JPH087361A

JPH087361A - 光磁気記録媒体、その製造方法および装置

Info

Publication number: JPH087361A
Application number: JP13986094A
Authority: JP
Inventors: Jiichi Miyamoto; 治一宮本; Takeshi Maeda; 武志前田; Hiroyuki Awano; 博之粟野
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Maxell Ltd
Priority date: 1994-06-22
Filing date: 1994-06-22
Publication date: 1996-01-12

Abstract

(57)【要約】【目的】高密度記録可能な光磁気記録媒体及びその製造
方法，光磁気記録装置を提供する。【構成】記録媒体の一部に、磁気特性または熱特性，光
学特性の異なる領域をもつ光磁気記録媒体。あらかじめ
強度の強い光を照射し、記録媒体の一部の特性を変化さ
せる光磁気記録媒体の製造方法。記録媒体の一部の特性
の異なる領域にのみ記録マークを形成する光磁気記録方
式。【効果】特性の変化した領域にのみ記録マークを形成す
ることが可能となるため、非常に微小なマークを干渉な
く安定に形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光スポットよりも小さ
な磁区を安定に形成できる高密度光磁気記録媒体及びそ
の製造方法、それを用いた装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光磁気記録媒体の断面構造は、例
えば、図２に示したような構造であった。トラッキング
のための案内溝を設けたガラス等の透明基板１上に、窒
化珪素等の誘電体層３１を約９０ｎｍ，ＴｂＦｅＣｏ等
の磁性層３２を約１００ｎｍ，窒化珪素等の保護層３３
を約２００ｎｍ順に積層して記録膜４としている。誘電
体層３１は基板１側から入射したレーザ光をその内部で
多重反射させ、磁性層３２で生じる偏光面の回転（カー
回転）を増大させる働きがある。保護層３３は磁性層３
２を酸化等の腐食から保護する働きがある。

【０００３】このような記録媒体の記録再生の原理につ
いて説明する。磁性層３２の保磁力は、室温では大き
く、キュリー温度付近で小さくなる。そこで記録媒体に
記録磁界を印加しながら、レーザ光を収束して照射し記
録媒体の温度を上昇させると、記録温度に達したときに
保磁力Ｈc は記録磁界と等しくなるため、記録温度に達
した部分の磁性層３２の磁化は記録磁界の方向に向き記
録磁区が形成される。再生時には、記録磁区に収束光を
照射し、その反射光の偏光面の回転を検出することによ
り記録磁区の有無，形状や大きさを検出する。

【０００４】この方法については、例えば，特開昭59−
210543号公報に記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来例で光の
強度を制御することによって小さな磁区を記録しようと
すると、記録温度に達した部分の大きさを制御するのが
困難で、実質的には光スポット径の１／２よりも小さな
磁区は記録できないという問題があった。このため、高
密度な記録を行うのが困難であった。

【０００６】本発明の第１の目的は、光スポット径の１
／２よりも小さな磁区を形成して高密度記録を行うこと
の可能な光磁気記録媒体を提供することにある。

【０００７】本発明の第２の目的は光スポット径の１／
２よりも小さな磁区を形成して高密度記録を行うことの
可能な光磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。

【０００８】本発明の第３の目的は、光スポット径の１
／２よりも小さな磁区を形成して高密度記録を行うこと
の可能な光磁気記録装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明では第１の目的を
解決するために次の手段を用いた。

【００１０】（１）少なくとも一層の磁性膜からなる光
磁気記録媒体で、前記光磁気記録媒体に一定磁界を印加
しながら温度を徐々に上げたとき、磁性膜内の一部の領
域にのみ反転磁区ができその他の領域にはできないよう
な温度が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１１】（２）少なくとも一層の磁性膜からなる光
磁気記録媒体で、前記光磁気記録媒体に一定温度で印加
する磁界を徐々に上げたとき、磁性膜内の一部の領域に
のみ反転磁区ができその他の領域にはできないような磁
界が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１２】（３）少なくとも一層の磁性膜からなる光
磁気記録媒体で、前記磁性膜内に記録感度の高い一部の
領域が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１３】（４）少なくとも一層の磁性膜からなる光
磁気記録媒体で、前記磁性膜内に保磁力の低い一部の領
域が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１４】（５）前記の一部の領域の幅または長さの
少なくともいずれかが情報記録単位の幅または長さのい
ずれかよりも小さいことを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１５】これにより、温度上昇部のうち、上記の、
磁気特性，熱特性及び光学特性の少なくとも一つが他の
部分と異なる領域にのみ微小な記録磁区を形成すること
が容易になる。すなわち高密度記録が可能になる。

【００１６】また、記録磁区の幅または長さを正確に制
御して記録することが容易になる。（６）前記光磁気記録媒体が、前記磁性膜以外に融点が
２００℃以上５００℃以下の膜を少なくとも有すること
を特徴とする光磁気記録媒体。

【００１７】（７）前記光磁気記録媒体が、前記磁性膜
以外に融点が３００℃以上４００℃以下の膜を少なくと
も有することを特徴とする光磁気記録媒体。

【００１８】これにより、熱特性及び光学特性の少なく
とも一つが異なる領域を持った媒体を製造することが容
易になる。

【００１９】本発明では上記第２の目的を解決するため
に次の手段を用いた。

【００２０】（８）前記一部の領域を形成するにあた
り、記録媒体上に通常の記録時の光スポット径の０.８
倍以下の光スポット径の光を照射して行った。

【００２１】これにより、前記一部の領域を微小にする
のが容易になる。すなわち、高密度記録するのが容易に
なる。

【００２２】（９）融点が２００℃以上５００℃以下の
膜を設けた後、光を照射して膜を融かし穴を開け、その
後、磁性膜を設ける光磁気記録媒体の製造方法。

【００２３】これにより、磁性膜を熱劣化させずに、前
記の一部の領域を微小にするのが容易になる。

【００２４】本発明では上記第３の目的を解決するため
に次の手段を用いた。

【００２５】（10）少なくとも前記磁性膜の温度を上昇
させるための光を照射する光ヘッドと、前記磁性膜上に
磁界を印加するための磁界印加手段と、所望の記録磁区
を形成するために前記光の強度をあるいは前記磁界の強
度あるいは向きを変化させるための変調手段と、前記光
を記録媒体上の所望の位置に照射するための自動位置制
御手段を有し、前記光磁気記録媒体を用いる光磁気記録
装置で、前記一部の領域とその他の部分との境界部に磁
壁が位置するよう記録磁区を形成するための記録制御手
段を少なくとも有することを特徴とする光磁気記録装
置。

【００２６】（11）前記記録制御手段が、少なくとも、
前記光の強度を制御するための光強度制御部と前記光あ
るいは前記磁界の強度変化の時刻を制御するタイミング
制御部配した。

【００２７】これらにより、記録磁区の幅または長さを
正確に制御して記録することが容易になる。すなわち、
高密度で、かつ、信号品質のよい記録を行うことが容易
になる。

【００２８】

【作用】本発明の記録媒体は、少なくとも一層の磁性膜
を有し、光を用いて磁性膜の温度を上昇させ、その温度
上昇部の磁化の向きを変化させて情報を記録する光磁気
記録媒体で、磁性膜内に磁気特性，熱特性及び光学特性
の少なくとも一つが他の部分と異なる領域を備えてい
る。

【００２９】このため、例えば、磁性膜内の磁気特性，
熱特性及び光学特性の少なくとも一つが他の部分と異な
る領域のみを高感度（低い温度で記録できる）にするこ
とができ、適当な強度の（少し弱い）光を媒体に照射し
て記録を行えば、上高感度の領域にのみ記録磁区を形成
することができその他の領域に磁区が広がることはな
い。従って、磁気特性，熱特性及び光学特性の少なくと
も一つが他の部分と異なる領域と同程度の大きさの微小
な記録磁区を形成することが容易になる。

【００３０】そこで、この、磁気特性，熱特性及び光学
特性の少なくとも一つが他の部分と異なる微小領域を、
短波長の光などを用いてあらかじめ形成しておけば、高
密度記録が安定に行える。

【００３１】また、その際、記録される磁区の形状や大
きさは、あらかじめ形成した磁気特性、熱特性及び光学
特性の少なくとも一つが他の部分と異なる微小領域の形
状や大きさによって決まるため、記録時のレーザ光強度
が変化したりしたとしても、一定の形状大きさの磁区が
形成でき、高Ｓ／Ｎな（低ノイズの）記録が可能とな
る。

【００３２】このような手法で形成した媒体を用いて高
密度記録を行うには、例えば、磁性膜の温度を上昇させ
るための光を照射する光ヘッドと、磁性膜上に磁界を印
加するための磁界印加手段と、所望の記録磁区を形成す
るために光の強度をあるいは磁界の強度あるいは向きを
変化させるための変調手段と、光を記録媒体上の所望の
位置に照射するための自動位置制御手段を含み、光の強
度を制御する光強度制御部か、光あるいは磁化の強度変
化の時刻を制御するタイミング制御部を有する装置を用
い、記録磁区があらかじめ形成した磁気特性，熱特性及
び光学特性の少なくとも一つが他の部分と異なる微小領
域と一致して形成されるようにする。

【００３３】

【実施例】

《実施例１》図１に本発明の光磁気記録媒体の一実施例
の説明図を示す。光磁気記録媒体は、ディスク状の基板
１上に少なくとも磁性膜２を備えて成る。この例では磁
性膜２としてＴｂＦｅＣｏなどの光磁気記録膜を用いて
いる。ＴｂＦｅＣｏなどの光磁気記録膜を用いる場合、
光磁気効果の増大と耐酸化性の向上のために、誘電体層
３１（膜厚６０ｎｍ）や保護層３３（膜厚６０ｎｍ）を
設け磁性層３２（膜厚８０ｎｍ）を挟んだ構成の磁性膜
を用いるのが望ましい。もちろん必要に応じて熱拡散層
や反射層などの金属層を設けても良い。磁性膜２上に
は、図１に示したように、保磁力の低い領域３が設けら
れている。この保磁力の低い領域３はディスク上にいろ
いろな形状に配置することが可能であるが図５に示した
ように同心円状または螺旋状に配置することによりトラ
ックを兼ねることができ、アクセスが容易になるため本
実施例では螺旋状に配置した。この時の保磁力の低い領
域３の幅は０.４μｍとした。また、この保磁力の低い
領域３間の距離は０.３μｍである。

【００３４】以下、この媒体が高密度化に有効であるこ
とを説明する。

【００３５】図３に示したように同じバイアス磁界で記
録するとき、保磁力の低い領域は、保磁力の高い領域と
比べて低い温度で記録できる。すなわち、保磁力の低い
領域は、他の部分と比べて、記録感度が高くなる。従っ
て、適当な強度で光を照射し媒体を昇温させることによ
り、図４に示したように媒体中の記録感度の高い領域、
すなわち、保磁力の低い領域３にのみ記録磁区を形成す
ることが可能となる。従って、記録磁区の幅は記録レー
ザ光の波長（スポット径）に依らず、保磁力の低い領域
３の幅(０.４μｍ）に限定される。すなわち、高密度
（狭トラック）記録が実現できる。この例では０.７μ
ｍピッチの狭トラック記録が実現できるため、記録ビ
ットピッチ（線記録密度）を０.３μｍとすれば１平方
インチあたり３ＧＢの記録密度が達成できる。

【００３６】この例では、媒体上に保磁力の低い領域３
がある例を示したが、もちろんこの保磁力の低い領域の
変わりにその他の磁気特性または熱特性，光学特性の変
化した領域９１を備えて成るものでも良い。

【００３７】また、この例では、この保磁力の低い領域
３、あるいは、磁気特性または熱特性，光学特性の変化
した領域９１の形状が同心円状あるいは螺旋状である場
合を示したが、もちろんこの形状は別の形状、例えば、
図６に示す略円形の領域が数多く並ぶ形体でも良い。こ
の場合、狭トラック化のみならず線記録密度の高密度化
も実現できる。

【００３８】また、磁性膜は、ＴｂＦｅＣｏ膜以外にも
ＰｔＣｏ膜やＧｄＦｅＣｏ膜など光磁気記録膜として知
られたいずれの膜でも利用できる。本発明の効果は磁性
膜の種類に依らない。

【００３９】また、図１では光が基板と反対側から記録
膜に照射されているように図示されているが、これは、
図示の便宜上の問題で、記録のための光は基板側，基板
と反対側いずれでも問題なく本発明の効果がみられる。

【００４０】《実施例２》図７および図８に本発明の光
磁気記録媒体の１実施例の部分の断面図を示す。光磁気
記録媒体は、ディスク状の基板１上に小さな穴(溝)を有
するＳｎＳｂＳｅ低融点膜４１（膜厚５０ｎｍ)と磁性
膜２を含む。この穴の径（溝の幅）は０.４μｍであ
る。この例では磁性膜２としてＴｂＦｅＣｏなどの光磁
気記録膜を用い磁性層３２（膜厚５０ｎｍ）としてお
り、光磁気効果の増大と耐酸化性の向上のために、誘電
体層３１（膜厚７０ｎｍ）や保護層３３（膜厚４０ｎ
ｍ）を設け磁性層３２を挟んだ構成にしてある。

【００４１】この穴の部分では光学特性や熱特性が異な
るため、記録感度が異なっている、この例では穴の部分
で記録感度が高くなるように各層の膜厚を設計した。す
なわち、穴の部分では反射率が下がりかつ熱容量が減少
しているために、温度が上がりやすく実効的に記録感度
が上昇している。

【００４２】この例も、実施例１と同様に高密度化に有
効である。

【００４３】《実施例３》実施例１に示した媒体の製造
方法の例を示す。

【００４４】まず、ディスク状の基板１上に磁性膜２を
積層する。この例では磁性膜２としてＴｂＦｅＣｏ光磁
気記録膜を用い、磁性層３２とし、光磁気効果の増大と
耐酸化性の向上のために、誘電体層３１(膜厚６０ｎｍ)
や保護層３３(膜厚６０ｎｍ)を設け磁性層３２（膜厚８
０ｎｍ）を挟んだ構成の磁性膜を用いる。これらの、誘
電体層３１，磁性層３２，保護層３３はこの順に高周波
マグネトロンスパッタ法で製膜した。もちろん必要に応
じて熱拡散層や反射層などの金属層を設けても良い。

【００４５】次に、磁性膜上に保磁力の小さな領域３を
形成する。これには、記録光（４ｍＷ）よりも強度の強
い（６ｍＷ）の短波長（４５７ｎｍ）の光を開口比の大
きな(０.８）レンズで磁性膜２に照射して行う。この
時、内外周で特性が変わらないように線速度一定で行っ
た。この時の保磁力の低い領域３の幅は０.４μｍとな
る。また、この保磁力の低い領域３間の距離は０.３μ
ｍ（０.７μｍピッチ）とした。

【００４６】上記の操作で、この保磁力の低い領域３が
形成される原理を図９を用いて説明する。一般にＴｂＦ
ｅＣｏなどの光磁気記録膜は、３００℃以上に昇温する
と、保磁力が低下する（図９（ａ））。また、記録光よ
りも強度の強い短波長の光を開口比の大きなレンズで磁
性膜２に照射して、磁性膜の一部分の温度を昇温すると
その時の温度分布は図９（ｂ）のようになる。従って、
この操作により、昇温した中心部の温度は、３００℃を
超えるため、保磁力が低下し、保磁力の低い領域３とな
る。従って、この３００℃を超える部分の幅が０.４μ
ｍとなるように強度の強い光を制御して照射する。こ
の強度の強い光は短波長で開口数が大きいため、０.４
μｍという狭い領域を制御するのは容易である。

【００４７】ここでは、保磁力が低下し始める領域の温
度が３００℃であるとしたが、磁性膜の組成，膜厚，製
膜条件などによりこの温度はおよそ１５０℃から５００
℃の間で変化する。

【００４８】《実施例４》実施例２の記録媒体の製造方
法を示す。

【００４９】実施例３では強度の強い光の照射による保
磁力の変化を利用したが、本実施例では、ＳｎＳｂＳｅ
などの低融点膜４１（穴あけ型光記録膜）を積層しその
低融点膜４１に実施例３と同様な強度の強い光により穴
をあけて、実施例２の穴の部分を形成する。この場合、
強度の強い光による昇温で基板などの変形が生じること
を防止するためには、低融点膜４１の融点を５００℃以
下とするのが良い。また、情報記録の際に上記低融点膜
４１が変形するのを防ぐために、低融点膜４１の融点は
記録温度よりも少なくとも高い方が良い。すなわち、低
融点膜４１の融点は２００℃以上とするのが良い。より
好ましくは、３００℃以上とするのが良く、この場合、
繰返し記録や再生に対する信頼性が増す。

【００５０】図７の場合は、低融点膜４１を積層後，強
度の強い光を照射し穴を形成する。その後、記録膜２を
実施例３と同様に積層する。

【００５１】図８の場合は、すべての膜を積層後に強度
の強い光を照射して、穴を形成する。その際、磁性膜が
極端な高温にさらされることを防ぐために、低融点膜の
融点を４００℃以下とするのが望ましい。

【００５２】《実施例５》実施例１に示した媒体の実施
例３とは別の製造方法の例を図１０に示す。

【００５３】基板上に微小な凹凸部と平坦部を有する紫
外線硬化樹脂２３を形成しておき、その上に、磁性膜２
を積層する。この例では磁性膜２としてＴｂＦｅＣｏ光
磁気記録膜を用い、磁性層３２とし、光磁気効果の増大
と耐酸化性の向上のために、誘電体層３１（膜厚６０ｎ
ｍ）や保護層３３（膜厚６０ｎｍ）を設け、磁性層３２
（膜厚８０ｎｍ）を挟んだ構成の磁性膜を用いた。基板
上に微小な凹凸部と平坦部を有する紫外線硬化樹脂２３
を形成しておくには、微小な凹凸部と平坦部を有するス
タンパから転写して行うのが簡便である。この方法は、
従来の光ディスク基板の案内溝やピットを作成するのに
用いられている方法と同様である。従って、紫外線硬化
樹脂層２３を用いる代わりに、射出成型法によりポリカ
ーボネートなどのプラスチック基板を形成する方法でも
良い。いずれにしても、基板の表面に微小な凹凸を有す
る部分と平坦な部分を設ければ良い。

【００５４】このようにして、作成した媒体では、微小
な凹凸部と平坦部で磁性膜２の保磁力が異なるため、結
果として、保磁力の低い部分とそうでない部分を有する
媒体を得ることがでる。すなわち、実施例１の記録媒体
を得ることができる。

【００５５】この場合、高密度化のため微小な凹凸部ま
たは平坦部の大きさは０.６μｍ以下とするのが望まし
く。高Ｓ／Ｎ化（低ノイズ化）のためには、微小な凹凸
そのものの高さは２ｎｍ以上２０ｎｍ以下、凹凸そのも
のの大きさは０.１μｍ以下とするのが良い。

【００５６】《実施例６》図１１に本発明の光磁気記録
装置のブロック図を示す。

【００５７】本発明の光磁気記録媒体１２を用い、光磁
気記録媒体１２に記録や再生のための光を照射する光ヘ
ッドを有し、その光ヘッドはオートフォーカスやトラッ
キングなどの位置制御手段によって、情報を記録／再生
すべき位置に位置決めされている。情報を記録する際に
は、記録すべき情報に応じて光の強度や磁界の強度を変
調手段を用いて変調する。その際、記録されて形成され
る磁区が、図６などに示した、磁気特性または熱特性，
光学特性の変化した領域９１と概ね一致するように、再
生信号を元にクロック生成回路で作られたクロックに従
って、タイミング制御部によって、光や磁界の照射時刻
（タイミング）を制御する。磁気特性または熱特性，光
学特性の変化した領域９１が図５に示したように同心円
あるいは螺旋上の形状を持つ場合にはタイミング制御回
路は不要である。

【００５８】本実施例では図６に示した構成の記録媒体
を用い、サンプルサーボ記録方式により、オートフォー
カスやトラッキングなどの位置制御をし、情報を記録す
る際には、記録すべき情報に応じて光の強度や磁界の強
度を変調手段を用いて変調する。その際、記録されて形
成される磁区が、図６などに示した、磁気特性または熱
特性，光学特性の変化した領域９１と概ね一致するよう
に、再生信号を元にクロック生成回路で作られたクロッ
クに従って、タイミング制御部により、光や磁界の照射
時刻（タイミング）を制御する。

【００５９】この方法で、１平方インチあたり３ギガバ
イト以上の高密度な記録が可能であった。

【００６０】

【発明の効果】本発明では、光スポットよりも小さな記
録磁区を安定に形成することが可能となるため、１平方
インチあたり３ギガバイト以上の高密度な記録が可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す説明
図。

【図２】従来の光磁気記録媒体の一例を示す説明図。

【図３】本発明の一実施例の原理の説明図。

【図４】本発明の原理の説明図。

【図５】本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す斜視
図。

【図６】本発明の光磁気記録媒体の第二実施例を示す斜
視図。

【図７】本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す説明
図。

【図８】本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す断面
図。

【図９】本発明の光磁気記録媒体の製造方法の原理の説
明図。

【図１０】本発明の光磁気記録媒体の製造方法の一実施
例を示す断面図。

【図１１】本発明の光磁気記録装置の一実施例を示すブ
ロック図。

【符号の説明】

１…基板、２…磁性膜、３…保磁力の低い領域、４…記
録膜、５…記録磁区、６…光スポット、７…レンズ、８
…レーザ光、１７…磁界、１８…磁界印加手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ１１Ｂ 11/10 ５８６Ｂ 9296−5Ｄ (72)発明者粟野博之東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一層の磁性膜からなる光磁気記
録媒体において、前記光磁気記録媒体に一定磁界を印加
しながら温度を徐々に上げたとき、前記磁性膜内の一部
の領域にのみ反転磁区ができ、その他の領域にはできな
いような温度が存在することを特徴とする光磁気記録媒
体。
【請求項２】少なくとも一層の磁性膜からなる光磁気記
録媒体において、前記光磁気記録媒体に一定温度で印加
する磁界を徐々に上げたとき、前記磁性膜内の一部の領
域にのみ反転磁区ができその他の領域にはできないよう
な磁界が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項３】少なくとも一層の磁性膜を有する光磁気記
録媒体において、該磁性膜内に記録感度の高い一部の領
域が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項４】少なくとも一層の磁性膜からなる光磁気記
録媒体において、前記磁性膜内に保磁力の低い一部の領
域が存在することを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項５】請求項１，２，３または４において、前記
一部の領域の幅およびまたは長さが情報記録単位の幅ま
たは長さのいずれかよりも小さい光磁気記録媒体。
【請求項６】請求項１，２，３，４または５において、
前記光磁気記録媒体が、前記磁性膜以外に融点が２００
℃以上５００℃以下の膜を含む光磁気記録媒体。
【請求項７】請求項１，２，３，４または５において、
前記光磁気記録媒体が、前記磁性膜以外に融点が３００
℃以上４００℃以下の膜を含む光磁気記録媒体。
【請求項８】請求項１，２，３，４または５において、
前記一部の領域を形成するにあたり、記録媒体上に通常
の記録時の光スポット径の０.８倍以下の光スポット径
の光を照射して行う光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】融点が２００℃以上５００℃以下の膜を設
けた後、光を照射して膜を融かし穴を開け、その後、磁
性膜を設けることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項１０】少なくとも磁性膜の温度を上昇させるた
めの光を照射する光ヘッドと、前記磁性膜上に磁界を印
加するための磁界印加手段と、所望の記録磁区を形成す
るために前記光の強度をあるいは前記磁界の強度あるい
は向きを変化させるための変調手段と、前記光を記録媒
体上の所望の位置に照射するための自動位置制御手段と
を有し、前記光磁気記録媒体を用いる光磁気記録装置に
おいて、請求項１から５に記載の前記一部の領域と前記
その他の部分との境界部に磁壁が位置するよう記録磁区
を形成するための記録制御手段を含むことを特徴とする
光磁気記録装置。
【請求項１１】請求項９において、前記記録制御手段
が、前記光の強度を制御するための光強度制御部と、前
記光あるいは前記磁界の強度変化の時刻を制御するタイ
ミング制御部とを含む光磁気記録装置。