JPH0894806A - 光学機能性フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 樹脂を用いた低屈折率層を塗布により形成し
た光学機能性フィルムの製造において、光学機能性フィ
ルムに形成される低屈折率層を、十分な薄膜とし、十分
な耐擦傷性を持ち、屈折率を十分に低い値とし、十分な
透明とした光学機能性フィルム及びその製造方法を提供
する。 【構成】 本発明のタイプＩの光学機能性フィルムは、
透明基材フィルム１上に、１層以上からなる他の層２を
介して、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサ
フルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー
組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０
重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチ
レン性不飽和基を含する重合性化合物３０〜１５０重量
部からなる溶剤溶解性の樹脂組成物が塗布により、膜厚
２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与され
た屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５以下の低屈
折率層３が形成されている。他の層２のうち、低屈折率
層３に直接接する層は、低屈折率層３の屈折率よりも高
い屈折率を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、低屈折率層を塗布によ
り形成できる樹脂を用いて、最表面に低屈折率層を形成
した光学機能性フィルム及びその製造方法に関する。特
に、本発明の光学機能性フィルムは反射防止機能を有
し、該光学機能性フィルムは偏光板、液晶表示装置に有
用である。

【０００２】

【従来の技術】従来、紫外線遮断効果、帯電防止効果、
反射防止効果等の特定の性質を有する機能性超微粒子が
分散された透明樹脂組成物を透明プラスチック基材フィ
ルムに塗布して機能性塗膜を形成することにより、紫外
線遮断性、帯電防止性又は反射防止性等の機能が付与さ
れた透明機能性フィルムを製造することが知られてい
る。特に、反射防止フィルム等の光学機能性フィルムに
おいては、最表面層には低屈折率層を設けることが従来
行われている。

【０００３】従来、光の反射防止技術には、例えば、次
のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチッ
ク表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明
基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂ 等の極薄膜
や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプ
ラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その
上に蒸着によりＳｉＯ₂ やＭｇＦ₂ の膜を形成する方
法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜
を形成する方法があった。

【０００４】前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ
程度のＭｇＦ₂ の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ₀ とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ₀ 、反射防止膜の
厚みをｈ、および基板の屈折率をｎ_g とすると、反射防
止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過す
るための条件は、次の式（１）および式（２）の関係を
満たすことが必要であることは既に知られている（サイ
エンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７２頁、
昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。

【０００５】

【数１】 ガラスの屈折率ｎ_g ＝約１．５であり、ＭｇＦ₂ 膜の屈
折率ｎ₀ ＝１．３８、入射光の波長λ₀ ＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍが最適であると計算される。

【０００６】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率を、その下層塗膜の屈折率よりも若干低い値
として光の反射防止を行なうことが従来行なわれてい
た。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】反射防止フィルム等の
光学機能性フィルムの最表面に、樹脂の塗布により低屈
折率層を設ける場合には、前記条件を満たすような十分
に薄い薄膜を形成することが困難であり、得られた低屈
折率層の塗膜は耐擦傷性が十分でなく、しかも、十分に
低い低屈折率とすること、十分な透明度とすることは困
難であり、これら全ての条件を満足するものは従来存在
していなかった。

【０００８】そこで、本発明は、樹脂の塗布により低屈
折率層を形成した光学機能性フィルムの製造において、
その低屈折率層を十分な薄膜とすることができ、十分な
耐擦傷性を持ち、その屈折率を十分に低い値とすること
ができ、得られる光学機能性フィルムを十分な透明とす
ることができる光学機能性フィルム及びその製造方法を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】光学機能性フィルム ：本発明の光学機能性フィルムに
は、タイプＩとタイプIIがある。

【００１０】本発明のタイプＩの光学機能性フィルム
は、透明基材フィルム上に、１層以上からなる他の層を
介して、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサ
フルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー
組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０
重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチ
レン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量
部からなる樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の
薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０
未満の低屈折率層が形成されており、前記他の層のう
ち、前記低屈折率層に直接接する層は、前記低屈折率層
の屈折率よりも高い屈折率を有することを特徴とする。

【００１１】また、本発明のタイプIIの光学機能性フィ
ルムは、前記本発明のタイプＩの光学機能性フィルムに
おける、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層が、
該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折
率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されているこ
とを特徴とする。本発明のタイプIIの光学機能性フィル
ムは、上記特徴に加えて、前記微粒子が極在化して固定
されていない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィル
ムの屈折率よりも高い屈折率であることが望ましい。

【００１２】本発明の光学機能性フィルムのタイプＩ及
びタイプIIにおいては、低屈折率層が、フッ化ビニリデ
ン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜
５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてな
るフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有
共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する
重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を
用いて形成されているので、特に、そのフッ素含有共重
合体中においてヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量
％のモノマー成分を含んでいるので、この樹脂組成物の
塗布により形成される低屈折率層において１．４５以下
の低屈折率を実現することができ、また、特に、そのフ
ッ素含有共重合体中においてフッ化ビニリデン３０〜９
０重量％のモノマー成分を含んでいるため、得られる樹
脂組成物の溶剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、
その膜厚を反射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とす
ることができる。さらに、塗布される樹脂組成物中に、
エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０
重量部が含まれているため、得られる塗膜は耐擦傷性の
機械的強度の優れたものとなる。また、各樹脂成分は透
明性が高いため、これらの成分を含有した樹脂組成物を
用いて形成された低屈折率層は、透明性に優れている。

【００１３】図１は本発明のタイプＩの光学機能性フィ
ルムの断面図である。その光学機能性フィルムは、透明
基材フィルム１上に、主として樹脂からなる他の層２が
塗布により形成されており、さらに、この他の層２の上
に、前記した低屈折率層用の溶剤溶解性の樹脂組成物が
塗布されて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜の屈折率１．６
０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層３を形
成している。

【００１４】本発明のタイプＩの光学機能性フィルム
は、接する空気から光学機能性フィルムの内部に至るま
で、空気層（屈折率１．０）、低屈折率層３（屈折率
１．６０未満、好ましくは、１．４５以下）、他の層２
（屈折率１．６０以上）、透明基材フィルム１（他の層
２より低い屈折率）となっているので、効率のよい反射
防止を行うことができる。他の層２の屈折率が透明基材
フィルム１の屈折率よりも高く構成されることが望まし
く、このような場合には、透明基材フィルム１と他の層
２との間の界面における反射を防止する効果がさらに付
加される。

【００１５】図２及び図３は本発明のタイプIIの光学機
能性フィルムの断面図を示す。図２及び図３の光学機能
性フィルムは、図１の本発明のタイプＩの光学機能性フ
ィルムにおいて、透明基材フィルム１上に塗布された他
の層２の表面から内部にかけて形成された微粒子層４が
存在している点において相違しており、その他の構成は
本発明のタイプＩの光学機能性フィルムと同じである。
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムにおいて、微粒
子層４は、各微粒子７自身の結着力により、或いは微粒
子７が完全に埋没されない程度の量のバインダー樹脂の
結着力により相互に結着されて形成されている。図２
は、特に、微粒子層４が他の層２中に完全に埋没されて
いる場合であり、図３は、特に、微粒子層４が他の層２
に完全に埋没されておらず、その一部が露出している場
合である。

【００１６】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
は、その機能は前記のタイプＩとほぼ同様であるが、微
粒子層４が挿入されているので、微粒子７を樹脂中に均
一に分散させるよりも微粒子７の機能を高めることがで
き、また、微粒子層４を極在化して固定させているの
で、特に微粒子７として高屈折率微粒子を使用し、低屈
折率層３と接する周辺に極在化させたときには、反射防
止効果が高まる利点がある。

【００１７】本発明のタイプＩ及びタイプIIの光学機能
性フィルムの最表面には、微細な凹凸が形成されていて
もよく、このような場合には、光学機能性フィルムに、
反射防止効果及び防眩効果をさらに高める機能が付与さ
れる。

【００１８】低屈折率層：本発明の光学機能性フィルム
の低屈折率層に使用される樹脂組成物について、次に詳
述する。

【００１９】本発明において用いられる低屈折率層用の
樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及び
ヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモ
ノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０
〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部
と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１
５０重量部からなる樹脂組成物であることを特徴とす
る。この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄
膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未
満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層を形成す
る。

【００２０】この低屈折率層に用いられる前記フッ素含
有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロ
ピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することに
よって得られる共重合体であり、当該モノマー組成物に
おける各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０
重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは
４０〜７０重量％であり、またヘキサフルオロプロピレ
ンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特
に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組
成物は、さらにテトラフルオロエチレンを０〜４０重量
％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜
３０重量％含有するものであってもよい。

【００２１】また、このフッ素含有共重合体を得るため
のモノマー組成物は、本発明の目的および効果が損なわ
れない範囲において、他の共重合成分が、例えば、２０
重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有さ
れたものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分
の具体例としては、例えばフルオロエチレン、トリフル
オロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−
ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−
３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，
３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロ
プロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−ト
リフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸
などのフッ素原子を含有する重合性モノマーを挙げるこ
とができる。

【００２２】このようなモノマー組成物から得られるフ
ッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０
重量％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割
合は６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量
％である。

【００２３】このフッ素含有共重合体は、特にそのフッ
素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述
の溶剤に対して良好な溶解性を有する。また、本発明の
光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物
は、このようなフッ素含有共重合体を成分として含有す
ることにより、種々の基材に対して優れた密着性を有
し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れ
た機械的強度を有する薄膜を形成するので、基材の表面
の耐傷性などの機械的特性を十分に高いものとすること
ができ、反射防止膜形成にきわめて好適である。

【００２４】このフッ素含有共重合体は、その分子量が
ポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２００００
０、特に１００００〜１０００００であることが好まし
い。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重
合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物
の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗
布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。

【００２５】さらに、フッ素含有共重合体は、それ自体
の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、さらに
１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５
を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られ
るフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の
小さいものとなり、十分に良好な反射防止膜を形成する
ことができない場合が生ずる。

【００２６】本発明において用いられる重合性化合物
は、光重合開始剤の存在下または非存在下で活性エネル
ギー線が照射されることにより、または熱重合開始剤の
存在下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチ
レン性不飽和基を有する化合物である。

【００２７】このような重合性化合物の具体例として
は、例えば次の（ａ）〜（ｖ）に挙げるものを使用する
ことができる。

【００２８】（ａ）スチレン、α−メチルスチレン、ｏ
−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルス
チレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ジビニルベン
ゼン、ジイソプロペニルベンゼン、ｏ−クロロスチレ
ン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、１、１
−ジフェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−ｐ−アミノスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−
ｐ−アミノスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニ
ル化合物類； （ｂ）（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロ
ニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メ
トキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリ
ル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン
酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニト
リルなどの不飽和ニトリル類； （ｃ）メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）ア
クリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソ
プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）ア
クリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ
−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メ
タ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、
ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル−（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−メトキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メ
タ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル
類； （ｄ）２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリ
レート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル
（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エ
チル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
オクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフ
ルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ
素含有（メタ）アクリル酸エステル類； （ｅ）クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン
酸プロピル、クロトン酸ブチル、ケイ皮酸メチル、ケイ
皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、ケイ皮酸ブチル、イタ
コン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメ
チル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル
酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル類； （ｆ）２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有
（メタ）アクリル酸エステル類； （ｇ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールなどのポリアルキレングリコールの（メタ）アクリ
ル酸モノエステル類； （ｈ）シアノエチル（メタ）アクリレート、シアノプロ
ピル（メタ）アクリレートなどのシアノ基含有（メタ）
アクリル酸エステル類； （ｉ）２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２
−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−フェ
ノキシプロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）ア
クリル酸アリーロキシアルキルエステル類； （ｊ）メトキシポリエチレングリコール、エトキシポリ
エチレングリコール、メトキシポリプロピレングリコー
ル、エトキシポリプロピレングリコールなどのアルコキ
シポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノ
エステル類； （ｋ）フェノキシポリエチレングリコール、フェノキシ
ポリプロピレングリコールなどのアリーロキシポリアル
キレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル
類； （ｌ）エチレングリコール、プロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオールなどのアルキレングリコール
の（メタ）アクリル酸ジエステル類； （ｍ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールなどのポリアルキレングリコール（アルキレングリ
コール単位数が例えば２〜２３のもの）の（メタ）アク
リル酸ジエステル、両末端ヒドロキシポリブタジエン、
両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシブ
タジエン−アクリロニトリル共重合体、両末端ヒドロキ
シポリカプロラクトンなどの両末端に水酸基を有する重
合体の（メタ）アクリル酸ジエステル類； （ｎ）グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、ト
リメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例えば１〜
３である。）、テトラメチロールアルカン（アルカンの
炭素数は例えば１〜３である。）、ペンタエリスリトー
ルの如き３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリル
酸ジエステル、（メタ）アクリル酸トリエステルまたは
（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アク
リル酸オリゴエステル類； （ｏ）３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリ
コール付加物の（メタ）アクリル酸トリエステルまたは
（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アク
リル酸オリゴエステル類； （ｐ）１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベン
ゼンジオール、１，４−ジヒドロキシエチルベンゼンな
どの環式多価アルコールの（メタ）アクリル酸オリゴエ
ステル類； （ｑ）ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ
（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレー
ト、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹
脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリ
レートなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステルプレポ
リマー類； （ｒ）（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イ
タコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸などの不飽和
カルボン酸類； （ｓ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のモノメチ
ルエステル、モノエチルエステル、モノプロピルエステ
ル、モノブチルエステル、モノヘキシルエステル、モノ
オクチルエステルなどの遊離カルボキシル基含有エステ
ル類； （ｔ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のジメチル
エステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル、ジ
ブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジオクチルエス
テルなどの多価エステル類； （ｕ）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒド
ロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メ
チレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレ
ンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、
ケイ皮酸アミドなどの不飽和アミド類； （ｖ）酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、
ビバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸
ビニル、ステアリン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエ
ステル類。

【００２９】以上のうち、好ましい重合性化合物は、エ
チレン性不飽和基を１分子中に３以上、特に４以上、さ
らには４〜１５含有するものである。このような重合性
化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレ
ート、「Ｕ−１５ＨＡ」（商品名、新中村化学社製）な
どを挙げることができる。

【００３０】さらに、これらの化合物のうち、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロ
ラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）ア
クリレートが特に好ましい。

【００３１】用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和
基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、
得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密
着性および基材の表面の耐傷性などの機械的特性がきわ
めて良好な薄膜を形成するものとなる。

【００３２】重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重
合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好まし
くは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重
量部である。

【００３３】この重合性化合物の使用割合が過小である
と、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対
する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大で
あると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良
好な反射防止効果を得ることが困難となる。

【００３４】本発明の光学機能性フィルムに使用される
フッ素系樹脂組成物においては、フッ素含有共重合体お
よび重合性化合物を含む重合体形成成分の合計量におけ
るフッ素含有割合が３０〜５５重量％、特に３５〜５０
重量％であることが好ましい。このような条件が満足さ
れる場合には、本発明の目的及び効果をさらに十分に達
成する薄膜を確実に形成することができる。フッ素含有
割合が過大であるフッ素系樹脂組成物によって形成され
る薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなる傾向と
共に、基材の表面の耐傷性などの機械的特性が若干低下
するものとなり、一方、フッ素含有割合が過小であるフ
ッ素系樹脂組成物により形成される薄膜は、屈折率が大
きいものとなって反射防止効果が低下する傾向が生じ
る。

【００３５】本発明の光学機能性フィルムに使用される
溶剤は、当該フッ素系樹脂組成物の塗布性及び形成され
る薄膜の基材に対する密着性の点から、７６０ヘクトパ
スカルの圧力下における沸点が５０〜２００℃の範囲内
のものが好ましい。

【００３６】このような溶剤の具体例としては、例えば
アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチル
エチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、
ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸ア
ミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸
メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチ
ル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステ
ル類よりなる溶剤を挙げることができる。これらの溶剤
は単一でも２成分以上の混合物でもよく、さらに上記に
例示したもの以外の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわ
れない範囲で加えることもできる。

【００３７】溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と重
合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２０
０〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１０００
０重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部で
ある。

【００３８】溶剤の使用量をこの範囲とすることによ
り、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物
として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２
５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のもの
とすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂
組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適
な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜
を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着
性が特に優れた薄膜を形成することができる。

【００３９】本発明の光学機能性フィルムに使用される
フッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合物のエチ
レン性不飽和基が重合反応することによって硬化するも
のであり、従って、当該樹脂組成物が塗布されて形成さ
れた塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応させる硬
化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。

【００４０】このような硬化処理の手段として、当該フ
ッ素樹脂系組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する
手段または塗膜を加熱する手段が利用され、これによ
り、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実にかつ容
易に形成することができるので、実際上きわめて有利で
あり、薄膜形成操作の点においても便利である。

【００４１】本発明の光学機能性フィルムに使用される
フッ素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって
硬化処理する場合において、活性エネルギー線として電
子線を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に
重合開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行
うことができる。

【００４２】また、硬化処理のための活性エネルギー線
として、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場
合には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して
例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の
重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成
物に添加される。

【００４３】このような光重合開始剤の具体例として
は、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケ
タール、アントラキノン、１−（４−イソプロピルフェ
ニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、カルバゾール、キサントン、４−クロロベンゾフェ
ノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，１−ジ
メトキシデオキシベンゾイン、３，３’−ジメチル−４
−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、２，２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−
ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチ
オ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−１−オ
ン、トリフェニルアミン、２，４，６−トリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、フルオレ
ノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェ
ノン、ミヒラーケトン、３−メチルアセトフェノン、
３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）、２−
（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フ
ェニル〕−２−フェニルメチル−１−ブタノン、４−ベ
ンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベン
ジル、またはＢＴＴＢとキサンチン、チオキサンチン、
クマリン、ケトクマリン、その他の色素増感剤との組合
せなどを挙げることができる。

【００４４】これら光重合開始剤のうち、２、２−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ
−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−
ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
サイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメ
チルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニ
ル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノンなどが好ま
しく、さらに好ましくは、１−ヒドロキシルシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチル
チオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オ
ン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリ
ニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノ
ンなどを挙げることができる。

【００４５】さらに、硬化処理のために加熱手段が利用
される場合には、加熱により例えばラジカルを発生して
重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素
系樹脂組成物に添加される。

【００４６】熱重合開始剤の具体例としては、例えばベ
ンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベ
ンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパ
ーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブ
チルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル
バレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ
−２，４−ジメチルバレロニトリル）などを挙げること
ができる。

【００４７】本発明の光学機能性フィルムに使用される
フッ素系樹脂組成物における光重合開始剤または熱重合
開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物
との合計１００重量部に対し、通常、０．５〜１０重量
部、好ましくは１〜８重量部、特に好ましくは２〜７重
量部である。この添加量が１０重量部を越えると樹脂組
成物の取り扱い並びに形成される薄膜の機械的強度など
に悪影響を及ぼすことがあり、一方、添加量が０．５重
量部未満では硬化速度が小さいものとなる。

【００４８】本発明の光学機能性フィルムに使用される
フッ素系樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の目的
および効果が損なわれない範囲において、各種添加剤、
例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン
系化合物から成る増感剤もしくは重合促進剤；エポキシ
樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、
ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポ
リエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロック共
重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、シリコ
ーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどの
ポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどの
重合禁止剤；その他にレベリング剤、漏れ性改良剤、界
面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング
剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染料などを配合する
ことができる。

【００４９】他の層：本発明のタイプＩ及びタイプIIの
光学機能性フィルムにおいて、透明基材フィルムと低屈
折率層との間の１層以上の他の層において、低屈折率層
と直接接している他の層の屈折率は、低屈折率微粒子の
屈折率よりも高く、かつ透明プラスチック基材フィルム
の屈折率よりも高くすることが好ましい。このような屈
折率を持つ層構成とすることにより、反射防止効果を高
め、他の層と接する層の間の界面の反射を防ぐことがで
きる。この低屈折率層と直接接している他の層の屈折率
は、好ましくは１．６０以上である。

【００５０】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムに
おいては、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層と
の界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上
の微粒子が極在化して固定されているため、微粒子が樹
脂中に分散されている場合に比べ微粒子を多量に使用す
ることなく、少量で微粒子の機能を発現し易いという利
点が生じ、さらに、微粒子が他の層中に埋め込まれてい
るため、他の層の上に微粒子層を形成するよりも、微粒
子と他の層との密着性が良いという効果がある。

【００５１】また、本発明のタイプIIの光学機能性フィ
ルムにおいて、他の層のうち、微粒子が存在していない
部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よ
りも高い屈折率とすることが、透明基材フィルムと他の
層との間の界面の反射を防止するために好ましい。

【００５２】低屈折率層との界面から該他の層の内部に
かけて極在化して固定されている屈折率１．６０以上の
微粒子は、その光学膜厚が、λ／４又はλ／２（４５０
ｎｍ＜λ＜６００ｎｍ）であることが反射防止効果を上
げるために好ましい。

【００５３】他の層の屈折率を高める方法には、高屈折
率を持つバインダー樹脂を他の層に使用するか、他の層
の屈折率より高い屈折率を持つ高屈折率微粒子を他の層
に添加するか、高屈折率微粒子層を他の層中に極在化さ
せるか、或いはこれらの方法を併用して行う。

【００５４】前記高屈折率微粒子を他の層中に添加する
方法又は他の層中に極在化させる方法に用いられる高屈
折率の微粒子の例には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９
０）、ＴｉＯ₂ （屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ
₂ （屈折率１．９５）、Ｓｂ₂ Ｏ₅ （屈折率１．７
１）、ＳｎＯ₂ 、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂ Ｏ₃
（屈折率１．８７）、Ｌａ₂ Ｏ₃ （屈折率１．９５）、
ＺｒＯ₂ （屈折率２．０５）、Ａｌ₂ Ｏ₃ （屈折率１．
６３）等が挙げられる。

【００５５】これらの高屈折率微粒子のうち、ＺｎＯ、
ＴｉＯ₂ 、ＣｅＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₅ 等を用いることによ
り、本発明の光学機能性フィルムにＵＶ遮蔽効果がさら
に付与されるので好ましい。また、アンチモンがドープ
されたＳｎＯ₂ 或いはＩＴＯを用いることにより、電子
伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防
止、或いは本発明の光学機能性フィルムをＣＲＴに用い
た場合の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。
高屈折率微粒子の粒径は、他の層を透明とするためには
４００ｎｍ以下であることが好ましい。特に、反射防止
性を付与するにはＭｇＦ₂ やＳｉＯ₂ 等の低屈折率微粒
子やＳｂ₂ Ｏ₅ 、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂
等の高屈折率微粒子が使用される。

【００５６】微粒子層に使用される微粒子には、２００
ｎｍ以下の超微粒子で、紫外線遮断性、導電性、帯電防
止性、反射防止性等の機能を有するものが挙げられる。

【００５７】これらの機能性を有する微粒子は、その表
面がカップリング剤で疎水化処理されていてもよく、こ
のような疎水化処理により微粒子表面への疎水性基の導
入が行われるので、電離放射線硬化型樹脂に馴染みやす
くなり、電離放射線硬化型樹脂との結合がより強固とな
る。このようなカップリング剤には、シランカップリン
グ剤、チタネート系カップリング剤、アルミナ系カップ
リング剤等が用いられる。そのカップリング剤の添加量
は０（０を含まず）〜３０重量部、望ましくは０（０を
含まず）〜１０重量部である。

【００５８】また、微粒子がＭｇＦ₂ のように表面が不
活性な場合、予めＳｉＯ₂ ゾルを添加し、微粒子の表面
をＳｉＯ₂ でコーティングした後、カップリング剤で処
理してもよい。このようなＳｉＯ₂ の皮膜処理により、
微粒子の表面に親水性基を多く導入させることができ、
その後のカップリング剤での処理により疎水性基を確実
により多く導入でき、したがって、微粒子が樹脂へさら
に馴染みやすくなり結合性が増す。

【００５９】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、
芳香環を含む樹脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例え
ば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原
子を含む樹脂等があげられ、これらの少なくとも一つの
条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。
前記の樹脂の例には、ポリスチレン等のスチロール系
樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバ
ゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネート等が挙げ
られる。前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、ポリ
テトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が
挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリビスフェノー
ルＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げ
られる。

【００６０】他の層に用いることができる樹脂には、透
明性のあるものであればどのような樹脂（例えば、熱可
塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂）でも
使用することができる。しかしながら、本発明の光学機
能性フィルムにおいて、低屈折率層を形成する樹脂に、
電離放射線硬化型樹脂が混入されているので、他の層の
樹脂に電離放射線硬化型樹脂を使用した場合には、各塗
膜の硬化を電離放射線により同時に硬化できるという利
点がある。

【００６１】他の層にハード性能を付与するためには、
或いは複数層の他の層のうちある層にハード性能を付与
するためには、層の厚みは０．５μｍ以上、好ましく
は、３μｍ以上とすることにより、硬度を維持すること
ができ、ハード性能を付与することができる。

【００６２】なお、本発明において、「ハード性能を付
与する」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示される鉛筆硬度
試験で、Ｈ以上の硬度を与えることをいう。

【００６３】また、他の層の硬度をより向上させるため
に、そのバインダー樹脂には、反応硬化型樹脂、即ち、
熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用す
ることが好ましい。前記熱硬化型樹脂には、フェノール
樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹
脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メ
ラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹
脂等が使用され、これらの樹脂に必要に応じて、架橋
剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調
整剤等を加えて使用する。

【００６４】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ
オール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。

【００６５】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００６６】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００６７】他の層に、特に、屈曲性を付与するために
は、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し溶剤乾燥
型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ませてもよ
い。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が
用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥
型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用され
るが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステルアク
リレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用し
た場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメタクリ
ル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブチルア
クリレートが塗膜の硬度を高く保つことができる。しか
も、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂との屈折率
が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低
ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において有利であ
る。

【００６８】また、透明基材フィルムとして、特にトリ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるとき
には、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂
には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチ
ルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び
透明性の点で有利である。

【００６９】その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶
媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムで
あるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるト
ルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこ
の溶剤乾燥型樹脂を含む樹脂組成物の塗布を行っても、
透明基材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にするこ
とができ、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムで
あるトリアセチルセルロースを溶解しないので、透明プ
ラスチック基材フィルムの表面は白化せず、透明性が保
たれる利点があるからである。

【００７０】他の層にバインダー樹脂として電離放射線
硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方法は通常
の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線また
は紫外線の照射によって硬化することができる。例え
ば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バ
ンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１０
０〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用
され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。

【００７１】他の層に使用される前記した微粒子は、カ
ップリング剤によりその表面に疎水性が付与されていて
もよい。

【００７２】他の層が複数層ある場合にはそのうちの一
つの層は、透明基材フィルムと接する接着剤層としても
よい。

【００７３】微粒子層の形成方法：微粒子層の形成方法
は、微粒子のゾル自体又は微粒子のゾルにバインダー樹
脂を含有させたものを塗布して形成する。例えば、工程
紙上に微粒子層を形成する場合には、バインダー樹脂を
使用しなくても、微粒子自身の持つ結着作用により形成
することができるが、その結着作用が弱いような場合に
は必要に応じて、バインダー樹脂を混合使用してもよ
い。そのバインダー樹脂の量は、微粒子がバインダー樹
脂中に完全に埋没されない程度の量とすることが、微粒
子の表面が露出された状態で微粒子相互が結着されるの
で、微粒子の機能性を発現するのに、特に、反射防止膜
に利用する場合に好ましい。

【００７４】このようなバインダー樹脂には、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の一般的
なものが用いられるが、本発明における低屈折率層に電
離放射線硬化型樹脂が含まれているので、この低屈折率
層との密着性を考慮すると電離放射線硬化型樹脂が望ま
しく、その電離放射線硬化型樹脂は溶剤乾燥半硬化型樹
脂であることが望ましい。また、このようなバインダー
樹脂に着色剤を混入してもよい。

【００７５】透明基材フィルム：本発明の光学機能性フ
ィルムの透明基材フィルムに適した材料は、透明性のあ
るフィルムであればよく、例えば、トリアセチルセルロ
ースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテ
ートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサル
ホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレ
タン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテ
ルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテ
ルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム
等が使用できるが、特に、トリアセチルセルロースフィ
ルム、及び一軸延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学
的に異方性が無い点で好適に用いられる。その厚みは、
通常は８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いら
れる。

【００７６】光学機能性フィルムの製造方法：本発明の
前記タイプＩの光学機能性フィルムについての製造方法
には、次の５つの製造方法が挙げられる。

【００７７】前記タイプＩの光学機能性フィルムの、一
番目の製造方法は、（１）透明基材フィルム上に、直接
又は他の層を介して、（２）樹脂組成物の屈折率が、最
終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該
樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率
よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処
理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアー
し、（４）得られたフルキュアー又はハーフキュアーさ
れた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及び
ヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモ
ノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０
〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部
と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１
５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、
溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且
つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗
膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱
処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗
膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。

【００７８】図４は上記タイプＩの光学機能性フィルム
の、一番目の製造方法を示すフロー図である。図４
（ａ）は、透明基材フィルム１上に、接着剤層、機能性
材料を含んだ層等を介すか、介さずして、他の層２を形
成した状態である。図４（ｂ）は、他の層２の塗膜に加
熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフル
キュアー又はハーフキュアーする状態を示す。図４
（ｃ）は、他の層２上に本発明に使用される低屈折率層
用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成した状態を
示す。図４（ｄ）は、溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処
理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の層２
の塗膜を含めてフルキュアーする状態を示す。

【００７９】前記タイプＩの光学機能性フィルムの、二
番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着
に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、樹
脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィ
ルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層
に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工
して塗膜を形成し、（２）前記工程で得られた塗膜に加
熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハー
フキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られたハー
フキュアー又はフルキュアーされた塗膜上又は透明基材
フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、（４）前
記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工
程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、該工程紙
を剥離し、（５）前記透明基材フィルム上に形成された
ハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ
化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロ
ピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重
合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％である
フッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和
基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹
脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚
２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満
（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（６）前
記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放
射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュア
ーさせることを特徴とする。

【００８０】図５は、上記タイプＩの光学機能性フィル
ムの、二番目の製造方法のフロー図である。図５（ａ）
は、工程紙５上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品と
しての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成
物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、
高い樹脂組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成した
状態である。図５（ｂ）は、他の層２の塗膜に加熱処理
及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を完全に硬化
させた状態を示す。図５（ｃ）は、他の層２側或いは透
明基材フィルム１側の何れかに接着剤層６を設け、接着
剤層６を介して工程紙５上の他の層２と透明基材フィル
ム１をラミネートしている状態を示す。図５（ｄ）は、
ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
図５（ｅ）は、他の層２上にさらに本発明に使用される
低屈折率層用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３の塗膜
を設け、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該
塗膜を他の層２の塗膜を含めてフルキュアーしている状
態を示す。

【００８１】前記タイプＩの光学機能性フィルムの、三
番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着
に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、
樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フ
ィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下
層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗
工して塗膜を形成し、（２）一方、透明基材フィルムを
用意し、前記工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透
明基材フィルムをラミネートし、（３）得られたラミネ
ート物をハーフキュアー又はフルキュアーさせた後、前
記工程紙を剥離し、（４）前記透明基材フィルム上に形
成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上
に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフル
オロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成
物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量
％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン
性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部か
らなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥さ
せて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．
６０未満の塗膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた
塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該
塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴
とする。

【００８２】前記タイプＩの光学機能性フィルムの、四
番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着
に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、フ
ッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプ
ロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共
重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であ
るフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽
和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる
樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜
厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未
満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（２）
得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理
及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュア
ー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜上に、
樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フ
ィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下
層に直接接する層の屈折率よりも高い、樹脂組成物を塗
工して塗膜を形成し、（４）前記工程で得られた塗膜に
加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他
の塗膜も含めフルキュアーさせ、（５）工程紙上に形成
されたフルキュアーされた塗膜上、又は別に用意した透
明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、
（６）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側
にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、
工程紙を剥離することを特徴とする。

【００８３】図６は、上記タイプＩの光学機能性フィル
ムの、四番目の製造方法のフロー図である。図６（ａ）
は、工程紙５上に、本発明に使用される低屈折率層用樹
脂組成物を塗装して、低屈折率層３の塗膜を形成し、塗
膜をフルキュアー又はハーフキュアーしている状態を示
す。図６（ｂ）は、この低屈折率層３上に、バインダー
樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有
する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ
該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フ
ィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下
層に直接接する層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂
組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成し、さらに該
塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図６（ｃ）
は、工程紙５上に形成された低屈折率層３及び他の層２
と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミネ
ートした状態を示す。図６（ｄ）は、ラミネート物から
工程紙５を剥離している状態を示す。

【００８４】前記タイプＩの光学機能性フィルムの、五
番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着
に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、
フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロ
プロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が
共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％で
あるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不
飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からな
る樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて
膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０
未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、
（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加
熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフル
キュアー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜
上に、樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能
性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層
の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物を
塗工して塗膜を形成し、（４）別に透明基材フィルムを
用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上
の塗膜を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離す
ることを特徴とする。

【００８５】本発明の前記タイプIIの光学機能性フィル
ムについての製造方法には、次の６つの製造方法が挙げ
られる。

【００８６】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
の、前記一番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の
層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程
紙上に、溶剤で希釈した低屈折率樹脂組成物を用いて塗
布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であ
って且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた
低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学
膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）と
なるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂
を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放
射線処理を行って、この塗膜を他の塗膜の硬化も含めて
フルキュアーし、（５）得られた工程紙に形成されたフ
ルキュアーされた樹脂層上に接着剤層を形成するか、又
は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成し
て、（６）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透
明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側に
してラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴と
する。

【００８７】図７は、本発明のタイプIIの光学機能性フ
ィルムの、一番目の製造方法のフロー図である。図７
（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率
樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成
され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗
膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。
図７（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体と
した微粒子層４を形成した状態を示す。図７（ｃ）は、
この微粒子層４上に樹脂を塗布して他の層２の塗膜を形
成し、この塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図
７（ｄ）は、前記（ｃ）で得られたフィルムの他の層２
側と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミ
ネートした状態を示す。図７（ｅ）は、ラミネート物か
ら工程紙５を剥離している状態を示す。

【００８８】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
の、前記二番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の
層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工
程紙上に、溶剤で希釈した低屈折率樹脂組成物を塗布
し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であっ
て且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた
低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学
膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）と
なるように形成し、（４）一方、透明基材フィルム上に
樹脂を主体とする塗膜を形成し、（５）前記工程紙上に
形成された低屈折率層及び微粒子層と、前記透明基材フ
ィルム上の樹脂層が接するように工程紙と透明基材フィ
ルム両者を圧着してラミネートすることにより、微粒子
層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没
させ、（６）得られたラミネート物に対して加熱処理及
び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含め
てフルキュアーし、次いで工程紙を剥離して低屈折率層
及び高屈折率微粒子層を転写することを特徴とする。

【００８９】図８は、本発明のタイプIIの光学機能性フ
ィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。図８
（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率
樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成
され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗
膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。
図８（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体と
した微粒子層４を形成した状態を示す。図８（ｃ）は、
透明基材フィルム１を用意し、この透明基材フィルム１
上に樹脂を主体とした塗膜（他の層２）を形成した状態
である。図８（ｄ）は、前記（ｃ）で得られた透明基材
フィルム１上の他の層２側と、工程紙５上の微粒子層４
側とを合わせてラミネートし、他の塗膜２の硬化も含め
てフルキュアーしている状態を示す。微粒子層４は他の
層２中に完全に埋没するか又は微粒子層４の一部が埋没
している。図８（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を
剥離している状態を示す。

【００９０】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
の、三番目の製造方法であり、透明基材フィルムと他の
層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工
程紙上に、溶剤で希釈した低屈折率樹脂組成物を塗布
し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であっ
て且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた
低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学
膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）と
なるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂
を主体とする塗膜を形成し、（５）別に透明基材フィル
ムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程
紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートし、
（６）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／
又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフ
ルキュアーし、次いで工程紙を剥離することを特徴とす
る。

【００９１】図９は、本発明のタイプIIの光学機能性フ
ィルムの、三番目の製造方法のフロー図である。図９
（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率
樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成
され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗
膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。
図９（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体と
した微粒子層４を形成した状態を示す。図９（ｃ）は、
この微粒子層４上に樹脂を塗布して樹脂を主体とする他
の層２の塗膜を形成している状態を示し、この塗膜は未
だフルキュアーされていない。図９（ｄ）は、前記
（ｃ）で得られた工程紙５上の他の層２側と、別に用意
した透明基材フィルム１とを合わせてラミネートし、他
の層の硬化も含めてフルキュアーしている状態を示す。
図９（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離してい
る状態を示す。

【００９２】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの
前記一番目〜三番目の製造方法において使用される低屈
折率樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％
及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有す
るモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が
６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量
部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜
１５０重量部からなる樹脂組成物であることが、屈折率
１．６０未満、好ましくは１．４５以下の十分に低い屈
折率を実現でき、またその樹脂組成物が溶剤溶解性であ
るので膜厚が２００ｎｍ以下の十分に薄い薄膜とするこ
とができ、しかもこの低屈折率樹脂組成物により製造さ
れた低屈折率層は耐擦傷性で透明性に優れているので、
特に好適に使用できる。

【００９３】本発明の前記タイプIIの光学機能性フィル
ムの、四番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層
との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程
紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ
／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるよう
に形成し、（２）一方、透明基材フィルム上に、樹脂を
主体とする塗膜を形成し、（３）前記工程紙上に形成さ
れた上記微粒子層と、前記透明基材フィルム上に形成さ
れた樹脂層が接するように前記工程紙と前記透明基材フ
ィルムを圧着してラミネートすることにより、微粒子層
を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没さ
せ、（４）得られたラミネート物に対して加熱処理及び
／又は電離放射線処理を行ってこの塗膜をフルキュアー
又はハーフキュアーし、（５）得られたフルキュアー又
はハーフキュアーされたラミネート物から工程紙を剥離
して微粒子層を透明基材フィルムに転写し、（６）転写
された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及び
ヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモ
ノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０
〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部
と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１
５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、
溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且
つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗
膜を形成し、（７）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱
処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗
膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。

【００９４】図１０は本発明のタイプIIの光学機能性フ
ィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。図１０
（ａ）は、工程紙５上に、屈折率１．６０以上の微粒子
層４を形成したものを、透明基材フィルム１上に樹脂を
塗布して他の層２が形成された上に、微粒子層４が他の
層２内に埋め込まれるようにして圧着してラミネートし
ようとする状態を示す。図１０（ｂ）はラミネートされ
た状態である。図１０（ｂ）において、微粒子層４は、
他の層２内に完全に埋没されていてもよく、また、微粒
子層４の一部が他の層２から露出していてもよい。図１
０（ｃ）は、そのラミネート物から工程紙５を剥離して
いる状態である。図１０（ｄ）は、微粒子層４の上に、
本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低
屈折率層３が塗布により形成された状態を示す。

【００９５】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
の、五番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層と
の接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上
に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４
又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形
成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子
層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以
上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋
没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）得ら
れた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行っ
て、ハーフキュアー又はフルキュアーし、（４）得られ
たハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に接着
剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルム
に接着剤層を形成し、（５）前記接着剤層を介して、前
記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成され
た樹脂層を内側にしてラミネートした後、該工程紙を剥
離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルムに転写
し、（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜
９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量
％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素
含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体
１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化
合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合
物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄
膜で且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以
下）の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処
理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせ
ることを特徴とする。

【００９６】図１１は、本発明のタイプIIの光学機能性
フィルムの、五番目の製造方法のフロー図である。図１
１（ａ）は、工程紙５上に微粒子層４を形成し、さらに
その上に他の層２を形成し、フルキュアー又はハーフキ
ュアーしている状態を示す。図１１（ｂ）は、この工程
紙５上の他の層２側、或いは透明基材フィルム１側の何
れか一方に接着剤層６を形成し、接着剤層６を介して両
フィルムをラミネートした状態を示す。図１１（ｃ）
は、接着剤層６のフルキュアー後に工程紙５を剥離して
いる状態を示す。図１１（ｄ）は、さらに微粒子層４上
に、本発明で使用される低屈折率層用樹脂組成物の薄膜
である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及
び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー
された状態を示す。

【００９７】本発明のタイプIIの光学機能性フィルム
の、六番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層と
の接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙
上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／
４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように
形成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒
子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚
以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に
埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）別
に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基
材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネート
し、（４）前記ラミネート物に対して加熱処理及び／又
は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又は
フルキュアーした後、工程紙を剥離して樹脂層及び微粒
子層を透明基材フィルム上に転写し、（５）転写された
層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサ
フルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー
組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０
重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチ
レン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量
部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾
燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６
０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、加
熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の
塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする。

【００９８】上記の各光学機能性フィルムの製造方法に
おいて、塗膜を形成した後にハーフキュアーとし、さら
に塗膜を形成する意義は、各塗膜間の密着性を増加させ
るためである。

【００９９】上記の各光学機能性フィルムの各製造方法
において、特に、微粒子層が他の層中に完全に埋没して
おらず、微粒子層の一部が他の層から露出している光学
機能性フィルムを製造するためには、他の層に用いる樹
脂の粘度、該樹脂の種類、該樹脂の表面張力、さらに
は、微粒子の粒径、該微粒子の充填率、他の層に用いる
樹脂と微粒子との濡れ性等を考慮することによって、達
成することができる。

【０１００】具体的には、他の層に用いる樹脂の粘度が
高く、或いは塗工時に指触乾燥性（後述）を有するもの
（指触乾燥状態のこと）を選択することにより、微粒子
の一部が露出しやすい。又、その他、該樹脂の表面張力
が低いものを選択するか、微粒子の粒径が小さく、充填
率が高いものを選択することによってもいい。また、該
樹脂と該微粒子を選択するにあたり、濡れ性が悪いもの
を選択することによってもよい。

【０１０１】工程紙：離型フィルムとも呼ばれ、一般的
にシート上にシリコン、フッ素、アクリル−メラミンな
ど離型処理を施したもの、または、未処理のものが使用
される。その表面は平滑でも凹凸を有していてもよく、
凹凸を有している場合、最終製品の表面に凹凸が形成さ
れるので、得られる光学機能性フィルムに、反射防止効
果又は防眩効果を付与することができる。

【０１０２】ハーフキュアー：本発明の透明機能性フィ
ルムの製造方法において、ハーフキュアーとは、次の
ａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー、
ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂（又は熱可塑
性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー、及びｃ．溶剤乾燥
型・ハーフキュア型複合ハーフキュアーが挙げられる。

【０１０３】ａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフ
キュアー 通常の電離放射線硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫
外線又は電子線等の電離放射線の照射条件を調整して半
架橋を行うことにより形成されるハーフキュアーの状態
をいう。

【０１０４】ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂
（又は熱可塑性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー 電離放射線硬化型樹脂に、熱硬化型樹脂又は熱可塑性樹
脂を混合して樹脂組成物を塗布し、熱硬化型樹脂を用い
た場合、塗膜に熱を加えることにより形成されるハーフ
キュアーの状態をいう。

【０１０５】ｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハー
フキュアー 通常の電離放射線硬化型樹脂に溶剤を加えたものを塗布
し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜に、
さらに電離放射線を照射してハーフキュアーする状態を
いう。このハーフキュアーの状態は、特開平１−２０２
４９号公報に説明されている半硬化状態と同じである。

【０１０６】指触乾燥状態：本発明の二番目の透明機能
性フィルムを製造するにあたっては、機能性微粒子層の
一部をハードコート層から露出させる必要がある。その
ためには、塗工されたハードコート層用樹脂組成物の塗
膜が指触乾燥状態のときにはその粘度が高いので、機能
性微粒子層を接触させることにより、機能性微粒子層の
全部がハードコート層内に完全に埋没せずに機能性微粒
子層の一部が露出するようになる。また、ハードコート
層を指触乾燥状態とすることにより、このハードコート
層と機能性微粒子層の密着性がよくなるという利点があ
る。

【０１０７】このハードコート層用樹脂組成物の塗膜を
指触乾燥状態とするためには、指触乾燥性を有する電
離放射線硬化型樹脂を使用する方法、及び電離放射線
硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法が挙げ
られる。

【０１０８】上記の指触乾燥性を有する電離放射線硬
化型樹脂を使用する方法には、例えば、次の（イ）、
（ロ）に示す指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂
を使用することができる。

【０１０９】（イ）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポ
リマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。

【０１１０】具体的には次に列挙した単量体を重合又は
共重合させたものに対し、後述するａ）〜ｄ）の方法に
よりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。

【０１１１】水酸基を有する単量体：例えば、Ｎ−メチ
ロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト等がある。

【０１１２】カルボキシル基を有する単量体：例えば、
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート等がある。

【０１１３】エポキシ基を有する単量体：例えば、グリ
シジル（メタ）アクリレート等がある。

【０１１４】アジリジニル基を有する単量体：２−アジ
リジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジニ
ルプロピオン酸アリル等がある。

【０１１５】アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリ
ルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメ
チルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート等がある。

【０１１６】スルフォン基を有する単量体：２−（メ
タ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸
等がある。

【０１１７】イソシアネート基を有する単量体：２，４
−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートの１モル対１モルの付加物などの
ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体
の付加物等がある。

【０１１８】さらに，共重合体のガラス転移温度を調節
したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に
列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させること
ができる。このような共重合可能な単量体としては、例
えば、メチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）
アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチ
ル（メタ）アクリレート、ｇｔ−ブチル（メタ）アクリ
レート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキ
シル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。

【０１１９】上記の各単量体を重合、もしくは共重合さ
せたものに対して、次のａ）〜ｄ）の方法により、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹
脂が得られる。

【０１２０】ａ）水酸基を有する単量体の重合体または
共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。

【０１２１】ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有す
る単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸
基を有する単量体を縮合反応させる。

【０１２２】ｃ）エポキシ基、イソシアネート基又はア
ジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場
合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。

【０１２３】ｄ）水酸基又はカルボキシル基を有する単
量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有
する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイ
ソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単
量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる。

【０１２４】上記反応を行うには、微量のハイドロキノ
ンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行う
ことが望ましい。

【０１２５】（ロ）融点が常温（２０℃）〜２５０℃で
あり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。

【０１２６】具体的には、ステアリルアクリレート、ス
テアリル（メタ）アクリレート、トリアクリルイソシア
ネート、シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ル（メタ）アクリレート等がある。

【０１２７】上記のの電離放射線硬化型樹脂に粘着性
を有する樹脂を混入する方法に使用される粘着性を有す
る樹脂は、電離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するもの
である。一般的には、粘着剤と電離放射線硬化型樹脂と
の混合物から形成することできるが、電離放射線硬化型
樹脂が未架橋状態で液状ではなく且つ粘着性を有してい
ればそのまま使用することができる。特に、塗膜の硬度
を高く保つためにはポリメチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート等の熱可塑性樹脂が、電離放射線硬
化型樹脂への粘性の付与のために好適に使用できる。

【０１２８】その他、電離放射線硬化型樹脂への粘性付
与に適した樹脂には、従来公知の粘着テープや粘着シー
ルに使用されているものでもよく、例えば、ポリイソプ
レンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレンブタジエン
ゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等のゴム系樹
脂、（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリビニルエ
ーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例えば、ロジ
ン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、エステル
ロジン、ポリテルペン系樹脂、テルペン変性体、石油系
樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノール系樹脂、
クマロン−インデン系樹脂を適宜添加したもの、さらに
必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加した
ものが挙げられる。

【０１２９】電離放射線硬化型樹脂に対する粘着性を有
する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂が１００
重量部に対して、５０重量部以下とすることが、塗膜を
指触乾燥状態とする目的のためには好ましい。

【０１３０】本発明の光学機能性フィルムの下面には、
粘着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルム
は反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して
用いることができる。

【０１３１】偏光板及び液晶表示装置：本発明の光学機
能性フィルムは、偏光素子にラミネートすることによっ
て、反射防止性の改善された偏光板とすることができ
る。この偏光素子には、よう素又は染料により染色し、
延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニ
ルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィル
ム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等
を用いることができる。このラミネート処理にあたって
接着性を増すため及び静電防止のために、光学機能性フ
ィルムの基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロー
スフィルムである場合には、トリアセチルセルロースフ
ィルムにケン化処理を行う。このケン化処理はトリアセ
チルセルロースフィルムにハードコートを施す前または
後のどちらでもよい。

【０１３２】図１２に本発明の光学機能性フィルムが使
用された偏光板の一例を示す。図中１４は反射防止性を
有する本発明の光学機能性フィルムであり、該光学機能
性フィルム１４が偏光素子１１上にラミネートされてお
り、一方、偏光素子１１の他面にはトリアセチルセルロ
ースフィルム（略：ＴＡＣフィルム）１２がラミネート
されている。また偏光素子１１の両面に本発明の光学機
能性フィルム１４がラミネートされてもよい。

【０１３３】図１３に本発明の光学機能性フィルムが使
用された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１３
上に、図１２に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム／
偏光素子／光学機能性フィルムからなる層構成の偏光板
がラミネートされており、また液晶表示素子１３の他方
の面には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣフィルム
からなる層構成の偏光板がラミネートされている。な
お、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光
板との間に、位相差板が挿入される。

【０１３４】

【実施例】

〔実施例１〕離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光
製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上
に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３０
０：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率
１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三
菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を
膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。

【０１３５】一方、トリアセチルセルロースフィルム上
に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商
品名、大日精化工業製）を膜厚５μ／ｄｒｙになるよう
に塗工し、このフィルムの樹脂面を上記超微粒子面とラ
ミネートし、得られたラミネートフィルムに対して電子
線を２Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。上
記ラミネートフィルムから離型フィルムを剥離し、この
剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹
脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）〔即ち、フッ化ビ
ニリデン６０重量部、ヘキサフルオロプロピレン２０重
量部、テトラフルオロエチレン２０重量部からなるフッ
素含有共重合体６０重量部に、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート４０重量部を混合してなる電離放射
線硬化型フッ素系樹脂組成物〕を膜厚１００ｎｍ／ｄｒ
ｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、
下層の樹脂を含め樹脂層をフルキュアーした。

【０１３６】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射
率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１３７】〔実施例２〕離型フィルム（ＭＣ−１９：
商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ
素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１０
０ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を１Ｍｒａ
ｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。

【０１３８】この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超
微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹
脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４
５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙに
なるように塗工した。

【０１３９】上記の方法で形成された超微粒子膜上に屈
折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品
名、大日精化工業製）を膜厚３μ／ｄｒｙになるように
塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射し、下層の樹脂を含め
全樹脂層をフルキュアーした。この硬化樹脂層上に接着
剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％
添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．
４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８
０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネー
トし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルム
を剥離した。

【０１４０】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射
率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１４１】〔実施例３〕離型フィルム（ＭＣ−１９：
商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液
（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎ
ｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５
Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で
配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工
した。

【０１４２】上記超微粒子膜上に屈折率１．５０の電離
放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）
を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍ
ｒａｄ照射し、樹脂層をハーフキュアーした。

【０１４３】この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品
名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙ
になるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセ
ルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィ
ルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間
エージングした後、離型フィルムを剥離した。

【０１４４】この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線
硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）
を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線
を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め樹脂層をフル
キュアーした。

【０１４５】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射
率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１４６】〔実施例４〕屈折率１．４９のトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士
フィルム製、膜厚８０μ）上に屈折率１．９０のＺｎＯ
超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹
脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：
１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚４μ
／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射
し、樹脂をハーフキュアーした。

【０１４７】この樹脂層上に屈折率１．４３の電離放射
線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム
製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電
子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め全樹脂層
をフルキュアーした。

【０１４８】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射
率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１４９】〔実施例５〕屈折率１．４９のトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士
フィルム製、膜厚８０μ）上に、屈折率１．９０のＺｎ
Ｏ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメン
ト製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型
樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で
２：１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚
４μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ
照射し、樹脂を完全硬化した。

【０１５０】この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品
名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙ
になるように塗工し、トリアセチルセルロースフィルム
（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０
μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした
後、離型フィルムを剥離した。この剥離面に屈折率１．
４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、
日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるよう
に塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、樹脂層を硬化
した。

【０１５１】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射
率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１５２】〔実施例６〕離型フィルム（ＭＣ−１９：
商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている）上に屈折率の１．９０ＺｎＯ超微粒子分散液
（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎ
ｍ）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電
子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂をハーフキュアーした。

【０１５３】この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超
微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹
脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：
１の割合で混合した屈折率１．６５の樹脂を膜厚３μ／
ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射し
て樹脂を完全に硬化した。

【０１５４】この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品
名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙ
になるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセ
ルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィ
ルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間
エージングした後、離型フィルムを剥離した。

【０１５５】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射
率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１５６】〔実施例７〕離型フィルム（ＭＣ−１９：
商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ
素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１０
０ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａ
ｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。

【０１５７】この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超
微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹
脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４
５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙに
なるように塗工する。

【０１５８】この超微粒子層上に屈折率１．９０のＺｎ
Ｏ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメン
ト製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型
樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で
２：１の割合で混合した屈折率１．６５の樹脂を膜厚３
μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照
射して樹脂を完全に硬化した。

【０１５９】この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品
名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙ
になるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセ
ルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィ
ルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間
エージングした後、離型フィルムを剥離した。

【０１６０】このようにして得られた反射防止フィルム
の全光線透過率は９５．８％であり、５５０ｎｍの反射
率は０．１％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチ
ールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビング
しても傷つかなかった。また、密着性試験については、
１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所
を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。

【０１６１】

【発明の効果】本発明の光学機能性フィルムに用いられ
る低屈折率層用の樹脂組成物は、十分に低い屈折率であ
り、溶剤溶解性で十分な薄膜とすることができ、形成さ
れる薄膜は耐擦傷性を持つので、本発明により得られる
光学機能性フィルムは反射防止性に優れ、耐擦傷性に優
れており、しかも本発明の光学機能性フィルムは塗装に
より形成することができるので、その製造は簡単な方法
で行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの断面
図である。

【図２】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの断面
図である。

【図３】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの断面
図である。

【図４】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、一
番目の製造方法を示すフロー図である。

【図５】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、二
番目の製造方法のフロー図である。

【図６】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、四
番目の製造方法のフロー図である。

【図７】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、一
番目の製造方法のフロー図である。

【図８】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、二
番目の製造方法のフロー図である。

【図９】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、三
番目の製造方法のフロー図である。

【図１０】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、
四番目の製造方法のフロー図である。

【図１１】本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、
五番目の製造方法のフロー図である。

【図１２】本発明の光学機能性フィルムが使用された偏
光板の一例を示す。

【図１３】本発明の光学機能性フィルムが使用された液
晶表示装置の一例を示す。

【符号の説明】

１ 透明基材フィルム ２ 他の層 ３，１０ 低屈折率層 ４ 微粒子層 ５ 工程紙 ６ 接着剤層 ７ 微粒子 ８ ＴＡＣフィルム ９ 高屈折率ハードコート層 １１ 偏光素子 １２ ＴＡＣフィルム １３ 液晶表示素子 １４ 光学機能性フィルム

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）透明基材フィルム上に、 （２）１層以上からなる他の層を介して、 （３）フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフ
   ルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組
   成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重
   量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレ
   ン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部
   からなる樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄
   膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未
   満の低屈折率層が形成されており、 （４）前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する
   層は、前記低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を有す
   ることを特徴とする光学機能性フィルム。
2. 【請求項２】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、主として熱硬化性樹脂及び／又は電離放
   射線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求項１記載
   の光学機能性フィルム。
3. 【請求項３】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈
   折率を有することを特徴とする請求項１又は２記載の光
   学機能性フィルム。
4. 【請求項４】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、微粒子及びバインダー樹脂を含み、該層
   の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする請求項
   １、２又は３記載の光学機能性フィルム。
5. 【請求項５】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内
   部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固
   定されていることを特徴とする請求項１、２、３又は４
   記載の光学機能性フィルム。
6. 【請求項６】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内
   部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固
   定されており、且つ前記微粒子が存在していない部分の
   他の層の屈折率は、１．６０未満であることを特徴とす
   る請求項５記載の光学機能性フィルム。
7. 【請求項７】 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直
   接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内
   部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固
   定されており、且つ前記微粒子が存在していない部分の
   他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高
   い屈折率であることを特徴とする請求項５又は６記載の
   光学機能性フィルム。
8. 【請求項８】 前記低屈折率層との界面から他の層の内
   部にかけて極在化して固定されている屈折率１．６０以
   上の微粒子は、その光学膜厚が、λ／４又はλ／２（４
   ５０ｎｍ＜λ＜６００ｎｍ）の微粒子層を形成している
   ことを特徴とする請求項５、６又は７記載の光学機能性
   フィルム。
9. 【請求項９】 前記他の層のうちの一つの層が、透明基
   材フィルムと接する接着剤層であることを特徴とする請
   求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学機能
   性フィルム。
10. 【請求項１０】 前記光学機能性フィルムの光学機能が
    反射防止能であることを特徴とする請求項１、２、３、
    ４、５、６、７、８又は９記載の光学機能性フィルム。
11. 【請求項１１】 前記光学機能性フィルムの最表面に微
    細な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１、
    ２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学機
    能性フィルム。
12. 【請求項１２】 （１）透明基材フィルム上に、直接又
    は他の層を介して、 （２）樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機
    能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する
    層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成
    物を塗工して塗膜を形成し、 （３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処
    理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアー
    し、 （４）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされた
    塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキ
    サフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマ
    ー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７
    ０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エ
    チレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重
    量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を
    乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折
    率１．６０未満の塗膜を形成し、 （５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフ
    ルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルム
    の製造方法。
13. 【請求項１３】 （１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折
    率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成に
    おける該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層
    の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成
    し、 （２）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電
    離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフル
    キュアーさせ、 （３）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた
    塗膜上又は透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層
    を形成し、 （４）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側
    にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、
    該工程紙を剥離し、 （５）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュ
    アー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデ
    ン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜
    ５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてな
    るフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有
    共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する
    重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の
    溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ
    以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形
    成し、 （６）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフ
    ルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルム
    の製造方法。
14. 【請求項１４】 （１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折
    率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成に
    おける該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層
    の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成
    し、 （２）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙上
    の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミ
    ネートし、 （３）得られたラミネート物をハーフキュアー又はフル
    キュアーさせた後、前記工程紙を剥離し、 （４）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュ
    アー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデ
    ン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜
    ５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてな
    るフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有
    共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する
    重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の
    溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ
    以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形
    成し、 （５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフ
    ルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルム
    の製造方法。
15. 【請求項１５】 （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン
    ３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５
    ０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなる
    フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共
    重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重
    合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶
    剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以
    下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成
    し、 （２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加
    熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフル
    キュアー又はハーフキュアーさせ、 （３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が、最終
    製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹
    脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よ
    りも高い、樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、 （４）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電
    離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜の硬化も含めフ
    ルキュアーさせ、 （５）フルキュアーされた工程紙上に形成された塗膜
    上、又は別に用意した透明基材フィルム上の何れか一方
    に接着剤層を形成し、 （６）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側
    にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、
    工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルム
    の製造方法。
16. 【請求項１６】 （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン
    ３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５
    ０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなる
    フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共
    重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重
    合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶
    剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以
    下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成
    し、 （２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加
    熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフル
    キュアー又はハーフキュアーさせ、 （３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が最終製
    品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂
    組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率より
    も高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、 （４）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と
    前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラ
    ミネートし、 （５）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／
    又は電離放射線処理を行って他の塗膜を含めてフルキュ
    アーさせた後、工程紙を剥離することを特徴とする光学
    機能性フィルムの製造方法。
17. 【請求項１７】 前記樹脂組成物の屈折率が最終製品と
    しての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成
    物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高
    い樹脂組成物は、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の
    屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含
    む樹脂組成物であることを特徴とする請求項１２、１
    ３、１４、１５又は１６記載の光学機能性フィルムの製
    造方法。
18. 【請求項１８】 （１）工程紙上に、溶剤で希釈した低
    屈折率樹脂組成物を用いて塗布し、溶剤を乾燥させて膜
    厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未
    満の低屈折率層を形成し、 （２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
    屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
    ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、 （３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の
    微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜
    ６００ｎｍ）となるように形成し、 （４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を
    形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、
    この塗膜を他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、 （５）得られた工程紙に形成されたフルキュアーされた
    樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透
    明基材フィルムに接着剤層を形成して、 （６）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基
    材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にして
    ラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする
    光学機能性フィルムの製造方法。
19. 【請求項１９】 （１）工程紙上に、溶剤で希釈した低
    屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２０
    ０ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低
    屈折率層を形成し、 （２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
    屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
    ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、 （３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の
    微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜
    ６００ｎｍ）となるように形成し、 （４）一方、透明基材フィルム上に樹脂を主体とする塗
    膜を形成し、 （５）前記工程紙上に形成された低屈折率層及び微粒子
    層と、前記透明基材フィルム上の樹脂層が接するように
    工程紙と透明基材フィルム両者を圧着してラミネートす
    ることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は
    微粒子層の一部を埋没させ、 （６）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフル
    キュアーし、次いで工程紙を剥離して低屈折率層及び高
    屈折率微粒子層を転写することを特徴とする光学機能性
    フィルムの製造方法。
20. 【請求項２０】 （１）工程紙上に、溶剤で希釈した低
    屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２０
    ０ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低
    屈折率層を形成し、 （２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低
    屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って
    ハーフキュアー又はフルキュアーさせ、 （３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の
    微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜
    ６００ｎｍ）となるように形成し、 （４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を
    形成し、 （５）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前
    記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内
    側にしてラミネートし、 （６）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／
    又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフ
    ルキュアーし、次いで工程紙を剥離することを特徴とす
    る光学機能性フィルムの製造方法。
21. 【請求項２１】 前記低屈折率樹脂組成物は、フッ化ビ
    ニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレ
    ン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合さ
    れてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ
    素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を
    有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組
    成物であることを特徴とする請求項１８、１９又は２０
    記載の光学機能性フィルムの製造方法。
22. 【請求項２２】 （１）工程紙上に、屈折率１．６０以
    上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜
    λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、 （２）一方、透明基材フィルム上に、樹脂を主体とする
    塗膜を形成し、 （３）前記工程紙上に形成された上記微粒子層と、前記
    透明基材フィルム上に形成された樹脂層が接するように
    前記工程紙と前記透明基材フィルムを圧着してラミネー
    トすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか
    又は微粒子層の一部を埋没させ、 （４）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行ってこの塗膜をフルキュアー又は
    ハーフキュアーし、 （５）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされた
    ラミネート物から工程紙を剥離して微粒子層を透明基材
    フィルムに転写し、 （６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０
    重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を
    含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有
    割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１０
    ０重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物
    ３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を
    塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で
    あって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、 （７）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又
    は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフ
    ルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルム
    の製造方法。
23. 【請求項２３】 （１）工程紙上に、屈折率１．６０以
    上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜
    λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、 （２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上
    に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上と
    なるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没さ
    せるか又は微粒子層の一部を埋没させ、 （３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処
    理を行って、ハーフキュアー又はフルキュアーし、 （４）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた
    塗膜上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明
    基材フィルムに接着剤層を形成し、 （５）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基
    材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にして
    ラミネートした後、該工程紙を剥離して樹脂層及び微粒
    子層を透明基材フィルムに転写し、 （６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０
    重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を
    含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有
    割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１０
    ０重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物
    ３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を
    塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で
    且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、加熱処理及び
    ／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含め
    てフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィ
    ルムの製造方法。
24. 【請求項２４】 （１）工程紙上に、屈折率１．６０以
    上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜
    λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、 （２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上
    に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上と
    なるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没さ
    せるか又は微粒子層の一部を埋没させ、 （３）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前
    記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミ
    ネートし、 （４）前記ラミネート物に対して加熱処理及び／又は電
    離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフル
    キュアーした後、工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層
    を透明基材フィルム上に転写し、 （５）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０
    重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を
    含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有
    割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１０
    ０重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物
    ３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を
    塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で
    且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、加熱処理及び
    ／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含め
    てフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィ
    ルムの製造方法。
25. 【請求項２５】 前記、樹脂を主体とする塗膜は、バイ
    ンダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折
    率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であっ
    て、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学
    機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用す
    る層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成
    物からなるものであることを特徴とする請求項１８、１
    ９、２０、２１、２２、２３又は２４記載の光学機能性
    フィルムの製造方法。