JPH0889822A - 試料処理装置 - Google Patents
試料処理装置Info
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- JPH0889822A JPH0889822A JP6327755A JP32775594A JPH0889822A JP H0889822 A JPH0889822 A JP H0889822A JP 6327755 A JP6327755 A JP 6327755A JP 32775594 A JP32775594 A JP 32775594A JP H0889822 A JPH0889822 A JP H0889822A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/44—Sample treatment involving radiation, e.g. heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/126—Microwaves
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/80—Apparatus for specific applications
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 マイクロ波照射キャビティ内に配置された４
つのフラスコ内に収容された試料を湿潤媒体内で同時に
処理するための試料処理装置を提供する。 【構成】 各反射器１３１〜１３４は、フラスコ１４１
〜１４４の外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によ
って形成され、前記一部は、四分の一乃至二分の一の範
囲内にあり、前記反射器１３１〜１３４は、照射キャビ
ティ１００の軸線Ｘを中心として対称に対をなして配置
され、これらの反射器１３１〜１３４は、その大部分
が、軸線Ｘ及び対応するフラスコの２つの軸線を含む平
面（Ｐ1 、Ｐ2 ）の両側に配置され、四つの反射器１３
１〜１３４の凹状の側部が交互方向に向いている。
つのフラスコ内に収容された試料を湿潤媒体内で同時に
処理するための試料処理装置を提供する。 【構成】 各反射器１３１〜１３４は、フラスコ１４１
〜１４４の外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によ
って形成され、前記一部は、四分の一乃至二分の一の範
囲内にあり、前記反射器１３１〜１３４は、照射キャビ
ティ１００の軸線Ｘを中心として対称に対をなして配置
され、これらの反射器１３１〜１３４は、その大部分
が、軸線Ｘ及び対応するフラスコの２つの軸線を含む平
面（Ｐ1 、Ｐ2 ）の両側に配置され、四つの反射器１３
１〜１３４の凹状の側部が交互方向に向いている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、湿潤媒体に入った複数
の試料を同時に処理するための試料処理装置に関し、こ
の装置は、試料のマイクロ波加熱を使用する。
の試料を同時に処理するための試料処理装置に関し、こ
の装置は、試料のマイクロ波加熱を使用する。
【０００２】本発明の特に有用な用途は、例えば沈殿物
からの汚染物質の抽出物のような特定の化合物をマイク
ロ波加熱することによって種々の抽出製品をつくる用途
である。
からの汚染物質の抽出物のような特定の化合物をマイク
ロ波加熱することによって種々の抽出製品をつくる用途
である。
【０００３】
【従来の技術】本発明は、本出願人の名で出願されたフ
ランス特許出願第２ ６８１ ４３１号に記載された装
置の改善に関する。この装置には、マイクロ波が照射さ
れる円筒形形状の照射キャビティ内にマイクロ波を放射
するための手段が設けられている。
ランス特許出願第２ ６８１ ４３１号に記載された装
置の改善に関する。この装置には、マイクロ波が照射さ
れる円筒形形状の照射キャビティ内にマイクロ波を放射
するための手段が設けられている。
【０００４】更に詳細には、照射キャビティは中央対称
軸線Ｘを有し、円形の開口部を介してキャビティの内側
に開放した円筒形の四つのウェルをその頂壁に有する。
試料が入っている試験管即ちフラスコを開口部を介して
マイクロ波照射キャビティに挿入する。更に、照射キャ
ビティには、キャビティの内側でマイクロ波を良好に分
配する目的の反射器が設けられている。これらの反射器
は、マイクロ波を通さない材料でつくられている。
軸線Ｘを有し、円形の開口部を介してキャビティの内側
に開放した円筒形の四つのウェルをその頂壁に有する。
試料が入っている試験管即ちフラスコを開口部を介して
マイクロ波照射キャビティに挿入する。更に、照射キャ
ビティには、キャビティの内側でマイクロ波を良好に分
配する目的の反射器が設けられている。これらの反射器
は、マイクロ波を通さない材料でつくられている。
【０００５】上掲のフランス特許出願中に説明された装
置の第１の実施例では、反射器は実質的に平らで矩形で
あり、照射キャビティの軸線Ｘは反射器の平面内にあ
り、反射器は半径方向に配置され、フラスコ間に均等に
分配されている。
置の第１の実施例では、反射器は実質的に平らで矩形で
あり、照射キャビティの軸線Ｘは反射器の平面内にあ
り、反射器は半径方向に配置され、フラスコ間に均等に
分配されている。
【０００６】第２実施例では、反射器は、キャビティの
軸線Ｘと平行なジェネレータラインを有する円筒形の表
面によって形成されており、これらの反射器は、照射キ
ャビティの側壁に固定されている。これらの反射器は、
キャビティの軸線Ｘ及びこの軸線Ｘに対して垂直な導波
管の軸線Ｙを含む対称平面を中心として対称に配置され
ており、そのため、対称平面の所与の側では、前記反射
器が、一つの反射器の凹状の面が隣接した反射器の凸状
の面に面するように配置されている。反射器の凹状の面
は、照射キャビティの側壁の導波管の開口部に向いてい
る。
軸線Ｘと平行なジェネレータラインを有する円筒形の表
面によって形成されており、これらの反射器は、照射キ
ャビティの側壁に固定されている。これらの反射器は、
キャビティの軸線Ｘ及びこの軸線Ｘに対して垂直な導波
管の軸線Ｙを含む対称平面を中心として対称に配置され
ており、そのため、対称平面の所与の側では、前記反射
器が、一つの反射器の凹状の面が隣接した反射器の凸状
の面に面するように配置されている。反射器の凹状の面
は、照射キャビティの側壁の導波管の開口部に向いてい
る。
【０００７】第３実施例では、照射キャビティの軸線Ｘ
と平行なジェネレータラインを有する円筒形の壁によっ
て各反射器が形成されており、前記円筒形の壁は各フラ
スコを実質的に取り囲んでおり、キャビティの中央に向
かって開放している。対をなした隣接した反射器が夫々
のリンク壁で相互連結されている。反射器とリンク壁と
の間を延びる空間、及び照射キャビティの側壁は、好ま
しくは、マイクロ波を通さない材料で満たされている。
この材料は、好ましくは断熱材である。
と平行なジェネレータラインを有する円筒形の壁によっ
て各反射器が形成されており、前記円筒形の壁は各フラ
スコを実質的に取り囲んでおり、キャビティの中央に向
かって開放している。対をなした隣接した反射器が夫々
のリンク壁で相互連結されている。反射器とリンク壁と
の間を延びる空間、及び照射キャビティの側壁は、好ま
しくは、マイクロ波を通さない材料で満たされている。
この材料は、好ましくは断熱材である。
【０００８】前記装置を使用したとき、上文中に特定し
た反射器の配置のいずれも満足のいくものではないとい
うことがわかった。
た反射器の配置のいずれも満足のいくものではないとい
うことがわかった。
【０００９】詳細には、これらの実施例は、マイクロ波
の電場をキャビティ全体に亘って均等に分配することが
できず、そのため電場がフラスコの表面上の特定の箇所
に集中してしまうのである。こうした箇所を「衝撃点」
と呼ぶ。フラスコは、一般的にはガラス製であり、その
ため衝撃点はガラスに溶融及び／又は亀裂を生じ、これ
によって、フラスコを損傷してしまう。
の電場をキャビティ全体に亘って均等に分配することが
できず、そのため電場がフラスコの表面上の特定の箇所
に集中してしまうのである。こうした箇所を「衝撃点」
と呼ぶ。フラスコは、一般的にはガラス製であり、その
ため衝撃点はガラスに溶融及び／又は亀裂を生じ、これ
によって、フラスコを損傷してしまう。
【００１０】更に、最後に言及した反射器の特定の配置
は複雑であり、こうした装置を大量生産するには高価過
ぎる。
は複雑であり、こうした装置を大量生産するには高価過
ぎる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上述の欠点を軽減する
ため、本発明は、反射器の形状及びマイクロ波照射キャ
ビティ内での反射器の位置が、衝撃に露呈されるフラス
コの表面ゾーンを保護するが、それにも関わらず簡単で
実施が容易であるように最適化された装置を提案する。
ため、本発明は、反射器の形状及びマイクロ波照射キャ
ビティ内での反射器の位置が、衝撃に露呈されるフラス
コの表面ゾーンを保護するが、それにも関わらず簡単で
実施が容易であるように最適化された装置を提案する。
【００１２】
【課題を解決するための手段】更に詳細には、本発明
は、軸線Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、及びＸ4 を夫々有する四つ
のフラスコ内に収容された四つの試料を湿潤媒体内で同
時に処理するための装置であって、中央対称軸線Ｘを持
つ照射キャビティの内側にマイクロ波を放射するための
手段を有し、照射キャビティの頂壁には四つの開口部が
設けられ、これらの開口部を通してフラスコが軸線Ｘと
平行に前記キャビティの内側に挿入され、前記開口部
は、軸線Ｘを中心として対称な向き合った対をなして配
置され、更に、四つのマイクロ波反射器が照射キャビテ
ィの内側に配置されている装置において、各反射器は、
フラスコの外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によ
って形成され、前記一部は、フラスコの外側表面の四分
の一乃至二分の一であり、前記反射器は、軸線Ｘを中心
として対称に対をなして配置されており、大部分が、軸
線Ｘ及び対応するフラスコの二つの軸線を含む平面の両
側にあり、四つの反射器の凹状の側が交互方向に向いて
いることを特徴とする試料処理装置を提供する。
は、軸線Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、及びＸ4 を夫々有する四つ
のフラスコ内に収容された四つの試料を湿潤媒体内で同
時に処理するための装置であって、中央対称軸線Ｘを持
つ照射キャビティの内側にマイクロ波を放射するための
手段を有し、照射キャビティの頂壁には四つの開口部が
設けられ、これらの開口部を通してフラスコが軸線Ｘと
平行に前記キャビティの内側に挿入され、前記開口部
は、軸線Ｘを中心として対称な向き合った対をなして配
置され、更に、四つのマイクロ波反射器が照射キャビテ
ィの内側に配置されている装置において、各反射器は、
フラスコの外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によ
って形成され、前記一部は、フラスコの外側表面の四分
の一乃至二分の一であり、前記反射器は、軸線Ｘを中心
として対称に対をなして配置されており、大部分が、軸
線Ｘ及び対応するフラスコの二つの軸線を含む平面の両
側にあり、四つの反射器の凹状の側が交互方向に向いて
いることを特徴とする試料処理装置を提供する。
【００１３】
【作用】マイクロ波を放射するための手段を介して照射
キャビティの内側にマイクロ波が放射される。照射キャ
ビティ内に放射されたマイクロ波は各反射器によって反
射される。ここで反射器は、フラスコの外側表面の一部
を取り囲む円筒形の表面によって形成され、前記一部
は、フラスコの外側表面の四分の一乃至二分の一であ
り、前記反射器は、軸線Ｘを中心として対称に対をなし
て配置されており、大部分が、軸線Ｘ及び対応するフラ
スコの二つの軸線を含む平面（Ｐ1 、Ｐ2 ）の両側にあ
り、四つの反射器の凹状の側が交互方向に向くようにし
て設けられているので、マイクロ波はこれらの反射器に
よって反射されてキャビティ内において最適分布とな
り、複数のフラスコ内の試料の処理を最適条件下で行う
ことができる。
キャビティの内側にマイクロ波が放射される。照射キャ
ビティ内に放射されたマイクロ波は各反射器によって反
射される。ここで反射器は、フラスコの外側表面の一部
を取り囲む円筒形の表面によって形成され、前記一部
は、フラスコの外側表面の四分の一乃至二分の一であ
り、前記反射器は、軸線Ｘを中心として対称に対をなし
て配置されており、大部分が、軸線Ｘ及び対応するフラ
スコの二つの軸線を含む平面（Ｐ1 、Ｐ2 ）の両側にあ
り、四つの反射器の凹状の側が交互方向に向くようにし
て設けられているので、マイクロ波はこれらの反射器に
よって反射されてキャビティ内において最適分布とな
り、複数のフラスコ内の試料の処理を最適条件下で行う
ことができる。
【００１４】
【実施例】本発明の非限定的例を添付図面を参照して以
下に説明し、本発明がどのように構成されているか及び
本発明をどのように実施できるかを示す。
下に説明し、本発明がどのように構成されているか及び
本発明をどのように実施できるかを示す。
【００１５】図１及び図２は、四本のフラスコ内に入っ
ている四つの試料に湿潤媒体内で処理を同時に加えるた
めの装置の部分を形成するマイクロ波照射キャビティ１
００を示す。この装置は、試料のマイクロ波加熱を使用
する。このような装置は、構造及び機能の両方につい
て、本出願人の所有するフランス特許出願第２ ６８１
４３１号に全体に記載されている。従って、本願にはこ
の装置を再び説明せず、本詳細な説明は、改良照射キャ
ビティの一つの特定の実施例だけに関する。
ている四つの試料に湿潤媒体内で処理を同時に加えるた
めの装置の部分を形成するマイクロ波照射キャビティ１
００を示す。この装置は、試料のマイクロ波加熱を使用
する。このような装置は、構造及び機能の両方につい
て、本出願人の所有するフランス特許出願第２ ６８１
４３１号に全体に記載されている。従って、本願にはこ
の装置を再び説明せず、本詳細な説明は、改良照射キャ
ビティの一つの特定の実施例だけに関する。
【００１６】照射キャビティ１００は、本願には、中央
対称軸線Ｘを有する円筒形形状を持つキャビティとして
示してあり、頂壁１０１、側壁１０２、及び底壁１０３
を有する。照射キャビティ１００の底壁１０３にはマイ
クロ波を通す矩形の窓１０３' が設けられ、底壁１０３
に垂直な導波管２００がこの窓を通して前記キャビティ
の内側に開口している。導波管２００は、マイクロ波発
生器（図示せず）に連結されており、マイクロ波を照射
キャビティに搬送する。
対称軸線Ｘを有する円筒形形状を持つキャビティとして
示してあり、頂壁１０１、側壁１０２、及び底壁１０３
を有する。照射キャビティ１００の底壁１０３にはマイ
クロ波を通す矩形の窓１０３' が設けられ、底壁１０３
に垂直な導波管２００がこの窓を通して前記キャビティ
の内側に開口している。導波管２００は、マイクロ波発
生器（図示せず）に連結されており、マイクロ波を照射
キャビティに搬送する。
【００１７】図１で更によくわかるように、導波管２０
０の軸線はキャビティの対称軸線Ｘと一致する。照射キ
ャビティ１００の頂壁１０１には、四つの円形の開口部
１５１、１５２、１５３、及び１５４が、これらの開口
部の中心が窓１０３' の両側に窓１０３' の長い方の側
部に沿って対をなして位置決めされるように、軸線Ｘを
中心として対称な向き合った対をなして配置されてい
る。更に、照射キャビティ１００は、四つの同じウェル
を頂壁１０１の外側で支持する。各円筒形ウェル１１
１、１１３は、前記頂壁１０１を通して設けられた円形
のオリフィス１５１、１５３の各々から始端し、頂壁１
０１に対して垂直にキャビティの外側に向かって延びて
いる。各ウェル１１１、１１３の断面は、各開口部１５
１、１５３の断面に対応し、各ウェルの深さは、マイク
ロ波が照射キャビティの外側に向かって伝播しないよう
にする目的のため、マイクロ波の吸収に対する障壁を形
成するような深さである。円筒壁の垂直軸線Ｘ1 、Ｘ2
、Ｘ3 、及びＸ4 は軸線Ｘと平行であり、開口部１５
１、１５２、１５３、及び１５４の中央を通る。
０の軸線はキャビティの対称軸線Ｘと一致する。照射キ
ャビティ１００の頂壁１０１には、四つの円形の開口部
１５１、１５２、１５３、及び１５４が、これらの開口
部の中心が窓１０３' の両側に窓１０３' の長い方の側
部に沿って対をなして位置決めされるように、軸線Ｘを
中心として対称な向き合った対をなして配置されてい
る。更に、照射キャビティ１００は、四つの同じウェル
を頂壁１０１の外側で支持する。各円筒形ウェル１１
１、１１３は、前記頂壁１０１を通して設けられた円形
のオリフィス１５１、１５３の各々から始端し、頂壁１
０１に対して垂直にキャビティの外側に向かって延びて
いる。各ウェル１１１、１１３の断面は、各開口部１５
１、１５３の断面に対応し、各ウェルの深さは、マイク
ロ波が照射キャビティの外側に向かって伝播しないよう
にする目的のため、マイクロ波の吸収に対する障壁を形
成するような深さである。円筒壁の垂直軸線Ｘ1 、Ｘ2
、Ｘ3 、及びＸ4 は軸線Ｘと平行であり、開口部１５
１、１５２、１５３、及び１５４の中央を通る。
【００１８】更に、処理されるべき試料（図示せず）
は、四本のガラス製フラスコ１４１、１４２、１４３、
及び１４４に入っている。これらのフラスコ１４１、１
４２、１４３、１４４自体は、マイクロ波を通す材料で
できた円筒形の保護グローブフィンガ１２１、１２２、
１２３、１２４内に位置決めされている。各グローブフ
ィンガの断面は、各フラスコの円筒形の外側面が各グロ
ーブフィンガの円筒形の内側面に向いた状態で位置決め
されるようになっている。関連したフラスコ及びグロー
ブフィンガからなる各組立体を、各フラスコの一部を前
記キャビティ内に浸漬する。フラスコ及びグローブフィ
ンガを、各ウェル内に照射キャビティ１００に向かって
開口部１５１、１５２、１５３、１５４を介して垂直に
挿入し、ウェル内に位置決めしたとき、ウェルの軸線Ｘ
1 、Ｘ2 、Ｘ3 、及びＸ4 は、前記フラスコの軸線と一
致する。
は、四本のガラス製フラスコ１４１、１４２、１４３、
及び１４４に入っている。これらのフラスコ１４１、１
４２、１４３、１４４自体は、マイクロ波を通す材料で
できた円筒形の保護グローブフィンガ１２１、１２２、
１２３、１２４内に位置決めされている。各グローブフ
ィンガの断面は、各フラスコの円筒形の外側面が各グロ
ーブフィンガの円筒形の内側面に向いた状態で位置決め
されるようになっている。関連したフラスコ及びグロー
ブフィンガからなる各組立体を、各フラスコの一部を前
記キャビティ内に浸漬する。フラスコ及びグローブフィ
ンガを、各ウェル内に照射キャビティ１００に向かって
開口部１５１、１５２、１５３、１５４を介して垂直に
挿入し、ウェル内に位置決めしたとき、ウェルの軸線Ｘ
1 、Ｘ2 、Ｘ3 、及びＸ4 は、前記フラスコの軸線と一
致する。
【００１９】照射キャビティ１００内での、底壁１０３
の上方の各フラスコの高さは、試料を鉱化させるのに最
良の時間を得るように経験的に決定されるということを
明記しなければならない。当然のことながら、試料（図
示せず）は、キャビティ内に浸漬されたフラスコのこれ
らの部分に置かれる。更に、これらのフラスコは、グロ
ーブフィンガの端部から所定距離だけ離した所に置かれ
る。この距離は、同様に、試料の鉱化に要する時間の関
数として経験的に決定される。
の上方の各フラスコの高さは、試料を鉱化させるのに最
良の時間を得るように経験的に決定されるということを
明記しなければならない。当然のことながら、試料（図
示せず）は、キャビティ内に浸漬されたフラスコのこれ
らの部分に置かれる。更に、これらのフラスコは、グロ
ーブフィンガの端部から所定距離だけ離した所に置かれ
る。この距離は、同様に、試料の鉱化に要する時間の関
数として経験的に決定される。
【００２０】更に、図２で更に明瞭にわかるように、四
つの同じ反射器１３１、１３２、１３３、１３４が照射
キャビティ１００の内側に配置されている。これらの反
射器１３１、１３２、１３３、１３４は、マイクロ波を
通さない反射材料、例えば金属でできている。各反射器
１３１、１３２、１３３、１３４は、この場合には、各
フラスコ１４１、１４２、１４３、１４４の外側面の四
分の一乃至二分の一の範囲の一部を取り囲むように、グ
ローブフィンガ１２１、１２２、１２３、１２４の外側
面に面して配置された円筒面でできている。この配置で
は、各反射器と、反射器に取り囲まれた各フラスコの表
面部分との間には、実際上、空所空間が全くない。各反
射器は、関連した各グローブフィンガ及び関連した各フ
ラスコと同心である。反射器は、軸線Ｘを中心として向
き合った対をなして対称に配置されている。更に、対称
をなして向き合った各反射器対は、その大部分が、軸線
Ｘ及び二つの対応するフラスコの軸線を含む平面の両側
に配置されている。四つの位置に配置された反射器は、
交互方向で凹状になっている。更に詳細には、軸線Ｘを
中心として対称な二つの反射器１３１及び１３３は、そ
の大部分が、軸線Ｘ及びフラスコ１４１及び１４３の軸
線Ｘ1 、Ｘ3 を含む平面Ｐ1 の両側にある。軸線Ｘを中
心として対称な二つの反射器１３２及び１３４は、その
大部分が、軸線Ｘ及びフラスコ１４２及び１４４の軸線
Ｘ2 、Ｘ4 を含む平面Ｐ2 の両側にある。平面Ｐ1 及び
Ｐ2 は、互いに垂直である。
つの同じ反射器１３１、１３２、１３３、１３４が照射
キャビティ１００の内側に配置されている。これらの反
射器１３１、１３２、１３３、１３４は、マイクロ波を
通さない反射材料、例えば金属でできている。各反射器
１３１、１３２、１３３、１３４は、この場合には、各
フラスコ１４１、１４２、１４３、１４４の外側面の四
分の一乃至二分の一の範囲の一部を取り囲むように、グ
ローブフィンガ１２１、１２２、１２３、１２４の外側
面に面して配置された円筒面でできている。この配置で
は、各反射器と、反射器に取り囲まれた各フラスコの表
面部分との間には、実際上、空所空間が全くない。各反
射器は、関連した各グローブフィンガ及び関連した各フ
ラスコと同心である。反射器は、軸線Ｘを中心として向
き合った対をなして対称に配置されている。更に、対称
をなして向き合った各反射器対は、その大部分が、軸線
Ｘ及び二つの対応するフラスコの軸線を含む平面の両側
に配置されている。四つの位置に配置された反射器は、
交互方向で凹状になっている。更に詳細には、軸線Ｘを
中心として対称な二つの反射器１３１及び１３３は、そ
の大部分が、軸線Ｘ及びフラスコ１４１及び１４３の軸
線Ｘ1 、Ｘ3 を含む平面Ｐ1 の両側にある。軸線Ｘを中
心として対称な二つの反射器１３２及び１３４は、その
大部分が、軸線Ｘ及びフラスコ１４２及び１４４の軸線
Ｘ2 、Ｘ4 を含む平面Ｐ2 の両側にある。平面Ｐ1 及び
Ｐ2 は、互いに垂直である。
【００２１】「その大部分は」という用語は、図２に示
すように、各反射器の全長が、実際上、平面Ｐ1 又はＰ
2 の一方の特定の側にあるということを意味する。
すように、各反射器の全長が、実際上、平面Ｐ1 又はＰ
2 の一方の特定の側にあるということを意味する。
【００２２】各反射器１３１、１３２、１３３、１３４
は、矩形の窓１０３' の領域の隅部領域の上方を延びる
端部を含むように位置決めされているということを明記
しなければならない。図示の実施例では、各反射器１３
１、１３２、１３３、１３４は、矩形の窓１０３' の中
央線（図示せず）の近くの窓１０３' の短い方の側部の
一方の上方に突出している。
は、矩形の窓１０３' の領域の隅部領域の上方を延びる
端部を含むように位置決めされているということを明記
しなければならない。図示の実施例では、各反射器１３
１、１３２、１３３、１３４は、矩形の窓１０３' の中
央線（図示せず）の近くの窓１０３' の短い方の側部の
一方の上方に突出している。
【００２３】図１に更に明瞭に示すように、各反射器１
３１、１３３は、照射キャビティ１００の内側にある対
応するフラスコ１４１、１４３の全高に亘って延びてい
る。かくして、反射器の位置は、フラスコ及びグローブ
フィンガの表面領域を取り囲み及びかくしてこれを保護
し、そうでない場合には、キャビティの内側のマイクロ
波電場の集中による衝撃が加わり、また、妥当な時間内
で試料を鉱化させるのに十分に加熱することができるよ
うに経験的に決定される。
３１、１３３は、照射キャビティ１００の内側にある対
応するフラスコ１４１、１４３の全高に亘って延びてい
る。かくして、反射器の位置は、フラスコ及びグローブ
フィンガの表面領域を取り囲み及びかくしてこれを保護
し、そうでない場合には、キャビティの内側のマイクロ
波電場の集中による衝撃が加わり、また、妥当な時間内
で試料を鉱化させるのに十分に加熱することができるよ
うに経験的に決定される。
【００２４】図示の実施例では、各反射器は、各ウェル
と一体に形成されており、照射キャビティの内側へ延び
るウェルの円筒壁の一部の延長部を構成するということ
を明記しなければならない。
と一体に形成されており、照射キャビティの内側へ延び
るウェルの円筒壁の一部の延長部を構成するということ
を明記しなければならない。
【００２５】別の実施例（図示せず）では、各反射器
が、各関連したグローブフィンガ及びフラスコの直ぐ近
く、及びかくしてキャビティの頂壁の各開口部の縁部の
近くで照射キャビティの頂壁に結合された独立した部品
を構成するということを考えることができる。
が、各関連したグローブフィンガ及びフラスコの直ぐ近
く、及びかくしてキャビティの頂壁の各開口部の縁部の
近くで照射キャビティの頂壁に結合された独立した部品
を構成するということを考えることができる。
【００２６】この実施例では、各反射器が、対応するグ
ローブフィンガの外側面に面して配置されていないこと
もある。このような場合には、各反射器と各グローブフ
ィンガとの間の距離は、フラスコに衝撃が加わる危険が
ないように経験的に決定される。
ローブフィンガの外側面に面して配置されていないこと
もある。このような場合には、各反射器と各グローブフ
ィンガとの間の距離は、フラスコに衝撃が加わる危険が
ないように経験的に決定される。
【００２７】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、マイクロ波は各反射器によって反射されてキャビテ
ィ内において最適分布となり、複数のフラスコ内の試料
の処理を最適条件下で行うことができる。
で、マイクロ波は各反射器によって反射されてキャビテ
ィ内において最適分布となり、複数のフラスコ内の試料
の処理を最適条件下で行うことができる。
【図１】本発明の試料処理装置のマイクロ波照射キャビ
ティの断面図である。
ティの断面図である。
【図２】図１のキャビティのＢ−Ｂ平面での断面図であ
る。
る。
【符号の説明】 １００ マイクロ波照射キャビティ １０１ 頂壁 １０２ 側壁 １０３ 底壁 １０３' 窓 １１１、１１３ 円筒形ウェル １２１、１２２、１２３、１２４ 保護グローブフィン
ガ １３１、１３２、１３３、１３４ 反射器 １４１、１４２、１４３、１４４ フラスコ １５１、１５２、１５３、１５４ 円形の開口部 ２００ 導波管
ガ １３１、１３２、１３３、１３４ 反射器 １４１、１４２、１４３、１４４ フラスコ １５１、１５２、１５３、１５４ 円形の開口部 ２００ 導波管
Claims (8)
- 【請求項１】軸線Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、及びＸ4 を夫々有
する四つのフラスコ（１４１、１４２、１４３、１４
４）内に収容された四つの試料を湿潤媒体内で同時に処
理するための装置であって、中央対称軸線Ｘを持つ照射
キャビティ（１００）の内側にマイクロ波を放射するた
めの手段（２００）を有し、照射キャビティ（１００）
の頂壁（１０１）には四つの開口部（１５１、１５２、
１５３、１５４）が設けられ、これらの開口部を通して
フラスコ（１４１、１４２、１４３、１４４）が軸線Ｘ
と平行に前記キャビティの内側に挿入され、前記開口部
は、軸線Ｘを中心として対称な向き合った対をなして配
置され、更に、四つのマイクロ波反射器（１３１、１３
２、１３３、１３４）が照射キャビティ（１００）の内
側に配置されている装置において、各反射器（１３１、
１３２、１３３、１３４）は、フラスコ（１４１、１４
２、１４３、１４４）の外側表面の一部を取り囲む円筒
形の表面によって形成され、前記一部は、フラスコの外
側表面の四分の一乃至二分の一であり、前記反射器（１
３１、１３２、１３３、１３４）は、軸線Ｘを中心とし
て対称に対をなして配置されており、大部分が、軸線Ｘ
及び対応するフラスコの二つの軸線を含む平面（Ｐ1 、
Ｐ2 ）の両側にあり、四つの反射器（１３１、１３２、
１３３、１３４）の凹状の側が交互方向に向いているこ
とを特徴とする試料処理装置。 - 【請求項２】各反射器（１３１、１３２、１３３、１３
４）は、照射キャビティの内側に配置されたフラスコ
（１４１、１４２、１４３、１４４）の全高に亘って延
びていることを特徴とする請求項１に記載の試料処理装
置。 - 【請求項３】各反射器（１３１、１３２、１３３、１３
４）は、この反射器が取り囲むフラスコ（１４１、１４
２、１４３、１４４）の直ぐ近くに配置されていること
を特徴とする請求項１又は２に記載の試料処理装置。 - 【請求項４】マイクロ波を通す材料で形成された四つの
保護グローブフィンガ（１２１、１２２、１２３、１２
４）を有し、各グローブフィンガ（１２１、１２２、１
２３、１２４）は、夫々のフラスコを収容するように設
計されると共に照射キャビティの頂面（１０１）の対応
する開口部（１５１、１５５、１５３、１５４）を介し
て照射キャビティ（１００）の内側に挿入され、各反射
器（１３１、１３２、１３３、１３４）もまた各グロー
ブフィンガ（１２１、１２２、１２３、１２４）の対応
する外側面を取り囲むようにして設けられていることを
特徴とする請求項１、２、又は３に記載の試料処理装
置。 - 【請求項５】照射キャビティの頂面（１０１）の各開口
部（１５１、１５５、１５３、１５４）には円筒形形状
のウェル（１１１、１１３）が設けられ、これらのウェ
ルは、キャビティの外側に向かって延び、前記開口部の
断面と等しい断面を有し、マイクロ波吸収障壁を形成
し、前記試料処理装置は、各反射器（１３１、１３２、
１３３、１３４）が各ウェル（１１１、１１３）と一体
に形成され、各ウェルの円筒形の側壁の一部の照射キャ
ビティの内側に向かう延長部を構成することを特徴とす
る請求項１乃至４のうちのいずれか一項に記載の試料処
理装置。 - 【請求項６】各反射器（１３１、１３２、１３３、１３
４）は、照射キャビティ（１００）の頂壁（１０１）に
各開口部（１５１、１５２、１５３、１５４）の縁部の
直ぐ近くで結合されていることを特徴とする請求項１乃
至４のうちのいずれか一項に記載の試料処理装置。 - 【請求項７】各反射器は、各フラスコと同心であること
を特徴とする請求項１乃至６のうちのいずれか一項に記
載の試料処理装置。 - 【請求項８】マイクロ波を通す矩形の窓（１０３' ）が
照射キャビティの底壁（１０３）に設けられ、これによ
って、マイクロ波が照射キャビティ（１００）内に放射
され、前記照射キャビティ（１００）の円形の四つの開
口部（１５１、１５２、１５３、１５４）の中心は、窓
（１０３' ）の長い方の側に沿って窓（１０３' ）の両
側に対をなして位置決めされており、前記反射器（１３
１、１３２、１３３、１３４）の各々は、前記窓（１０
３' ）の表面の上方に延びる端部分を有することを特徴
とする請求項１乃至７のうちのいずれか一項に記載の試
料処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9315735A FR2714468B1 (fr) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | Appareil de traitement en milieu humide simultanément sur une pluralité d'échantillons et utilisation dudit appareil. |
| FR9315735 | 1993-12-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0889822A true JPH0889822A (ja) | 1996-04-09 |
Family
ID=9454464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6327755A Pending JPH0889822A (ja) | 1993-12-28 | 1994-12-28 | 試料処理装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5498857A (ja) |
| EP (1) | EP0661530B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0889822A (ja) |
| AT (1) | ATE163761T1 (ja) |
| AU (1) | AU683110B2 (ja) |
| DE (1) | DE69408814T2 (ja) |
| DK (1) | DK0661530T3 (ja) |
| ES (1) | ES2113071T3 (ja) |
| FR (1) | FR2714468B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012181152A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | 加熱補助器具及び加熱装置並びに化学的酸素消費量の測定方法及び加熱方法 |
| WO2013031293A1 (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-07 | 株式会社サニーエンヂニアリング | 反応装置 |
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|---|---|---|---|---|
| DE4313806A1 (de) * | 1993-04-27 | 1994-11-03 | Rene Salina | Vorrichtung zum Erhitzen von Materialien in einer mit Mikrowellen bestrahlbaren Heizkammer und Verfahren zum Herstellen von keramischem Gut, bei dem das Rohgut mittels Mikrowellen getrocknet wird |
| FR2733923B1 (fr) * | 1995-05-11 | 1997-08-01 | Prolabo Sa | Systeme d'obturation d'un matras et appareil de traitement par micro-ondes comportant un tel systeme d'obturation |
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| US6222168B1 (en) * | 1995-10-27 | 2001-04-24 | Medical Indicators, Inc. | Shielding method for microwave heating of infant formulate to a safe and uniform temperature |
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| US9277787B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-03-08 | Nike, Inc. | Microwave bonding of EVA and rubber items |
| EP2887766B1 (en) * | 2013-12-20 | 2017-09-13 | SCP Science | System and method for uniform microwave heating |
| CN106362815B (zh) * | 2016-10-12 | 2018-12-11 | 温州中信科教设备有限公司 | 一种高中生生物实验用加热装置 |
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| FR2560686B1 (fr) * | 1984-03-05 | 1986-11-07 | Rhone Poulenc Rech | Appareil de mineralisation pour le traitement individuel, de facon automatique, d'echantillons de produits places dans des recipients |
| US4877933A (en) * | 1987-02-26 | 1989-10-31 | Yangas Roger A | Method and apparatus for controlling distribution and power within the cells of a device for promoting the uniform heating of a food product in a radiant energy field |
| US4889966A (en) * | 1988-08-08 | 1989-12-26 | Apv Magnetronics Limited | Apparatus for heating discrete packages of products using microwaves |
| SE9002117L (sv) * | 1990-06-14 | 1991-08-26 | Nils Elander | Mikrovaagsanordning foer behandling av precessvaetskor |
| FR2681431B1 (fr) * | 1991-09-17 | 1993-12-17 | Prolabo | Appareil pour realiser une reaction chimique par voie humide simultanement sur une pluralite d'echantillons et utilisation dudit appareil. |
| AU649770B2 (en) * | 1991-01-25 | 1994-06-02 | Societe Prolabo | Apparatus for simultaneous treatment, in a moist medium, on a plurality of samples, and utilisation of the said apparatus |
-
1993
- 1993-12-28 FR FR9315735A patent/FR2714468B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-12-23 US US08/363,741 patent/US5498857A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-26 ES ES94403016T patent/ES2113071T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-26 DK DK94403016T patent/DK0661530T3/da active
- 1994-12-26 EP EP94403016A patent/EP0661530B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-26 DE DE69408814T patent/DE69408814T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-26 AT AT94403016T patent/ATE163761T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-12-28 JP JP6327755A patent/JPH0889822A/ja active Pending
- 1994-12-29 AU AU81831/94A patent/AU683110B2/en not_active Ceased
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| EP2700444A4 (en) * | 2011-09-02 | 2015-02-11 | Katsuyoshi Tabuse | REACTION DEVICE |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU8183194A (en) | 1995-07-06 |
| US5498857A (en) | 1996-03-12 |
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| ATE163761T1 (de) | 1998-03-15 |
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| DE69408814D1 (de) | 1998-04-09 |
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