JPH0874768A - 真空系の排気方法 - Google Patents
真空系の排気方法Info
- Publication number
- JPH0874768A JPH0874768A JP7149503A JP14950395A JPH0874768A JP H0874768 A JPH0874768 A JP H0874768A JP 7149503 A JP7149503 A JP 7149503A JP 14950395 A JP14950395 A JP 14950395A JP H0874768 A JPH0874768 A JP H0874768A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum pump
- vacuum
- pump
- vacuum system
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/046—Combinations of two or more different types of pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
- F04D27/02—Surge control
- F04D27/0261—Surge control by varying driving speed
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
- Y02B30/70—Efficient control or regulation technologies, e.g. for control of refrigerant flow, motor or heating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 広範囲の圧力制御が容易にできる真空系の排
気方法を提供することを目的とする。 【構成】 第１の真空ポンプ１３−１と第２の真空ポン
プ１３−２を直列に接続してなる排気部を具備する真空
系の排気方法であって、第１の真空ポンプ１３−１を正
回転と逆回転の範囲で運転し、第２の真空ポンプ１３−
２を一定方向の回転で運転する。
気方法を提供することを目的とする。 【構成】 第１の真空ポンプ１３−１と第２の真空ポン
プ１３−２を直列に接続してなる排気部を具備する真空
系の排気方法であって、第１の真空ポンプ１３−１を正
回転と逆回転の範囲で運転し、第２の真空ポンプ１３−
２を一定方向の回転で運転する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複数の真空ポンプが直列
に接続されている真空系の排気方法に関するものであ
る。
に接続されている真空系の排気方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術】図７は従来の一般的な真空系の構成例を示
す図である。図示するように、従来の真空系は反応装置
７１に排気部として絞り弁７２及び真空ポンプ７３を直
列に接続した構成である。このような真空系において、
圧力制御方法には下記のような２つの方法がある。
す図である。図示するように、従来の真空系は反応装置
７１に排気部として絞り弁７２及び真空ポンプ７３を直
列に接続した構成である。このような真空系において、
圧力制御方法には下記のような２つの方法がある。
【０００３】図８に示すように、絞り弁７２によりコン
ダクタンス（流路抵抗の逆数）を制御して行なう方法
と、図９に示すようにポンプ回転数を制御して行なう方
法である。なお、図８及び図９において、横軸は圧力
（Ｔｏｒｒ）をｌｏｇで表示し、縦軸は排気速度（ｌ／
ｍｉｎ）をｌｏｇで表示している。
ダクタンス（流路抵抗の逆数）を制御して行なう方法
と、図９に示すようにポンプ回転数を制御して行なう方
法である。なお、図８及び図９において、横軸は圧力
（Ｔｏｒｒ）をｌｏｇで表示し、縦軸は排気速度（ｌ／
ｍｉｎ）をｌｏｇで表示している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の圧力制御方法は広範囲の圧力制御を行なう場合、下記
のような問題があった。図１０は運転範囲を排気速度Ｓ
と圧力Ｐ（Ｔｏｒｒ）で示す図である。今、排気速度Ｓ
＝２０００（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ＝０．１（Ｔｏｒ
ｒ）の点Ｐ１と、排気速度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）と圧力
Ｐ＝３００（Ｔｏｒｒ）の点Ｐ２の２点間を制御させた
い場合を考える。
の圧力制御方法は広範囲の圧力制御を行なう場合、下記
のような問題があった。図１０は運転範囲を排気速度Ｓ
と圧力Ｐ（Ｔｏｒｒ）で示す図である。今、排気速度Ｓ
＝２０００（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ＝０．１（Ｔｏｒ
ｒ）の点Ｐ１と、排気速度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）と圧力
Ｐ＝３００（Ｔｏｒｒ）の点Ｐ２の２点間を制御させた
い場合を考える。
【０００５】上記絞り弁７２によりコンダクタンス（流
路抵抗の逆数）を制御して行なう方法では、排気速度Ｓ
＝２０００からＳ＝１（ｌ／ｍｉｎ）まで変化させる絞
り弁７２が必要である。排気速度Ｓ＝２０００に合わせ
て絞り弁を選ぶと排気速度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）は開度
＝０付近となり制御が難しく、この場合は図１１に示す
ように排気速度Ｓ＝２０００用の絞り弁７２−１と排気
速度Ｓ＝１用の絞り弁７２−２の２種類の絞り弁及び排
気系が必要となる。更に、排気速度Ｓ＝１用の絞り弁７
２−２は開度が小さいため、半導体プロセス等に用いる
場合は反応生成物が配管系に付着してしまうという問題
がある。
路抵抗の逆数）を制御して行なう方法では、排気速度Ｓ
＝２０００からＳ＝１（ｌ／ｍｉｎ）まで変化させる絞
り弁７２が必要である。排気速度Ｓ＝２０００に合わせ
て絞り弁を選ぶと排気速度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）は開度
＝０付近となり制御が難しく、この場合は図１１に示す
ように排気速度Ｓ＝２０００用の絞り弁７２−１と排気
速度Ｓ＝１用の絞り弁７２−２の２種類の絞り弁及び排
気系が必要となる。更に、排気速度Ｓ＝１用の絞り弁７
２−２は開度が小さいため、半導体プロセス等に用いる
場合は反応生成物が配管系に付着してしまうという問題
がある。
【０００６】ポンプ回転数を制御して行なう方法では、
排気速度ＳをＳ＝２０００〜１（ｌ／ｍｉｎ）まで変化
させるようにポンプの回転数を変える必要がある。今、
１００％の回転数で排気速度Ｓ＝２０００なら、Ｓ＝１
は１００／２０００＝０．０５％の回転数で運転しなけ
ればならず、真空ポンプ７３をこのような低回転まで制
御することが難しいという問題がある。
排気速度ＳをＳ＝２０００〜１（ｌ／ｍｉｎ）まで変化
させるようにポンプの回転数を変える必要がある。今、
１００％の回転数で排気速度Ｓ＝２０００なら、Ｓ＝１
は１００／２０００＝０．０５％の回転数で運転しなけ
ればならず、真空ポンプ７３をこのような低回転まで制
御することが難しいという問題がある。
【０００７】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
広範囲の圧力制御が容易にできる真空系の排気方法を提
供することを目的とする。
広範囲の圧力制御が容易にできる真空系の排気方法を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は図１に示すように、第１の真空
ポンプ１３−１と第２の真空ポンプ１３−２を直列に接
続してなる排気部を具備する真空系の排気方法であっ
て、第１の真空ポンプ１３−１を正回転と逆回転の範囲
で運転し、第２の真空ポンプ１３−２を一定方向の回転
で運転することを特徴とする。
請求項１に記載の発明は図１に示すように、第１の真空
ポンプ１３−１と第２の真空ポンプ１３−２を直列に接
続してなる排気部を具備する真空系の排気方法であっ
て、第１の真空ポンプ１３−１を正回転と逆回転の範囲
で運転し、第２の真空ポンプ１３−２を一定方向の回転
で運転することを特徴とする。
【０００９】また、請求項２に記載の発明は請求項１に
記載の発明において、第１の真空ポンプ１３−１を第２
の真空ポンプ１３−２より高真空側に配置することを特
徴とする。
記載の発明において、第１の真空ポンプ１３−１を第２
の真空ポンプ１３−２より高真空側に配置することを特
徴とする。
【００１０】また、請求項３に記載の発明は請求項１又
は２に記載の発明において、第１の真空ポンプ１３−１
及び第２の真空ポンプ１３−２の運転は、その回転数を
制御することにより行なわれることを特徴とする。
は２に記載の発明において、第１の真空ポンプ１３−１
及び第２の真空ポンプ１３−２の運転は、その回転数を
制御することにより行なわれることを特徴とする。
【００１１】また、請求項４に記載の発明は請求項１乃
至３のいずれか１項に記載の発明において、真空系に所
定のガスを供給しながら、第１の真空ポンプ１３−１及
び第２の真空ポンプ１３−２を運転することを特徴とす
る。
至３のいずれか１項に記載の発明において、真空系に所
定のガスを供給しながら、第１の真空ポンプ１３−１及
び第２の真空ポンプ１３−２を運転することを特徴とす
る。
【００１２】また、請求項５に記載の発明は請求項４に
記載の発明において、真空系に供給されるガスの流量を
基に、回転数を制御することを特徴とする。
記載の発明において、真空系に供給されるガスの流量を
基に、回転数を制御することを特徴とする。
【００１３】また、請求項６に記載の発明は請求項３乃
至５のいずれか１項に記載の発明において、真空系の圧
力を基に、前記回転数を制御することを特徴とする。
至５のいずれか１項に記載の発明において、真空系の圧
力を基に、前記回転数を制御することを特徴とする。
【００１４】また、請求項７に記載の発明は請求項３乃
至６のいずれか１項に記載の発明において、第２の真空
ポンプの回転数を一定として運転することを特徴とす
る。
至６のいずれか１項に記載の発明において、第２の真空
ポンプの回転数を一定として運転することを特徴とす
る。
【００１５】
【作用】図２は上記真空系の排気方法を採用した場合の
排気速度（ｌ／ｍｉｎ）と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係を示
す図である。同図において、曲線Ａは第１の真空ポンプ
１３−１と第２の真空ポンプ１３−２のいずれも６０Ｈ
ｚで正回転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｂは第
１の真空ポンプ１３−１を１５Ｈｚで正回転させ第２の
真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで正回転させた場合のポ
ンプ特性を示し、曲線Ｃは第１の真空ポンプ１３−１を
２０Ｈｚで逆回転させ第２の真空ポンプ１３−２を６０
Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｄは
第１の真空ポンプ１３−１を２０Ｈｚで逆回転させ第２
の真空ポンプ１３−２を３０Ｈｚで正回転させた場合の
ポンプ特性を示す。
排気速度（ｌ／ｍｉｎ）と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係を示
す図である。同図において、曲線Ａは第１の真空ポンプ
１３−１と第２の真空ポンプ１３−２のいずれも６０Ｈ
ｚで正回転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｂは第
１の真空ポンプ１３−１を１５Ｈｚで正回転させ第２の
真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで正回転させた場合のポ
ンプ特性を示し、曲線Ｃは第１の真空ポンプ１３−１を
２０Ｈｚで逆回転させ第２の真空ポンプ１３−２を６０
Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｄは
第１の真空ポンプ１３−１を２０Ｈｚで逆回転させ第２
の真空ポンプ１３−２を３０Ｈｚで正回転させた場合の
ポンプ特性を示す。
【００１６】図２から明らかなように、高真空側の第１
の真空ポンプ１３−１を逆回転から正回転（インバータ
の出力周波数−６０Ｈｚ〜＋６０Ｈｚ）の範囲で運転す
ることにより、広い範囲で圧力制御が可能となる。
の真空ポンプ１３−１を逆回転から正回転（インバータ
の出力周波数−６０Ｈｚ〜＋６０Ｈｚ）の範囲で運転す
ることにより、広い範囲で圧力制御が可能となる。
【００１７】また、反応装置１１内にガスを供給しなが
ら、上記のように反応装置１１内の圧力を広い範囲で制
御できる。
ら、上記のように反応装置１１内の圧力を広い範囲で制
御できる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の排気方法を実施する真空系の構成
を示すブロック図である。図１において、１１は反応装
置であり、該反応装置１１に絞り弁１２、第１の真空ポ
ンプ１３−１、第２の真空ポンプ１３−２が順に配管２
２で直列に接続されている。１４−１は高真空側（反応
装置１１の側）の第１の真空ポンプ１３−１を駆動する
モータで、インバータ１５−１の出力で駆動される。１
４−２は低真空側（排気ダクト１７の側）の第２の真空
ポンプ１３−２を駆動するモータで、インバータ１５−
２の出力で駆動される。
する。図１は本発明の排気方法を実施する真空系の構成
を示すブロック図である。図１において、１１は反応装
置であり、該反応装置１１に絞り弁１２、第１の真空ポ
ンプ１３−１、第２の真空ポンプ１３−２が順に配管２
２で直列に接続されている。１４−１は高真空側（反応
装置１１の側）の第１の真空ポンプ１３−１を駆動する
モータで、インバータ１５−１の出力で駆動される。１
４−２は低真空側（排気ダクト１７の側）の第２の真空
ポンプ１３−２を駆動するモータで、インバータ１５−
２の出力で駆動される。
【００１９】１８は反応装置１１のガス入口１６に接続
されたガス供給弁、１９はガス入口１６から反応装置１
１に供給される反応ガスの流量を検出する流量計、２０
は反応装置１１内の圧力を検出する圧力計である。該流
量計１９及び圧力計２０の出力は制御部２１に入力さ
れ、該制御部２１は流量計１９が検出した流量を基に圧
力計２０で検出する圧力値が所定の範囲内になるように
インバータ１５−１、インバータ１５−２を介してモー
タ１４−１、モータ１４−２の回転数を制御する。な
お、１７は排気ダクトである。
されたガス供給弁、１９はガス入口１６から反応装置１
１に供給される反応ガスの流量を検出する流量計、２０
は反応装置１１内の圧力を検出する圧力計である。該流
量計１９及び圧力計２０の出力は制御部２１に入力さ
れ、該制御部２１は流量計１９が検出した流量を基に圧
力計２０で検出する圧力値が所定の範囲内になるように
インバータ１５−１、インバータ１５−２を介してモー
タ１４−１、モータ１４−２の回転数を制御する。な
お、１７は排気ダクトである。
【００２０】上記構成の真空排気系において、インバー
タ１５−１は高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆
回転から正回転の範囲で運転ができるように構成されて
おり、インバータ１５−２は低真空側の第２の真空ポン
プ１３−２を正回転で且つその回転数を制御できるよう
に構成されている。第１の真空ポンプ１３−１及び第２
の真空ポンプ１３−２を駆動することにより、反応装置
１１からの排気は絞り弁１２、第１の真空ポンプ１３−
１、第２の真空ポンプ１３−２を通って排気ダクト１７
に排出される。また、ガス供給弁１８の開度を制御する
ことにより、図示しないガス供給源から反応装置１１内
に供給される反応ガスの流量を制御できる。
タ１５−１は高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆
回転から正回転の範囲で運転ができるように構成されて
おり、インバータ１５−２は低真空側の第２の真空ポン
プ１３−２を正回転で且つその回転数を制御できるよう
に構成されている。第１の真空ポンプ１３−１及び第２
の真空ポンプ１３−２を駆動することにより、反応装置
１１からの排気は絞り弁１２、第１の真空ポンプ１３−
１、第２の真空ポンプ１３−２を通って排気ダクト１７
に排出される。また、ガス供給弁１８の開度を制御する
ことにより、図示しないガス供給源から反応装置１１内
に供給される反応ガスの流量を制御できる。
【００２１】図２は図１に示す構成の真空排気系におい
て、高真空側の第１の真空ポンプ１３−１と低真空側の
第２の真空ポンプ１３−２の運転状態を変えた場合の排
気速度（ｌ／ｍｉｎ）と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係の概要
を説明するための図である。図２において、曲線Ａは高
真空側の第１の真空ポンプ１３−１と低真空側の第２の
真空ポンプ１３−２のいずれも６０Ｈｚで正回転させた
場合のポンプ特性を示し、曲線Ｂは第１の真空ポンプ１
３−１を１５Ｈｚの範囲で正回転させ第２の真空ポンプ
１３−２を６０Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性を
示し、曲線Ｃは第１の真空ポンプ１３−１を２０Ｈｚで
逆回転させ第２の真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで正回
転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｄは第１の真空
ポンプ１３−１を２０Ｈｚで逆回転させ第２の真空ポン
プ１３−２を３０Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性
を示す。
て、高真空側の第１の真空ポンプ１３−１と低真空側の
第２の真空ポンプ１３−２の運転状態を変えた場合の排
気速度（ｌ／ｍｉｎ）と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係の概要
を説明するための図である。図２において、曲線Ａは高
真空側の第１の真空ポンプ１３−１と低真空側の第２の
真空ポンプ１３−２のいずれも６０Ｈｚで正回転させた
場合のポンプ特性を示し、曲線Ｂは第１の真空ポンプ１
３−１を１５Ｈｚの範囲で正回転させ第２の真空ポンプ
１３−２を６０Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性を
示し、曲線Ｃは第１の真空ポンプ１３−１を２０Ｈｚで
逆回転させ第２の真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで正回
転させた場合のポンプ特性を示し、曲線Ｄは第１の真空
ポンプ１３−１を２０Ｈｚで逆回転させ第２の真空ポン
プ１３−２を３０Ｈｚで正回転させた場合のポンプ特性
を示す。
【００２２】図２から明らかなように、低真空側の第２
の真空ポンプ１３−２を０〜６０Ｈｚで正回転運転しな
がら、高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を６０Ｈｚ
の正回転〜６０Ｈｚの逆回転の範囲で運転を行うと広い
特性線図が得られ、圧力制御範囲が広がる。従って、高
真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆回転することに
より、低真空側の第２の真空ポンプ１３−２の性能を意
図的に悪化させ、広範囲の圧力制御が可能となる。
の真空ポンプ１３−２を０〜６０Ｈｚで正回転運転しな
がら、高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を６０Ｈｚ
の正回転〜６０Ｈｚの逆回転の範囲で運転を行うと広い
特性線図が得られ、圧力制御範囲が広がる。従って、高
真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆回転することに
より、低真空側の第２の真空ポンプ１３−２の性能を意
図的に悪化させ、広範囲の圧力制御が可能となる。
【００２３】図１に示す構成の真空系において、例えば
図１０の排気速度Ｓ＝２０００（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ
＝０．１（Ｔｏｒｒ）の点Ｐ１は第１の真空ポンプ１３
−１の正回転数を約６６．６％にすれば得られ、排気速
度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ＝３００（Ｔｏｒｒ）
の点Ｐ２は第１の真空ポンプ１３−１を逆回転数約−３
０％とすることにより得られることが実験的に確かめら
れた。この場合、第１の真空ポンプ１３−１を止め、第
２の真空ポンプ１３−２の正回転数を下げても、Ｐ２点
（Ｓ＝１，Ｐ＝３００）の制御は難しい。つまり第２の
真空ポンプ１３−２の正回転運転では非常に難しい運転
点が高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆回転運転
させることにより簡単に得られることになる。
図１０の排気速度Ｓ＝２０００（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ
＝０．１（Ｔｏｒｒ）の点Ｐ１は第１の真空ポンプ１３
−１の正回転数を約６６．６％にすれば得られ、排気速
度Ｓ＝１（ｌ／ｍｉｎ）と圧力Ｐ＝３００（Ｔｏｒｒ）
の点Ｐ２は第１の真空ポンプ１３−１を逆回転数約−３
０％とすることにより得られることが実験的に確かめら
れた。この場合、第１の真空ポンプ１３−１を止め、第
２の真空ポンプ１３−２の正回転数を下げても、Ｐ２点
（Ｓ＝１，Ｐ＝３００）の制御は難しい。つまり第２の
真空ポンプ１３−２の正回転運転では非常に難しい運転
点が高真空側の第１の真空ポンプ１３−１を逆回転運転
させることにより簡単に得られることになる。
【００２４】図３及び図４は図１に示す構成の真空排気
系において、低真空側の第２の真空ポンプ１３−２を一
定回転数で運転し、高真空側の第１の真空ポンプ１３−
１の回転数を変化させた場合の排気速度（ｌ／ｍｉｎ）
と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係を示す図で、図３は低真空側
の第２の真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで運転し、図４
は低真空側の第２の真空ポンプ１３−２を２０Ｈｚで運
転している。
系において、低真空側の第２の真空ポンプ１３−２を一
定回転数で運転し、高真空側の第１の真空ポンプ１３−
１の回転数を変化させた場合の排気速度（ｌ／ｍｉｎ）
と圧力（Ｔｏｒｒ）の関係を示す図で、図３は低真空側
の第２の真空ポンプ１３−２を６０Ｈｚで運転し、図４
は低真空側の第２の真空ポンプ１３−２を２０Ｈｚで運
転している。
【００２５】図３において、曲線ａは６０Ｈｚ、曲線ｂ
は１５Ｈｚ、曲線ｃは０Ｈｚ（停止）、曲線ｄは−１５
Ｈｚ、曲線ｅは−６０Ｈｚでそれぞれ第１の真空ポンプ
１３−１を運転した場合を示す。また、図４において、
曲線ｆは６０Ｈｚ、曲線ｇは２０Ｈｚ、曲線ｈは０Ｈｚ
（停止）、曲線ｉは−２０Ｈｚ、曲線ｊは−３５Ｈｚ、
曲線ｋは−４５Ｈｚでそれぞれ第１の真空ポンプ１３−
１を運転した場合を示す。図３及び図４において、直線
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３はそれぞれガス供給弁１８を通して反
応装置１１に供給される反応ガスの流量を変えた場合を
示す（Ｑ１＞Ｑ２＞Ｑ３）。
は１５Ｈｚ、曲線ｃは０Ｈｚ（停止）、曲線ｄは−１５
Ｈｚ、曲線ｅは−６０Ｈｚでそれぞれ第１の真空ポンプ
１３−１を運転した場合を示す。また、図４において、
曲線ｆは６０Ｈｚ、曲線ｇは２０Ｈｚ、曲線ｈは０Ｈｚ
（停止）、曲線ｉは−２０Ｈｚ、曲線ｊは−３５Ｈｚ、
曲線ｋは−４５Ｈｚでそれぞれ第１の真空ポンプ１３−
１を運転した場合を示す。図３及び図４において、直線
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３はそれぞれガス供給弁１８を通して反
応装置１１に供給される反応ガスの流量を変えた場合を
示す（Ｑ１＞Ｑ２＞Ｑ３）。
【００２６】図３及び図４から明らかなように、高真空
側の第１の真空ポンプ１３−１を正回転（＋Ｈｚ）〜逆
回転（−Ｈｚ）の範囲で回転数を制御して運転し、低真
空側の第２の真空ポンプ１３−２を正回転で回転数を制
御することにより、反応装置１１に所定流量の反応ガス
を供給しながら、広い範囲で反応装置１１内の圧力を制
御できる。
側の第１の真空ポンプ１３−１を正回転（＋Ｈｚ）〜逆
回転（−Ｈｚ）の範囲で回転数を制御して運転し、低真
空側の第２の真空ポンプ１３−２を正回転で回転数を制
御することにより、反応装置１１に所定流量の反応ガス
を供給しながら、広い範囲で反応装置１１内の圧力を制
御できる。
【００２７】即ち、図１において、制御部２１は図３及
び図４に示す性能曲線に基づき、流量計１９で検出され
る反応ガスの流量で、反応装置１１内の圧力を所定の目
標圧力値に維持するには、第１の真空ポンプ１３−１及
び第２の真空ポンプ１３−２をいかなる回転数で運転す
るかを決定し、該第１の真空ポンプ１３−１及び第２の
真空ポンプ１３−２をその回転数で運転すべくインバー
タ１５−１及びインバータ１５−２を制御し、該インバ
ータ１５−１及びインバータ１５−２から回転数に見合
う周波数の出力をモータ１４−１及びモータ１４−２に
供給する。それによる反応装置１１の圧力は圧力計２０
で検出され、制御部２１にフィードバックされるから、
反応装置１１内の圧力は前記目標圧力値に維持される。
び図４に示す性能曲線に基づき、流量計１９で検出され
る反応ガスの流量で、反応装置１１内の圧力を所定の目
標圧力値に維持するには、第１の真空ポンプ１３−１及
び第２の真空ポンプ１３−２をいかなる回転数で運転す
るかを決定し、該第１の真空ポンプ１３−１及び第２の
真空ポンプ１３−２をその回転数で運転すべくインバー
タ１５−１及びインバータ１５−２を制御し、該インバ
ータ１５−１及びインバータ１５−２から回転数に見合
う周波数の出力をモータ１４−１及びモータ１４−２に
供給する。それによる反応装置１１の圧力は圧力計２０
で検出され、制御部２１にフィードバックされるから、
反応装置１１内の圧力は前記目標圧力値に維持される。
【００２８】図１に示す構成の真空系ではガス入口１６
にガス供給弁１８と流量計１９からなる１個のガス供給
系を接続し、該ガス供給系を通して反応装置１１内にガ
スを供給するように構成したが、ガス供給系は１個に限
定されるものではなく、図５に示すようにガス供給弁１
８−１・・・・１８−ｎ、流量計１９−１・・・・１９
−ｎ、流量調整弁２４−１・・・・２４−ｎからなるｎ
個のガス供給系をガス入口１６に接続し、反応装置１１
内にｎ種の反応ガス等のガスを供給できるように構成し
てもよい。また、このように反応装置１１と絞り弁１２
の間には、反応装置と真空ポンプを遮断可能にするため
に、主弁２３を設ける。
にガス供給弁１８と流量計１９からなる１個のガス供給
系を接続し、該ガス供給系を通して反応装置１１内にガ
スを供給するように構成したが、ガス供給系は１個に限
定されるものではなく、図５に示すようにガス供給弁１
８−１・・・・１８−ｎ、流量計１９−１・・・・１９
−ｎ、流量調整弁２４−１・・・・２４−ｎからなるｎ
個のガス供給系をガス入口１６に接続し、反応装置１１
内にｎ種の反応ガス等のガスを供給できるように構成し
てもよい。また、このように反応装置１１と絞り弁１２
の間には、反応装置と真空ポンプを遮断可能にするため
に、主弁２３を設ける。
【００２９】また、上記実施例では、第１の真空ポンプ
１３−１及び第２の真空ポンプ１３−２はいずれも１台
の真空ポンプで構成する例を示したが、これに限定され
るものではなく、図６に示すように反応装置１１に絞り
弁１２を介して複数台の真空ポンプ１３−１，１３−
２，１３−３・・・・を直列に接続し、その内の１台又
は複数台を第１の真空ポンプとし、１台又は複数台を第
２の真空ポンプとして運転するように構成してもよい。
なお、それぞれの真空ポンプ１３−１，１３−２，１３
−３・・・・はインバータ１５−１，１５−２，１５−
３・・・・から所定周波数の出力を得て所定回転数で回
転する。
１３−１及び第２の真空ポンプ１３−２はいずれも１台
の真空ポンプで構成する例を示したが、これに限定され
るものではなく、図６に示すように反応装置１１に絞り
弁１２を介して複数台の真空ポンプ１３−１，１３−
２，１３−３・・・・を直列に接続し、その内の１台又
は複数台を第１の真空ポンプとし、１台又は複数台を第
２の真空ポンプとして運転するように構成してもよい。
なお、それぞれの真空ポンプ１３−１，１３−２，１３
−３・・・・はインバータ１５−１，１５−２，１５−
３・・・・から所定周波数の出力を得て所定回転数で回
転する。
【００３０】上記のように第１の真空ポンプ及び第２の
真空ポンプを複数台の真空ポンプで構成することによ
り、真空系の圧力を広範囲で且つきめ細かく制御するこ
とができる。また、上記実施例では、第１の真空ポンプ
を高真空側に第２の真空ポンプを低真空側に配置する例
を示したが、これに限定されるものではなく、第１の真
空ポンプを低真空側に第２の真空ポンプを高真空側に配
置し、第１の真空ポンプを逆回転から正回転の範囲で運
転しつつ、第２の真空ポンプを正回転の範囲で運転する
ようにしてもよい。
真空ポンプを複数台の真空ポンプで構成することによ
り、真空系の圧力を広範囲で且つきめ細かく制御するこ
とができる。また、上記実施例では、第１の真空ポンプ
を高真空側に第２の真空ポンプを低真空側に配置する例
を示したが、これに限定されるものではなく、第１の真
空ポンプを低真空側に第２の真空ポンプを高真空側に配
置し、第１の真空ポンプを逆回転から正回転の範囲で運
転しつつ、第２の真空ポンプを正回転の範囲で運転する
ようにしてもよい。
【００３１】
（１）以上説明したように本発明によれば、第１の真空
ポンプを逆回転から正回転の範囲で運転しつつ、第２の
真空ポンプを正回転の範囲で運転することにより、真空
系の広範囲の圧力制御が可能になるという優れた効果が
得られる。
ポンプを逆回転から正回転の範囲で運転しつつ、第２の
真空ポンプを正回転の範囲で運転することにより、真空
系の広範囲の圧力制御が可能になるという優れた効果が
得られる。
【００３２】（２）また、真空系に反応ガスを供給しな
がら、真空系内の圧力を広い範囲で制御できるという優
れた効果が得られる。
がら、真空系内の圧力を広い範囲で制御できるという優
れた効果が得られる。
【図１】本発明の排気方法を実施する真空系の構成例を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】図１に示す真空系の高真空側の真空ポンプと低
真空側の真空ポンプの運転状態を変えた場合の排気速度
と圧力の関係を示す図である。
真空側の真空ポンプの運転状態を変えた場合の排気速度
と圧力の関係を示す図である。
【図３】図１に示す低真空側の真空ポンプを一定回転数
で運転し、高真空側の真空ポンプの回転数を変えた場合
の排気速度と圧力の関係を示す図である。
で運転し、高真空側の真空ポンプの回転数を変えた場合
の排気速度と圧力の関係を示す図である。
【図４】図１に示す低真空側の真空ポンプを一定回転数
で運転し、高真空側の真空ポンプの回転数を変えた場合
の排気速度と圧力の関係を示す図である。
で運転し、高真空側の真空ポンプの回転数を変えた場合
の排気速度と圧力の関係を示す図である。
【図５】本発明の排気方法を実施する真空系の他の構成
例を示すブロック図である。
例を示すブロック図である。
【図６】本発明の排気方法を実施する真空系の他の構成
例を示すブロック図である。
例を示すブロック図である。
【図７】従来の一般的な真空系の構成を示す図である。
【図８】真空系において絞り弁によりコンダクタンス
（流路抵抗の逆数）制御による圧力制御を行う場合を説
明する図である。
（流路抵抗の逆数）制御による圧力制御を行う場合を説
明する図である。
【図９】図７に示す真空排気系においてポンプ回転数制
御（排気速度制御）による圧力制御を行う場合を説明す
る図である。
御（排気速度制御）による圧力制御を行う場合を説明す
る図である。
【図１０】運転範囲を排気速度と圧力の関係で示す図で
ある。
ある。
【図１１】従来の真空排気系の構成例を示す図である。
１１ 反応装置 １２ 絞り弁 １３−１ 真空ポンプ １３−２ 真空ポンプ １３−３ 真空ポンプ １４−１ モータ １４−２ モータ １４−３ モータ １５−１ インバータ １５−２ インバータ １５−３ インバータ １６ ガス入口 １７ 排気ダクト １８ ガス供給弁 １８−１〜ｎ ガス供給弁 １９ 流量計 １９−１〜ｎ 流量計 ２０ 圧力計 ２１ 制御部 ２２ 配管 ２３ 主弁 ２４−１〜ｎ 流量調整弁
フロントページの続き (72)発明者 辻村 学 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 安藤 好男 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内
Claims (7)
- 【請求項１】 第１の真空ポンプと第２の真空ポンプを
直列に接続してなる排気部を具備する真空系の排気方法
であって、 前記第１の真空ポンプを正回転と逆回転の範囲で運転
し、前記第２の真空ポンプを一定方向の回転で運転する
ことを特徴とする真空系の排気方法。 - 【請求項２】 前記第１の真空ポンプを前記第２の真空
ポンプより高真空側に配置することを特徴とする請求項
１に記載の真空系の排気方法。 - 【請求項３】 前記第１の真空ポンプ及び第２の真空ポ
ンプの運転は、その回転数を制御することにより行なわ
れることを特徴とする請求項１又は２に記載の真空系の
排気方法。 - 【請求項４】 前記真空系に所定のガスを供給しなが
ら、前記第１の真空ポンプ及び前記第２の真空ポンプを
運転することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１
項に記載の真空系の排気方法。 - 【請求項５】 前記真空系に供給されるガスの流量を基
に、前記回転数を制御することを特徴とする請求項４に
記載の真空系の排気方法。 - 【請求項６】 前記真空系の圧力を基に、前記回転数を
制御することを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１
項に記載の真空系の排気方法。 - 【請求項７】 前記第２の真空ポンプの回転数を一定と
して運転することを特徴とする請求項３乃至６のいずれ
か１項に記載の真空系の排気方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14950395A JP3847357B2 (ja) | 1994-06-28 | 1995-05-23 | 真空系の排気装置 |
| US08/468,325 US5746581A (en) | 1994-06-28 | 1995-06-06 | Method and apparatus for evacuating vacuum system |
| KR1019950016808A KR100354457B1 (ko) | 1994-06-28 | 1995-06-22 | 진공시스템배기방법및장치 |
| EP95110090A EP0690235B1 (en) | 1994-06-28 | 1995-06-28 | Method and apparatus for evacuating vacuum system |
| DE69529438T DE69529438T2 (de) | 1994-06-28 | 1995-06-28 | Verfahren und Gerät zum Evakuieren eines Vakuumsystems |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-170301 | 1994-06-28 | ||
| JP17030194 | 1994-06-28 | ||
| JP14950395A JP3847357B2 (ja) | 1994-06-28 | 1995-05-23 | 真空系の排気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0874768A true JPH0874768A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3847357B2 JP3847357B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=26479375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14950395A Expired - Fee Related JP3847357B2 (ja) | 1994-06-28 | 1995-05-23 | 真空系の排気装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5746581A (ja) |
| EP (1) | EP0690235B1 (ja) |
| JP (1) | JP3847357B2 (ja) |
| KR (1) | KR100354457B1 (ja) |
| DE (1) | DE69529438T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002541541A (ja) * | 1999-04-07 | 2002-12-03 | アルカテル | 真空チャンバ内の圧力を調整するためのシステム、このシステムを装備した真空ポンピングユニット |
| JP2009027875A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Mitsubishi Motors Corp | 電気自動車の制動装置 |
| WO2018173636A1 (ja) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5971711A (en) * | 1996-05-21 | 1999-10-26 | Ebara Corporation | Vacuum pump control system |
| JP3767052B2 (ja) * | 1996-11-30 | 2006-04-19 | アイシン精機株式会社 | 多段式真空ポンプ |
| GB9717400D0 (en) * | 1997-08-15 | 1997-10-22 | Boc Group Plc | Vacuum pumping systems |
| JP3929185B2 (ja) * | 1998-05-20 | 2007-06-13 | 株式会社荏原製作所 | 真空排気装置及び方法 |
| US6045331A (en) * | 1998-08-10 | 2000-04-04 | Gehm; William | Fluid pump speed controller |
| DE19929519A1 (de) * | 1999-06-28 | 2001-01-04 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Verfahren zum Betrieb einer Mehrkammer-Vakuumanlage |
| FR2807951B1 (fr) * | 2000-04-20 | 2003-05-16 | Cit Alcatel | Procede et systeme de pompage des chambres de transfert d'equipement de semi-conducteur |
| US6589023B2 (en) * | 2001-10-09 | 2003-07-08 | Applied Materials, Inc. | Device and method for reducing vacuum pump energy consumption |
| JP2003155981A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Toyota Industries Corp | 真空ポンプにおける運転制御方法及び運転制御装置 |
| US6893506B2 (en) * | 2002-03-11 | 2005-05-17 | Micron Technology, Inc. | Atomic layer deposition apparatus and method |
| US6739840B2 (en) * | 2002-05-22 | 2004-05-25 | Applied Materials Inc | Speed control of variable speed pump |
| GB0401396D0 (en) * | 2004-01-22 | 2004-02-25 | Boc Group Plc | Pressure control method |
| US7886692B2 (en) * | 2004-07-13 | 2011-02-15 | Delaval Holding Ab | Controllable vacuum source |
| US20080023005A1 (en) * | 2004-07-16 | 2008-01-31 | Shuichi Tokunaga | Intra-Tracheal Sputum Aspirating Apparatus |
| FR2878913B1 (fr) * | 2004-12-03 | 2007-01-19 | Cit Alcatel | Controle des pressions partielles de gaz pour optimisation de procede |
| GB0502149D0 (en) | 2005-02-02 | 2005-03-09 | Boc Group Inc | Method of operating a pumping system |
| GB0508872D0 (en) * | 2005-04-29 | 2005-06-08 | Boc Group Plc | Method of operating a pumping system |
| US20070020115A1 (en) * | 2005-07-01 | 2007-01-25 | The Boc Group, Inc. | Integrated pump apparatus for semiconductor processing |
| FR2888894A1 (fr) | 2005-07-20 | 2007-01-26 | Alcatel Sa | Pompage rapide d'enceinte avec economie d'energie |
| JP4737770B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2011-08-03 | アネスト岩田株式会社 | 真空ポンプの運転制御装置および方法 |
| DE102009017887A1 (de) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Grobpumpverfahren für eine Verdrängerpumpe |
| ITPR20110042A1 (it) * | 2011-05-23 | 2012-11-24 | Brain Bee Holding S P A | Metodo di manutenzione di una pompa a vuoto a bagno d'olio per impiego in una stazione di recupero di fluido refrigerante da un impianto di condizionamento e sistema di pilotaggio e manutenzione della pompa |
| JP5524285B2 (ja) * | 2012-07-10 | 2014-06-18 | 株式会社東芝 | ポンプユニット |
| DE102013216593B4 (de) * | 2013-08-21 | 2024-07-11 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vakuumpumpe und verfahren zum betreiben einer vakuumpumpe |
| CN107989781B (zh) * | 2017-11-25 | 2019-06-04 | 蚌埠市鑫源机电设备有限公司 | 一种多级联动的泵运行调控系统 |
| CN107893751B (zh) * | 2017-11-25 | 2019-06-04 | 蚌埠市鑫源机电设备有限公司 | 一种基于多泵联动的泵运行调控方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4699570A (en) * | 1986-03-07 | 1987-10-13 | Itt Industries, Inc | Vacuum pump system |
| JPS62224685A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-10-02 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 真空圧力制御装置 |
| JPS62243982A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-24 | Hitachi Ltd | ２段型真空ポンプ装置およびその運転方法 |
| JPH0784871B2 (ja) * | 1986-06-12 | 1995-09-13 | 株式会社日立製作所 | 真空排気装置 |
| FR2621141B1 (fr) * | 1987-09-25 | 1989-12-01 | Cit Alcatel | Procede de demarrage de pompes a vide couplees en serie, et dispositif permettant la mise en oeuvre de ce procede |
| DE3828608A1 (de) * | 1988-08-23 | 1990-03-08 | Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh | Vakuumpumpvorrichtung |
| FR2640697B1 (fr) * | 1988-12-16 | 1993-01-08 | Cit Alcatel | Ensemble de pompage pour l'obtention de vides eleves |
| JP3323530B2 (ja) * | 1991-04-04 | 2002-09-09 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造方法 |
| US5318667A (en) * | 1991-04-04 | 1994-06-07 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for dry etching |
| JPH05231381A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-07 | Hitachi Ltd | ドライ真空ポンプの真空排気容量制御方法とその装置並びにドライ真空ポンプおよび半導体製造用真空処理装置 |
| KR100190310B1 (ko) * | 1992-09-03 | 1999-06-01 | 모리시따 요오이찌 | 진공배기장치 |
-
1995
- 1995-05-23 JP JP14950395A patent/JP3847357B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-06 US US08/468,325 patent/US5746581A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-22 KR KR1019950016808A patent/KR100354457B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-28 DE DE69529438T patent/DE69529438T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-28 EP EP95110090A patent/EP0690235B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002541541A (ja) * | 1999-04-07 | 2002-12-03 | アルカテル | 真空チャンバ内の圧力を調整するためのシステム、このシステムを装備した真空ポンピングユニット |
| JP2009027875A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Mitsubishi Motors Corp | 電気自動車の制動装置 |
| WO2018173636A1 (ja) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
| JP2018159682A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
| CN110226091A (zh) * | 2017-03-24 | 2019-09-10 | 株式会社日立高新技术 | 自动分析装置 |
| US11624752B2 (en) | 2017-03-24 | 2023-04-11 | Hitachi High-Tech Corporation | Automatic analyzer |
| CN110226091B (zh) * | 2017-03-24 | 2024-03-01 | 株式会社日立高新技术 | 自动分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69529438T2 (de) | 2003-11-27 |
| KR960001501A (ko) | 1996-01-25 |
| US5746581A (en) | 1998-05-05 |
| JP3847357B2 (ja) | 2006-11-22 |
| EP0690235A3 (en) | 1997-09-24 |
| KR100354457B1 (ko) | 2003-02-05 |
| DE69529438D1 (de) | 2003-02-27 |
| EP0690235A2 (en) | 1996-01-03 |
| EP0690235B1 (en) | 2003-01-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0874768A (ja) | 真空系の排気方法 | |
| CN101282836B (zh) | 使用涡轮泵的宽范围压力控制 | |
| EP0898083B1 (en) | Vacuum pumping system | |
| CN110966399B (zh) | 控制轴向活塞泵的方法和有此轴向活塞泵的驱动单元和有此驱动单元的静液压行进驱动装置 | |
| JP6798426B2 (ja) | 真空ポンプ用モータの回転速度制御装置、真空ポンプ | |
| WO2006097679A1 (en) | Vacuum pumping arrangement | |
| US12392337B2 (en) | Method to operate a vacuum system | |
| JPH0925652A (ja) | 建設機械の制御回路 | |
| EP1706803B1 (en) | Pressure control method | |
| JP4027564B2 (ja) | 真空排気システム | |
| JP2002005075A (ja) | ポンプ制御方式 | |
| WO2006051260A1 (en) | Vacuum pumping system | |
| JP2006063961A (ja) | ターボポンプ | |
| CN116201758B (zh) | 空压机的控制方法、系统、设备及存储介质 | |
| JP2000097159A (ja) | 並列接続されたポンプの運転方法 | |
| JP3054352B2 (ja) | 並列接続されたポンプの運転方法 | |
| JP3107794U (ja) | 真空排気装置 | |
| JPS63208691A (ja) | インバ−タ駆動オイルフリ−スクリユ真空ポンプの運転方法 | |
| CN109058214A (zh) | 一种基于液压驱动的负载接触力控制装置及方法 | |
| JPH04358781A (ja) | 並列接続されたポンプの運転方法 | |
| KR100841343B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP2005194970A (ja) | ポンプの吐出圧力制御方法及び装置 | |
| JPH10103252A (ja) | ポンプ制御方式 | |
| JP2007107398A (ja) | 真空排気装置および真空排気方法 | |
| SU1756637A1 (ru) | Вакуумна откачна система |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040511 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040707 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040707 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20040712 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20040806 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060719 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060719 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060823 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |