JPH087884B2 - 光磁気記録方法 - Google Patents
光磁気記録方法Info
- Publication number
- JPH087884B2 JPH087884B2 JP27856686A JP27856686A JPH087884B2 JP H087884 B2 JPH087884 B2 JP H087884B2 JP 27856686 A JP27856686 A JP 27856686A JP 27856686 A JP27856686 A JP 27856686A JP H087884 B2 JPH087884 B2 JP H087884B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic layer
- recording
- magnetization
- erasing
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気カー効果を利用して再生することのでき
る、キュリー点書き込み方式の光磁気記録方法に関す
る。
る、キュリー点書き込み方式の光磁気記録方法に関す
る。
消去可能な光メモリとして、光磁気記録媒体が知られ
ている。従来の磁気記録媒体と比べて高速・高密度記
録、非接触での記録再生などが可能であるという長所を
有する。
ている。従来の磁気記録媒体と比べて高速・高密度記
録、非接触での記録再生などが可能であるという長所を
有する。
現在は半導体レーザーを搭載したディスクドライブの
開発が行なわれているが、より高速の記録消去を行なう
には、より小さなエネルギーで記録可能な光磁気媒体が
望まれている。
開発が行なわれているが、より高速の記録消去を行なう
には、より小さなエネルギーで記録可能な光磁気媒体が
望まれている。
特に現在は記録過程に比べて消去過程を高速で行なう
ことがむずかしく、通常記録時の1.5〜２倍程度（５〜1
0mW）のレーザーパワーを与え、消去のためのバイアス
磁界も記録時に比べて大きな値（約5000e）に設定しな
ければならない。本発明の目的は、記録ビットを記録時
と同じ程度のエネルギーで消去でき、加えて従来よりも
高速の記録消去を実施することも可能な光磁気記録方法
を提供することにある。
ことがむずかしく、通常記録時の1.5〜２倍程度（５〜1
0mW）のレーザーパワーを与え、消去のためのバイアス
磁界も記録時に比べて大きな値（約5000e）に設定しな
ければならない。本発明の目的は、記録ビットを記録時
と同じ程度のエネルギーで消去でき、加えて従来よりも
高速の記録消去を実施することも可能な光磁気記録方法
を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明は、 低いキュリー点（TL）と高い保磁力（HH）を有する第
１磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高いキュリー
点（TH）と低い保磁力（HL）を有する第２磁性層とから
なり且つ下式 HH＞HL＞σW＞2Msh （ただし、Msは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層
の膜厚、σWは二磁性層間の磁壁エネルギーを示す。） を満たす、交換結合している二層構造の希土類−遷移
金属非晶質合金からなる垂直磁化膜を基板上に有してな
る光磁気記録媒体を使用して、情報の記録を行う記録方
法において、 前記第２磁性層のキュリー点以上まで前記媒体を昇温
させる強度のレーザー光を照射すると共にバイアス磁界
を印加し、その照射部位における前記第２磁性層を前記
バイアス磁界の方向に磁化させると共に前記第１磁性層
の磁化を交換結合力により前記第２磁性層に対して安定
な向きに配列させ、その後磁化を反転させる力によりそ
の照射部位における第２磁性層の磁化のみを反転させる
ことにより記録ビットを形成する記録プロセスと、 前記記録プロセスにて形成された記録ビットを消去す
る場合には、前記第１磁性層のキュリー点以上まで前記
媒体を昇温させる強度のレーザー光を照射し、その照射
部位における前記第１磁性層の磁化の向きを交換結合力
により前記第２磁性層に対して安定な向きに配列させる
ことにより記録ビットの消去を行う消去プロセスとを備
えることを特徴とする記録方法を提案するものである。
１磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高いキュリー
点（TH）と低い保磁力（HL）を有する第２磁性層とから
なり且つ下式 HH＞HL＞σW＞2Msh （ただし、Msは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層
の膜厚、σWは二磁性層間の磁壁エネルギーを示す。） を満たす、交換結合している二層構造の希土類−遷移
金属非晶質合金からなる垂直磁化膜を基板上に有してな
る光磁気記録媒体を使用して、情報の記録を行う記録方
法において、 前記第２磁性層のキュリー点以上まで前記媒体を昇温
させる強度のレーザー光を照射すると共にバイアス磁界
を印加し、その照射部位における前記第２磁性層を前記
バイアス磁界の方向に磁化させると共に前記第１磁性層
の磁化を交換結合力により前記第２磁性層に対して安定
な向きに配列させ、その後磁化を反転させる力によりそ
の照射部位における第２磁性層の磁化のみを反転させる
ことにより記録ビットを形成する記録プロセスと、 前記記録プロセスにて形成された記録ビットを消去す
る場合には、前記第１磁性層のキュリー点以上まで前記
媒体を昇温させる強度のレーザー光を照射し、その照射
部位における前記第１磁性層の磁化の向きを交換結合力
により前記第２磁性層に対して安定な向きに配列させる
ことにより記録ビットの消去を行う消去プロセスとを備
えることを特徴とする記録方法を提案するものである。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第１図（ａ），（ｂ）は各々本発明に用いる光磁気記
録媒体の一実施例を示す模式断面図である。第１図
（ａ）の光磁気記録媒体は、プリグルーブ（図では省
略）が設けられた透光性の基板１上に、第１の磁性層２
と第２の磁性層３が積層されたものである。第１磁性層
２は低いキュリー点（TL）と高い保磁力（HH）を有し、
第２磁性層３は、高いキュリー点（TH）と低い保磁力
（HL）を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性
層を比較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室
温における比較）。ただし、通常は第１磁性層２のTLは
70〜180℃、HHは、３〜10KOe、第２磁性層３のTHは150
〜400℃、HLは0.5〜2KOe程度の範囲内にするとよい。
録媒体の一実施例を示す模式断面図である。第１図
（ａ）の光磁気記録媒体は、プリグルーブ（図では省
略）が設けられた透光性の基板１上に、第１の磁性層２
と第２の磁性層３が積層されたものである。第１磁性層
２は低いキュリー点（TL）と高い保磁力（HH）を有し、
第２磁性層３は、高いキュリー点（TH）と低い保磁力
（HL）を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性
層を比較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室
温における比較）。ただし、通常は第１磁性層２のTLは
70〜180℃、HHは、３〜10KOe、第２磁性層３のTHは150
〜400℃、HLは0.5〜2KOe程度の範囲内にするとよい。
各磁性層の材料には、垂直磁気異方性を示し且つ磁気
光学効果を呈するものが利用できるが、GdCo,GdFe,TbF
e,DyFe,GdTbFe,TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCo,GdTbFeCo
等の希土類元素と遷移金属元素との非晶質磁性合金が好
ましい。
光学効果を呈するものが利用できるが、GdCo,GdFe,TbF
e,DyFe,GdTbFe,TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCo,GdTbFeCo
等の希土類元素と遷移金属元素との非晶質磁性合金が好
ましい。
両磁性層2,3は、後に詳述する本発明の記録方法によ
り形成されるビット（第２図（ｃ）に示す磁化状態のビ
ット）が安定に存在出来る様に、即ち下記の関係式を満
たすように、各層の膜厚、保磁力、飽和磁化の大きさ、
磁壁エネルギーなどが適宜設定されればよい。
り形成されるビット（第２図（ｃ）に示す磁化状態のビ
ット）が安定に存在出来る様に、即ち下記の関係式を満
たすように、各層の膜厚、保磁力、飽和磁化の大きさ、
磁壁エネルギーなどが適宜設定されればよい。
（ただし、Msは第２磁性層３の飽和磁化、ｈは第２磁性
層３の膜厚、σWは二磁性層間の磁壁エネルギーσWを示
す） 上式を満たせば記録ビットの磁化状態（第２図
（ｃ））が安定になるのは次の理由による。σW/2Mshは
第２磁性層３に働く交換力の強さを示す。つまり、この
交換力がσW/2Mshの大きさの磁界でもって第２磁性層３
の磁化の向きを、第１磁性層２の磁化の向きに対して安
定な方向へ（この場合は同じ方向）向けようとする。そ
こで第２磁性層３の磁化がこの磁界に抗して反転しない
ためには（記録ビットの磁化状態が安定に存在するため
には）、第２磁性層３の保磁力HLがHL＞σW/2Mshであれ
ばよい。結局上式を満たせば記録されたビットが安定と
なる。
層３の膜厚、σWは二磁性層間の磁壁エネルギーσWを示
す） 上式を満たせば記録ビットの磁化状態（第２図
（ｃ））が安定になるのは次の理由による。σW/2Mshは
第２磁性層３に働く交換力の強さを示す。つまり、この
交換力がσW/2Mshの大きさの磁界でもって第２磁性層３
の磁化の向きを、第１磁性層２の磁化の向きに対して安
定な方向へ（この場合は同じ方向）向けようとする。そ
こで第２磁性層３の磁化がこの磁界に抗して反転しない
ためには（記録ビットの磁化状態が安定に存在するため
には）、第２磁性層３の保磁力HLがHL＞σW/2Mshであれ
ばよい。結局上式を満たせば記録されたビットが安定と
なる。
第１図（ｂ）の光磁気記録媒体において、4,5は両磁
性層2,3の耐久性を向上させるためのあるいは光磁気効
果を向上させるための保護膜である。
性層2,3の耐久性を向上させるためのあるいは光磁気効
果を向上させるための保護膜である。
６は、貼り合わせ用基板７を貼り合わすための接着層
である。貼り合わせ用基板７にも、２から６までの層を
積層し、これを接着すれば表裏で記録・再生が可能とな
る。
である。貼り合わせ用基板７にも、２から６までの層を
積層し、これを接着すれば表裏で記録・再生が可能とな
る。
以下、第２図〜第４図を用いて記録・消去の一実施例
の過程を示す。第３図は上述したような光磁気ディスク
と、記録・消去に利用する装置と、を示す模式図であ
る。
の過程を示す。第３図は上述したような光磁気ディスク
と、記録・消去に利用する装置と、を示す模式図であ
る。
記録再生ヘッド31は、記録用と消去用の２種のレーザ
ーパワ値をもつレーザービームを光磁気ディスク面に照
射することができるようになっている。記録用のレーザ
ーパワーは該ディスクを第２磁性層３のキュリー点以上
まで昇温できるだけのパワーであり、消去用のレーザー
パワーは該ディスクを第１磁性層２のキュリー点以上ま
で昇温可能なパワーである。
ーパワ値をもつレーザービームを光磁気ディスク面に照
射することができるようになっている。記録用のレーザ
ーパワーは該ディスクを第２磁性層３のキュリー点以上
まで昇温できるだけのパワーであり、消去用のレーザー
パワーは該ディスクを第１磁性層２のキュリー点以上ま
で昇温可能なパワーである。
なお、記録用レーザービームは記録信号発生部32で信
号変調され、再生用レーザービームからの信号は再生用
信号発生部33で電気信号に戻される。
号変調され、再生用レーザービームからの信号は再生用
信号発生部33で電気信号に戻される。
最初に記録のプロセスについて説明する。記録前、両
磁性層２と３の磁化が安定となる向きは、互いの磁化が
平行であっても反平行であってもよい。第２図では両磁
性層の磁化の安定な向きが平行な場合について説明す
る。
磁性層２と３の磁化が安定となる向きは、互いの磁化が
平行であっても反平行であってもよい。第２図では両磁
性層の磁化の安定な向きが平行な場合について説明す
る。
例えば、光磁気ディスク35のある一部の磁化状態が初
め第２図（ａ）のようになっていたとする。記録に際し
て、光磁気ディスク35を、スピンドルモータにより回転
させる。こうすると第２図（ａ）で示される部分は記録
再生ヘッド31を通過する。この際、記録用のパワーのレ
ーザー光を照射して、この部分を局所的に第２磁性層３
のキュリー点以上まで昇温させる。それと同時に、第２
磁性層３の磁化を反転させるのに必要な大きさの（後述
するよう、好ましくは必要最少限の大きさの）バイアス
磁界（第２図において下向き）を加える。こうすること
により第２磁性層３の磁化の反転に続いて第１磁性層２
の磁化も交換結合力により第２磁性層３に対して安定な
向き（ここでは同じ向き）に配列する。即ち、第２図
（ａ）のどちらからも第２図（ｂ）のようなビットが形
成される。
め第２図（ａ）のようになっていたとする。記録に際し
て、光磁気ディスク35を、スピンドルモータにより回転
させる。こうすると第２図（ａ）で示される部分は記録
再生ヘッド31を通過する。この際、記録用のパワーのレ
ーザー光を照射して、この部分を局所的に第２磁性層３
のキュリー点以上まで昇温させる。それと同時に、第２
磁性層３の磁化を反転させるのに必要な大きさの（後述
するよう、好ましくは必要最少限の大きさの）バイアス
磁界（第２図において下向き）を加える。こうすること
により第２磁性層３の磁化の反転に続いて第１磁性層２
の磁化も交換結合力により第２磁性層３に対して安定な
向き（ここでは同じ向き）に配列する。即ち、第２図
（ａ）のどちらからも第２図（ｂ）のようなビットが形
成される。
更にこの光磁気ディスク35を回転させることによりこ
の第２図（ｂ）のビットは磁界発生部34を通過する。こ
のとき、磁界発生部34の磁界の大きさを両磁性層の保磁
力HLとHHの間に設定すると（この際、磁界の方向は第２
図（ｂ）のビットにおける第２磁性層３の磁化を反転さ
せる方向に設定する。）、第２図（ｃ）に示すように、
第２磁性層３は磁界発生部34の磁界の方向へ磁化され、
一方第１磁性層２は第２図（ｂ）の状態のままの磁化と
なる。即ち、両磁性層の磁化状態は反平行になる。これ
が最終的記録状態である。
の第２図（ｂ）のビットは磁界発生部34を通過する。こ
のとき、磁界発生部34の磁界の大きさを両磁性層の保磁
力HLとHHの間に設定すると（この際、磁界の方向は第２
図（ｂ）のビットにおける第２磁性層３の磁化を反転さ
せる方向に設定する。）、第２図（ｃ）に示すように、
第２磁性層３は磁界発生部34の磁界の方向へ磁化され、
一方第１磁性層２は第２図（ｂ）の状態のままの磁化と
なる。即ち、両磁性層の磁化状態は反平行になる。これ
が最終的記録状態である。
第２図（ｃ）に示された記録ビットを消去するには次
のようにする。スピンドルモーターにより、光磁気ディ
スク35を回転させて、記録ビットが記録再生ヘッド31を
通過するときに消去用のパワーのレーザー光を照射す
る。こうしてその部分を第１磁性層２のキュリー点以上
まで昇温させる。このとき第２磁性層３はこの温度でビ
ットが安定に存在する保磁力を有しているので、この際
バイアス磁界が適切に設定されていると第２図（ｄ）の
ような状態となり消去される。
のようにする。スピンドルモーターにより、光磁気ディ
スク35を回転させて、記録ビットが記録再生ヘッド31を
通過するときに消去用のパワーのレーザー光を照射す
る。こうしてその部分を第１磁性層２のキュリー点以上
まで昇温させる。このとき第２磁性層３はこの温度でビ
ットが安定に存在する保磁力を有しているので、この際
バイアス磁界が適切に設定されていると第２図（ｄ）の
ような状態となり消去される。
ここで、バイアス磁界が適正に設定されているとは、
次のような意味である。
次のような意味である。
即ち、この消去プロセスでは、第１磁性層２は、その
磁化が第２磁性層３の磁化の向きに対して安定な向きに
（ここでは同じ方向に）配列するように、力（交換力）
を受けるので，本来バイアス磁界は特に必要でない。し
かし、前述したように記録のプロセスではバイアス磁界
を第２磁性層３の磁化反転を補助する向きに設定してお
いた。この記録プロセスでのバイアス磁界の大きさ、方
向を、その後の消去プロセスでも変えず、同じ状態に設
定しておくことが適宜上好ましい。かかる観点から、記
録プロセスにおいてバイアス磁界を記録が可能でしかも
消去プロセスを妨げない大きさ・方向（好ましくは記録
プロセスに必要最小限の大きさ・方向）に設定し、その
大きさ・方向を消去プロセツでも維持設定しておくこと
が前記のバイアス磁界が適正に設定されている」という
ことである。
磁化が第２磁性層３の磁化の向きに対して安定な向きに
（ここでは同じ方向に）配列するように、力（交換力）
を受けるので，本来バイアス磁界は特に必要でない。し
かし、前述したように記録のプロセスではバイアス磁界
を第２磁性層３の磁化反転を補助する向きに設定してお
いた。この記録プロセスでのバイアス磁界の大きさ、方
向を、その後の消去プロセスでも変えず、同じ状態に設
定しておくことが適宜上好ましい。かかる観点から、記
録プロセスにおいてバイアス磁界を記録が可能でしかも
消去プロセスを妨げない大きさ・方向（好ましくは記録
プロセスに必要最小限の大きさ・方向）に設定し、その
大きさ・方向を消去プロセツでも維持設定しておくこと
が前記のバイアス磁界が適正に設定されている」という
ことである。
ただし、前述したようにバイアス磁界は消去時本来必
要でないので勿論その時加えなくてよい。また、記録・
再生ヘッドでのバイアス磁界に、記録時と消去時のそれ
ぞれに応じて磁化方向を反転させる機能をもたせれば、
記録時と消去時にバイアス磁界を同じ方向、大きさにす
る必要性はなく、各々に適するように大きさ、方向（記
録、消去に適した方向は本来は逆である）を設定すれ
ば、より高速な記録・消去が可能になる。
要でないので勿論その時加えなくてよい。また、記録・
再生ヘッドでのバイアス磁界に、記録時と消去時のそれ
ぞれに応じて磁化方向を反転させる機能をもたせれば、
記録時と消去時にバイアス磁界を同じ方向、大きさにす
る必要性はなく、各々に適するように大きさ、方向（記
録、消去に適した方向は本来は逆である）を設定すれ
ば、より高速な記録・消去が可能になる。
第２図の説明では、第１磁性層２と第２磁性層３の磁
化の向きが同じときにそれら磁化が安定である例につい
ての記録消去を示したが、磁化の向きが反平行のときに
それら磁化が安定な磁性層についても、実質的には同じ
原理での記録消去が可能である。
化の向きが同じときにそれら磁化が安定である例につい
ての記録消去を示したが、磁化の向きが反平行のときに
それら磁化が安定な磁性層についても、実質的には同じ
原理での記録消去が可能である。
３元のターゲット源を備えたスパッタ装置内に、プリ
グルーブ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボ
ネート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距離
10cmの間隔にセットし、回転させた。
グルーブ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボ
ネート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距離
10cmの間隔にセットし、回転させた。
アルゴン中で、第１のターゲットより、スパッタ速度
100Å/min、スパッタ圧５×10-3TorrでZnSを保護層とし
て1000Åの厚さに設けた。次にアルゴン中で、第２のタ
ーゲットよりスパッタ速度100Å/min、スパッタ圧５×1
0-3TorrでTbFe合金をスパッタし、膜厚500Å、TL＝約14
0℃、HH＝約10KOeのTb18Fe82の第１磁性層を形成した。
100Å/min、スパッタ圧５×10-3TorrでZnSを保護層とし
て1000Åの厚さに設けた。次にアルゴン中で、第２のタ
ーゲットよりスパッタ速度100Å/min、スパッタ圧５×1
0-3TorrでTbFe合金をスパッタし、膜厚500Å、TL＝約14
0℃、HH＝約10KOeのTb18Fe82の第１磁性層を形成した。
次にアルゴン中でスパッタ圧５×10-3TorrでTbFeCo合
金をスパッタし、膜厚500Å、TH＝約180℃、HL＝約1KOe
のTb23Fe73Co4の第２磁性層を形成した。
金をスパッタし、膜厚500Å、TH＝約180℃、HL＝約1KOe
のTb23Fe73Co4の第２磁性層を形成した。
次にアルゴン中で第１のターゲットよりスパッタ速度
100Å/min、スパッタ圧５×10-3Torrで、ZnSを保護層と
して3000Åの厚さに設けた。
100Å/min、スパッタ圧５×10-3Torrで、ZnSを保護層と
して3000Åの厚さに設けた。
次に上記の膜形成を終えた基板を、ホットメルト接着
剤を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼
り合わせ光磁気ディスクを作成した。
剤を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼
り合わせ光磁気ディスクを作成した。
この光磁気ディスクを記録再生装置にセットし、約15
m/secの線速度で2.5K Oeの磁界発生部を、通過させつ
つ、約１μに集光した830nmの波長のレーザービームで
記録消去を行なった。記録はレーザーパワー5mWのビー
ムを、50％デューティ、4MHzで変調し、照射した。
m/secの線速度で2.5K Oeの磁界発生部を、通過させつ
つ、約１μに集光した830nmの波長のレーザービームで
記録消去を行なった。記録はレーザーパワー5mWのビー
ムを、50％デューティ、4MHzで変調し、照射した。
加えたバイアス磁界は第２磁性層の磁化を反転させる
方向に約150 Oeの大きさで加えた。（バイアス磁界の大
きさ方向は記録時消去時共に同じに設定した。） 次にレーザービームを、そのパワーを変化させながら
連続的に照射することによって、消去を行なった。
方向に約150 Oeの大きさで加えた。（バイアス磁界の大
きさ方向は記録時消去時共に同じに設定した。） 次にレーザービームを、そのパワーを変化させながら
連続的に照射することによって、消去を行なった。
その後、1mWのレザーパワーを照射して再生を行なっ
た。その結果、第４図に示すように消去用のレーザーパ
ワーが増やされ5mW以上のパワーで消去されたときに
は、この再生の時、記録ビットの消去残り信号は10dB以
下であり、飽和していた（ほぼ、完全に消去されてい
た。）。
た。その結果、第４図に示すように消去用のレーザーパ
ワーが増やされ5mW以上のパワーで消去されたときに
は、この再生の時、記録ビットの消去残り信号は10dB以
下であり、飽和していた（ほぼ、完全に消去されてい
た。）。
比較例１、２ 第１磁性層と第２磁性層の間にZnSの中間層を100Åの
厚さに設けた以外は実施例と同様な方法で同構成のサン
プル−比較例１を作製した。（このサンプルは第１磁性
層と第２磁性層とが静磁結合している。） また、第１磁性層と第２磁性層とを積層する代わりに
第１磁性層だけで２層分の厚さ1000Åにした以外は実施
例と同様な方法でサンプル−比較例２を作製した。
厚さに設けた以外は実施例と同様な方法で同構成のサン
プル−比較例１を作製した。（このサンプルは第１磁性
層と第２磁性層とが静磁結合している。） また、第１磁性層と第２磁性層とを積層する代わりに
第１磁性層だけで２層分の厚さ1000Åにした以外は実施
例と同様な方法でサンプル−比較例２を作製した。
比較例１、２についても実施例と同様な方法で記録消
去の実験を行なった。結果は第４図に示すように消去に
必要なパワーが約7mWであった。
去の実験を行なった。結果は第４図に示すように消去に
必要なパワーが約7mWであった。
記録については、実施例、比較例１、２それぞれにお
いて、5mWのレーザーパワーで、C/N比45〜50dBの信号が
記録されていることを確認した。
いて、5mWのレーザーパワーで、C/N比45〜50dBの信号が
記録されていることを確認した。
以上詳細に説明したように、前記した条件を満たす光
磁気記録媒体を使用して、記録ビットを形成する記録プ
ロセスにおいては２層の磁性層の磁化の向きを交換結合
により配列する向きと逆方向とし、記録ビットを消去す
る消去プロセスにおいては２層の磁性層の磁化の向きを
交換結合により配列する磁化の向きとすることによっ
て、従来は消去時には記録時に比べて大きなレーザーパ
ワーが必要であったものが、記録時、消去時共に同じ小
さなレーザーパワーで実施できるようになった。
磁気記録媒体を使用して、記録ビットを形成する記録プ
ロセスにおいては２層の磁性層の磁化の向きを交換結合
により配列する向きと逆方向とし、記録ビットを消去す
る消去プロセスにおいては２層の磁性層の磁化の向きを
交換結合により配列する磁化の向きとすることによっ
て、従来は消去時には記録時に比べて大きなレーザーパ
ワーが必要であったものが、記録時、消去時共に同じ小
さなレーザーパワーで実施できるようになった。
第１図（ａ），（ｂ）は各々本発明で使用する光磁気媒
体の一例の構成を示す図、第２図は、本発明の記録法、
及び消去法を実施中の、磁性層2,3の磁化の向きを示す
図、第３図は、記録・再生装置の概念図、第４図は実施
例と比較例について、消去パワーと各消去状態での消去
残りの信号成分の関係を示す図である。 1:プリグルーブ付の透光性基板、2,3:磁性層、4,5:保護
層、6:接着層、7:貼り合わせ用基板、31:記録・再生用
ヘッド、32:記録信号発生部、33:再生信号発生部、34:
磁界発生部、35:光磁気ディスク、
体の一例の構成を示す図、第２図は、本発明の記録法、
及び消去法を実施中の、磁性層2,3の磁化の向きを示す
図、第３図は、記録・再生装置の概念図、第４図は実施
例と比較例について、消去パワーと各消去状態での消去
残りの信号成分の関係を示す図である。 1:プリグルーブ付の透光性基板、2,3:磁性層、4,5:保護
層、6:接着層、7:貼り合わせ用基板、31:記録・再生用
ヘッド、32:記録信号発生部、33:再生信号発生部、34:
磁界発生部、35:光磁気ディスク、
Claims (1)
- 【請求項１】低いキュリー点（TL）と高い保磁力（HH）
を有する第１磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高
いキュリー点（TH）と低い保磁力（HL）を有する第２磁
性層とからなり且つ下式 HH＞HL＞σW＞2Msh （ただし、Msは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層
の膜厚、σWは二磁性層間の磁壁エネルギーを示す。） を満たす、交換結合している二層構造の希土類−遷移金
属非晶質合金からなる垂直磁化膜を基板上に有してなる
光磁気記録媒体を使用して、情報の記録を行う記録方法
において、 前記第２磁性層のキュリー点以上まで前記媒体を昇温さ
せる強度のレーザー光を照射すると共にバイアス磁界を
印加し、その照射部位における前記第２磁性層を前記バ
イアス磁界の方向に磁化させると共に前記第１磁性層の
磁化を交換結合力により前記第２磁性層に対して安定な
向きに配列させ、その後磁化を反転させる力によりその
照射部位における第２磁性層の磁化のみを反転させるこ
とにより記録ビットを形成する記録プロセスと、 前記記録プロセスにて形成された記録ビットを消去する
場合には、前記第１磁性層のキュリー点以上まで前記媒
体を昇温させる強度のレーザー光を照射し、その照射部
位における前記第１磁性層の磁化の向きを交換結合力に
より前記第２磁性層に対して安定な向きに配列させるこ
とにより記録ビットの消去を行う消去プロセスとを備え
ることを特徴とする記録方法。
Priority Applications (17)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27856686A JPH087884B2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 光磁気記録方法 |
| CA 541367 CA1340058C (en) | 1986-07-08 | 1987-07-06 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with tow or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| AU75306/87A AU593364C (en) | 1986-07-08 | 1987-07-07 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| EP87306038A EP0258978B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| DE19873752351 DE3752351T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Gerät und System zur Aufzeichnung auf einem magnetooptischen Aufzeichnungsmedium |
| EP98200006A EP0838814B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| DE3752222T DE3752222T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetoptisches Aufzeichnungsmedium mit der Möglichkeit des Überschreibens mit zwei oder mehr Magnetschichten und dieses Medium verwendende Aufzeichnungsmethode |
| DE19873752348 DE3752348T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptisches Aufzeichnungsmedium mit der Möglichkeit des Überschreibens mit zwei oder mehr Magnetschichten und dieses Medium verwendende Aufzeichnungsmethode |
| EP98200007A EP0838815B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Apparatus and system for recording on a magnetooptical recording medium |
| AT87306038T ATE172047T1 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetoptisches aufzeichnungsmedium mit der möglichkeit des überschreibens mit zwei oder mehr magnetschichten und dieses medium verwendende aufzeichnungsmethode |
| KR1019870007322A KR960003420B1 (ko) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | 2층이상의 자성막을 가지고 중복기록이 가능한 광자기 기록매체 및 그의 매체를 사용한 기록방법 |
| AT98200007T ATE216528T1 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Gerät und system zur aufzeichnung auf einem magnetooptischen aufzeichnungsmedium |
| US07/475,941 US5132945A (en) | 1986-07-08 | 1990-01-30 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US08/296,163 US5525378A (en) | 1986-07-08 | 1994-08-26 | Method for producing a magnetooptical recording medium |
| US08/312,930 US5481410A (en) | 1986-07-08 | 1994-09-30 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US08/613,431 US5783300A (en) | 1986-06-18 | 1996-02-29 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US09/080,215 US6028824A (en) | 1986-07-08 | 1998-05-18 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27856686A JPH087884B2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 光磁気記録方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63133337A JPS63133337A (ja) | 1988-06-06 |
| JPH087884B2 true JPH087884B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=17599049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27856686A Expired - Fee Related JPH087884B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-11-25 | 光磁気記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087884B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0782673B2 (ja) * | 1986-12-10 | 1995-09-06 | 株式会社ニコン | オ−バ−ライト可能な光磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP27856686A patent/JPH087884B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63133337A (ja) | 1988-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0535499B2 (ja) | ||
| JP2703587B2 (ja) | 光磁気記録媒体および記録方法 | |
| JPH0542062B2 (ja) | ||
| JPH0535494B2 (ja) | ||
| JPH0395745A (ja) | 光磁気記録方法及び記録装置 | |
| JPS63155449A (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JPH0522301B2 (ja) | ||
| JPH087885B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JPH087884B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JPH0535498B2 (ja) | ||
| JP2555272B2 (ja) | 光磁気記録再生方法 | |
| JP2589453B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JPH0535493B2 (ja) | ||
| JPS63153752A (ja) | 光磁気記録媒体及びその記録方法 | |
| JPH0522302B2 (ja) | ||
| JPH0535496B2 (ja) | ||
| JP2674815B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JP2589451B2 (ja) | 光磁気記録再生装置 | |
| JPH06309710A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0522300B2 (ja) | ||
| JP2883939B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JP2959646B2 (ja) | 光磁気記録媒体及び光磁気記録方法 | |
| JPS63193351A (ja) | 光磁気記録媒体及び記録方式 | |
| JPS63237242A (ja) | 光磁気記録方式 | |
| JPH06236589A (ja) | 光磁気記録方法および光磁気再生方法及び光磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |