外は、実施例1
と同様にして、平均粒径0.30μmの架橋高分子粒子
を得た。 [ポリエステルフィルムの製造]上記の架橋高分子粒子
0.1部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例1と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに実施例
1と同様にして、厚み8μmのフィルムを得た。以上、
得られた結果をまとめて下記表1に示す。
メチルメタクリレート; EGDM:エチレングリコー
ルジメタクリレート; DVB:ジビニルベンゼン;
BGDA:1,4−ブタンジオールジアクリレート
単分散性を有する架橋高分子粒子が得られ、粒子合成時
の媒体中での分散性も優れ、本発明の工業的価値は高
い。
Claims (4)
- 【請求項1】 エチレングリコールジメタクリレー
ト、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル、およびジビニルベンゼン
とを含有するモノマーを水性媒体中、水溶性アニオン重
合反応開始剤およびアニオン系乳化剤の存在下で重合す
ることにより平均粒径0.1〜2μmの架橋高分子粒子
を製造するに際し、反応開始時の水溶性アニオン重合反
応開始剤の濃度を水性媒体に対して0.01重量%以上
とし、アニオン系乳化剤の濃度を水性媒体に対して0.
1重量%以下とし、かつ、前記モノマーの一部を加え初
期重合させ、次いで残りのモノマーを連続的に添加し、
引き続き追重合することを特徴とする架橋高分子粒子の
製造方法。 - 【請求項2】 架橋高分子粒子が、エチレングリコール
ジメタクリレート30〜70重量%、アクリル酸低級ア
ルキルエステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステ
ル2〜20重量%およびジビニルベンゼン20〜70重
量%から構成された重合体であることを特徴とする請求
項1記載の架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項3】 メタクリル酸低級アルキルエステルがメ
チルメタクリレートであることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項4】 架橋高分子粒子が、1、4ーブタンジオ
ールジアクリレートを1〜5重量%含有することを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載の架橋高分子粒子
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21280794A JP3434036B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21280794A JP3434036B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873537A true JPH0873537A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3434036B2 JP3434036B2 (ja) | 2003-08-04 |
Family
ID=16628699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21280794A Expired - Fee Related JP3434036B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3434036B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002042338A1 (en) * | 2000-11-22 | 2002-05-30 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Crosslinked resin particles, crosslinked resin particle emulsion for use in producing the crosslinked resin particles, and method for producing the crosslinked resin particles |
| EP1247820A1 (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Agfa-Gevaert | Method of preparing polymer particles having narrow particle size distribution |
| US6800709B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-10-05 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of preparing polymer particles having narrow particle size distribution |
| KR100837515B1 (ko) * | 2005-08-29 | 2008-06-12 | 주식회사 엘지화학 | 음이온 분산 중합법을 이용한 단분산 공중합체 입자의제조방법 |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP21280794A patent/JP3434036B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002042338A1 (en) * | 2000-11-22 | 2002-05-30 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Crosslinked resin particles, crosslinked resin particle emulsion for use in producing the crosslinked resin particles, and method for producing the crosslinked resin particles |
| JPWO2002042338A1 (ja) * | 2000-11-22 | 2004-03-25 | 積水化学工業株式会社 | 架橋樹脂微粒子、この架橋樹脂微粒子の製造に用いる架橋樹脂微粒子エマルジョン、および架橋樹脂微粒子の製造方法 |
| EP1247820A1 (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Agfa-Gevaert | Method of preparing polymer particles having narrow particle size distribution |
| US6800709B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-10-05 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of preparing polymer particles having narrow particle size distribution |
| KR100837515B1 (ko) * | 2005-08-29 | 2008-06-12 | 주식회사 엘지화학 | 음이온 분산 중합법을 이용한 단분산 공중합체 입자의제조방법 |
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|---|---|
| JP3434036B2 (ja) | 2003-08-04 |
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