JPH089629Y2 - 遮光装置 - Google Patents
遮光装置Info
- Publication number
- JPH089629Y2 JPH089629Y2 JP1989135654U JP13565489U JPH089629Y2 JP H089629 Y2 JPH089629 Y2 JP H089629Y2 JP 1989135654 U JP1989135654 U JP 1989135654U JP 13565489 U JP13565489 U JP 13565489U JP H089629 Y2 JPH089629 Y2 JP H089629Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- shielding
- blade
- blades
- adjusting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は遮光装置、特に光ビームの中心部分を遮光す
る装置の改良に関する。
る装置の改良に関する。
[従来の技術] 近年、光検出技術、分光技術の急速な発展に伴い、各
種分野で光を利用した分析機器が開発されている。
種分野で光を利用した分析機器が開発されている。
第3図にはこのような光を利用した分析装置の一例と
して、自動細胞分離・分析装置の構成が示されている。
して、自動細胞分離・分析装置の構成が示されている。
同図に示す装置は、送出器10より水、シース、サンプ
ルを送出し、ジェットノズル12より層流のシースフロー
と、その中央部にサンプルフローを作り流出させる。
ルを送出し、ジェットノズル12より層流のシースフロー
と、その中央部にサンプルフローを作り流出させる。
この流れにレーザ光発生器14より出射したレーザ光を
照射すると、細胞はレーザ光の照射位置を正確に、かつ
高速に通過する。
照射すると、細胞はレーザ光の照射位置を正確に、かつ
高速に通過する。
この時細胞が発する散乱光と蛍光を測定することで、
細胞個々の諸特性が迅速に分析される。
細胞個々の諸特性が迅速に分析される。
一方、ノズルアセンブリを超音波によって振動させ、
前記ジェットフローを液滴化させる。この液滴中に目的
の細胞が含まれる場合、液滴に対し正または負の電荷を
与える。電極16a,16bには電圧が印加されており電場が
形成されている。前述した帯電液滴は、電場を通過する
際偏向され、これを分離・捕集することで、ある特定の
目的細胞集団の分離を可能とすることができる。
前記ジェットフローを液滴化させる。この液滴中に目的
の細胞が含まれる場合、液滴に対し正または負の電荷を
与える。電極16a,16bには電圧が印加されており電場が
形成されている。前述した帯電液滴は、電場を通過する
際偏向され、これを分離・捕集することで、ある特定の
目的細胞集団の分離を可能とすることができる。
ところで、前述したレーザ光の照射による散乱光ある
いは蛍光は光学系18,20,22,24,26で分光分析される。そ
の結果はコンピュータ28に送られ、所望のデータ処理が
行なわれている。
いは蛍光は光学系18,20,22,24,26で分光分析される。そ
の結果はコンピュータ28に送られ、所望のデータ処理が
行なわれている。
しかし、前記光学系で測定される光は全てが対象では
なく、例えば前方散乱光や側方散乱光が測定の対象とな
る場合がある。このような場合には光ビームの中心部分
を除外しビーム周縁部分の光のみを抽出する必要があ
る。
なく、例えば前方散乱光や側方散乱光が測定の対象とな
る場合がある。このような場合には光ビームの中心部分
を除外しビーム周縁部分の光のみを抽出する必要があ
る。
従来においては、このようなビーム周縁部分のみを抽
出する為、第4図に示すような遮光装置が用いられてい
た。
出する為、第4図に示すような遮光装置が用いられてい
た。
同図に示す遮光装置は、ハウジング32と、該ハウジン
グ32の開口32aの略中央部に配置された遮光板34よりな
る。
グ32の開口32aの略中央部に配置された遮光板34よりな
る。
そして、開口32aより入射した光ビーム36は、遮光板3
4によりその中心部が遮光され、図中上下(周縁)の光
はそのまま通過する。
4によりその中心部が遮光され、図中上下(周縁)の光
はそのまま通過する。
[考案が解決しようとする課題] ところで、遮光装置による遮光範囲はその測定対象等
により変更する必要がある。
により変更する必要がある。
しかしながら、従来の遮光装置ではその遮光範囲の調
整をおこなうためには遮光板34の付替を行なわなければ
ならず、作業が煩雑であるという課題を有していた。
整をおこなうためには遮光板34の付替を行なわなければ
ならず、作業が煩雑であるという課題を有していた。
特に遮光板34は光ビーム36の中心に位置させなければ
ならないため、遮光板34の付替に当たっては極めて微妙
な調整を行なわざるを得ず、より簡易に遮光範囲の調整
を行なうことのできる遮光装置の開発が強く要望されて
いた。
ならないため、遮光板34の付替に当たっては極めて微妙
な調整を行なわざるを得ず、より簡易に遮光範囲の調整
を行なうことのできる遮光装置の開発が強く要望されて
いた。
本考案は前記従来技術の課題に鑑みなされたものであ
り、その目的は機械が簡単で、しかも確実にビーム中心
部分の遮光範囲の調整をおこなうことのできる遮光装置
を提供することにある。
り、その目的は機械が簡単で、しかも確実にビーム中心
部分の遮光範囲の調整をおこなうことのできる遮光装置
を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成する為に本考案に係る遮光装置は、該
遮光装置を外部装置へ固定装着するための固定部を備え
た基部と、それぞれが互いに平行となる位置に並設さ
れ、かつ光ビームと対向する位置に設けられた複数の板
状部材よりなる遮光羽根と、前記各遮光羽根を保持する
複数の保持部と、一端にツマミを有し、他端に前記保持
部が螺合された複数の調整ネジからなる羽根調整部と、
を含む。
遮光装置を外部装置へ固定装着するための固定部を備え
た基部と、それぞれが互いに平行となる位置に並設さ
れ、かつ光ビームと対向する位置に設けられた複数の板
状部材よりなる遮光羽根と、前記各遮光羽根を保持する
複数の保持部と、一端にツマミを有し、他端に前記保持
部が螺合された複数の調整ネジからなる羽根調整部と、
を含む。
そして、前記遮光装置は前記羽根調整部のツマミを回
転させることにより調整ネジと保持部の相対螺合位置を
変更し、前記遮光羽根を相対平行方向移動させることに
よって、光ビーム中心部分を遮光し、かつ遮光範囲の調
整を行うことを特徴とする。
転させることにより調整ネジと保持部の相対螺合位置を
変更し、前記遮光羽根を相対平行方向移動させることに
よって、光ビーム中心部分を遮光し、かつ遮光範囲の調
整を行うことを特徴とする。
[作用] 本考案にかかる遮光装置は前述した手段を有するの
で、光ビームの中心は複数の遮光羽根によって遮光さ
れ、周縁部分の光ビームはそのまま通過させることがで
きる。
で、光ビームの中心は複数の遮光羽根によって遮光さ
れ、周縁部分の光ビームはそのまま通過させることがで
きる。
また、羽根調整部により複数の遮光羽根を相対移動さ
せ、該遮光羽根の重なり部分の面積を調整することによ
って、光ビームの遮光範囲を簡単な操作で変化させ、所
望の光線だけを得ることが可能である。さらに、遮光羽
根の移動可能範囲内において、複数の遮光羽根を同時に
移動させることによって、遮光位置を自在に決定でき
る。従って、光ビーム自体の位置に合わせて、遮光装置
全体の位置を変えることなく、羽根調整部に備えられた
ツマミを回転させるのみで、遮光羽根の絶対位置を調整
することが可能である。
せ、該遮光羽根の重なり部分の面積を調整することによ
って、光ビームの遮光範囲を簡単な操作で変化させ、所
望の光線だけを得ることが可能である。さらに、遮光羽
根の移動可能範囲内において、複数の遮光羽根を同時に
移動させることによって、遮光位置を自在に決定でき
る。従って、光ビーム自体の位置に合わせて、遮光装置
全体の位置を変えることなく、羽根調整部に備えられた
ツマミを回転させるのみで、遮光羽根の絶対位置を調整
することが可能である。
[実施例] 以下、図面に基づき本考案の好適な実施例を説明す
る。
る。
第1図には本考案の一実施例にかかる遮光装置の概観
斜視図が示されている。
斜視図が示されている。
同図に示す遮光装置100は、並列配置された2枚の遮
光羽根102,104と、前記遮光羽根102,104の上下位置を調
整可能な羽根調整部106,108と、装置100を外部装置へ固
定装着するための固定部110a,110bとを備える。
光羽根102,104と、前記遮光羽根102,104の上下位置を調
整可能な羽根調整部106,108と、装置100を外部装置へ固
定装着するための固定部110a,110bとを備える。
前記羽根調整部106,108は、前記羽根102,104をネジ結
合により保持する保持部112,114と、該保持部112,114に
螺合した調整ネジ116,118と、を含む。そして、前記保
持部112,114は基部120に上下移動可能かつ回転不能に支
持されている。また、調整ネジ116,118は基部120に回転
可能かつ上下移動不能に支持されている。
合により保持する保持部112,114と、該保持部112,114に
螺合した調整ネジ116,118と、を含む。そして、前記保
持部112,114は基部120に上下移動可能かつ回転不能に支
持されている。また、調整ネジ116,118は基部120に回転
可能かつ上下移動不能に支持されている。
従って、羽根調整部106,108に設けられたネジ116,118
のツマミ116a,118aを回転させることにより、保持部11
2,114と基部120の相対的上下位置が変更され、これに伴
い遮光羽根102,104の上下移動が可能となる。
のツマミ116a,118aを回転させることにより、保持部11
2,114と基部120の相対的上下位置が変更され、これに伴
い遮光羽根102,104の上下移動が可能となる。
そして、遮光羽根102および104の上下位置をそれぞれ
変えると、羽根先端部102a,104aの重なり部分の面積が
調整され、光ビーム122の遮光範囲を変更することが可
能となる。
変えると、羽根先端部102a,104aの重なり部分の面積が
調整され、光ビーム122の遮光範囲を変更することが可
能となる。
以下、本実施例装置を使用した場合の光ビームと遮光
範囲を第2図を参照しながら説明する。
範囲を第2図を参照しながら説明する。
同図(A)は、遮光羽根102,104の上下位置を一致さ
せた例を示す。
せた例を示す。
この場合、遮光羽根102,104の羽根先端部102a,104aは
完全に重なっており、光ビーム122が遮光される範囲は
羽根先端部102a(あるいは104a)の1枚分の幅W1であ
る。
完全に重なっており、光ビーム122が遮光される範囲は
羽根先端部102a(あるいは104a)の1枚分の幅W1であ
る。
よって、光ビーム122は、前記羽根先端部102a,104aの
幅W1分のみが遮光され、その周縁部分の光線はそのまま
通過する。
幅W1分のみが遮光され、その周縁部分の光線はそのまま
通過する。
次に、同図(B)に、ツマミ116aを回転させ、調整部
106により羽根先端部102aを遮光羽根約0.5枚分上昇させ
た状態を示す。
106により羽根先端部102aを遮光羽根約0.5枚分上昇させ
た状態を示す。
同図より明らかなように、この場合、遮光される範囲
は羽根先端部102a(あるいは104a)の約1.5枚分の幅W2
となる。
は羽根先端部102a(あるいは104a)の約1.5枚分の幅W2
となる。
よって、光ビーム122は、羽根先端部102a(あるいは1
04a)の約1.5枚分の幅W2の範囲で遮光され、幅W2の上下
部分の光線はそのまま通過する。
04a)の約1.5枚分の幅W2の範囲で遮光され、幅W2の上下
部分の光線はそのまま通過する。
また、ツマミ116aをさらに回転させ、羽根先端部102a
の下端と羽根先端部104aの上端を一致させた例を同図
(C)に示す。
の下端と羽根先端部104aの上端を一致させた例を同図
(C)に示す。
この状態では、両羽根先端部102a,104aは全く重複し
ておらず、得られる遮光範囲は、羽根先端部102aと104a
の合計幅、すなわち2枚分の幅W3であり、光ビーム122
は前記遮光羽根2枚分の幅W3の範囲で遮光され、より広
い遮光範囲を得ることができる。
ておらず、得られる遮光範囲は、羽根先端部102aと104a
の合計幅、すなわち2枚分の幅W3であり、光ビーム122
は前記遮光羽根2枚分の幅W3の範囲で遮光され、より広
い遮光範囲を得ることができる。
以上説明したたように、本実施例装置によれば、羽根
調整部106,108により遮光羽根102,104の上下位置を移動
させ、最小、羽根先端部1枚分、最大、羽根先端部2枚
分の範囲内で所望の遮光面積を得ることができる。
調整部106,108により遮光羽根102,104の上下位置を移動
させ、最小、羽根先端部1枚分、最大、羽根先端部2枚
分の範囲内で所望の遮光面積を得ることができる。
なお、前述した実施例においては、遮光羽根102の上
下位置を移動させることにより遮光範囲を決定したが、
もちろん他方の遮光羽根104を上下移動させることも可
能である。
下位置を移動させることにより遮光範囲を決定したが、
もちろん他方の遮光羽根104を上下移動させることも可
能である。
また、遮光羽根102,104の双方の上下位置を移動させ
ることにより、遮光範囲の微調整が可能となる。
ることにより、遮光範囲の微調整が可能となる。
さらに、遮光羽根102,104は、その上下移動可能範囲
内において上下位置を自在に決定できる。従って、光ビ
ーム122自体の位置に合わせて、遮光装置100全体の位置
を変えることなく、ツマミ116a、118aを回転させるのみ
で、遮光羽根102,104の上下方向の絶対位置をも調整す
ることができる。
内において上下位置を自在に決定できる。従って、光ビ
ーム122自体の位置に合わせて、遮光装置100全体の位置
を変えることなく、ツマミ116a、118aを回転させるのみ
で、遮光羽根102,104の上下方向の絶対位置をも調整す
ることができる。
なお、本実施例では遮光羽根を2枚としたが、より広
い遮光範囲をカバーしたい場合は、3枚あるいはそれ以
上設けてもよい。
い遮光範囲をカバーしたい場合は、3枚あるいはそれ以
上設けてもよい。
[考案の効果] 以上説明したように本考案にかかる遮光装置によれ
ば、複数の遮光羽根により遮光を行なうこととしたの
で、遮光羽根の相対位置を調整し相互の重なり部分の面
積を変えることによって容易な遮光範囲の調整が可能で
あると共に、構造を極めて簡易とすることができる。さ
らに、複数の遮光羽根を移動可能範囲内において同時に
移動させることによって、光ビーム自体の位置に合わせ
た遮光羽根の絶対位置を調整することが可能であり、光
ビームの中心部分を確実に遮光することができる。
ば、複数の遮光羽根により遮光を行なうこととしたの
で、遮光羽根の相対位置を調整し相互の重なり部分の面
積を変えることによって容易な遮光範囲の調整が可能で
あると共に、構造を極めて簡易とすることができる。さ
らに、複数の遮光羽根を移動可能範囲内において同時に
移動させることによって、光ビーム自体の位置に合わせ
た遮光羽根の絶対位置を調整することが可能であり、光
ビームの中心部分を確実に遮光することができる。
第1図は、本考案の一実施例にかかる遮光装置の概観斜
視図、 第2図(A)〜(C)は、第1図に示した遮光装置の作
用を示す説明図、 第3図は、遮光装置が用いられる分析装置の一般的な説
明図、 第4図は従来の遮光装置の説明図である。 100……遮光装置、102,104……遮光羽根、106,108……
調整部。
視図、 第2図(A)〜(C)は、第1図に示した遮光装置の作
用を示す説明図、 第3図は、遮光装置が用いられる分析装置の一般的な説
明図、 第4図は従来の遮光装置の説明図である。 100……遮光装置、102,104……遮光羽根、106,108……
調整部。
Claims (1)
- 【請求項1】遮光装置を外部装置へ固定装着するための
固定部を備えた基部と、 それぞれが互いに平行となる位置に並設され、かつ光ビ
ームと対向する位置に設けられた複数の板状部材よりな
る遮光羽根と、 前記各遮光羽根を保持する複数の保持部と、 一端にツマミを有し、他端に前記保持部が螺合された複
数の調整ネジからなる羽根調整部と、 によって構成される遮光装置において、 前記羽根調整部のツマミを回転させることにより調整ネ
ジと保持部の相対螺合位置を変更し、前記遮光羽根を相
対平行方向移動させることによって、光ビーム中心部分
を遮光し、かつ遮光範囲の調整を行うことを特徴とする
遮光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989135654U JPH089629Y2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 遮光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989135654U JPH089629Y2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 遮光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0374347U JPH0374347U (ja) | 1991-07-25 |
| JPH089629Y2 true JPH089629Y2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=31682907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989135654U Expired - Lifetime JPH089629Y2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 遮光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089629Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0638064B2 (ja) * | 1985-01-19 | 1994-05-18 | キヤノン株式会社 | 粒子解析装置 |
| JPH01202642A (ja) * | 1988-02-09 | 1989-08-15 | Canon Inc | 測定装置 |
-
1989
- 1989-11-21 JP JP1989135654U patent/JPH089629Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0374347U (ja) | 1991-07-25 |
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