JPH0896738A - 自動焦点合わせ装置 - Google Patents
自動焦点合わせ装置Info
- Publication number
- JPH0896738A JPH0896738A JP6234761A JP23476194A JPH0896738A JP H0896738 A JPH0896738 A JP H0896738A JP 6234761 A JP6234761 A JP 6234761A JP 23476194 A JP23476194 A JP 23476194A JP H0896738 A JPH0896738 A JP H0896738A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current
- automatic focusing
- magnetic field
- height
- objective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【構成】試料高さを求めて、この高さに焦点が合うよう
に電磁レンズに励磁電流を設定する自動焦点合わせ装置
において、正焦点に励磁する対物電流を流す前に、磁場
が飽和する電流を正と負に流すことで、必ず一定の磁気
履歴を通す処理を行い、この処理をステージ移動中に行
う。また飽和電流の代わりに、システムが制御し得る最
大と最小の電流でも良い。また、高さ検出，電磁レンズ
の励磁電流設定をステージ停止直前に完了する。 【効果】自動焦点合わせ実行時、同一の履歴を持たすこ
とができるため、対物電流と磁場間に一対一関係が成立
し、高精度化が図れる。
に電磁レンズに励磁電流を設定する自動焦点合わせ装置
において、正焦点に励磁する対物電流を流す前に、磁場
が飽和する電流を正と負に流すことで、必ず一定の磁気
履歴を通す処理を行い、この処理をステージ移動中に行
う。また飽和電流の代わりに、システムが制御し得る最
大と最小の電流でも良い。また、高さ検出，電磁レンズ
の励磁電流設定をステージ停止直前に完了する。 【効果】自動焦点合わせ実行時、同一の履歴を持たすこ
とができるため、対物電流と磁場間に一対一関係が成立
し、高精度化が図れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は走査電子顕微鏡における
自動焦点合わせに関する。
自動焦点合わせに関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線測長装置と反射光の位置から試料
高さを求める高さ検出装置（以下Ｚセンサ）を用いた自
動焦点合わせ装置および従来の電子線測長装置の動作の
流れを説明する。
高さを求める高さ検出装置（以下Ｚセンサ）を用いた自
動焦点合わせ装置および従来の電子線測長装置の動作の
流れを説明する。
【０００３】図１において、観察試料４へは、図示して
いない電子銃から発生される電子線１が対物レンズ３に
よって細く集束され、照射される。２Ｘ，２Ｙは、電子
線１を試料上で走査するための偏向コイルである。試料
４から発生した二次電子７は検出器５によって検出さ
れ、増幅器６からの出力信号を偏向コイル２Ｘ，２Ｙと
同期させて輝度変調して、走査電子顕微鏡の像を得てい
る。ただし、以上のコイル，レンズは電磁レンズで構成
される。また、ステージ８は、ステージ制御装置１５に
より制御されるが、制御装置は外部記憶装置９に格納さ
れている、測定すべき点の座標が登録されているウェハ
情報ファイルより、測定点の座標データを受取り、しか
るべき測定点にウェハを移動することができる。このウ
ェハ情報ファイルは、ゲート作成あるいはコンタクトホ
ール作成プロセス等のウェハのプロセス毎、また、１Ｍ
メモリあるいは、４Ｍメモリウェハ等のウェハの種類毎
に登録しておき、測定するウェハに対応するファイルを
ウェハ毎に、測定時に操作者が外部記憶装置から呼び出
す。
いない電子銃から発生される電子線１が対物レンズ３に
よって細く集束され、照射される。２Ｘ，２Ｙは、電子
線１を試料上で走査するための偏向コイルである。試料
４から発生した二次電子７は検出器５によって検出さ
れ、増幅器６からの出力信号を偏向コイル２Ｘ，２Ｙと
同期させて輝度変調して、走査電子顕微鏡の像を得てい
る。ただし、以上のコイル，レンズは電磁レンズで構成
される。また、ステージ８は、ステージ制御装置１５に
より制御されるが、制御装置は外部記憶装置９に格納さ
れている、測定すべき点の座標が登録されているウェハ
情報ファイルより、測定点の座標データを受取り、しか
るべき測定点にウェハを移動することができる。このウ
ェハ情報ファイルは、ゲート作成あるいはコンタクトホ
ール作成プロセス等のウェハのプロセス毎、また、１Ｍ
メモリあるいは、４Ｍメモリウェハ等のウェハの種類毎
に登録しておき、測定するウェハに対応するファイルを
ウェハ毎に、測定時に操作者が外部記憶装置から呼び出
す。
【０００４】次に、以上のような構成の装置におけるＺ
センサを利用した自動焦点合わせ機構を述べる。
センサを利用した自動焦点合わせ機構を述べる。
【０００５】高さ検出装置は、発光ダイオードあるいは
レーザなどの光源１１から放出したプローブ光を、角度
θで試料４上に集光しこの反射光の重心位置を、ＰＳＤ
素子あるいは、ＣＣＤカメラなどの光位置検出器１２で
検出する。ＰＳＤ素子の場合、入射光の光強度の重心位
置を検出する。光学系の一例として、試料の前後に光学
レンズ１３，１４を配置した例を示す。この高さ検出装
置では、ウェハがあらかじめ設定した基準高さＷ０にあ
る時に光位置検出器に入射するプローブ光の位置ｗ０に
対して、試料高さがδＺWAF だけ変化すると、光位置検
出器に入射する光の位置がδＺOPT だけ変化する。そこ
で、試料の高さ変化量δＺWAF は、δＺopt を検出し、
レーザなどの光源１１から放出したプローブ光を、角度
θで試料４上に集光しこの反射光の重心位置を、ＰＳＤ
素子あるいは、ＣＣＤカメラなどの光位置検出器１２で
検出する。ＰＳＤ素子の場合、入射光の光強度の重心位
置を検出する。光学系の一例として、試料の前後に光学
レンズ１３，１４を配置した例を示す。この高さ検出装
置では、ウェハがあらかじめ設定した基準高さＷ０にあ
る時に光位置検出器に入射するプローブ光の位置ｗ０に
対して、試料高さがδＺWAF だけ変化すると、光位置検
出器に入射する光の位置がδＺOPT だけ変化する。そこ
で、試料の高さ変化量δＺWAF は、δＺopt を検出し、
【０００６】
【数１】 δＺWAF ＝δＺOPT ／(Ｍ×２sinθ） …（数１） により求めることができる。ただし、Ｍは光学系の倍率
を示す。
を示す。
【０００７】一方、走査電子顕微鏡の焦点合わせは、対
物レンズ制御装置１０により対物レンズ３に流す励磁電
流量を制御して、電子ビームの焦点高さを、対物レンズ
３を制御し観察試料面高さに合わせて行う。ウェハがδ
ＺWAF の高さにある時、電子顕微鏡の像の焦点をこれに
合わせると、電子ビームの焦点位置もδＺWAF になる
が、この電子ビームの焦点高さδＺWAF と、対応する対
物レンズの励磁電流値δＩとの関数を求めると、
物レンズ制御装置１０により対物レンズ３に流す励磁電
流量を制御して、電子ビームの焦点高さを、対物レンズ
３を制御し観察試料面高さに合わせて行う。ウェハがδ
ＺWAF の高さにある時、電子顕微鏡の像の焦点をこれに
合わせると、電子ビームの焦点位置もδＺWAF になる
が、この電子ビームの焦点高さδＺWAF と、対応する対
物レンズの励磁電流値δＩとの関数を求めると、
【０００８】
【数２】 δＩ＝ｆ(δＺWAF ） …（数２） 数１と数２の合成関数をｇとすれば、高さ検出装置から
の出力δＺOPT がわかれば、数３から対物レンズの励磁
電流値δＩが求められる。
の出力δＺOPT がわかれば、数３から対物レンズの励磁
電流値δＩが求められる。
【０００９】
【数３】 δＩ＝ｇ(δＺOPT ） …（数３） そこで、数３を装置調整時に求め、保存しておけば、自
動焦点合わせ実行時に、δＺopt を求め、対物電流δＩ
を算出し設定することで、処理が終了する。以上のＺセ
ンサによる自動焦点合わせ装置の制御も対物レンズ制御
部１０で行う。次に、以上のような構成の装置における
１枚の試料ウェハの従来の処理の流れを図２と以下に示
す。
動焦点合わせ実行時に、δＺopt を求め、対物電流δＩ
を算出し設定することで、処理が終了する。以上のＺセ
ンサによる自動焦点合わせ装置の制御も対物レンズ制御
部１０で行う。次に、以上のような構成の装置における
１枚の試料ウェハの従来の処理の流れを図２と以下に示
す。
【００１０】１．試料ウェハを試料室に搬入する。
【００１１】２．ウェハに対応するウェハ情報ファイル
をロードする。
をロードする。
【００１２】３．ウェハ情報ファイルに従いステージ座
標に対し原点補正，θ補正を行う ４．ウェハ情報に従い測定すべき座標点に移動する。
標に対し原点補正，θ補正を行う ４．ウェハ情報に従い測定すべき座標点に移動する。
【００１３】５．Ｚセンサによる自動焦点合わせを行
う。
う。
【００１４】（Ｚセンサにて高さ計測、数３にて対物電
流値を算出設定） ６．測定するパターンを見つけ測定倍率（例：５万倍以
上）に設定する。
流値を算出設定） ６．測定するパターンを見つけ測定倍率（例：５万倍以
上）に設定する。
【００１５】７．測定点の測長，観察を行う。
【００１６】８．他に測定点があれば、４．〜８．を行
う。
う。
【００１７】９．ウェハを試料室から搬出する。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している課題は、同一の対物電流値に対する磁場再現性
の改善と、ステージ停止後のＺセンサ動作開始から動作
後、像が安定するまでの時間短縮である。
している課題は、同一の対物電流値に対する磁場再現性
の改善と、ステージ停止後のＺセンサ動作開始から動作
後、像が安定するまでの時間短縮である。
【００１９】従来技術において、自動焦点合わせ精度
は、ウェハ高さ計測の精度と磁場再現性の精度に依存す
る。ここで、磁場再現性に関する問題として以下の点が
あげられた。
は、ウェハ高さ計測の精度と磁場再現性の精度に依存す
る。ここで、磁場再現性に関する問題として以下の点が
あげられた。
【００２０】１．ウェハ高さ計測が精度良く行われたと
しても磁場再現性が良くないと、装置調整時に得られた
ウェハ高さと正焦点時の対物電流との関係（数３）が成
り立たず良好な性能が得られない。
しても磁場再現性が良くないと、装置調整時に得られた
ウェハ高さと正焦点時の対物電流との関係（数３）が成
り立たず良好な性能が得られない。
【００２１】磁場再現性が悪くなる原因は、対物レンズ
に電磁石を応用した電磁レンズを用い、焦点合わせ時に
はこれに流れる励磁電流量を操作して、磁場制御するた
めに、磁気ヒステリシスが生じることである。
に電磁石を応用した電磁レンズを用い、焦点合わせ時に
はこれに流れる励磁電流量を操作して、磁場制御するた
めに、磁気ヒステリシスが生じることである。
【００２２】２．従来技術では、ウェハが測定点に停止
後、Ｚセンサにて高さ測定を行い、この結果から数３を
用いて設定すべき励磁電流値を算出，設定していたが、
本方法では自動焦点合わせ処理時間と，対物電流値設定
後、像が安定するまで、時間が数秒程度かかる。
後、Ｚセンサにて高さ測定を行い、この結果から数３を
用いて設定すべき励磁電流値を算出，設定していたが、
本方法では自動焦点合わせ処理時間と，対物電流値設定
後、像が安定するまで、時間が数秒程度かかる。
【００２３】ことが問題であった。これは自動焦点合わ
せ単体では短時間であるが、システムとして考えれば測
定点数だけ行う機能であり、処理時間の短縮を図ろうと
した場合には、大きな要素となり短縮化が強く望まれて
いることである。
せ単体では短時間であるが、システムとして考えれば測
定点数だけ行う機能であり、処理時間の短縮を図ろうと
した場合には、大きな要素となり短縮化が強く望まれて
いることである。
【００２４】
【課題を解決するための手段】以上の、第１の問題点に
おいて、磁気ヒステリシスを除去するための方法として
とられた本発明は １．Ｚセンサの検出高さから算出された対物電流の設定
前に、対物レンズの磁場が飽和する励磁電流を正，負の
方向に流し、決まった磁気履歴をつくることを特徴とす
るものである。
おいて、磁気ヒステリシスを除去するための方法として
とられた本発明は １．Ｚセンサの検出高さから算出された対物電流の設定
前に、対物レンズの磁場が飽和する励磁電流を正，負の
方向に流し、決まった磁気履歴をつくることを特徴とす
るものである。
【００２５】２．Ｚセンサの高さ検出値から求めた対物
電流値を流す前に、必ず対物レンズに対して焦点合わせ
に用いられる対物電流の可動範囲の最大値を次に最小値
を流す処理を行うこと（あるいは最初に最小値，次に最
大値）で、決まった磁気履歴をつくることを特徴とする
ものである。
電流値を流す前に、必ず対物レンズに対して焦点合わせ
に用いられる対物電流の可動範囲の最大値を次に最小値
を流す処理を行うこと（あるいは最初に最小値，次に最
大値）で、決まった磁気履歴をつくることを特徴とする
ものである。
【００２６】また、第２の問題点においてＺセンサを用
いた自動焦点合わせ装置の実行時間短縮のためにとられ
た本発明は、ステージ移動中に決まった磁気履歴を形成
する上記１，２の処理を行い、ステージ停止直前に高さ
検出処理，対物電流設定まで完了し停止時には磁場が安
定な状態であり、安定した画像が得られることを特徴と
するものである。
いた自動焦点合わせ装置の実行時間短縮のためにとられ
た本発明は、ステージ移動中に決まった磁気履歴を形成
する上記１，２の処理を行い、ステージ停止直前に高さ
検出処理，対物電流設定まで完了し停止時には磁場が安
定な状態であり、安定した画像が得られることを特徴と
するものである。
【００２７】
【作用】試料高さを求めて、この高さに焦点が合うよう
に電磁レンズに励磁電流を設定する自動焦点合わせ装置
において、一定の履歴を通し磁場の再現性を良好にする
処理を行うことで、高精度化を図り、しかもこの処理を
ステージ移動中に行うことで、トータルでの処理時間を
短縮するものである。さらに、高さ検出，電磁レンズの
励磁電流設定をステージ停止直前に完了することで、処
理時間の短縮を図る。
に電磁レンズに励磁電流を設定する自動焦点合わせ装置
において、一定の履歴を通し磁場の再現性を良好にする
処理を行うことで、高精度化を図り、しかもこの処理を
ステージ移動中に行うことで、トータルでの処理時間を
短縮するものである。さらに、高さ検出，電磁レンズの
励磁電流設定をステージ停止直前に完了することで、処
理時間の短縮を図る。
【００２８】
【実施例】図３に、本発明の実施の手順例を示す。
【００２９】ウェハ情報ファイルに従い測定点にステー
ジを移動開始後、対物レンズの磁場が飽和する正の励磁
電流を設定する。励磁された磁場の安定後、磁場が飽和
する負の電流に設定する。この状態を図４に示す。
ジを移動開始後、対物レンズの磁場が飽和する正の励磁
電流を設定する。励磁された磁場の安定後、磁場が飽和
する負の電流に設定する。この状態を図４に示す。
【００３０】ただし、この方法の場合、 （１）励磁電流を設定した後に安定な磁場が得られるま
での時間がかかりすぎる。
での時間がかかりすぎる。
【００３１】（２）装置に磁石が飽和する励磁電流が流
せる容量を持たせなければならないという制限がある。
せる容量を持たせなければならないという制限がある。
【００３２】そこで、この制御を以下のように行っても
良い。すなわち、測定点にステージを移動開始後、対物
レンズの励磁電流をレンズの制御範囲の最大値に設定
し、励磁された磁場の安定後、レンズの制御範囲の最小
値を設定する方法である。この場合、飽和磁場が得られ
る電流を設定する場合の制限項目はいずれも良好にな
る。この状態を図５に示す。
良い。すなわち、測定点にステージを移動開始後、対物
レンズの励磁電流をレンズの制御範囲の最大値に設定
し、励磁された磁場の安定後、レンズの制御範囲の最小
値を設定する方法である。この場合、飽和磁場が得られ
る電流を設定する場合の制限項目はいずれも良好にな
る。この状態を図５に示す。
【００３３】また、いずれの場合でも電流を設定する順
番を逆にしてもかまわない。すなわち、負に設定した
後、正の電流を、あるいは最小値を設定した後最大値を
設定しても良い。ただし、この制御は、常に、同じ順に
行わなければならない。
番を逆にしてもかまわない。すなわち、負に設定した
後、正の電流を、あるいは最小値を設定した後最大値を
設定しても良い。ただし、この制御は、常に、同じ順に
行わなければならない。
【００３４】以上の制御後、ステージが目標点付近に到
達したかどうかを判断し、目標点付近であればＺセンサ
を起動し、高さ計測を行い、この結果から、数３によ
り、励磁電流値を求め設定する。Ｚセンサを起動する点
は、その点から目標点に移動するのに要する時間と、Ｚ
センサ起動から、電流値を設定し、得られる画像が安定
するのにかかる時間とがほぼ同じ程度になる点にあらか
じめ設定する。
達したかどうかを判断し、目標点付近であればＺセンサ
を起動し、高さ計測を行い、この結果から、数３によ
り、励磁電流値を求め設定する。Ｚセンサを起動する点
は、その点から目標点に移動するのに要する時間と、Ｚ
センサ起動から、電流値を設定し、得られる画像が安定
するのにかかる時間とがほぼ同じ程度になる点にあらか
じめ設定する。
【００３５】
【発明の効果】本発明は、粒子線装置の自動焦点合わせ
装置において、対物レンズに同一励磁電流を流して得ら
れる磁場の再現性の向上による自動焦点合わせ装置の高
精度化と処理時間の短縮化が図れる。
装置において、対物レンズに同一励磁電流を流して得ら
れる磁場の再現性の向上による自動焦点合わせ装置の高
精度化と処理時間の短縮化が図れる。
【００３６】本発明を採用することで、自動焦点合わせ
実行時、同一の履歴を持たすことができるため、対物電
流と磁場間に一対一関係が成立し、高精度化が図れる。
実行時、同一の履歴を持たすことができるため、対物電
流と磁場間に一対一関係が成立し、高精度化が図れる。
【００３７】また本発明のステージ移動中に履歴の同一
にする処理，高さ検出から自動焦点合わせまでをステー
ジ停止までに終了させる処理を行うことで従来の方法で
は、ステージが停止してから行っていたこれらの実行時
間を短縮できる。仮にこの実行時間に３秒要しており、
従来の装置で１枚のサンプル内５点の測長を行うのに３
分かかっていたとすれば、本発明により ３秒×５点＝１５秒，１５秒／３分×１００＝８.３
（％） となり、約８％の処理時間の短縮化が図れる。
にする処理，高さ検出から自動焦点合わせまでをステー
ジ停止までに終了させる処理を行うことで従来の方法で
は、ステージが停止してから行っていたこれらの実行時
間を短縮できる。仮にこの実行時間に３秒要しており、
従来の装置で１枚のサンプル内５点の測長を行うのに３
分かかっていたとすれば、本発明により ３秒×５点＝１５秒，１５秒／３分×１００＝８.３
（％） となり、約８％の処理時間の短縮化が図れる。
【図１】高さ検出装置を用いた自動焦点合わせ装置と走
査電子顕微鏡のブロック図。
査電子顕微鏡のブロック図。
【図２】従来の装置における１枚の試料ウェハの従来の
処理のフローチャート。
処理のフローチャート。
【図３】本発明による１枚の試料ウェハの処理のフロー
チャート。
チャート。
【図４】磁場が飽和するまで対物電流を流す場合の磁気
履歴特性図。
履歴特性図。
【図５】対物電流の可変範囲の最大，最小の電流を流す
場合の磁気履歴特性図。
場合の磁気履歴特性図。
１…電子線、２Ｘ，２Ｙ…Ｘ及びＹの偏向コイル、３…
対物レンズ、４…試料、５…検出器、６…増幅器、７…
二次電子、８…ステージ、９…外部記憶装置、１０…対
物レンズ制御装置、１１…光源、１２…光位置検出器、
１３，１４…光学レンズ、１５…ステージ制御装置。
対物レンズ、４…試料、５…検出器、６…増幅器、７…
二次電子、８…ステージ、９…外部記憶装置、１０…対
物レンズ制御装置、１１…光源、１２…光位置検出器、
１３，１４…光学レンズ、１５…ステージ制御装置。
Claims (4)
- 【請求項１】プローブ光を試料表面に照射し、反射光の
位置から試料高さを求める高さ検出装置を用いて検出し
た高さから、電磁コイルを用いた対物レンズに対してあ
らかじめ控えておいたテーブルあるいは近似式から適当
な励磁電流を求めて焦点合わせを行う自動焦点合わせ装
置において、適当な電流を設定する前に、必ず前記対物
レンズの磁場が飽和する電流を正側と負側に流す処理を
行うことで、同一電流値での磁場の再現性を良好にする
ことを特徴とする自動焦点合わせ装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記検出装置の高さ検
出値から求めた対物電流値を流す前に、必ず前記対物レ
ンズに対して焦点合わせに用いられる対物電流の可動範
囲の最大値と最小値を流す処理を行うことで、同一励磁
電流での磁場の再現性を良好にする自動焦点合わせ装
置。 - 【請求項３】請求項１において、この動作を試料が測定
点へ移動している最中に行い完了する自動焦点合わせ装
置。 - 【請求項４】請求項１または２において、高さ検出動作
を、試料が測定点付近まで移動した時に開始し、終了さ
せ、測定点に到達した時点で、対物電流に流す適切な励
磁電流値の計算と設定とを完了する自動焦点合わせ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23476194A JP3458481B2 (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 自動焦点合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23476194A JP3458481B2 (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 自動焦点合わせ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0896738A true JPH0896738A (ja) | 1996-04-12 |
| JP3458481B2 JP3458481B2 (ja) | 2003-10-20 |
Family
ID=16975947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23476194A Expired - Lifetime JP3458481B2 (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 自動焦点合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3458481B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6108079A (en) * | 1998-02-06 | 2000-08-22 | Hitachi, Ltd. | Method for measuring crystal defect and equipment using the same |
| JP2007073380A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型電子顕微鏡、及び走査型電子顕微鏡のフォーカス制御方法 |
| JP2008192521A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2845623B1 (en) * | 2011-02-17 | 2016-12-21 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam therapy system |
| JP7362927B2 (ja) | 2020-07-03 | 2023-10-17 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置における撮像条件調整方法 |
-
1994
- 1994-09-29 JP JP23476194A patent/JP3458481B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6108079A (en) * | 1998-02-06 | 2000-08-22 | Hitachi, Ltd. | Method for measuring crystal defect and equipment using the same |
| JP2007073380A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型電子顕微鏡、及び走査型電子顕微鏡のフォーカス制御方法 |
| JP2008192521A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
| US7847249B2 (en) | 2007-02-07 | 2010-12-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3458481B2 (ja) | 2003-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3109785B2 (ja) | 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置 | |
| US7705298B2 (en) | System and method to determine focus parameters during an electron beam inspection | |
| US10566172B2 (en) | Charged particle beam apparatus and method for adjusting imaging conditions for the same | |
| JP5134826B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH03152846A (ja) | 電子顕微鏡のオートフォーカス方法 | |
| JP2001052642A (ja) | 走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 | |
| JP3458481B2 (ja) | 自動焦点合わせ装置 | |
| JP3218466B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
| TW200912295A (en) | Charged particle beam inspection apparatus and method for inspecting charged particle beam | |
| JP2001076634A (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
| JPH0353439A (ja) | 電子光学鏡筒 | |
| JP7772377B2 (ja) | サンプル上に複数の荷電粒子ビームレットのアレイを投影するための装置及び方法 | |
| JP4106707B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡のヒステリシス補正方法、及び走査型電子顕微鏡 | |
| JPS589545B2 (ja) | デンシケンビキヨウニオケルタイブツレンズノ ヒテンシユウサホセイホウホウ | |
| JP3488075B2 (ja) | 薄膜試料作製方法及びシステム | |
| JP4974062B2 (ja) | 創薬スクリーニング方法 | |
| JP3678910B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2582151B2 (ja) | 電子ビーム中心軸自動調整装置 | |
| JPH0370340B2 (ja) | ||
| JP3114416B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法 | |
| JPH04522Y2 (ja) | ||
| JPH08306331A (ja) | 荷電粒子線照射装置 | |
| WO2026069678A1 (ja) | 荷電粒子線装置及びその試料位置情報算出方法、試料形状推定方法ならびに試料位置調整方法 | |
| JP2000340154A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPS61281446A (ja) | 自動焦点電子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100808 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100808 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |