JPH0890769A - ひだ付きダイアフラム型インクジェットヘッド - Google Patents

ひだ付きダイアフラム型インクジェットヘッド

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JPH0890769A
JPH0890769A JP6231041A JP23104194A JPH0890769A JP H0890769 A JPH0890769 A JP H0890769A JP 6231041 A JP6231041 A JP 6231041A JP 23104194 A JP23104194 A JP 23104194A JP H0890769 A JPH0890769 A JP H0890769A
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Japan
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ink
buckling
buckling body
substrate
cavity
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JP6231041A
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Tetsuya Inui
哲也 乾
Koji Matoba
宏次 的場
Susumu Hirata
進 平田
Yorishige Ishii
頼成 石井
Shingo Abe
新吾 阿部
Masaharu Kimura
正治 木村
Yutaka Onda
裕 恩田
Masaru Horinaka
大 堀中
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Original Assignee
Sharp Corp
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B41J2/135—Nozzles
    • B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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    • B41J2002/14346—Ejection by pressure produced by thermal deformation of ink chamber, e.g. buckling

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 集積度が高く、吐出効率のよいインクジェッ
トヘッドを得る。 【構成】 インクを吐出させる圧力発生手段として中心
対称形状を有し、上面にひだ部分が放射線状に配置され
る素子を用いる。該素子は周縁部のみ基板上に固定され
ており、加熱により座屈変形を生じてドーム状に変形
し、インクを吐出させる圧力を生じる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液状のインクを微小な
液滴状にして吐出させ紙面に飛翔させて印刷を行うイン
クジェットプリンタ技術のさらに詳細にはインクジェッ
トプリンタヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、計算機の発達に伴い、その情報の
出力装置であるプリンタの存在が重要になっている。つ
まり計算機の小型高性能化に伴い、計算機からのコード
情報、画像情報等を紙やＯＨＰ（オーバヘッドプロジェ
クタ）用のフィルムに印字、印刷するためのプリンタ
に、より高性能化、小型化、高機能化が求められてい
る。このうち、液状のインクを紙、高分子フィルム等に
吐出させ文字情報、画像を形成するインクジェットプリ
ンタには装置の小型、高性能、低消費電力などの特徴が
あり、近年開発が盛んである。
【０００３】インクジェットプリンタの構造のうち、最
も重要なのはインクを吐出させるインクジェットヘッド
と呼ばれる部分であり、このヘッドを小型、かつ低コス
トで作製することが必要となる。インクジェットヘッド
の形式としては、従来より幾つかの方式が用いられてい
る。一つは圧電素子を用いたもので、図１０に示すよう
に圧電素子に高電圧を印加して圧電素子に機械的な変形
を生じさせ、この機械的な変形によりインク圧力室に圧
力を発生させ、ノズルからインクを粒状にして吐出させ
る方式のものである。
【０００４】別の方法としては図１１に示したように、
キャビティ内部にヒータを設け、このヒータを急速に加
熱することによりインクを沸騰させて泡を形成し、この
泡の発生による圧力変化でインクをノズルから吐出させ
る、いわゆるバブルジェット方式と呼ばれるものがあ
る。また、特開平２ー３０５４３に開示されているよう
にインク室中にバイメタル素子を設け、このバイメタル
素子を加熱して変形させ、この変形によりインクを加圧
して吐出させる方式のものもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、圧電素
子を用いた方式では、ヘッドの形成には圧電材料を多層
化して圧電素子を形成した後それを機械的に加工する必
要があり、この機械的加工のためインク室の間隔をあま
り小さくできず、結果的にインクを吐出させるノズルの
間隔を小さくできないという問題点がある。
【０００６】バブルジェット方式の場合は、インクを沸
騰させて泡を形成する必要があるためヒータを瞬間的に
数１００℃の高温にする必要があり、このためヒータの
劣化が避けられず装置の寿命が短いという問題点があ
る。
【０００７】特開平２−３０５４３では、インクを吐出
させる駆動源として異種材料を張り合わせたバイメタル
を加熱し、変形を生じさせてインクを吐出させる方式が
開示されているが、この場合は駆動源として異種材料を
積層したバイメタル構造を形成する必要があり、構造が
複雑となる問題点がある。また駆動源を作製するには、
微小な駆動源を多数一括して作製することが要求される
が、特開平２−３０５４３の方法では個別に部品を作製
して組み立てなくてはならず、集積化も困難である。
【０００８】これらの問題点に鑑み、本発明では集積度
が高く、また吐出効率の高いインクジェットヘッドを提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
ヘッドでは、少なくとも基板上にインクを充填させるキ
ャビティと、該キャビティ内で基板に一部が固定されイ
ンクを吐出させる圧力を生じる圧力発生手段と、前記キ
ャビティの上部を形成する面の、該圧力発生手段と対向
する位置にノズルを備えるインクジェットヘッドであっ
て、前記圧力発生手段は中心対称形に形成され、上面に
ひだ部分が放射線状に配置される座屈体からなり、該座
屈体の周縁部は固定され、加熱によって中央部が座屈変
形を生じ、インクを吐出させる圧力を生じることを特徴
とする。
【００１０】また、前記ひだ部分の形状は凸型であるこ
と、または凹型であること、または凹型であって、かつ
凹部間に切れ目を持ち、一方の端部がギャップを介して
座屈体と重なる形状であることを特徴とする。
【００１１】
【作用】上記の構成により本発明では、インクジェット
ヘッドに用いた座屈体の座屈によりインクを吐出する圧
力を生じるが、座屈体の表面に形成されたひだ部分が曲
がることで円周方向への圧縮応力を吸収、緩和し、座屈
を生じやすくなる。特に凹型または凸型に曲折したひだ
の形状では剛性が低くでき、より応力の緩和効果が大き
くなるため、座屈を生じさせたときの変位を大きくする
ことができる。
【００１２】
【実施例】次に実施例に基づいて本発明の説明を行う。
【００１３】図１は本発明のインクジェットヘッドのア
クチュエータ部分の平面図を示したもので、複数個のア
クチュエータが基板１上に形成されている。図２は図１
のＡＢにおける断面図であり、基板１上に座屈体２がギ
ャップ３を介して設けられている。座屈体２の周縁部４
は基板１に固着され、中心部はギャップを介して基板１
より離れた自由な固着されない状態にある。座屈体２の
下部には絶縁層５ａ、５ｂに挟まれてヒータ層６が形成
されている。ヒータ層６は座屈体２を均一に加熱するた
めに座屈体２に対して適当なパターン（図示せず）で配
置することができる。なお、ここでは座屈体２の下部に
ヒータ層６を設けているがこれに限定されることなく、
例えば座屈体２に直接通電して発熱させる方法をとって
もよい。基板１には液体供給口８が基板１を貫通する形
で設けられている。
【００１４】座屈体２は平面図上で、ほぼ８角形の単一
の膜状に形成される。ただし８角形でなくても中心対称
な形、例えば４角形、５角形、６角形などでもよい。こ
の素子は後で述べるように座屈により全体がドーム状に
変形するため、平面的な形状としては中心対称な形状の
方が、内部に生じる応力にアンバランスが生じないため
に有利である。もし形状が長方形であれば、長方形の短
辺方向は長辺方向に比べて変形が生じにくくなるため応
力が大きくなる。このため変形の度合いはほぼ短辺方向
の大きさで決まってしまい、長辺方向の部分は変形しな
い部分が多くなり、実質上むだになってしまう。
【００１５】座屈体２はその中心方向から外周に向かっ
て複数のコルゲーション部分（ひだ部分）７を有する。
図３は図１のＸＹにおける断面図であり、ひだ部分７を
示す。ひだ部分７は座屈体２に比べ厚さが薄く設定され
ており、曲折した形状をもって形成されている。また、
ひだ部分７、座屈体２とは互いに固着され一体に形成さ
れており全体としては単層の膜状の構造となっている。
【００１６】さらに図２に示したように、インクのキャ
ビティ９、スペーサ層１０、オリフィスプレート１１、
オリフィスプレートに設けられたノズル１２を設ける。
スペーサ層１０にはインク供給流路１３が設けられ、よ
り大きいインクだめ１５に接続している。インク供給路
１３には一部に狭小な部分１４を設けている。
【００１７】次に動作について説明を行う。本発明によ
るインクジェットヘッドは、動作時にはあらかじめギャ
ップ３、キャビティ９にインクが充填される。また、ギ
ャップ３にはインク以外の液体、例えば水、シリコン
油、アルコールやその他の高分子液体を充填してもよ
い。次にヒータ層６に電流が流され、ジュール熱により
発熱する。この発熱により座屈体２は膨張するが、周縁
部４が基板１に固定されているので膨張することができ
ず、圧縮応力が座屈体２内部の半径方向に発生する。こ
の圧縮応力がある一定の大きさを越えるまで電流を流し
て加熱すると、座屈体２は座屈を生じ、図２の点線に示
すように基板１に垂直な方向にドーム状に変形する。こ
の時、円周方向の圧縮応力をひだ部分が吸収、緩和する
ことにより座屈が生じやすくなっている。そして、この
座屈による体積変化によりキャビティ９に圧力上昇が生
じ、インクをノズル１２から吐出させ印字を行う。電流
を切ると座屈体２から熱はインクで充填されたギャップ
３、およびキャビティ９を通して基板１、オリフィスプ
レート１１に放熱されるため温度が下がり、座屈がおさ
まって変形が元に戻る。このときインク供給路１３より
インクが供給され、キャビティ９は再びインクで充填さ
れ、次の吐出動作を行う準備を完了する。
【００１８】図４は本発明の素子の作製方法を表す。ま
ず、図４（ａ）のごとく、シリコン単結晶基板１の両面
に熱酸化膜１６、１７を形成し、熱酸化膜１６上に犠牲
層１８を形成する。犠牲層１８の材料としてはアルミニ
ウム、フォトレジスト、ポリイミド樹脂等を用いること
ができる。特に後の工程で犠牲層を除去することを考慮
すると、酸、アルカリで容易に除去できるアルミニウム
が好ましい。次いで、後で形成するひだ部分に相当する
だけの隙間２０を開けて、フォトリソグラフィを用いて
電気絶縁膜５ｂを形成し、続いてヒータ層６を積層し、
さらにその上にヒータ層６を包み込むように電気絶縁膜
５ａを積層する。電気絶縁膜５の材料としては、酸化シ
リコン、２酸化シリコン、窒化シリコン、窒化アルミニ
ウム、酸化アルミニウムを用いることができる。ヒータ
層６の材料としては、ニッケル、クロム、タンタル、モ
リブデン、ハフニウム、ホウ素あるいはこれらの合金、
化合物を用いることが可能である。さらに金属下地膜１
９を全面に形成する。金属下地膜１９は次に行うメッキ
の電極として用いるためのもので、材料としてはニッケ
ル、クロム、コバルト、アルミニウムが可能であるが、
これらは次に形成する座屈体２と同じ材料であることが
望ましい。
【００１９】次に図４（ｂ）のごとく、あらかじめ開け
た隙間２０にフォトレジスト層２１を形成する。その後
電気メッキを行い、座屈体２を形成する。座屈体２の材
料としては、ニッケル、クロム、コバルト、銅あるいは
その合金を用いることができる。座屈体２のメッキ厚さ
はフォトレジスト層２１の高さより低く設定する。座屈
体２とレジスト２１の高さの差は０．１〜１０μｍ程度
に設定する。
【００２０】次に図４（ｃ）のごとく、全面にメッキ膜
２２を形成する。メッキ膜２２は基本的には座屈体２と
同じ材料で構成するが、異なる材料で構成してもよい。
ここで座屈体２の高さはレジスト層２１の高さより低く
設定されているので、メッキ膜２２にはひだ部分７が形
成される。メッキ膜２２の厚さは座屈体２の厚さよりも
薄く設定するのが好ましく、０．１〜５μｍの範囲がよ
り好ましい。
【００２１】続いて裏面の熱酸化膜１７に開口部２３を
設け、エッチングにより液体供給口８を形成する。液体
供給口８の形成は、ＫＯＨ溶液を用いた異方性エッチン
グにより行うことができる。基板１に（１００）面の単
結晶を用いると、（１１１）面のエッチング速度が遅い
ため（１１１）面が残り、液体供給口が形成できる。こ
の後イオンミリングにより熱酸化膜１６に開口２５を設
ける（図４（ｄ））。
【００２２】続いて犠牲層１８を除去する。除去には犠
牲層としてアルミニウムを用いたときには熱リン酸、レ
ジストを用いたときには除去液など所定の液を選択す
る。その後レジスト層２１の下部の金属膜１９を除去す
る。これには金属膜１９にニッケルを用いたときには硝
酸により行うことができる。この場合、硝酸により座屈
体も侵食される可能性があるが、濃度の薄い硝酸溶液を
用いて短時間に処理することで、他の部分に実質的なダ
メージを与える事なく除去を行える。その後レジスト層
２１を除去する。これらの膜の除去はすべて液体供給口
８を通して行う。こうして図４（ｅ）のごとく液体供給
口８、ギャップ層３、ひだ部分７を有したインクジェッ
トヘッド用アクチュエータが構成される。
【００２３】この後ノズル１２を設けたオリフィス１１
およびインクだめ１５を前記アクチュエータに接着する
と、図２に示したようなインクジェットヘッドが完成す
る。
【００２４】図５は本発明の第２の実施例であり、第１
の実施例と比較してひだ部分７の別の形状を表してい
る。図５の実施例では、シリコン基板１上に絶縁膜５に
挟まれたヒータ回路６と、その上部に位置する座屈体２
があり、これらはひだ部分７によって結合される構造を
取る。ひだ部分７は凹型に曲折しており、座屈の際の座
屈体２に生じる円周方向（図では左右方向）の圧縮応力
をひだ部分の垂直壁の曲げ（図５の矢印方向）により緩
和する構造となっている。
【００２５】本実施例のインクヘッド用アクチュエータ
は次のように作製される。まず、図６（ａ）のごとくシ
リコン単結晶基板１の両面に熱酸化膜１６、１７を形成
し、熱酸化膜１６上に犠牲層１８ａを形成する。犠牲層
１８ａの材料としてはアルミニウム、フォトレジスト、
ポリイミド樹脂等を用いることができる。特に後の工程
で犠牲層を除去することを考慮すると、酸、アルカリで
容易に除去できるアルミニウムが好ましい。次いで、後
で形成するひだ部分に相当するだけの隙間２０を開けて
フォトリソグラフィを用いて電気絶縁膜５ｂを形成し、
続いてヒータ層６を積層し、さらにその上にヒータ層６
を包み込むように電気絶縁膜５ａを積層する。電気絶縁
膜５の材料としては、酸化シリコン、２酸化シリコン、
窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムを
用いることができる。ヒータ層６の材料としては、ニッ
ケル、クロム、タンタル、モリブデン、ハフニウム、ホ
ウ素あるいはこれらの合金、化合物を用いることができ
る。さらに金属下地膜１９を全面に形成する。金属下地
膜１９は次のメッキの電極として用いるためのものであ
り、材料としてはニッケル、クロム、コバルト、アルミ
ニウムが可能であるが、これらは次に形成する座屈体２
と同じ材料であることが望ましい。
【００２６】次にあらかじめ開けた隙間２０に、図６
（ｂ）のごとくちょうどその幅でフォトレジスト層２１
をリソグラフィで形成する。その後電気メッキを行い座
屈体２を形成する。座屈体２の材料としては、ニッケ
ル、クロム、コバルト、銅あるいはその合金を用いるこ
とが可能である。電気メッキで行うと座屈体２はレジス
トパターン２１の存在しない部分（ここではヒータ６及
び絶縁膜５のパターンのある上部分）に成長する。
【００２７】次にレジスト２１を剥離し、さらにレジス
トパターンの下部分（隙間２０の部分）に位置する金属
下地膜１９を剥離する（図６（ｃ））。剥離の方法は、
イオンミリングやエッチングを用いることが可能であ
る。これを行うとレジストパターン２１の下部分２８は
金属下地膜１９が除去され、その下の犠牲層１８ａが露
出する。
【００２８】次に基板全面にメッキを行い犠牲層膜１８
ｂを形成する。このとき段差の大きな座屈体２の側壁部
分にも膜が回り込み、全面に膜を形成することができ
る。ここで本発明では、座屈体２、犠牲層１８はどちら
も金属材料であり導電性であるため、特に導電性を付与
するプロセスを行わなくても容易にメッキを行うことが
可能である。犠牲層１８ｂの材料としては亜鉛、錫を用
いることができる。特に亜鉛はメッキが簡単で、かつ
酸、アルカリで容易にエッチングできるため犠牲層を後
で除去するのに都合がよい。その後図６（ｄ）のごと
く、座屈体中央部にリソグラフィで開口部２９を設け
る。開口部２９はレジストパターン形成後エッチングで
行うことができる。
【００２９】次に図６（ｅ）のごとく、全面に金属膜３
０を形成する。作製方法としてはメッキで行うのが好ま
しい。材料としては座屈体２と同じ材料にすると開口部
２９に形成する部分２４が強固に座屈体２と結合して好
都合である。
【００３０】続いて裏面の熱酸化膜１７に開口部２３を
設け、エッチングにより液体供給口８を形成する。液体
供給口８の形成は、ＫＯＨを用いた異方性エッチングに
より行うことができる。基板１に（１００）面の単結晶
を用いると、（１１１）面のエッチング速度が遅いた
め、（１１１）面２４が残り、液体供給口８が形成でき
る。この後イオンミリングにより熱酸化膜１６に開口２
５を開ける。
【００３１】その後、犠牲層１８ａ、１８ｂを除去す
る。除去には酸、アルカリまたは有機溶媒（犠牲層材料
により異なる）などのエッチャントを用いることができ
るが、エッチャントは裏面の開口２５より侵入して犠牲
層１８ａ、１８ｂを除去する。この場合犠牲層１８ａに
アルミニウム、１８ｂに亜鉛を用いると、酸またはアル
カリで容易に除去できる。このようにして、図６（ｆ）
のごとく液体供給口８、ギャップ層３、ひだ部分７を有
したインクジェットヘッド用アクチュエータが形成され
る。以上の作製方法では、ひだ部分の形成に金属をメッ
キした犠牲層を用いており、第１の実施例のフォトレジ
ストを用いた犠牲層に比べて除去が容易に行える。これ
は、プロセス中に高温になる工程があるとフォトレジス
トは変形してしまう場合があるが金属層は変質すること
がなく、また金属、特にアルミニウムおよび亜鉛は酸、
アルカリに容易に解け、薄い隙間に形成された犠牲層で
も容易に除去できるためである。これにより第１の実施
例に比べてより安定した、歩留まりの高いプロセスを構
築できる。
【００３２】図７は本発明の第３の実施例であり、第１
の実施例と比較してひだ部分７の別の形状を表してい
る。第３の実施例では、設けられたひだ部分７のへり部
分２７が座屈体２とギャップ３をもって重なっており、
へり部分２７の端部にスリット状の開口部２９が設けら
れている。つまりひだ部分７によって座屈体が連結され
ておらず、そこに設けた開口部２９により分割されてい
る。このため座屈体２の、円周方向に生じる圧縮応力が
解放されて座屈しやすくなる。また、座屈体２が座屈し
て基板１に対して垂直な方向に変形し、キャビティ９を
加圧したときの様子を図８に示す。図８で座屈体が変形
していないときは、（ａ）のようにへり部分２７と座屈
体２の間にはギャップ３が開いているが、（ｂ）のよう
に上方向Ｘに変形すると、へり部分２７は座屈体上部に
発生する圧力Ｐにより下方向に変形してギャップ３を塞
ぐようになる。したがって、座屈して駆動されたときは
ギャップ３は塞がってキャビティ９中のインクは逆流す
ることがなく、圧縮応力の解放と、加圧効率の向上の両
方の効果を同時に得ることができる。
【００３３】
【発明の効果】本発明の構成によれば、インクジェット
ヘッドのアクチュエータ部分はフォトエッチング、メッ
キを用いて作製されるため、集積化が可能となり、また
複数個を一括して形成することができる。
【００３４】座屈体を単一の膜状に構成することにより
インクの漏れがなく、キャビティの加圧を効率的に行う
ことができる。また、中心対称の形状で形成することに
より、座屈体全面での応力分布が均一なため疲労が軽減
され、寿命の長いヘッドが構成できる。さらに座屈体上
に形成したひだ部分によりダイアフラムに発生する圧縮
応力を緩和することが可能で座屈変位を大きくできるた
め、インクジェットヘッドの吐出効率を向上させること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施例を表す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ｂにおける断面図である。
【図３】図１のＸ−Ｙにおける断面図である。
【図４】本発明の第１の実施例の作製方法を表す図であ
る。
【図５】本発明の第２の実施例を表す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施例の作製方法を表す図であ
る。
【図７】本発明の第３の実施例を表す断面図である。
【図８】本発明の第３の実施例の動作を説明する図であ
る。
【図９】従来例を説明する断面図である。
【図１０】従来例を表す図である。
【符号の説明】
１ 基板 ２ 座屈体 ５ 絶縁体 ６ ヒータ層 ７ ひだ部分 ９ キャビティ １２ ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 頼成 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 阿部 新吾 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 木村 正治 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 恩田 裕 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 堀中 大 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも基板上にインクを充填させる
    キャビティと、該キャビティ内で基板に一部が固定さ
    れ、インクを吐出させる圧力を生じる圧力発生手段と、
    前記キャビティの上部を形成する面の、該圧力発生手段
    と対向する位置にノズルを備えるインクジェットヘッド
    であって、 前記圧力発生手段は中心対称形に形成され、上面にひだ
    部分が放射線上に配置される座屈体からなり、該座屈体
    の周縁部は固定され、加熱によって中央部が座屈変形を
    生じ、インクを吐出させる圧力を生じることを特徴とす
    るひだ付きダイアフラム型インクジェットヘッド。
  2. 【請求項２】 前記ひだ部分が凸型の形状に形成される
    ことを特徴とする請求項１記載のひだ付きダイアフラム
    型インクジェットヘッド。
  3. 【請求項３】 前記ひだ部分が凹型の形状に形成される
    ことを特徴とする請求項１記載のひだ付きダイアフラム
    型インクジェットヘッド。
  4. 【請求項４】 前記ひだ部分が凹部間に切れ目を持ち、
    その一方の端部はギャップを介して座屈体と重なること
    を特徴とする請求項３記載のひだ付きダイアフラム型イ
    ンクジェットヘッド。
  5. 【請求項５】 基板上に圧力発生手段があって、該圧力
    発生手段は中心対称形で表面にひだ部分を有する変形部
    とヒータ部により構成され、変形部の周縁部をもって基
    板上に固定されており、また、該圧力発生手段を内部に
    収めるよう前記変形部の周縁部上に設けられたインク供
    給路とスペーサ層を両端とし、オリフィスプレートで上
    部を覆うことにより形成されるインクのキャビティを有
    し、前記オリフィスプレートには前記圧力発生手段の中
    心部と対向する位置にインクの吐出孔であるノズルを設
    けることを特徴とするひだ付きダイアフラム型インクジ
    ェットヘッド。
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