JPH087998B2 - Memory-circuit - Google Patents

Memory-circuit

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JPH087998B2
JPH087998B2 JP60261802A JP26180285A JPH087998B2 JP H087998 B2 JPH087998 B2 JP H087998B2 JP 60261802 A JP60261802 A JP 60261802A JP 26180285 A JP26180285 A JP 26180285A JP H087998 B2 JPH087998 B2 JP H087998B2
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Japan
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mos transistor
data line
mos transistors
gate
voltage
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幸雄 小林
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、スタティック型のメモリー回路に関する
もので、特に、読み出し動作から書き込み動作への移行
時間の短縮化に係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a static memory circuit, and more particularly to shortening a transition time from a read operation to a write operation.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

この発明は、読み出し及び書き込みを共通のデータ線
を用いて行うようにしたメモリー回路において、書き込
み動作から読み出し動作に移行する際、PチャンネルMO
Sトランジスタにより構成される第1のイコライズ回路
とNチャンネルMOSトランジスタにより構成される第2
のイコライズ回路とを用いてデータ線の電圧を引き上げ
ることにより、読み出し動作から書き込み動作への移行
時間を短縮化するようにしたものである。
According to the present invention, in a memory circuit in which reading and writing are performed using a common data line, a P-channel MO is used when shifting from a writing operation to a reading operation.
A first equalizing circuit composed of S transistors and a second equalizing circuit composed of N-channel MOS transistors.
The equalizing circuit is used to raise the voltage of the data line to shorten the transition time from the read operation to the write operation.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図は従来のMOSトランジスタを用いたスタティッ
ク型RAM(ランダム アクセス メモリー)の主要部の
構成の一例である。
FIG. 3 shows an example of the structure of the main part of a conventional static RAM (random access memory) using MOS transistors.

第3図において、51はメモリーセルを示し、複数のメ
モリーセル51がマトリクス状に二次元配列される。各メ
モリーセル51は、互いの入出力がたすきがけ接続された
MOSトランジスタのフリップフロップ回路から構成さ
れ、このフリップフロップ回路の両端にデータの入出力
を行うゲート用のMOSトランジスタが接続されている。
In FIG. 3, reference numeral 51 denotes a memory cell, and a plurality of memory cells 51 are two-dimensionally arranged in a matrix. The input and output of each memory cell 51 are mutually connected to each other.
It is composed of a MOS transistor flip-flop circuit, and a gate MOS transistor for inputting / outputting data is connected to both ends of the flip-flop circuit.

行方向に並ぶメモリーセル51は、共通のワード線52に
接続される。このワード線52は、Xデコーダ(図示せ
ず)に接続されていて、ロウアドレスが指定され、1つ
のワード線52が指定されると、このワード線52に対応す
る行のメモリーセル51のゲート用のMOSトランジスタが
オンされる。
The memory cells 51 arranged in the row direction are connected to a common word line 52. This word line 52 is connected to an X decoder (not shown), and when a row address is designated and one word line 52 is designated, the gate of the memory cell 51 of the row corresponding to this word line 52 is designated. The MOS transistor for is turned on.

列方向に並ぶメモリーセル51は、共通の一対のビット
線53及びビット線54に接続される。ビット線53及びビッ
ト線54の一端が負荷MOSトランジスタ55及びMOSトランジ
スタ56のソースに夫々接続される。MOSトランジスタ55
及び56としては、Nチャンネルのものが用いられる。MO
Sトランジスタ55及びMOSトランジスタ56のドレインが電
源電圧VDD(例えば5V)の電源端子57に接続される。MOS
トランジスタ55及びMOSトランジスタ56の互いのゲート
が共通接続され、この接続点が電源端子57に接続され
る。
The memory cells 51 arranged in the column direction are connected to a common pair of bit line 53 and bit line 54. One ends of the bit line 53 and the bit line 54 are connected to the sources of the load MOS transistor 55 and the MOS transistor 56, respectively. MOS transistor 55
As N and 56, N channel ones are used. MO
The drains of the S transistor 55 and the MOS transistor 56 are connected to the power supply terminal 57 of the power supply voltage V DD (for example, 5V). MOS
The gates of the transistor 55 and the MOS transistor 56 are commonly connected, and this connection point is connected to the power supply terminal 57.

ビット線53及びビット線54の他端は、スイッチングMO
Sトランジスタ58及びMOSトランジスタ59のドレインに夫
々接続される。MOSトランジスタ58及びMOSトランジスタ
59としては、Nチャンネルのものが用いられる。MOSト
ランジスタ58及びMOSトランジスタ59の互いのゲートが
共通接続され、この接続点からコラム信号入力端子74が
導出される。
The other ends of the bit line 53 and the bit line 54 have switching MO
The drains of the S transistor 58 and the MOS transistor 59 are respectively connected. MOS transistor 58 and MOS transistor
As the 59, an N channel one is used. The gates of the MOS transistor 58 and the MOS transistor 59 are commonly connected, and the column signal input terminal 74 is derived from this connection point.

MOSトランジスタ58及びMOSトランジスタ59のソースが
データ線61及びデータ線60を夫々介して負荷MOSトラン
ジスタ67及びMOSトランジスタ66のソースに夫々接続さ
れると共に、電源端子57と接地間に設けられたMOSトラ
ンジスタ62とMOSトランジスタ63の直列接続の接続点及
び電源端子57と接地間に設けられたMOSトランジスタ64
とMOSトランジスタ65の直列接続の接続点に接続され
る。MOSトランジスタ66及びMOSトランジスタ67のソース
がセンスアンプ68の非反転入力端子及び反転入力端子に
夫々接続される。MOSトランジスタ66及びMOSトランジス
タ67としては、Nチャンネルのものが用いられる。MOS
トランジスタ66及びMOSトランジスタ67のドレインが電
源端子57に接続れる。MOSトランジスタ66とMOSトランジ
スタ67のゲートが共通接続され、この接続点からライト
イネーブル信号 の入力端子75が導出される。
The sources of the MOS transistor 58 and the MOS transistor 59 are connected to the sources of the load MOS transistor 67 and the MOS transistor 66 via the data line 61 and the data line 60, respectively, and the MOS transistor provided between the power supply terminal 57 and the ground. 62 and a MOS transistor 63 connected in series, and a MOS transistor 64 provided between the power supply terminal 57 and the ground.
And the MOS transistor 65 are connected in series. The sources of the MOS transistor 66 and the MOS transistor 67 are connected to the non-inverting input terminal and the inverting input terminal of the sense amplifier 68, respectively. N-channel transistors are used as the MOS transistors 66 and 67. MOS
The drains of the transistor 66 and the MOS transistor 67 are connected to the power supply terminal 57. The gates of MOS transistor 66 and MOS transistor 67 are connected in common, and the write enable signal is sent from this connection point. The input terminal 75 of is derived.

MOSトランジスタ62のゲートとMOSトランジスタ65のゲ
ートが共通接続され、この接続点がNORゲート70の出力
端子に接続される。MOSトランジスタ63のゲートとMOSト
ランジスタ64のゲートが共通接続され、この接続点がNO
Rゲート69の出力端子に接続される。NORゲート69及びNO
Rゲート70の一方の入力端子がライトイネーブル信号 の入力端子71に接続される。NORゲート70の他方の入力
端子とNORゲート69の他方の入力端子とがインバータ73
を介して接続される。NORゲート70の他方の入力端子と
インバータ73との接続点がデータ入力端子72に接続され
る。
The gate of the MOS transistor 62 and the gate of the MOS transistor 65 are commonly connected, and this connection point is connected to the output terminal of the NOR gate 70. The gate of the MOS transistor 63 and the gate of the MOS transistor 64 are commonly connected.
Connected to the output terminal of R-gate 69. NOR gate 69 and NO
One input terminal of R gate 70 is a write enable signal Connected to the input terminal 71 of. The other input terminal of the NOR gate 70 and the other input terminal of the NOR gate 69 are connected to the inverter 73.
Connected via The connection point between the other input terminal of the NOR gate 70 and the inverter 73 is connected to the data input terminal 72.

書き込み時には、端子71及び端子75に供給されるライ
トイネーブル信号 がローレベルとされる。これにより、データ入力端子72
に供給されるデータがMOSトランジスタ58及びMOSトラン
ジスタ59、ビット線53及びビット線54を夫々介してメモ
リーセル51に供給され、メモリーセル51にデータが書き
込まれる。
At the time of writing, the write enable signal supplied to the terminals 71 and 75 Is low level. This allows the data input terminal 72
Is supplied to the memory cell 51 via the MOS transistor 58 and the MOS transistor 59, the bit line 53 and the bit line 54, respectively, and the data is written in the memory cell 51.

つまり、端子71に供給されるライトイネーブル信号 がローレベルになると、NORゲート69及びNORゲート70が
開き、データ入力端子72に供給される入力データがNOR
ゲート69及びNORゲート70を介して取り出される。NORゲ
ート69には、インバータ73を介して反転されたデータが
供給され、NORゲート70には入力端子72からのデータが
供給されているので、NORゲート69から正転のデータが
出力され、NORゲート70から反転されたデータが出力さ
れる。NORゲート69の出力がハイレベルの時にはMOSトラ
ンジスタ63及びMOSトランジスタ64がオンし、NORゲート
70の出力がハイレベルの時には、MOSトランジスタ62及
びMOSトランジスタ65がオンする。したがって、入力デ
ータがハイレベルの時には、MOSトランジスタ64とMOSト
ランジスタ65の接続点がローレベルになり、MOSトラン
ジスタ62とMOSトランジスタ63の接続点がハイレベルに
なる。入力データがローレベルの時には、MOSトランジ
スタ64とMOSトランジスタ65の接続点がハイレベルにな
り、MOSトランジスタ62とMOSトランジスタ63の接続点が
ローレベルになる。
That is, the write enable signal supplied to the terminal 71 Goes low, the NOR gate 69 and NOR gate 70 open, and the input data supplied to the data input terminal 72 becomes NOR.
It is taken out through the gate 69 and the NOR gate 70. The NOR gate 69 is supplied with the inverted data through the inverter 73, and the NOR gate 70 is supplied with the data from the input terminal 72. Therefore, the NOR gate 69 outputs the normal data and the NOR data is output. The inverted data is output from the gate 70. When the output of NOR gate 69 is high level, MOS transistor 63 and MOS transistor 64 turn on, and NOR gate 69
When the output of 70 is high level, the MOS transistors 62 and 65 are turned on. Therefore, when the input data is at the high level, the connection point between the MOS transistor 64 and the MOS transistor 65 is at the low level, and the connection point between the MOS transistor 62 and the MOS transistor 63 is at the high level. When the input data is low level, the connection point between the MOS transistor 64 and the MOS transistor 65 becomes high level, and the connection point between the MOS transistor 62 and the MOS transistor 63 becomes low level.

端子74には、Yデコーダ(図示せず)からコラム信号
が供給される。このコラム信号がハイレベルになると、
MOSトランジスタ58及びMOSトランジスタ59がオン状態と
なり、1つのメモリーセル51が選択される。MOSトラン
ジスタ62とMOSトランジスタ63の接続点及びMOSトランジ
スタ64とMOSトランジスタ65の接続点の出力が選択され
たビット線53及びビット線54を夫々介してメモリーセル
51に供給される。
A column signal is supplied to the terminal 74 from a Y decoder (not shown). When this column signal goes high,
The MOS transistor 58 and the MOS transistor 59 are turned on, and one memory cell 51 is selected. A memory cell through the bit line 53 and the bit line 54, respectively, whose outputs at the connection point between the MOS transistor 62 and the MOS transistor 63 and the connection point between the MOS transistor 64 and the MOS transistor 65 are selected.
Supplied to 51.

読み出し時には、端子75及び71に供給されるライトイ
ネーブル信号 がハイレベルとされ、負荷MOSトランジスタ66及び67が
オン状態とされる。
Write enable signal supplied to terminals 75 and 71 when reading Is set to a high level, and the load MOS transistors 66 and 67 are turned on.

Xデコーダ(図示せず)によってワード線52が選択さ
れ、このワード線52に接続されたすべてのメモリーセル
が活性化されると共に、Yデコーダ(図示せず)から所
定の1対のビット線53及びビット線54に対するハイレベ
ルのコラム信号が端子74に供給されて、MOSトランジス
タ58及び59がオン状態とされる。メモリーセル51内のフ
リップフロップ(図示せず)のビット線53に接続された
MOSトランジスタがオン状態であったとすると、MOSトラ
ンジスタ67からデータ線61、選択用MOSトランジスタ58
及びビット線53の経路により、メモリーセル51にデータ
線電流IDが流入する。また、ビット線53の一端に接続さ
れた負荷MOSトランジスタ55は、そのゲートに電源電圧V
DDが供給されて、オン状態にあり、このMOSトランジス
タ55を経て、メモリーセル51にビット線電流IBが流入す
る。このビット線電流IBと上述のデータ線電流IDとの和
がメモリーセル51の吸い込み電流IMとなる。
A word line 52 is selected by an X decoder (not shown), all memory cells connected to the word line 52 are activated, and a predetermined pair of bit lines 53 from a Y decoder (not shown). Also, a high level column signal for the bit line 54 is supplied to the terminal 74, and the MOS transistors 58 and 59 are turned on. Connected to bit line 53 of flip-flop (not shown) in memory cell 51
If the MOS transistor is in the ON state, the MOS transistor 67 to the data line 61, the selection MOS transistor 58
The data line current ID flows into the memory cell 51 through the path of the bit line 53. In addition, the load MOS transistor 55 connected to one end of the bit line 53 has its gate connected to the power supply voltage V
The bit line current I B flows into the memory cell 51 through the MOS transistor 55 by being supplied with DD and in the ON state. The sum of this bit line current I B and the above-mentioned data line current I D becomes the sink current I M of the memory cell 51.

一方、メモリーセル51内のビット線54に接続されたMO
Sトランジスタ(図示せず)はオフ状態にあり、ビット
線54及びデータ線60からはメモリーセル51に電流が流入
しない。
On the other hand, the MO connected to the bit line 54 in the memory cell 51
The S transistor (not shown) is in the off state, and no current flows into the memory cell 51 from the bit line 54 and the data line 60.

したがって、ビット線53及びビット線54の電圧V53
びV54は異なり、こと異なる2つの電位が所望のメモリ
ーセル51の情報としてデータ線60及びデータ線61を通っ
てプリセンスアンプ68に供給される。この入力信号の差
信号が増幅されて、インバータ76に供給される。
Therefore, the voltages V 53 and V 54 of the bit line 53 and the bit line 54 are different, and two different potentials are supplied to the pre-sense amplifier 68 through the data line 60 and the data line 61 as information of the desired memory cell 51. . The difference signal between the input signals is amplified and supplied to the inverter 76.

電源電圧VDDが例えば5Vであるとき、(高い方の)ビ
ット線54の電圧V54は、MOSトランジスタ56のスレッショ
ルド電圧Vth(約0.7V)及び基板効果ΔVth(約1.1V)の
影響によって、例えば約3.2Vとからなり低くなる。ま
た、ビット線53の電圧V53は、メモリーセル51の吸い込
み電流IMが、例えば100μAであるとき、MOSトランジス
タ55内の電圧効果によってV54よりも稍低く、例えば約
2.9Vとなる。
When the power supply voltage V DD is, for example, 5V, the voltage V 54 of the (higher) bit line 54 is affected by the threshold voltage Vth (about 0.7V) of the MOS transistor 56 and the substrate effect ΔVth (about 1.1V). For example, it is about 3.2V, which is low. Further, the voltage V 53 of the bit line 53 is slightly lower than V 54 due to the voltage effect in the MOS transistor 55 when the sink current I M of the memory cell 51 is, for example, 100 μA.
It becomes 2.9V.

また、データ線60及びデータ線61の電圧V60及びV
61は、上述と同じ理由によって、夫々V53及びV54と略等
しくなる。
In addition, the voltage V 60 and V of the data line 60 and the data line 61
61 is approximately equal to V 53 and V 54 , respectively, for the same reason as above.

ところが、電源電圧VDDが、過負荷等によって、例え
ば3V程度まで低下した場合、データ線60及びデータ線61
の電圧V60及びV61が1.5V程度まで低下してしまう。この
値はプリセンスアンプ68の入力電圧としては低過ぎるた
め、読み出しプリセンスアンプ68が動作しなくなるとい
う問題があった。
However, if the power supply voltage V DD drops to, for example, about 3 V due to overload, etc., the data line 60 and the data line 61
The voltage V 60 and V 61 of the device will drop to about 1.5V. Since this value is too low as the input voltage of the pre-sense amplifier 68, there is a problem that the read pre-sense amplifier 68 does not operate.

また、前述のように、例えば両データ線60及び61の電
圧V60及びV61と両ビット線53及び54の電圧V53及びV54
が夫々略等しくなってしまうため、コラム選択用MOSト
ランジスタ58及び59のドレイン・ソース間電圧VDSが極
めて小さくなり、これらのMOSトランジスタ58及び59の
駆動能力が低下してしまう。そうすると、選択用MOSト
ランジスタ58及び59並びに、MOSトランジスタ66及び67
の各面積をビット線駆動用MOSトランジスタ55及び56の
面積の例えば4倍に大きくしても、大きなデータ線電流
を流すことができなくなり、高速読み出しができないと
いう問題があった。
Further, as described above, for example, the voltages V 60 and V 61 of both data lines 60 and 61 and the voltages V 53 and V 54 of both bit lines 53 and 54 become substantially equal to each other. The drain-source voltage V DS of 58 and 59 becomes extremely small, and the drive capability of these MOS transistors 58 and 59 deteriorates. Then, the selection MOS transistors 58 and 59, and the MOS transistors 66 and 67.
Even if each area is increased to, for example, four times the area of the bit line driving MOS transistors 55 and 56, there is a problem in that a large data line current cannot be passed and high-speed reading cannot be performed.

更に、コラム選択用MOSトランジスタ58及び59の接合
容量が夫々データ線60及びデータ線61の浮遊容量とな
る。例えば64Kビットの容量のメモリーでは、コラムの
数は、256となり、データ線60及びデータ線61にはかな
り大きな浮遊容量が付加される。しかも、上述のよう
に、このメモリーではMOSトランジスタ58及び59のドレ
イン・ソース間電圧VDSが低いため、その接合容量は大
きく、データ線60及びデータ線61の高速駆動が妨げられ
るという問題もあった。
Further, the junction capacitances of the column selecting MOS transistors 58 and 59 become stray capacitances of the data line 60 and the data line 61, respectively. For example, in a memory having a capacity of 64 Kbits, the number of columns is 256, and a considerably large stray capacitance is added to the data lines 60 and 61. Moreover, as described above, in this memory, since the drain-source voltage V DS of the MOS transistors 58 and 59 is low, the junction capacitance thereof is large, and there is a problem that high-speed driving of the data lines 60 and 61 is hindered. It was

そこで、第4図に示すように、データ線60及びデータ
線61の負荷回路を、PチャンネルMOSトランジスタ85,8
6,87で構成するようにしたメモリー回路が本願出願人に
より提案されている。つまり、データ線60及びデータ線
61にPチャンネルMOSトランジスタ86及び87のドレイン
を接続し、PチャンネルMOSトランジスタ86及び87のソ
ースと電源端子57との間に、ダイオード接続のPチャン
ネルMOSトランジスタ85を挿入する。
Therefore, as shown in FIG. 4, the load circuits of the data line 60 and the data line 61 are connected to the P-channel MOS transistors 85 and 8 respectively.
The present applicant has proposed a memory circuit configured by 6,87. That is, data line 60 and data line
The drains of P-channel MOS transistors 86 and 87 are connected to 61, and a diode-connected P-channel MOS transistor 85 is inserted between the sources of P-channel MOS transistors 86 and 87 and the power supply terminal 57.

読み出しの場合、端子75に供給されるライトイネーブ
ル信号WEがローレベルとされ、負荷MOSトランジスタ86
及び87の各ゲートに供給されて、両MOSトランジスタ86
及び87はオン状態となる。その動作点がトライオード領
域内に選定されているので、両MOSトランジスタ86及び8
7は、抵抗器として動作し、第5図に等価回路で示すも
のとなる。
When reading, the write enable signal WE supplied to the terminal 75 is set to low level, and the load MOS transistor 86
And 87 to both gates of both MOS transistors 86.
And 87 are turned on. Since its operating point is selected within the triode region, both MOS transistors 86 and 8
The element 7 operates as a resistor and has an equivalent circuit shown in FIG.

したがって、負荷としてPチャンネルMOSトランジス
タ86及び87を用いて、基板効果ΔVthを排除することに
より、電源電圧VDDが5Vの場合、データ線60及びデータ
線61の電圧V60及びV61が夫々約3.9V及び約4.1Vに高めら
れる。
Therefore, by using the P-channel MOS transistors 86 and 87 as the load and eliminating the substrate effect ΔVth, when the power supply voltage V DD is 5 V, the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 are respectively reduced. Increased to 3.9V and about 4.1V.

このため、前述のように、電源電圧VDDが例えば3V程
度に低下した場合においても、両データ線60,61の電圧
は2V程度に維持されて、読み出し増幅器は安定に動作す
る。
Therefore, as described above, even when the power supply voltage V DD drops to, for example, about 3V, the voltage of both data lines 60 and 61 is maintained at about 2V, and the read amplifier operates stably.

また、両データ線60,61の電圧が両ビット線53,54の電
圧よりも夫々1V程度高くなるので、選択用MOSトランジ
スタ58及び59のドレイン・ソース間電圧VDSが大きくな
り、その駆動能力が増大いて、大きなデータ線電流を流
すことができて、その結果、高速読み出しが可能とな
る。更に、選択用MOSトランジスタ58及び59のVDSが大き
くなるため、その接合容量が減少し、両データ線51及び
52の浮遊容量が減少して、高速読み取りに寄与する。
Further, since the voltage of both data lines 60 and 61 becomes higher than the voltage of both bit lines 53 and 54 by about 1V, respectively, the drain-source voltage V DS of the selection MOS transistors 58 and 59 becomes large, and its drive capability is increased. Is increased, and a large data line current can be passed, and as a result, high-speed reading is possible. Furthermore, since the V DS of the selection MOS transistors 58 and 59 is increased, the junction capacitance thereof is reduced, and the data lines 51 and
The stray capacitance of 52 is reduced, which contributes to high-speed reading.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところが、上述のようにデータ線60及びデータ線61の
電圧V60及びV61を夫々約3.9V及び約4.1Vに高められるこ
とにより、書き込み動作から読み出し動作に移行する際
の時間が長くなるという問題が生じる。つまり、書き込
み動作時には、データ線60及びデータ線61の電圧V60
びV61は、ハイレベルが約3.2V、ローレベルが約0.3Vと
なっている。書き込み動作から読み出し動作に移行する
際には、この書き込み時のデータ線60及びデータ線61の
電圧V60及びV61を夫々約0.3V及び約3.2Vから読み出し時
のデータ線60及びデータ線61の電圧V60及びV61夫々約3.
9V及び約4.1Vまで引き上げなければならない。読み出し
時のデータ線60及びデータ線61の電圧V60及びV61がこの
ように高められていると、書き込み時のデータ線60及び
データ線61の電圧V60及びV61との差電圧が大きくなり、
書き込み動作から読み出し動作に移行した直後の読み出
し(ライトリカバリー)時間が長く必要となる。
However, by increasing the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 to about 3.9 V and about 4.1 V, respectively, as described above, it is said that the time required to shift from the write operation to the read operation becomes longer. The problem arises. That is, in the write operation, the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 have a high level of about 3.2V and a low level of about 0.3V. When shifting from the write operation to the read operation, the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 at the time of writing are changed from about 0.3 V and about 3.2 V respectively to the data line 60 and the data line 61 at the time of reading. Voltage of V 60 and V 61 respectively about 3.
Must be raised to 9V and about 4.1V. If the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 at the time of reading are increased in this way, the voltage difference between the voltages V 60 and V 61 of the data line 60 and the data line 61 at the time of writing becomes large. Becomes
The read (write recovery) time immediately after the transition from the write operation to the read operation is long.

したがって、この発明の目的は、書き込み動作から読
み出し動作への移行時間が短縮され、ライトリカバリー
が高速化できるメモリー回路を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a memory circuit in which the transition time from a write operation to a read operation is shortened and write recovery can be speeded up.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明は、読み出し及び書き込みを共通のデータ線
を用いて行うようにしたメモリー回路において、 一対のデータ線10,11間にPチャンネルMOSトランジス
タにより構成される第1のプルアップ回路36,37及びP
チャンネルMOSトランジスタにより構成される第1のイ
コライズ回路38と、NチャンネルMOSトランジスタによ
り構成される第2のプルアップ回路39,40及びNチャン
ネルMOSトランジスタにより構成される第2のイコライ
ズ回路41とを配設するようにしたことを特徴とするメモ
リー回路である。
The present invention relates to a memory circuit in which reading and writing are performed by using a common data line, and a first pull-up circuit 36, 37 formed by a P-channel MOS transistor between a pair of data lines 10 and 11 and P
A first equalize circuit 38 formed of channel MOS transistors, a second pull-up circuit 39, 40 formed of N-channel MOS transistors, and a second equalize circuit 41 formed of N-channel MOS transistors are arranged. It is a memory circuit characterized by being installed.

〔作用〕[Action]

書き込み状態から読み出し状態に移行する際、Nチャ
ンネルMOSトランジスタ39,40及びMOSトランジスタ41が
オンしデータ線10及びデータ線11の電圧が所定レベルま
で引き上げられる。データ線10及びデータ線11の電圧が
例えば3.2Vまで達すると、MOSトランジスタ39,40及びMO
Sトランジスタ41はオフ状態となる。データ線11の電圧
が例えば3.2Vまで達した後は、PチャンネルMOSトラン
ジスタ36,37によりデータ線11の電圧が所定の値まで引
き上げられる。
When shifting from the write state to the read state, the N-channel MOS transistors 39, 40 and the MOS transistor 41 are turned on and the voltage of the data line 10 and the data line 11 is raised to a predetermined level. When the voltage of the data line 10 and the data line 11 reaches 3.2 V, for example, the MOS transistors 39, 40 and MO
The S transistor 41 is turned off. After the voltage of the data line 11 reaches, for example, 3.2V, the voltage of the data line 11 is raised to a predetermined value by the P-channel MOS transistors 36 and 37.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例について図面を参照て説明
する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はこの発明の一実施例を示すものである。第1
図において、1はメモリーセルを示し、複数のメモリー
セル1がマトリクス状に二次元配列される。各メモリー
セル1は、互いの入出力がたすきがけ接続されたMOSト
ランジスタのフリップフロップ回路から構成され、この
フリップフロップ回路の両端にデータの入出力を行うゲ
ート用のMOSトランジスタが接続されている。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. First
In the figure, 1 indicates a memory cell, and a plurality of memory cells 1 are two-dimensionally arranged in a matrix. Each memory cell 1 is composed of a flip-flop circuit of MOS transistors whose inputs and outputs are mutually connected, and MOS transistors for gates for inputting and outputting data are connected to both ends of this flip-flop circuit.

行方向に並ぶメモリーセル1は、共通のワード線2に
接続される。このワード線2は、Xデコーダ(図示せ
ず)に接続されていて、ロウアドレスが指定され、1つ
のワード線2が指定されると、このワード線2に対応す
る行のメモリーセル1のゲート用のMOSトランジスタが
オンされる。
The memory cells 1 arranged in the row direction are connected to a common word line 2. This word line 2 is connected to an X decoder (not shown), a row address is designated, and when one word line 2 is designated, the gate of the memory cell 1 of the row corresponding to this word line 2 is designated. The MOS transistor for is turned on.

列方向に並ぶメモリーセル1は、共通の一対のビット
線3及びビット線4に接続される。ビット線3及びビッ
ト線4の一端が負荷MOSトランジスタ5及びMOSトランジ
スタ6のソースに夫々接続される。MOSトランジスタ5
及び6としては、Nチャンネルのものが用いられる。MO
Sトランジスタ5及びMOSトランジスタ6のドレインが電
源電圧VDD(例えば5V)の電源端子7に接続される。MOS
トランジスタ5及びMOSトランジスタ6の互いのゲート
が共通接続され、この接続点が電源端子7に接続され
る。
The memory cells 1 arranged in the column direction are connected to a common pair of bit line 3 and bit line 4. One ends of the bit line 3 and the bit line 4 are connected to the sources of the load MOS transistor 5 and the MOS transistor 6, respectively. MOS transistor 5
As N and 6, N-channel ones are used. MO
The drains of the S transistor 5 and the MOS transistor 6 are connected to a power supply terminal 7 having a power supply voltage V DD (for example, 5V). MOS
The gates of the transistor 5 and the MOS transistor 6 are commonly connected, and this connection point is connected to the power supply terminal 7.

ビット線3及びビット線4の他端は、スイッチングMO
Sトランジスタ8及びMOSトランジスタ9のドレインに夫
々接続される。MOSトランジスタ8及びMOSトランジスタ
9としては、Nチャンネルのものが用いられる。MOSト
ランジスタ8及びMOSトランジスタ9の互いのゲートが
共通接続され、この接続点からコラム信号入力端子24が
導出される。
The other ends of the bit lines 3 and 4 are switching MO
The drains of the S transistor 8 and the MOS transistor 9 are respectively connected. N-channel transistors are used as the MOS transistors 8 and 9. The gates of the MOS transistor 8 and the MOS transistor 9 are commonly connected, and the column signal input terminal 24 is derived from this connection point.

MOSトランジスタ8及びMOSトランジスタ9のソースに
データ線11及びデータ線10が夫々接続される。データ線
10とデータ線11との間に、PチャンネルMOSトランジス
タ36,37,38で構成されるプルアップ回路及びイコライズ
回路と、NチャンネルMOSトランジスタ39,40,41で構成
されるプルアップ回路及びイコライズ回路が接続され
る。
The data lines 11 and 10 are connected to the sources of the MOS transistors 8 and 9, respectively. Data line
Between the 10 and the data line 11, a pull-up circuit and an equalize circuit composed of P-channel MOS transistors 36, 37 and 38, and a pull-up circuit and an equalize circuit composed of N-channel MOS transistors 39, 40 and 41. Are connected.

即ち、PチャンネルMOSトランジスタ35のソースが電
源端子7に接続され、MOSトランジスタ35のゲート及び
ドレインが共通接続され、この接続点がPチャンネルMO
Sトランジスタ36及び37のソースに接続される。MOSトラ
ンジスタ36及び37のゲートが共通接続され、この接続点
から端子25が導出されると共に、この接続点がデータ線
10及びデータ線11との間に設けられたイコライズ用のMO
Sトランジスタ38のゲートに接続される。MOSトランジス
タ36及び37のドレインがデータ線10及びデータ線11に夫
々接続される。
That is, the source of the P-channel MOS transistor 35 is connected to the power supply terminal 7, the gate and drain of the MOS transistor 35 are commonly connected, and this connection point is the P-channel MO.
Connected to the sources of S transistors 36 and 37. The gates of the MOS transistors 36 and 37 are commonly connected, and the terminal 25 is derived from this connection point, and this connection point is connected to the data line.
MO for equalization provided between 10 and data line 11
Connected to the gate of S transistor 38. The drains of the MOS transistors 36 and 37 are connected to the data line 10 and the data line 11, respectively.

NチャンネルMOSトランジスタ39及び40のドレインが
電源端子7に接続される。MOSトランジスタ39及び40の
互いのゲートが共通接続され、この接続点から端子28が
導出されると共に、この接続点がデータ線10及びデータ
線11との間に設けられたイコライズ用のNチャンネルMO
Sトランジスタ41のゲートに接続される。MOSトランジス
タ39及び40のソースがデータ線10及びデータ線11に接続
される。
The drains of the N-channel MOS transistors 39 and 40 are connected to the power supply terminal 7. The gates of the MOS transistors 39 and 40 are commonly connected, the terminal 28 is led out from this connection point, and this connection point is provided between the data line 10 and the data line 11 for equalizing N channel MO.
It is connected to the gate of the S transistor 41. The sources of the MOS transistors 39 and 40 are connected to the data line 10 and the data line 11.

また、データ線11が電源端子7と接地間に設けられた
MOSトランジスタ12とMOSトランジスタ13の直列接続の接
続点に接続される。データ線10が電源端子7と接地間に
設けられたMOSトランジスタ14とMOSトランジスタ15の直
列接続の接続点に接続される。
In addition, the data line 11 is provided between the power supply terminal 7 and the ground.
It is connected to the connection point of the series connection of the MOS transistors 12 and 13. The data line 10 is connected to the connection point of the series connection of the MOS transistors 14 and 15 provided between the power supply terminal 7 and the ground.

MOSトランジスタ12のゲートとMOSトランジスタ15のゲ
ートが共通接続され、この接続点がNORゲート20の出力
端子に接続される。MOSトランジスタ13のゲートとMOSト
ランジスタ14のゲートが共通接続され、この接続点がNO
Rゲート19の出力端子に接続される。NORゲート19及びNO
Rゲート20の一方の入力端子が端子21に接続される。NOR
ゲート20の他方の入力端子とNORゲート19の他方の入力
端子とがインバータ23を介して接続される。NORゲート2
0の他方の入力端子とインバータ23との接続点がデータ
入力端子22に接続される。
The gate of the MOS transistor 12 and the gate of the MOS transistor 15 are commonly connected, and this connection point is connected to the output terminal of the NOR gate 20. The gate of the MOS transistor 13 and the gate of the MOS transistor 14 are commonly connected, and this connection point is NO.
Connected to the output terminal of R gate 19. NOR gate 19 and NO
One input terminal of the R gate 20 is connected to the terminal 21. NOR
The other input terminal of the gate 20 and the other input terminal of the NOR gate 19 are connected via an inverter 23. NOR gate 2
The connection point between the other input terminal of 0 and the inverter 23 is connected to the data input terminal 22.

チップイネーブル信号Cがローレベルで、ライトイネ
ーブル信号 がハイレベルとされると、端子25にローレベルが供給さ
れ、端子28にハイレベルが供給されると共に、端子21に
ハイレベルが供給され、書き込み状態から読み出し状態
に移行する。
When the chip enable signal C is low level, the write enable signal Is set to a high level, a low level is supplied to the terminal 25, a high level is supplied to the terminal 28, a high level is supplied to the terminal 21, and a write state is changed to a read state.

書き込み状態でのデータ線10及びデータ線11の電圧V
10及びV11は、前述したように、電源電圧VDDを5V、スレ
ッショルド電圧Vthを0.7V、基板効果をΔVthを1.1Vとす
ると、夫々約0.3V及び約3.2Vである。したがって、端子
28にハイレベルが供給されると、先ず、MOSトランジス
タ39,40及びイコライズ用のMOSトランジスタ41がオン状
態となる。MOSトランジスタ39及び40は、Nチャンネル
のMOSトランジスタであるから、MOSトランジスタ39及び
40がオンすることにより、データ線10及びデータ線11の
電圧V10及びV11は、3.2Vまで引き上げられる。また、イ
コライズ用MOSトランジスタ41がオンするので、ビット
線10とビット線11の電圧差が縮まる。
Voltage V of data line 10 and data line 11 in write state
As described above, 10 and V 11 are about 0.3V and about 3.2V, respectively, when the power supply voltage V DD is 5V, the threshold voltage Vth is 0.7V, and the substrate effect ΔVth is 1.1V. Therefore, the terminal
When the high level is supplied to 28, first, the MOS transistors 39 and 40 and the equalizing MOS transistor 41 are turned on. Since the MOS transistors 39 and 40 are N-channel MOS transistors, the MOS transistors 39 and 40
When 40 is turned on, the voltages V 10 and V 11 of the data line 10 and the data line 11 are raised to 3.2V. Further, since the equalizing MOS transistor 41 is turned on, the voltage difference between the bit line 10 and the bit line 11 is reduced.

なお、イコライズ用MOSトランジスタ41は、ハイレベ
ルの一方のデータ線10又はデータ線11の引き下がりが大
きすぎると、ビット線3及びビット線4に影響が出てし
まい、誤動作を生じる可能性がある。このため、MOSト
ランジスタ41の大きさは、最適に設定する必要がある。
Note that the equalizing MOS transistor 41 may affect the bit lines 3 and 4 if one of the high-level data lines 10 or 11 is pulled down too much, which may cause a malfunction. Therefore, the size of the MOS transistor 41 needs to be optimally set.

データ線10及びデータ線11の電圧V10及びV11が3.2Vま
で引き上げられると、MOSトランジスタ39,40及びMOSト
ランジスタ41はオフ状態となる。
When the voltages V 10 and V 11 of the data line 10 and the data line 11 are raised to 3.2V, the MOS transistors 39 and 40 and the MOS transistor 41 are turned off.

この時、端子25にローレベルが供給されているので、
MOSトランジスタ36,37及びMOSトランジスタ38はオン状
態である。データ線10及びデータ11の電圧V10及びV11
3.2Vまで引き上げられた後は、このPチャンネルMOSト
ランジスタ37及び36により、データ線10及びデータ線11
の電圧V10及びV11が夫々4V及び3.7Vまで引き上げられ
る。
At this time, since the low level is being supplied to the terminal 25,
The MOS transistors 36 and 37 and the MOS transistor 38 are on. Data line 10 and data 11 voltages V 10 and V 11
After the voltage is raised to 3.2V, the data lines 10 and 11 are turned on by the P-channel MOS transistors 37 and 36.
The voltages V 10 and V 11 are increased to 4V and 3.7V, respectively.

なお、イコライズ用MOSトランジスタ38は、データ線1
0及びデータ線11の振幅を制限するために設けられてい
る。イコライズ用MOSトランジスタ38が設けられること
により、データの反転時間が短縮化される。
The equalizing MOS transistor 38 is connected to the data line 1
It is provided to limit the amplitude of 0 and the data line 11. By providing the equalizing MOS transistor 38, the data inversion time is shortened.

このように、データ線10及びデータ線11は、書き込み
状態から読み出し状態に移行する際に、NチャンネルMO
Sトランジスタ39及び40からなるプルアップ回路と、P
チャンネルMOSトランジスタ36及び37からなるプルアッ
プ回路とにより引き上げられる。つまり、第2図におい
て、書き込み状態から読み出し状態に移行する際、時刻
t1〜t2の間、MOSトランジスタ39及び40からなるプルア
ップ回路とMOSトランジスタ36及び37からなるプルアッ
プ回路とにより、データ線10及びデータ線11が引き上げ
られる。また、イコライズ用MOSトランジスタ41によ
り、ハイレベルのデータが伝えられる一方のデータ線10
又はデータ線11が引き下げられる。データ線10及びデー
タ線11の電圧V10及びV11が3.2Vに達する時刻t2〜t3
は、NチャンネルMOSトランジスタ39,40及びMOSトラン
ジスタ41がオフする。そして、MOSトランジスタ36及び3
7により、データ線10及びデータ線11の電圧V10及びV11
が引き上げられ、時刻t3から読み出し状態に移行でき
る。
In this way, the data line 10 and the data line 11 have the N-channel MO when the write state changes to the read state.
A pull-up circuit consisting of S transistors 39 and 40, and P
It is pulled up by a pull-up circuit composed of channel MOS transistors 36 and 37. That is, in FIG. 2, when the write state is changed to the read state, the time
During t 1 to t 2 , the data line 10 and the data line 11 are pulled up by the pull-up circuit composed of the MOS transistors 39 and 40 and the pull-up circuit composed of the MOS transistors 36 and 37. In addition, one data line 10 to which high level data is transmitted by the equalizing MOS transistor 41.
Alternatively, the data line 11 is pulled down. At time t 2 ~t 3 voltages V 10 and V 11 of the data lines 10 and the data line 11 reaches 3.2 V, N-channel MOS transistors 39, 40 and MOS transistor 41 is turned off. And the MOS transistors 36 and 3
7, the voltage V 10 and V 11 of the data line 10 and the data line 11
Is raised, and the read state can be entered from time t 3 .

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明に依れば、書き込み状態から読み出し状態に
移行する際、データ線の電圧がPチャンネルMOSトラン
ジスタにより構成される第1のプルアップ回路とNチャ
ンネルMOSトランジスタにより構成される第2のプルア
ップ回路とにより引き上げられる。NチャンネルMOSト
ランジスタにより構成される第2のプルアップ回路は、
データ線の電圧が所定の値まで引き上げられると、オフ
状態となる。これにより、書き込み状態から読み出し状
態に移行する際、データ線の電圧が瞬時に引き上げら
れ、書き込み動作から読み出し動作への移行時間が短縮
される。
According to the present invention, when the write state is changed to the read state, the voltage of the data line is the first pull-up circuit configured by the P-channel MOS transistor and the second pull-up circuit configured by the N-channel MOS transistor. It is pulled up by the circuit. The second pull-up circuit composed of N-channel MOS transistors is
When the voltage of the data line is raised to a predetermined value, it turns off. As a result, when the write state is changed to the read state, the voltage of the data line is instantly raised, and the transition time from the write operation to the read operation is shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例の接続図、第2図はこの発
明の一実施例の説明に用いる波形図、第3図は従来のメ
モリー回路の一例の接続図、第4図は従来のメモリー回
路の他の例の接続図、第5図は従来のメモリー回路の説
明に用いる等価回路図である。 図面における主要な符号の説明 1:メモリーセル,3,4:ビット線,10,11:データ線,36,37:
プルアップ用のPチャンネルMOSトランジスタ,38:イコ
ライズ用のPチャンネルMOSトランジスタ,39,40:プルア
ップ用のNチャンネルMOSトランジスタ,41:イコライズ
用のNチャンネルMOSトランジスタ。
FIG. 1 is a connection diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a waveform diagram used to explain an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a connection diagram of an example of a conventional memory circuit, and FIG. FIG. 5 is a connection diagram of another example of the memory circuit of FIG. 5, and FIG. 5 is an equivalent circuit diagram used for explaining the conventional memory circuit. Description of main symbols in the drawings 1: Memory cell, 3, 4: Bit line, 10, 11: Data line, 36, 37:
P-channel MOS transistor for pull-up, 38: P-channel MOS transistor for equalize, 39, 40: N-channel MOS transistor for pull-up, 41: N-channel MOS transistor for equalize.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−151387(JP,A) 特開 昭60−154393(JP,A) 1985IEEE Internation al Solid−State Circ uits Conference−DIG EST OF TECHNICAL PA PERS,P.60〜61. 1984IEEE Internation al Solid−State Circ uits Conference−DIG EST OF TECHNICAL PA PERS,P.224〜225. ─────────────────────────────────────────────────── ───Continuation of front page (56) References JP-A-59-151387 (JP, A) JP-A-60-154393 (JP, A) 1985 IEEE International Solid-State Circuits Conference-DIG EST OF TECHNICAL PA PERS , P .; 60 to 61. 1984 IEEE International Solid-State Circuits Conference-DIG EST OF TECHNICAL PA PERS, P.P. 224-225.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】読み出し及び書き込みを共通のデータ線を
用いて行うようにしたメモリー回路において、 ソース電極が電源端子に、ドレン電極とゲート電極が第
1の端子に接続されたPチャンネルMOSトランジスタ
と、 一方が上記第1の端子に共通に接続され他方が一対のデ
ータ線に接続される一対のPチャンネルMOSトランジス
タにより構成される第1のプルアップ回路及びPチャン
ネルMOSトランジスタにより構成され上記一対のデータ
線間に接続される第1のイコライズ回路と、一方が電源
端子に共通に接続され他方が一対のデータ線に接続され
る一対のNチャンネルMOSトランジスタにより構成され
る第2のプルアップ回路及びNチャンネルトランジスタ
により構成され上記一対のデータ線間に接続される第2
のイコライズ回路とを配設して構成され、 上記一対NチャンネルMOSトランジスタのゲート電極に
は、書込み時に論理“L"の電圧が、読み出し時に論理
“H"の電圧が供給され、 上記一対のPチャンネルMOSトランジスタのゲート電極
には、書込み時に論理“H"の電圧が、読み出し時に論理
“L"の電圧が供給されることを特徴とするメモリー回
路。
1. A P-channel MOS transistor having a source electrode connected to a power supply terminal and a drain electrode and a gate electrode connected to a first terminal in a memory circuit in which reading and writing are performed using a common data line. A pair of P-channel MOS transistors, one of which is commonly connected to the first terminal and the other of which is connected to a pair of data lines. A first equalizer circuit connected between the data lines; a second pull-up circuit composed of a pair of N-channel MOS transistors, one of which is commonly connected to a power supply terminal and the other of which is connected to a pair of data lines; A second one formed by an N-channel transistor and connected between the pair of data lines
And a logical "H" voltage at the time of writing and a logical "H" voltage at the time of reading are supplied to the gate electrodes of the pair of N-channel MOS transistors. A memory circuit characterized in that the gate electrode of a channel MOS transistor is supplied with a logic "H" voltage during writing and a logic "L" voltage during reading.
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