JPH0881309A - 包接化合物 - Google Patents
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Landscapes
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】
【化1】
(式中、Xは同一又は異なって水素原子又はハロゲン原
子を示す。)で表される化合物のシクロデキストリン類
包接化合物。 【効果】皮膚刺激性、刺激臭がなく、保存中に粉末の固
化が起こることなく取り扱い性に優れ、さらには揮発に
よる酸腐食性がない等、作業性に優れた殺菌剤として有
効。
子を示す。)で表される化合物のシクロデキストリン類
包接化合物。 【効果】皮膚刺激性、刺激臭がなく、保存中に粉末の固
化が起こることなく取り扱い性に優れ、さらには揮発に
よる酸腐食性がない等、作業性に優れた殺菌剤として有
効。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】殺菌剤として有用なテトラヒドロ
チオフェン−1,1−ジオキシド誘導体のシクロデキス
トリン類包接化合物に関する。
チオフェン−1,1−ジオキシド誘導体のシクロデキス
トリン類包接化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】産業用水の需要の増加に伴い、再循環用
水系の利用が盛んに行われているが、このような利用に
際し微生物の増殖の制御と抑制は重要な問題である。ま
た、これら産業用水以外にも産業資材の多様化に伴い、
微生物の増殖による災害、かび発生について、その災害
は広範にわたっている。とりわけ、製紙工程における用
水、工業用冷却水、あるいは金属加工用潤滑油、水性エ
マルジョン、紙、木材、合板、糊、パルプ、繊維などに
寄生する菌類、細菌類、酵母、藻類などのスライム問
題、微生物災害等についてはその対策が急務とされてい
る。最近、これら微生物の発生を防止し或は除去する目
的で、テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘
導体を使用することがよく行われている。テトラヒドロ
チオフェン−1、1−ジオキシド誘導体は、広範なpH
領域で広い抗菌スペクトルを持ち、例えばバクテリア、
酵母、かび等に対して優れた抗菌作用を有し、さらには
非常に長い効力持続性があり、殺菌剤として有用である
ためである。
水系の利用が盛んに行われているが、このような利用に
際し微生物の増殖の制御と抑制は重要な問題である。ま
た、これら産業用水以外にも産業資材の多様化に伴い、
微生物の増殖による災害、かび発生について、その災害
は広範にわたっている。とりわけ、製紙工程における用
水、工業用冷却水、あるいは金属加工用潤滑油、水性エ
マルジョン、紙、木材、合板、糊、パルプ、繊維などに
寄生する菌類、細菌類、酵母、藻類などのスライム問
題、微生物災害等についてはその対策が急務とされてい
る。最近、これら微生物の発生を防止し或は除去する目
的で、テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘
導体を使用することがよく行われている。テトラヒドロ
チオフェン−1、1−ジオキシド誘導体は、広範なpH
領域で広い抗菌スペクトルを持ち、例えばバクテリア、
酵母、かび等に対して優れた抗菌作用を有し、さらには
非常に長い効力持続性があり、殺菌剤として有用である
ためである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このテトラヒ
ドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘導体は、皮膚刺
激性、刺激臭、保存中に粉末の固化が起こることによる
取り扱いの不便さ、さらには、揮発による酸腐食性など
の問題点があり、その改善が望まれている。
ドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘導体は、皮膚刺
激性、刺激臭、保存中に粉末の固化が起こることによる
取り扱いの不便さ、さらには、揮発による酸腐食性など
の問題点があり、その改善が望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記問題に鑑み、本発明
者らは鋭意研究を行った結果、シクロデキストリン類で
テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘導体を
包接することにより、皮膚刺激性、刺激臭、保存中に粉
末の固化が起こることによる取り扱いの不便さ、揮発に
よる酸腐食性などの問題点を解決することができ、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は (1)一般式(1)
者らは鋭意研究を行った結果、シクロデキストリン類で
テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘導体を
包接することにより、皮膚刺激性、刺激臭、保存中に粉
末の固化が起こることによる取り扱いの不便さ、揮発に
よる酸腐食性などの問題点を解決することができ、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は (1)一般式(1)
【化2】 (式中、Xは同一又は異なって水素原子又はハロゲン原
子を示す。)で表される化合物のシクロデキストリン類
包接化合物。 (2)Xのハロゲン原子が塩素原子である(1)記載の
包接化合物。 (3)一般式(1)で表される化合物が3、3、4、4
−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオ
キシドである(1)記載の包接化合物。 (4)シクロデキストリン類がβ−シクロデキストリン
である(1)記載の包接化合物。 (5)請求項1記載の包接化合物を含有する殺菌剤。に
関する。
子を示す。)で表される化合物のシクロデキストリン類
包接化合物。 (2)Xのハロゲン原子が塩素原子である(1)記載の
包接化合物。 (3)一般式(1)で表される化合物が3、3、4、4
−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオ
キシドである(1)記載の包接化合物。 (4)シクロデキストリン類がβ−シクロデキストリン
である(1)記載の包接化合物。 (5)請求項1記載の包接化合物を含有する殺菌剤。に
関する。
【0005】本発明のテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド誘導体は、一般式(1)
−ジオキシド誘導体は、一般式(1)
【化3】 (式中、Xは同一又は異なって水素原子又はハロゲン原
子を示す。)で表される。該Xのハロゲン原子として
は、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、
好ましくは塩素が挙げられる。具体的には、3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド、3、3、4、4−テトラブロモテトラヒ
ドロチオフェン−1、1−ジオキシド、3、4−ジクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド、3、
3、4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1、1−
ジオキシド、3、3、4−トリブロモテトラヒドロチオ
フェン−1、1−ジオキシド等が挙げられ、3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシドが好適に用いられる。本発明のシクロデキ
ストリン類としては、シクロデキストリン及び分岐シク
ロデキストリンが挙げられる。該シクロデキストリンと
しては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキスト
リン、γ−シクロデキストリン等が挙げられる。好まし
くは、β−シクロデキストリンが挙げられる。該分岐シ
クロデキストリンとしては、シクロデキストリン環にグ
ルトース、マルトース等の枝がついたものであって、シ
クロデキストリン環にブドウ糖1個のグルトースを結合
させたG1−β−シクロデキストリン、G1−γ−シク
ロデキストリン等のグルコシルシクロデキストリン、ブ
ドウ糖2個のマルトースを結合させたG2−α−シクロ
デキストリン、G2−β−シクロデキストリン、G2−
γ−シクロデキストリン等のマルトシルシクロデキスト
リン、ブドウ糖3個のマルトトリオースを結合させたG
3−α−シクロデキストリン、G3−β−シクロデキス
トリン、G3−γ−シクロデキストリン等、マルトトリ
オシル基をシクロデキストリンの2位以上に結合させた
G1−Gl−、Gl−G2−、G2−G2−等のマルトト
リオシルシクロデキストリン等が挙げられる。好ましく
は、グルコシルシクロデキストリン、マルトシルシクロ
デキストリンが挙げられる。また、上記のほか、シクロ
デキストリン類としては、テトラヒドロチオフェン−
1、1−ジオキシド誘導体が包接される4〜12オング
ストローム、好ましくは6〜10オングストロームの大
きさであれば、いずれのものを用いてもよい。
子を示す。)で表される。該Xのハロゲン原子として
は、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、
好ましくは塩素が挙げられる。具体的には、3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド、3、3、4、4−テトラブロモテトラヒ
ドロチオフェン−1、1−ジオキシド、3、4−ジクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド、3、
3、4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1、1−
ジオキシド、3、3、4−トリブロモテトラヒドロチオ
フェン−1、1−ジオキシド等が挙げられ、3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシドが好適に用いられる。本発明のシクロデキ
ストリン類としては、シクロデキストリン及び分岐シク
ロデキストリンが挙げられる。該シクロデキストリンと
しては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキスト
リン、γ−シクロデキストリン等が挙げられる。好まし
くは、β−シクロデキストリンが挙げられる。該分岐シ
クロデキストリンとしては、シクロデキストリン環にグ
ルトース、マルトース等の枝がついたものであって、シ
クロデキストリン環にブドウ糖1個のグルトースを結合
させたG1−β−シクロデキストリン、G1−γ−シク
ロデキストリン等のグルコシルシクロデキストリン、ブ
ドウ糖2個のマルトースを結合させたG2−α−シクロ
デキストリン、G2−β−シクロデキストリン、G2−
γ−シクロデキストリン等のマルトシルシクロデキスト
リン、ブドウ糖3個のマルトトリオースを結合させたG
3−α−シクロデキストリン、G3−β−シクロデキス
トリン、G3−γ−シクロデキストリン等、マルトトリ
オシル基をシクロデキストリンの2位以上に結合させた
G1−Gl−、Gl−G2−、G2−G2−等のマルトト
リオシルシクロデキストリン等が挙げられる。好ましく
は、グルコシルシクロデキストリン、マルトシルシクロ
デキストリンが挙げられる。また、上記のほか、シクロ
デキストリン類としては、テトラヒドロチオフェン−
1、1−ジオキシド誘導体が包接される4〜12オング
ストローム、好ましくは6〜10オングストロームの大
きさであれば、いずれのものを用いてもよい。
【0006】本発明の包接化合物は、テトラヒドロチオ
フェン−1、1−ジオキシド誘導体とシクロデキストリ
ン類とを適当な溶媒を用いて溶解させ、混ぜ合わせれば
容易に得られるが、テトラヒドロチオフェン−1、1−
ジオキシド誘導体がシクロデキストリン類に包接され、
皮膚刺激を防止する等の効果を得るためには、シクロデ
キストリン類に対してテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド誘導体がモル比で0.1〜2より好ましく
は0.5〜1の範囲で包接されていることが望ましい。
具体的な調製方法については、飽和水溶液法の直接法、
溶剤法、乾燥法の噴霧乾燥法、凍結乾燥法など公知のい
ずれの方法を用いてもよい。これら公知の調製方法の中
では、テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘
導体が水に分散しにくいことを考慮すると飽和水溶液
法、混練法、乾燥法が好ましい。例えば、飽和水溶液法
の溶剤法では、シクロデキストリン類に対して1〜50
重量倍、好ましくは5〜30重量倍の水を用いて、20
〜80℃、好ましくは40〜60℃にてシクロデキスト
リン類の飽和水溶液をつくる。次に、シクロデキストリ
ン類に対して0.1〜2倍モル、好ましくは0.5〜1
倍モルのテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド
誘導体をテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド
誘導体に対して0.1〜50重量倍、好ましくは1〜1
5重量倍の溶媒を用いて溶解する。このテトラヒドロチ
オフェン−1、1−ジオキシド誘導体の溶液をシクロデ
キストリン類の飽和水溶液に混合して0.5〜24時
間、好ましくは1〜10時間撹拌し、結晶を析出させ
る。この場合、シクロデキストリンの飽和水溶液を調製
した直後にテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシ
ド誘導体の溶液を加え、徐々に室温に戻し、さらには、
−10〜10℃程度で冷却し、晶出させることが好まし
い。晶出した結晶は、濾過等により溶液と分離した後、
減圧乾燥等により乾燥し、粉末状のシクロデキストリン
類包接化合物として得ることができる。
フェン−1、1−ジオキシド誘導体とシクロデキストリ
ン類とを適当な溶媒を用いて溶解させ、混ぜ合わせれば
容易に得られるが、テトラヒドロチオフェン−1、1−
ジオキシド誘導体がシクロデキストリン類に包接され、
皮膚刺激を防止する等の効果を得るためには、シクロデ
キストリン類に対してテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド誘導体がモル比で0.1〜2より好ましく
は0.5〜1の範囲で包接されていることが望ましい。
具体的な調製方法については、飽和水溶液法の直接法、
溶剤法、乾燥法の噴霧乾燥法、凍結乾燥法など公知のい
ずれの方法を用いてもよい。これら公知の調製方法の中
では、テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド誘
導体が水に分散しにくいことを考慮すると飽和水溶液
法、混練法、乾燥法が好ましい。例えば、飽和水溶液法
の溶剤法では、シクロデキストリン類に対して1〜50
重量倍、好ましくは5〜30重量倍の水を用いて、20
〜80℃、好ましくは40〜60℃にてシクロデキスト
リン類の飽和水溶液をつくる。次に、シクロデキストリ
ン類に対して0.1〜2倍モル、好ましくは0.5〜1
倍モルのテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド
誘導体をテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシド
誘導体に対して0.1〜50重量倍、好ましくは1〜1
5重量倍の溶媒を用いて溶解する。このテトラヒドロチ
オフェン−1、1−ジオキシド誘導体の溶液をシクロデ
キストリン類の飽和水溶液に混合して0.5〜24時
間、好ましくは1〜10時間撹拌し、結晶を析出させ
る。この場合、シクロデキストリンの飽和水溶液を調製
した直後にテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシ
ド誘導体の溶液を加え、徐々に室温に戻し、さらには、
−10〜10℃程度で冷却し、晶出させることが好まし
い。晶出した結晶は、濾過等により溶液と分離した後、
減圧乾燥等により乾燥し、粉末状のシクロデキストリン
類包接化合物として得ることができる。
【0007】テトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキ
シド誘導体を溶解させる溶媒としては、テトラヒドロチ
オフェン-1、1-ジオキシド誘導体が溶解し、包接化を阻
害しないものであれば特に限定されず、水、例えば、メ
タノ−ル、エタノ−ル、、n-プロパノ−ル、iso-プロパ
ノ−ル、tert-ブタノ−ル等のアルコール系溶媒、例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、1、4−ブタンジオール、1、5−
ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
系溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、例えば、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
ブチル等のエステル系溶媒、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチルナフタレン、ソルベントナフサ等
の芳香族系溶媒、例えば、塩化メチレン、四塩化炭素、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル等の極性溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は
2種類以上混合してもよい。さらに、本発明の包接化合
物は、その目的、用途等において公知の添加剤、例え
ば、殺菌剤、界面活性剤、酸化防止剤等を添加してもよ
い。
シド誘導体を溶解させる溶媒としては、テトラヒドロチ
オフェン-1、1-ジオキシド誘導体が溶解し、包接化を阻
害しないものであれば特に限定されず、水、例えば、メ
タノ−ル、エタノ−ル、、n-プロパノ−ル、iso-プロパ
ノ−ル、tert-ブタノ−ル等のアルコール系溶媒、例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、1、4−ブタンジオール、1、5−
ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
系溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、例えば、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
ブチル等のエステル系溶媒、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチルナフタレン、ソルベントナフサ等
の芳香族系溶媒、例えば、塩化メチレン、四塩化炭素、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル等の極性溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は
2種類以上混合してもよい。さらに、本発明の包接化合
物は、その目的、用途等において公知の添加剤、例え
ば、殺菌剤、界面活性剤、酸化防止剤等を添加してもよ
い。
【0008】該殺菌剤としては、イソチアゾリン系化合
物として、例えば、1、2−ベンツイソチアゾリンー3
-オン、5−クロロー2−メチルー4−イソチアゾリン
ー3−オン、2−メチルー4−イソチアゾリンー3−オ
ン、4、5−ジクロロー2−オクチルー4−イソチアゾ
リンー3−オン、2−オクチルー4−イソチアゾリンー
3−オン等が挙げられる。ハロアセトアミド系化合物と
して、例えば、2、2−ジブロモー3−ニトリロプロパ
ンアミド、2、2−ジブロモー3−ニトリローN−メチ
ループロパンアミド等が挙げられる。カーバメイト系化
合物として、例えば、3−ヨードー2−プロピニルブチ
ルカーバメイト、メチルー2−ベンツイミダゾールカー
バメイト等が挙げられる。アルコール系化合物として、
例えば、2、2−ジブロモー2−ニトロエタノール、2
−ブロモー2−ニトロプロパンー1、3−ジオール等が
挙げられる。ジチオール系化合物として、例えば、4、
5−ジクロロー1、2−ジチオールー3−オンが挙げら
れる。これら殺菌剤は2種以上併用してもよく、また混
合する割合は、その剤型及び使用目的、用途等によって
異なるが、一般には、製剤中0.1〜99.9重量%と
なるように混合することが望ましい。具体的には、例え
ば、溶液剤では0.1〜20重量%、水和剤では10〜
80重量%、粉剤では10〜99.9重量%とするのが
好ましい。該界面活性剤としては、石鹸類、ノニオン系
界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活
性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤等、公知
の界面活性剤のいずれでもよい。なかでもノニオン系界
面活性剤、アニオン系界面活性剤が好ましく用いられ
る。
物として、例えば、1、2−ベンツイソチアゾリンー3
-オン、5−クロロー2−メチルー4−イソチアゾリン
ー3−オン、2−メチルー4−イソチアゾリンー3−オ
ン、4、5−ジクロロー2−オクチルー4−イソチアゾ
リンー3−オン、2−オクチルー4−イソチアゾリンー
3−オン等が挙げられる。ハロアセトアミド系化合物と
して、例えば、2、2−ジブロモー3−ニトリロプロパ
ンアミド、2、2−ジブロモー3−ニトリローN−メチ
ループロパンアミド等が挙げられる。カーバメイト系化
合物として、例えば、3−ヨードー2−プロピニルブチ
ルカーバメイト、メチルー2−ベンツイミダゾールカー
バメイト等が挙げられる。アルコール系化合物として、
例えば、2、2−ジブロモー2−ニトロエタノール、2
−ブロモー2−ニトロプロパンー1、3−ジオール等が
挙げられる。ジチオール系化合物として、例えば、4、
5−ジクロロー1、2−ジチオールー3−オンが挙げら
れる。これら殺菌剤は2種以上併用してもよく、また混
合する割合は、その剤型及び使用目的、用途等によって
異なるが、一般には、製剤中0.1〜99.9重量%と
なるように混合することが望ましい。具体的には、例え
ば、溶液剤では0.1〜20重量%、水和剤では10〜
80重量%、粉剤では10〜99.9重量%とするのが
好ましい。該界面活性剤としては、石鹸類、ノニオン系
界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活
性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤等、公知
の界面活性剤のいずれでもよい。なかでもノニオン系界
面活性剤、アニオン系界面活性剤が好ましく用いられ
る。
【0009】該ノニオン系界面活性剤としては、ポリオ
キシアルキレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、酸化エチレンと酸化
プロピレンブロック共重合物等が挙げられる。該アニオ
ン系界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸
金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸金属塩、ポリカ
ルボン酸型界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸エス
テル金属塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニル
エーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホ
ン酸金属塩等が挙げられ、金属塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩等が挙げられる 該酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェノール、2,2’−メチレンビス〔4−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール〕等のフェノール系酸化
防止剤、アルキルジフェニルアミン、N,N’−ジ−s
−ブチル−p−フェニレンジアミン等のアミン系酸化防
止剤等が挙げられる。これら界面活性剤、酸化防止剤
は、一般に包接化合物1重量部に対して0.02〜0.
3重量部程度にて用いるか、或いは、製剤全量に対して
5〜80重量%の割合にて用いることが好ましい。ま
た、これらの添加剤は、包接化合物を調製する際に添加
してもよく、また、調製直後、或い乾燥後のいずれのと
きに添加してもよい。このようにして得られた本発明の
シクロデキストリン類包接化合物は、広範なpH領域で
広い抗菌スペクトルを持ち、例えばバクテリア、酵母、
かび等に対して優れた抗菌作用を有し、さらには非常に
長い効力持続性があるため、殺菌剤として有用である。
具体的には、製紙パルプ工場、冷却水循環工程のスライ
ムコントロール剤、殺菌洗浄剤として、また、金属加工
油剤、カゼイン、澱粉塗工液、水性塗料の防腐剤等の工
業用殺菌剤として使用できる。
キシアルキレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、酸化エチレンと酸化
プロピレンブロック共重合物等が挙げられる。該アニオ
ン系界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸
金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸金属塩、ポリカ
ルボン酸型界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸エス
テル金属塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニル
エーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホ
ン酸金属塩等が挙げられ、金属塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩等が挙げられる 該酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェノール、2,2’−メチレンビス〔4−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール〕等のフェノール系酸化
防止剤、アルキルジフェニルアミン、N,N’−ジ−s
−ブチル−p−フェニレンジアミン等のアミン系酸化防
止剤等が挙げられる。これら界面活性剤、酸化防止剤
は、一般に包接化合物1重量部に対して0.02〜0.
3重量部程度にて用いるか、或いは、製剤全量に対して
5〜80重量%の割合にて用いることが好ましい。ま
た、これらの添加剤は、包接化合物を調製する際に添加
してもよく、また、調製直後、或い乾燥後のいずれのと
きに添加してもよい。このようにして得られた本発明の
シクロデキストリン類包接化合物は、広範なpH領域で
広い抗菌スペクトルを持ち、例えばバクテリア、酵母、
かび等に対して優れた抗菌作用を有し、さらには非常に
長い効力持続性があるため、殺菌剤として有用である。
具体的には、製紙パルプ工場、冷却水循環工程のスライ
ムコントロール剤、殺菌洗浄剤として、また、金属加工
油剤、カゼイン、澱粉塗工液、水性塗料の防腐剤等の工
業用殺菌剤として使用できる。
【0010】
【発明の効果】本発明のテトラヒドロチオフェン−1,
1−ジオキシド誘導体のシクロデキストリン類包接化合
物は、皮膚刺激性、刺激臭がなく、保存中に粉末の固化
が起こることなく取り扱い性に優れ、さらには揮発によ
る酸腐食性がない等、作業性に優れた殺菌剤として有効
に用いられる。
1−ジオキシド誘導体のシクロデキストリン類包接化合
物は、皮膚刺激性、刺激臭がなく、保存中に粉末の固化
が起こることなく取り扱い性に優れ、さらには揮発によ
る酸腐食性がない等、作業性に優れた殺菌剤として有効
に用いられる。
【0011】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明は実施例に何ら制限されるも
のではない。 実施例1 β-シクロデキストリン(和光純薬工業(株)製、以下
同様。)4gに水100gを加え、50℃にて溶解し
た。これに2mlのメタノールに溶かした3、3、4、
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジ
オキシド(武田薬品工業(株)製、以下同様。)0.2
4gを加えた。室温に戻しながら約4時間撹拌、更に5
℃にて2時間撹拌した。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧
乾燥すると白色結晶が得られた。この白色結晶は、無臭
で、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。
また、粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがβ-シク
ロデキストリンで包接されていることを確認した。 実施例1で得られた包接化合物の粉末X線のピーク 面間隔(Å);5.029(I/I0;100)、5.824(I/I0;6
5)、6.458(I/I0;30)、4.422(I/I0;20)
体的に説明するが、本発明は実施例に何ら制限されるも
のではない。 実施例1 β-シクロデキストリン(和光純薬工業(株)製、以下
同様。)4gに水100gを加え、50℃にて溶解し
た。これに2mlのメタノールに溶かした3、3、4、
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジ
オキシド(武田薬品工業(株)製、以下同様。)0.2
4gを加えた。室温に戻しながら約4時間撹拌、更に5
℃にて2時間撹拌した。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧
乾燥すると白色結晶が得られた。この白色結晶は、無臭
で、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。
また、粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがβ-シク
ロデキストリンで包接されていることを確認した。 実施例1で得られた包接化合物の粉末X線のピーク 面間隔(Å);5.029(I/I0;100)、5.824(I/I0;6
5)、6.458(I/I0;30)、4.422(I/I0;20)
【0012】実施例2 γ-シクロデキストリン(和光純薬工業(株)製、以下
同様。)4gに水15gを加え、40℃に加熱して溶解
した。これに2mlのメタノールに溶かした3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド0.2gを加えた。室温に戻しながら約4
時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌した。生じた結晶を
吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結晶が得られた。この
白色結晶は、無臭で、素手で取り扱っても皮膚に対する
刺激はなかった。 実施例2で得られた包接化合物の粉末X線のピーク 面間隔(Å);5.029(I/I0;100)、5.824(I/I0;6
5)、6.458(I/I0;30)、4.422(I/I0;20)
同様。)4gに水15gを加え、40℃に加熱して溶解
した。これに2mlのメタノールに溶かした3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシド0.2gを加えた。室温に戻しながら約4
時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌した。生じた結晶を
吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結晶が得られた。この
白色結晶は、無臭で、素手で取り扱っても皮膚に対する
刺激はなかった。 実施例2で得られた包接化合物の粉末X線のピーク 面間隔(Å);5.029(I/I0;100)、5.824(I/I0;6
5)、6.458(I/I0;30)、4.422(I/I0;20)
【0013】実施例3 β-シクロデキストリン4gに水100gを加え、50
℃にて溶解した。これに1.5mlの四塩化炭素に溶か
した3、3、4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1、1−ジオキシド0.24gを加えた。室温に
戻しながら約4時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌し
た。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結晶
が得られた。この白色結晶は、無臭で、素手で取り扱っ
ても皮膚に対する刺激はなかった。また、実施例1と同
様に粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテト
ラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがβ-シクロ
デキストリンで包接されていることを確認した。 実施例4 γ-シクロデキストリン4gに水15gを加え、40℃
に加熱して溶解した。これに1.5mlの塩化メチレン
に溶かした3、3、4、4−テトラクロロテトラヒドロ
チオフェン−1、1−ジオキシド0.2gを加えた。室
温に戻しながら約4時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌
した。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結
晶が得られた。この白色結晶は、無臭で、素手で取り扱
っても皮膚に対する刺激はなかった。また、実施例2と
同様に粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがγ-シク
ロデキストリンで包接されていることを確認した。
℃にて溶解した。これに1.5mlの四塩化炭素に溶か
した3、3、4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1、1−ジオキシド0.24gを加えた。室温に
戻しながら約4時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌し
た。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結晶
が得られた。この白色結晶は、無臭で、素手で取り扱っ
ても皮膚に対する刺激はなかった。また、実施例1と同
様に粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテト
ラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがβ-シクロ
デキストリンで包接されていることを確認した。 実施例4 γ-シクロデキストリン4gに水15gを加え、40℃
に加熱して溶解した。これに1.5mlの塩化メチレン
に溶かした3、3、4、4−テトラクロロテトラヒドロ
チオフェン−1、1−ジオキシド0.2gを加えた。室
温に戻しながら約4時間撹拌、更に5℃にて2時間撹拌
した。生じた結晶を吸引ろ過し、減圧乾燥すると白色結
晶が得られた。この白色結晶は、無臭で、素手で取り扱
っても皮膚に対する刺激はなかった。また、実施例2と
同様に粉末X線解析で3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドがγ-シク
ロデキストリンで包接されていることを確認した。
【0014】試験例1(貯蔵安定性試験) 試料として実験例1で得られた3、3、4、4−テトラ
クロロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドの
βーシクロデキストリン包接化合物を含有する白色結晶
と、比較例として未包接の3、3、4、4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドを用い
た。上記各試料約500gを各々500ml茶褐色瓶に
入れ、室温放置した。調製した日は両試料とも固化しな
かったが、1カ月後に観察すると、実施例1の白色結晶
は何ら変化はなかったが、比較例の未包接の3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシドは固化していた。 試験例2(抗菌力測定) グルコース寒天培地を用いた倍数希釈法で、細菌は33
℃、18時間、かび、酵母は28℃、3日間培養して最
小発育阻止濃度(MIC,μg/ml)を求めた。試料
として実験例1で得られた3、3、4、4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドのβー
シクロデキストリン包接化合物を含有する白色結晶と、
比較例として未包接の3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドを用いた。
なお、両者の3、3、4、4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1、1−ジオキシドの量を同一にして測
定を行った。供試菌及び測定結果を表1に示す。
クロロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドの
βーシクロデキストリン包接化合物を含有する白色結晶
と、比較例として未包接の3、3、4、4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドを用い
た。上記各試料約500gを各々500ml茶褐色瓶に
入れ、室温放置した。調製した日は両試料とも固化しな
かったが、1カ月後に観察すると、実施例1の白色結晶
は何ら変化はなかったが、比較例の未包接の3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1、1
−ジオキシドは固化していた。 試験例2(抗菌力測定) グルコース寒天培地を用いた倍数希釈法で、細菌は33
℃、18時間、かび、酵母は28℃、3日間培養して最
小発育阻止濃度(MIC,μg/ml)を求めた。試料
として実験例1で得られた3、3、4、4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドのβー
シクロデキストリン包接化合物を含有する白色結晶と、
比較例として未包接の3、3、4、4−テトラクロロテ
トラヒドロチオフェン−1、1−ジオキシドを用いた。
なお、両者の3、3、4、4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1、1−ジオキシドの量を同一にして測
定を行った。供試菌及び測定結果を表1に示す。
【0015】
【表1】 包接の有無にかかわらず、抗菌力が同様であることがわ
かる。
かる。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式中、Xは同一又は異なって水素原子又はハロゲン原
子を示す。)で表される化合物のシクロデキストリン類
包接化合物。 - 【請求項2】Xのハロゲン原子が塩素原子である請求項
1記載の包接化合物。 - 【請求項3】一般式(1)で表される化合物が3、3、
4、4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1
−ジオキシドである請求項1記載の包接化合物。 - 【請求項4】シクロデキストリン類がβ−シクロデキス
トリンである請求項1記載の包接化合物。 - 【請求項5】請求項1記載の包接化合物を含有する殺菌
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21776194A JPH0881309A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 包接化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21776194A JPH0881309A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 包接化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0881309A true JPH0881309A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=16709326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21776194A Pending JPH0881309A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 包接化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0881309A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10176154A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-06-30 | Somar Corp | デンプンのり及びそれを含有する紙塗工液 |
| EP1088631A1 (de) * | 1999-09-30 | 2001-04-04 | Wacker-Chemie GmbH | Holzschutzmittel, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
-
1994
- 1994-09-13 JP JP21776194A patent/JPH0881309A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10176154A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-06-30 | Somar Corp | デンプンのり及びそれを含有する紙塗工液 |
| EP1088631A1 (de) * | 1999-09-30 | 2001-04-04 | Wacker-Chemie GmbH | Holzschutzmittel, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041026 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041222 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050118 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041222 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |