JPH0886877A - ダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装置とダストサンプラ - Google Patents
ダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装置とダストサンプラInfo
- Publication number
- JPH0886877A JPH0886877A JP6223597A JP22359794A JPH0886877A JP H0886877 A JPH0886877 A JP H0886877A JP 6223597 A JP6223597 A JP 6223597A JP 22359794 A JP22359794 A JP 22359794A JP H0886877 A JPH0886877 A JP H0886877A
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- air
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 サンプリング空気中の粒子の配管沈着率を増
加させずに常に精度良く放射能濃度を測定する。 【構成】 サンプリング空気の通路２の途中に設けた流
量検出器５は、空気流量に応じた信号を出力し、流量制
御部１１に供給する。流量制御部１１は、流量検出器５
の検出信号が、配管沈着率最小値を与える流量設定値に
一致するように流量調節弁４の弁開度を制御する。フィ
ルタ入替制御部１２は、調節弁４の弁開度が、フィルタ
の目詰まりによる流量制御限界を表すフィルタ入替用設
定値より大きくなったとき、フィルタ１３を所定長さの
未使用部分に入れ替える。
加させずに常に精度良く放射能濃度を測定する。 【構成】 サンプリング空気の通路２の途中に設けた流
量検出器５は、空気流量に応じた信号を出力し、流量制
御部１１に供給する。流量制御部１１は、流量検出器５
の検出信号が、配管沈着率最小値を与える流量設定値に
一致するように流量調節弁４の弁開度を制御する。フィ
ルタ入替制御部１２は、調節弁４の弁開度が、フィルタ
の目詰まりによる流量制御限界を表すフィルタ入替用設
定値より大きくなったとき、フィルタ１３を所定長さの
未使用部分に入れ替える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は原子力発電所や放射線取
扱施設等の建屋内の空気中に含まれる粒子を捕集して粒
子の放射線レベル及び空気単位体積あたりの放射能等を
監視するダスト放射線モニタに係り、特に、高精度の放
射能モニタを行うのに好適な集塵制御方法及びその装置
とダストサンプラに関する。
扱施設等の建屋内の空気中に含まれる粒子を捕集して粒
子の放射線レベル及び空気単位体積あたりの放射能等を
監視するダスト放射線モニタに係り、特に、高精度の放
射能モニタを行うのに好適な集塵制御方法及びその装置
とダストサンプラに関する。
【０００２】
【従来の技術】原子力発電所や放射線取扱施設等では、
建屋内に居る人間の安全確保のために、建屋内の空気中
に含む粒子を捕集し、粒子の放射性帯有の有無及び空気
単位体積あたりの放射能等を監視するダスト放射線モニ
タが設置されている。
建屋内に居る人間の安全確保のために、建屋内の空気中
に含む粒子を捕集し、粒子の放射性帯有の有無及び空気
単位体積あたりの放射能等を監視するダスト放射線モニ
タが設置されている。
【０００３】ダスト放射線モニタに設けられているダス
トサンプラは、モニタ対象箇所の空気を吸引ポンプで吸
入し、吸入通路中に設けた集塵部で空気中の粒子を捕集
するようになっている。集塵部には、空気中の粒子のみ
を捕集するろ紙等のフィルタが設けられている。フィル
タは捕集時間の経過により目詰りが進行し、サンプリン
グ動作を妨げる。このため、フィルタとして長尺のろ紙
を巻いたものを使用し、フィルタの目詰り状態が設定値
以上になったときにろ紙を繰り出させて新たなろ紙に入
れ替えるようにしている。このろ紙の入れ替え制御を間
違えると、フィルタが完全に目詰まりして吸引ポンプが
過負荷となってトリップしてしまい、放射線の測定がで
きない欠測期間が生じてしまい、好ましくない。
トサンプラは、モニタ対象箇所の空気を吸引ポンプで吸
入し、吸入通路中に設けた集塵部で空気中の粒子を捕集
するようになっている。集塵部には、空気中の粒子のみ
を捕集するろ紙等のフィルタが設けられている。フィル
タは捕集時間の経過により目詰りが進行し、サンプリン
グ動作を妨げる。このため、フィルタとして長尺のろ紙
を巻いたものを使用し、フィルタの目詰り状態が設定値
以上になったときにろ紙を繰り出させて新たなろ紙に入
れ替えるようにしている。このろ紙の入れ替え制御を間
違えると、フィルタが完全に目詰まりして吸引ポンプが
過負荷となってトリップしてしまい、放射線の測定がで
きない欠測期間が生じてしまい、好ましくない。
【０００４】そこで、従来のダストサンプラは、特公平
５−８０９９３号公報に記載されている様に、フィルタ
下流側の吸入空気流量または圧力を検出し、検出値がフ
ィルタ入替設定値以下に低下したとき、フィルタの目詰
まりが進んでいると判断してフィルタ入替を自動的に行
う様にしている。
５−８０９９３号公報に記載されている様に、フィルタ
下流側の吸入空気流量または圧力を検出し、検出値がフ
ィルタ入替設定値以下に低下したとき、フィルタの目詰
まりが進んでいると判断してフィルタ入替を自動的に行
う様にしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】モニタ対象箇所の空気
を配管を通して吸入する場合、空気中の粒子は、フィル
タに捕集されるまでの間に、その一部が配管内壁に付着
する。この付着する率は配管沈着率と呼称される。
を配管を通して吸入する場合、空気中の粒子は、フィル
タに捕集されるまでの間に、その一部が配管内壁に付着
する。この付着する率は配管沈着率と呼称される。
【０００６】前記従来技術は、空気サンプリング時間の
経過に伴うフィルタの目詰り状態の進行を空気流量の低
下あるいはポンプ吸引側圧力の低下により監視している
が、フィルタ入替設定値を、完全な目詰りに達する直前
の粒子捕集に十分可能な目詰り状態を表す指標とし、フ
ィルタ入替えを行うまで空気流量の低下，ポンプ吸引側
圧力の低下を許容している。このため、フィルタ目詰り
が進行してポンプ吸引側圧力が低下しサンプリング流量
が低下してくると、粒子の配管沈着率が増加してフィル
タが捕集する粒子の割合が減少し、放射能濃度測定値の
誤差を増加させてしまうという問題がある。
経過に伴うフィルタの目詰り状態の進行を空気流量の低
下あるいはポンプ吸引側圧力の低下により監視している
が、フィルタ入替設定値を、完全な目詰りに達する直前
の粒子捕集に十分可能な目詰り状態を表す指標とし、フ
ィルタ入替えを行うまで空気流量の低下，ポンプ吸引側
圧力の低下を許容している。このため、フィルタ目詰り
が進行してポンプ吸引側圧力が低下しサンプリング流量
が低下してくると、粒子の配管沈着率が増加してフィル
タが捕集する粒子の割合が減少し、放射能濃度測定値の
誤差を増加させてしまうという問題がある。
【０００７】本発明の目的は、フィルタの目詰まり状態
に無関係に常に高精度な放射能濃度測定を可能とし、し
かも、完全な目詰まりによるポンプの過負荷トリップを
防止して欠測状態を回避しながら円滑にサンプリング動
作を行うダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装
置とダストサンプラを提供することにある。
に無関係に常に高精度な放射能濃度測定を可能とし、し
かも、完全な目詰まりによるポンプの過負荷トリップを
防止して欠測状態を回避しながら円滑にサンプリング動
作を行うダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装
置とダストサンプラを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、吸引ポンプ
により配管を通して吸入した空気中の粒子を配管途中に
設けたフィルタで捕集し該粒子の放射線濃度をモニタす
るダスト放射線モニタにおいて、前記配管に流れる空気
流量を、前記粒子が該配管内壁に付着する配管沈着率を
最小とする流量値に定値制御することで、達成される。
により配管を通して吸入した空気中の粒子を配管途中に
設けたフィルタで捕集し該粒子の放射線濃度をモニタす
るダスト放射線モニタにおいて、前記配管に流れる空気
流量を、前記粒子が該配管内壁に付着する配管沈着率を
最小とする流量値に定値制御することで、達成される。
【０００９】
【作用】粒子の配管沈着率は、空気流量がある値のとき
に最小値を示す。そこで、本発明では、配管内の空気流
量を常に配管沈着率最小となる流量に定値制御すること
で、モニタする粒子をフィルタに捕集させる率を減少さ
せないことができる。
に最小値を示す。そこで、本発明では、配管内の空気流
量を常に配管沈着率最小となる流量に定値制御すること
で、モニタする粒子をフィルタに捕集させる率を減少さ
せないことができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１は、本発明の一実施例に係るダスト放射線
モニタのダストサンプラの構成図である。サンプリング
する空気は、吸引ポンプ１により、測定対象の場所Ａか
ら吸入して場所Ｂに排気する。このサンプリング空気の
経路２の途中に集塵部３を設け、集塵部３にろ紙等のフ
ィルタ１３を設け、サンプリング空気中の粒子を捕集す
る。集塵部３の下流側には、流量調節弁４及び流量検出
器５を設置してある。流量検出器５は、空気吸入経路２
内の流量に応じた流量検出信号を出力し、この流量検出
信号を流量制御部１１に送る。
明する。図１は、本発明の一実施例に係るダスト放射線
モニタのダストサンプラの構成図である。サンプリング
する空気は、吸引ポンプ１により、測定対象の場所Ａか
ら吸入して場所Ｂに排気する。このサンプリング空気の
経路２の途中に集塵部３を設け、集塵部３にろ紙等のフ
ィルタ１３を設け、サンプリング空気中の粒子を捕集す
る。集塵部３の下流側には、流量調節弁４及び流量検出
器５を設置してある。流量検出器５は、空気吸入経路２
内の流量に応じた流量検出信号を出力し、この流量検出
信号を流量制御部１１に送る。
【００１１】流量制御部１１は、流量検出器５から送ら
れてくる流量検出信号が、予め設定された流量設定値に
一致するように流量調節弁４へ操作信号を与え、サンプ
リング空気が常に一定流量値（＝流量設定値）となるよ
うに定値制御を行う。また、この流量制御部１１は、フ
ィルタ入替制御部１２にもこの操作信号を与える。
れてくる流量検出信号が、予め設定された流量設定値に
一致するように流量調節弁４へ操作信号を与え、サンプ
リング空気が常に一定流量値（＝流量設定値）となるよ
うに定値制御を行う。また、この流量制御部１１は、フ
ィルタ入替制御部１２にもこの操作信号を与える。
【００１２】フィルタ入替制御部１２は、フィルタの目
詰まりによる流量制御限界を表すフィルタ入替用設定値
が予め設定されており、流量制御部１１からの流量調節
弁操作信号をフィルタ入替用設定値と比較し、フィルタ
入替用設定値を越えたときにフィルタ巻取部１４にフィ
ルタ入替駆動信号を出力する。この駆動信号により、フ
ィルタ巻取部１４はフィルタ１３の巻取動作を行い、フ
ィルタ供給部１５から所定長さの未使用部分を送り出さ
せ、集塵部３に設定する。
詰まりによる流量制御限界を表すフィルタ入替用設定値
が予め設定されており、流量制御部１１からの流量調節
弁操作信号をフィルタ入替用設定値と比較し、フィルタ
入替用設定値を越えたときにフィルタ巻取部１４にフィ
ルタ入替駆動信号を出力する。この駆動信号により、フ
ィルタ巻取部１４はフィルタ１３の巻取動作を行い、フ
ィルタ供給部１５から所定長さの未使用部分を送り出さ
せ、集塵部３に設定する。
【００１３】図２は、流量と流量調節弁の操作信号との
関係を表すグラフである。サンプリング初期時の流量と
流量調節弁の操作信号との関係は、図中Ｐ１の関係とな
っており、流量設定値Ｆｓに対する初期の操作信号は、
開方向に十分余裕を持った操作信号Ｄ１である。フィル
タの目詰りが進行して、図中Ｐ２，Ｐ３の如くポンプ吸
引側圧力が低下してくると、弁操作信号は図中Ｄ２，Ｄ
３の如く順次開方向に上昇していき、やがて流量設定値
Ｆｓを保とうとするために弁操作信号が図中の最大値Ｄ
maxに到達する。つまり、Ｄmaxが流量設定値Ｆｓにおけ
る流量制御限界であり、フィルタ入替用設定値を弁操作
信号がＤmaxに到達する直前の図中Ｄｓに設定し、弁操
作信号がフィルタ入替用設定値Ｄｓを越えたときにフィ
ルタ入替が必要と判定できる。
関係を表すグラフである。サンプリング初期時の流量と
流量調節弁の操作信号との関係は、図中Ｐ１の関係とな
っており、流量設定値Ｆｓに対する初期の操作信号は、
開方向に十分余裕を持った操作信号Ｄ１である。フィル
タの目詰りが進行して、図中Ｐ２，Ｐ３の如くポンプ吸
引側圧力が低下してくると、弁操作信号は図中Ｄ２，Ｄ
３の如く順次開方向に上昇していき、やがて流量設定値
Ｆｓを保とうとするために弁操作信号が図中の最大値Ｄ
maxに到達する。つまり、Ｄmaxが流量設定値Ｆｓにおけ
る流量制御限界であり、フィルタ入替用設定値を弁操作
信号がＤmaxに到達する直前の図中Ｄｓに設定し、弁操
作信号がフィルタ入替用設定値Ｄｓを越えたときにフィ
ルタ入替が必要と判定できる。
【００１４】図３は、流量制御部１１の制御ブロック図
である。減算器３１にて流量設定値Ｆｓとフィ−ドバッ
クの流量検出信号との差分をとった後、ＰＩ制御器３２
にてＰＩ制御することによって、流量調節弁へ操作信号
を供給して流量制御する。
である。減算器３１にて流量設定値Ｆｓとフィ−ドバッ
クの流量検出信号との差分をとった後、ＰＩ制御器３２
にてＰＩ制御することによって、流量調節弁へ操作信号
を供給して流量制御する。
【００１５】図４は、配管内を流れる空気の流速と粒子
の配管沈着率との関係を示すグラフである。図４に示す
様に、一般に所定の流速値Ｖ０の所で配管沈着率は最小
値となり、Ｖ０を中心に流速が高速側あるいは低速側に
変化すると、配管沈着率は増加する。また、流速は流量
と比例関係を持つ。ダスト放射線モニタは、放射能濃度
と呼称される空気単位体積当たりの粒子に含まれる放射
能を監視するため、配管沈着率が最小となる流速に対応
する流量をサンプリング流量として設定する必要があ
る。そこで、本実施例では、この流速Ｖ０を、前記図２
に示す設定値Ｆｓとする。これにより、サンプリング流
量は、常に、配管沈着率最小となる流量に定値制御され
る。
の配管沈着率との関係を示すグラフである。図４に示す
様に、一般に所定の流速値Ｖ０の所で配管沈着率は最小
値となり、Ｖ０を中心に流速が高速側あるいは低速側に
変化すると、配管沈着率は増加する。また、流速は流量
と比例関係を持つ。ダスト放射線モニタは、放射能濃度
と呼称される空気単位体積当たりの粒子に含まれる放射
能を監視するため、配管沈着率が最小となる流速に対応
する流量をサンプリング流量として設定する必要があ
る。そこで、本実施例では、この流速Ｖ０を、前記図２
に示す設定値Ｆｓとする。これにより、サンプリング流
量は、常に、配管沈着率最小となる流量に定値制御され
る。
【００１６】尚、本実施例では、流量制御部１１と流量
検出器５を個別に設けたか、その代りに、流量調節弁４
に両者の機能を持つような構成にしてもよいことはいう
までもない。また、フィルタ入替制御部は、調節弁４の
操作信号を監視してフィルタ１３の入替えを行ったが、
調節弁４の弁開度を監視してもフィルタ１３の入替えを
行う構成としてもよい。
検出器５を個別に設けたか、その代りに、流量調節弁４
に両者の機能を持つような構成にしてもよいことはいう
までもない。また、フィルタ入替制御部は、調節弁４の
操作信号を監視してフィルタ１３の入替えを行ったが、
調節弁４の弁開度を監視してもフィルタ１３の入替えを
行う構成としてもよい。
【００１７】以上の実施例により、サンプリング時間の
経過に伴うフィルタの目詰りが進行しても空気流量が常
に一定に保たれることにより、粒子の配管沈着率を増加
させずに適正な放射能濃度を求めることができる。
経過に伴うフィルタの目詰りが進行しても空気流量が常
に一定に保たれることにより、粒子の配管沈着率を増加
させずに適正な放射能濃度を求めることができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、フィルタの完全な目詰
まりによるポンプの過負荷トリップを防止し不要な欠測
状態を極回避しながら円滑にサンプリング動作を行いつ
つ、粒子の配管沈着率を増加させずに適正な放射能濃度
を測定でき、人間の安全確保の観点において向上が期待
できる。
まりによるポンプの過負荷トリップを防止し不要な欠測
状態を極回避しながら円滑にサンプリング動作を行いつ
つ、粒子の配管沈着率を増加させずに適正な放射能濃度
を測定でき、人間の安全確保の観点において向上が期待
できる。
【図１】本発明の一実施例に係るダスト放射線モニタの
ダストサンプラ構成図である。
ダストサンプラ構成図である。
【図２】流量と流量調節弁の操作信号の関係を表すグラ
フである。
フである。
【図３】図１に示す流量制御部の一例を表す図である。
【図４】配管内を流れる空気の流速と粒子の配管沈着率
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
１…吸引ポンプ，２…空気吸入経路，３…集塵部，４…
流量調節弁，５…流量検出器，１１…流量制御部，１２
…フィルタ入替制御部，１３…粒子捕集フィルタ，１４
…フィルタ巻取り部，１５…フィルタ供給部，３１…減
算器，３２…ＰＩ制御部。
流量調節弁，５…流量検出器，１１…流量制御部，１２
…フィルタ入替制御部，１３…粒子捕集フィルタ，１４
…フィルタ巻取り部，１５…フィルタ供給部，３１…減
算器，３２…ＰＩ制御部。
フロントページの続き (72)発明者 高橋 一悦 茨城県日立市大みか町五丁目２番１号 株 式会社日立製作所大みか工場内 (72)発明者 石村 健治 茨城県日立市幸町三丁目２番１号 日立エ ンジニアリング株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 吸引ポンプにより配管を通して吸入した
空気中の粒子を配管途中に設けたフィルタで捕集し該粒
子の放射線濃度をモニタするダスト放射線モニタの集塵
制御方法において、前記配管に流れる空気流量を、前記
粒子が該配管内壁に付着する配管沈着率を最小とする流
量値に定値制御することを特徴とする集塵制御方法。 - 【請求項２】 請求項１において、空気流量の制御は、
前記配管途中に設けた空気調節弁の弁開度を制御するこ
とで行うことを特徴とする集塵制御方法。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２において、空気
調節弁の制御が限界に達し前記定値制御ができなくなる
とき前記フィルタを新しいフィルタに入れ替えることを
特徴とする集塵制御方法。 - 【請求項４】 吸引ポンプにより配管を通して吸入した
空気中の粒子を配管途中に設けたフィルタで捕集し該粒
子の放射線濃度をモニタするダスト放射線モニタに取り
付けられる集塵制御装置において、前記配管に流れる空
気流量を検出する流量検出手段と、前記粒子が該配管内
壁に付着する配管沈着率を最小とする流量値に前記流量
検出手段の検出流量を定値制御する制御手段とを備える
ことを特徴とする集塵制御装置。 - 【請求項５】 請求項４において、前記制御手段は、空
気流量の制御を行うために前記配管途中に空気調節弁を
備え、該空気調節弁の弁開度を制御することことを特徴
とする集塵制御装置。 - 【請求項６】 請求項４または請求項５において、空気
調節弁の制御が限界に達し前記定値制御ができなくなる
とき前記フィルタを新しいフィルタに入れ替えるフィル
タ入替手段を備えることを特徴とする集塵制御装置。 - 【請求項７】 放射線モニタ対象箇所の空気を吸入する
吸引ポンプと、該吸引ポンプで吸入する空気の通路とな
る配管と、該配管途中に設けられた集塵部と、該集塵部
に自動入替可能に配置されたフィルタとを備えるダスト
放射線モニタのダストサンプラにおいて、前記配管に流
れる空気流量を検出する流量検出手段と、前記粒子が該
配管内壁に付着する配管沈着率を最小とする流量値に前
記流量検出手段の検出流量を定値制御する制御手段とを
備えることを特徴とするダストサンプラ。 - 【請求項８】 請求項７において、前記制御手段は、空
気流量の制御を行うために前記配管途中に空気調節弁を
備え、該空気調節弁の弁開度を制御することことを特徴
とするダストサンプラ。 - 【請求項９】 請求項７または請求項８において、空気
調節弁の制御が限界に達し前記定値制御ができなくなる
とき前記フィルタを新しいフィルタに入れ替えるフィル
タ入替手段を備えることを特徴とするダストサンプラ。 - 【請求項１０】 吸引ポンプにより配管を通して吸入し
た空気中の粒子を配管途中に設けたフィルタで捕集し該
粒子の放射線濃度をモニタするダスト放射線モニタにお
いて、請求項７乃至請求項９のいずれかに記載のダスト
サンプラを備えることを特徴とするダスト放射線モニ
タ。 - 【請求項１１】 サンプリング空気を吸入するポンプ
と、吸入される前記サンプリング空気の経路の途中に設
けられ粒子捕集フィルタを備える集塵部と、捕集した粒
子の放射線を検出する手段とを備えるダスト放射線モニ
タにおいて、前記粒子捕集フィルタの下流側に位置して
前記経路内のサンプリング空気の流量を検出する流量検
出手段と、該経路内に設けられ該経路内のサンプリング
空気流量を調整する流量調節弁と、前記流量検出手段の
検出値が予め定められた設定値となるように前記流量調
節弁の弁開度を制御する流量制御手段と、前記粒子捕集
フィルタが完全な目詰り状態に達する前の状態であって
空気中に含まれる粒子の捕集が十分に可能な目詰り状態
を表す指標となるフィルタ入替用設定値が設定され前記
流量調節弁の弁開度操作信号が該フィルタ入替用設定値
を越えたときに前記粒子捕集フィルタを未使用部分のフ
ィルタと入れ替えるフィルタ入替制御手段とを備えるこ
とを特徴とするダスト放射線モニタ。 - 【請求項１２】 請求項１１において、前記の予め定め
られた設定値は、前記経路の粒子が付着する率を表す配
管沈着率が最小となる流量値であることを特徴とするダ
スト放射線モニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6223597A JPH0886877A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | ダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装置とダストサンプラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6223597A JPH0886877A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | ダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装置とダストサンプラ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0886877A true JPH0886877A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=16800676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6223597A Pending JPH0886877A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | ダスト放射線モニタの集塵制御方法及びその装置とダストサンプラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0886877A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11264788A (ja) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Horiba Ltd | 希釈ガス流量制御装置 |
| CN103674622A (zh) * | 2013-12-12 | 2014-03-26 | 中广核工程有限公司 | 累积腐蚀产物采样装置 |
| JP2017532538A (ja) * | 2014-08-28 | 2017-11-02 | ベルテック アソシエイツ インコーポレイテッドＶｅｌｔｅｋ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ， Ｉｎｃ． | 制御された環境において空気をサンプリングするためのプログラマブルロジックコントローラに基づくシステムおよびユーザーインタフェース |
| CN111024571A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-17 | 北京雪迪龙科技股份有限公司 | 用于颗粒物监测仪的采样流量控制系统、颗粒物监测仪、控制气体流量的方法及装置 |
| CN112619306A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-09 | 徐州晶睿半导体装备科技有限公司 | 单晶炉的除尘过滤系统及其控制方法、单晶炉组件 |
| US11454573B2 (en) | 2008-02-07 | 2022-09-27 | Veltek Associates, Inc. | Air sampling system |
| US11808674B2 (en) | 2008-02-07 | 2023-11-07 | Veltek Associates, Inc. | System and method for air sampling in controlled environments |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP6223597A patent/JPH0886877A/ja active Pending
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