JPH0896993A - パルス電流センサヘッド、パルス電流位置検出装置、およびパルス電流プロファイル計測装置 - Google Patents

パルス電流センサヘッド、パルス電流位置検出装置、およびパルス電流プロファイル計測装置

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JPH0896993A
JPH0896993A JP23108694A JP23108694A JPH0896993A JP H0896993 A JPH0896993 A JP H0896993A JP 23108694 A JP23108694 A JP 23108694A JP 23108694 A JP23108694 A JP 23108694A JP H0896993 A JPH0896993 A JP H0896993A
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Japan
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pulse current
sensor head
housing
current sensor
magnetic field
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Application number
JP23108694A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Kobayashi
利明 小林
Takahiro Furusawa
孝弘 古澤
Toru Ueda
徹 上田
Kenzo Miya
健三 宮
Mitsuru Kamisaka
充 上坂
Hitoshi Kobayashi
仁 小林
Seiichi Tagawa
精一 田川
Yoichi Yoshida
陽一 吉田
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PULSE DENSHI GIJUTSU KK
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PULSE DENSHI GIJUTSU KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 パルス電流の重心位置を非破壊で計測するだ
けでなく、パルス電流プロファイルを非破壊で計測でき
るようにする。 【構成】 空間を流れるパルス電流を通過させるハウジ
ング12を設ける。このハウジング12の内側には4個
のセンサ13を設け、互いに直交する2組のセンサ対を
構成する。センサ13は、パルス電流により生じる磁界
を通すチップ状またはワイヤ状の高透磁率素子14と、
高透磁率素子14に巻かれ磁界の変化に比例した電圧を
取り出すピックアップコイル15とで構成される。パル
ス電流からの距離に反比例する電圧をピックアップコイ
ル15から取り出すことができる。重心位置は4個のセ
ンサ電圧から求めることができ、電流プロファイルはハ
ウジング12を動かすことによって求めることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電流により生じた磁界
を検出することで加速器から発生したパルス電流を計測
するパルス電流センサヘッド、パルス電流位置検出装
置、およびパルス電流プロファイル計測装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、加速器から発生するパルス電流
(各種の荷電ビーム電流)をモニタするには、電流ない
し電流の位置を検出する電流センサと、パルス電流プロ
ファイル(濃度断面形状)を計測する電流プロファイル
計測装置とがある。
【0003】図9は、パルス電流ないしその位置を検出
する従来の電流センサヘッドを示す。このヘッドは、空
間(図示省略)を流れるパルス電流を通過させる円筒状
のハウジング1と、ハウジング1の中央に埋め込まれて
パルス電流を検出するセンサ2とから構成される。金属
製のハウジング1は、その両端に取付け用のフランジ
3、3をもち、中央の拡径部4の内径側にリング状のセ
ラミック5が埋め込まれ、ここで、戻り電流が拡径部4
の外径寄りを迂回するようになっている。
【0004】センサ2は、このリング状セラミック5の
外周に同心円上に配置されている。センサ2は、図10
に示すように、アモルファスのトロイダルコア7と、コ
ア7に巻回された4個のピックアップコイル8とから構
成される。ピックアップコイル8で検出された信号はコ
ネクタ6より外部に取り出される。
【0005】電流センサヘッドのハウジング1内にパル
ス電流が流れると、その回りに磁界が生じる。その磁界
はハウジング1に設けた高透磁率のトロイダルコア7を
通る。すると、その磁界の強度変化がトロイダルコア7
に巻回されたピックアップコイル8に拾われてピックア
ップコイル8から電圧が検出される。この検出電圧は、
ハウジング1内を流れるパルス電流に比例する。これは
トランスの原理と同じである。また、このトロイダルコ
ア7を用いた電流センサヘッドは、4つのピックアップ
コイル8から検出された電圧を演算処理することによ
り、空間内のパルス電流の重心位置を非破壊で計測する
ことができる。このヘッドの特徴は、アモルファスのコ
アを使ったことにより、高速応答性がよく、感度が高い
点にある。
【0006】一方、空間内を流れるパルス電流プロファ
イルを計測する従来のプロファイル計測装置は、図11
に示すように、パルス電流9が流れる流路中にアルミナ
スクリーン10を立て、そのスクリーン10に写った画
像を適当な傾斜角から光ファイバスコープやレンズ等を
用いて観察し、その像をカメラ11に取り込むものであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のパルス電流モニタには、次のような欠点があっ
た。
【0008】(1)パルス電流位置センサヘッドにあっ
ては、トロイダルコアがハウジングの全周を取り囲み、
しかもそのコアが高透磁率のアモルファスで構成されて
いるため、パルス電流により発生した磁界分布がトロイ
ダルコアの影響を受けて乱される。被測定系が乱される
ので、高精度なパルス電流、及びその位置測定ができな
い。また、アモルファスコアでハウジング全周を囲む必
要があるので、材料費が高くなる。
【0009】(2)プロファイル計測装置にあっては、
パルス電流をスクリーンに衝突させるため、スクリーン
を高強度のアルミナで構成しても損傷が大きく、頻繁に
スクリーンを交換しなければならない。また、パルス電
流の流路を遮断するビーム破壊方式であるため、加速器
の実運転中にリアルタイム測定ができない。また、スク
リーンを正面からではなく、適当な傾斜角から観測しな
ければならないため、正しいプロファイルの計測が困難
である。
【0010】本発明の目的は、上述した従来技術の欠点
を解消し、パルス電流またはその重心位置を高精度に計
測することができるパルス電流センサヘッド、およびパ
ルス電流位置測定装置を提供することにある。また、本
発明の目的は、パルス電流位置を測定できるだけでな
く、パルス電流プロファイルを非破壊で計測することが
できるパルス電流プロファイル計測装置を提供すること
にある。
【0011】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、空間を流
れるパルス電流を通過させるハウジングと、該ハウジン
グに少なくとも1個設けられ上記パルス電流により生じ
る磁界を通すチップ状またはワイヤ状の高透磁率素子
と、該高透磁率素子に巻かれ上記磁界の変化に比例した
電圧を取り出すピックアップコイルとを有するパルス電
流センサヘッドである。
【0012】第2発明は、空間を流れるパルス電流を通
過させるハウジングと、該ハウジングの周方向に沿って
90°間隔で4個設けられ上記パルス電流により生じる
磁界を通すチップ状またはワイヤ状の高透磁率素子と、
該高透磁率素子に巻かれ上記磁界の変化に比例した電圧
を取り出すピックアップコイルとを有するパルス電流セ
ンサヘッドと、該パルス電流センサヘッドのピックアッ
プコイルから検出される電圧(周方向に沿って順に
1 、V2 、V3 、V4 とする)から、次式 x=R(V1 −V3 )/(V1 +V3 ) y=R(V2 −V4 )/(V2 +V4 ) に基づいてパルス電流位置(x,y)を求める演算器と
を備えたパルス電流位置検出装置である。
【0013】また、第3の発明は、第1の発明のパルス
電流センサヘッドと、該パルス電流センサヘッドを周方
向に回転させるθステージおよび、径方向に移動させる
X−Y軸ステージと、これらθステージ、X−Y軸ステ
ージによって上記パルス電流センサヘッドを動かしたと
き、動かした各点における上記ピックアップコイルから
検出される電圧に基づいてパルス電流プロファイルを求
める演算器とを備えたパルス電流プロファイル計測装置
である。
【0014】
【作用】第1の発明においては、空間にパルス電流が流
れると、その電流によって生じた磁界が高透磁率素子を
通る。そして高透磁率素子に巻かれたピックアップによ
り、磁界の強度の変化に比例した電圧が出力され、この
電圧はパルス電流に比例する。したがって、ピックアッ
プ電圧に基づいて空間に流れるパルス電流値を求めるこ
とができる。また、いわばトロイダルコアを切片化した
チップないしワイヤを使用するので、使用材料が少なく
て済み、構造も簡素化できる。
【0015】第2の発明においては、高透磁率素子とピ
ックアップとからなる1個のセンサを合計4個、これら
をハウジングの周方向に沿って90°間隔で設けるよう
にしている。したがって、互いに直交する2組のセンサ
対が構成されることになる。そうすると、上式に基づき
2組のセンサ対からのセンサ電圧により、空間を流れる
X方向及びY方向のパルス電流の重心位置成分が分か
る。これより空間内の径方向におけるパルス電流の重心
位置が分かる。
【0016】第3の発明においては、パルス電流センサ
ヘッドをθ、X、Y方向に移動自在に設け、センサ自体
を動かせるようにしてある。このため空間内を通過する
パルス電流の位置は、少なくとも1個のセンサがあれば
足りる。ピックアップコイルの検出電圧はパルス電流か
らの距離に反比例する。したがって、θステージ、X−
Y軸ステージを用いてパルス電流センサヘッドを動かし
て得られた各点の出力電圧を信号処理、例えば最小二乗
法を用いて計算処理を行うと、パルス電流プロファイル
が計算できる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1は本
実施例によるパルス電流センサヘッドを示す。パルス電
流センサヘッドは、電子線加速器から発生したパルス電
流が流れる空間(図示省略)に設けられるハウジング1
2を有する。該ハウジング12は、図9に示した従来例
と同様な金属製の筒状体をしている。
【0018】このハウジング12の中央に絶縁体のセラ
ミックリングが埋め込まれ、その内側には、図示するよ
うに周方向に沿って90°間隔に4個のセンサ13が設
けられる。このセンサ13は、パルス電流により生じる
磁界を通すチップ状またはワイヤ状の高透磁率素子14
と、高透磁率素子14に巻かれ磁界の変化に比例した電
圧を取り出すピックアップコイル15とから構成され
る。高透磁率素子14は、高速応答性のよいアモルファ
ス磁性体で構成することが好ましく、高透磁率素子14
に巻かれるピックアップコイル15のターン数は1回な
いし数回でよい。また、アモルファスチップは断面1m
2 、長さ5mm程度の矩形状に、アモルファスワイヤ
は直径10μmφ、長さ1mm程度の線状に形成するこ
とができる。なお、16はピックアップコイル15で検
出された電圧をハウジング12の外部に取り出すコネク
タである。
【0019】センサ13の個数は、パルス電流を検出す
るだけであれば、少なくとも1個で足りる。ハウジング
12内のパルス電流位置を検出するのであれば、図示す
るように少なくとも4個のセンサ13が必要となり、X
方向とY方向に対応する互いに直交する2組のセンサ対
を構成して、後述するように各対のセンサ出力を加減算
して比を取ることによって、電流パルスの重心位置を計
算する。
【0020】図2に示すように、ハウジング内のセンサ
13、13間にパルス電流17が流れると、その電流に
よって生じた磁界が高透磁率素子14を通る。このとき
高透磁率素子14は、ハウジング径に対して寸法の小さ
なチップないしワイヤで構成されているので、被測定系
である磁界を乱さず、パルス電流が発生した磁界を正確
に捕捉する。磁界の強度の変化に比例した電圧が、高透
磁率素子14に巻かれたピックアップコイル15から出
力される。したがって、ピックアップ電圧に基づいてハ
ウジングに流れるパルス電流値を高精度に求めることが
できる。
【0021】次に、このパルス電流ヘッドを使用してパ
ルス電流の重心位置を検出する装置について説明する。
【0022】図3は本実施例によるパルス電流位置検出
装置のシステム構成図を示す。センサヘッドには、図1
に示したパルス電流センサヘッド18を用いる。センサ
ヘッド18のピックアップコイルで検出された4つの出
力電圧は、それぞれピークホールドアンプ19でそのピ
ーク値を後段に必要な振幅まで増幅される。そして、A
Dコンバータ20に導かれここでデジタル信号に変換さ
れた後、インタフェース回路21を通って演算器を構成
するパーソナルコンピュータ22に取り込まれる。パー
ソナルコンピュータ22では、入力されたデータに基づ
いて、次のようなパルス電流位置を求める演算が行われ
る。
【0023】各ピックアップコイルで検出された出力電
圧をV1 、V2 、V3 、V4 とすると、パルス電流17
の重心位置、すなわち図7に示すハウジング内を流れる
パルス電流Iの重心位置(x,y)は、 x=R(V1 −V3 )/(V1 +V3 ) y=R(V2 −V4 )/(V2 +V4 ) ( 1) で求められる。Rはハウジングの半径である。
【0024】なお、システムとして4ch,5GHzサ
ンプリング,垂直分解能8bit,1chで1GHzの
デジタルオシロスコープ(例えば、Tektronix
TDS486Aなど)を使用すると、このデジタルオシ
ロスコープと、センサヘッド、パーソナルコンピュータ
とで、よりシンプルなシステムを構成することができ
る。
【0025】次に、上記システムを利用してパルス電流
のプロファイルを計測する装置について説明する。
【0026】図4は、本実施例によるパルス電流プロフ
ァイル計測装置のセンサヘッド部を示す。センサヘッド
部以降の構成は図3のものと同じである。この装置は、
図3に示すセンサヘッド18を動かすことによって、空
間内を流れるパルス電流プロファイルを計測するもので
あり、ピックアップコイル電圧が、通過パルス電流の距
離に反比例することを利用している。すなわち、センサ
ヘッド18は、X−Yステージ23、θステージ24の
上に載置され、径方向(X,Y軸方向)の移動、および
周方向の回転が可能になっている。なお、これらのステ
ージは手動またはパルスモータによって駆動される。
【0027】次に、このような装置によってパルス電流
プロファイルを計測する原理を説明する。図5のように
ハウジング12の空間内に多数のセンサS1 、S2 …、
n、Sn+1 を規則正しく配置したモニタを考える。本
実施例のようにセンサ自体を空間内を自在に動かせるよ
うにすれば、最小1個のセンサだけでも、図示するモニ
タと等価にすることができる。しかし、効率の点からセ
ンサの個数は4個以上が妥当である。
【0028】(1)モニタの校正 各センサSi についてパルス状の線電流I0 が流れたと
きの距離R0 でのピックアップコイル出力V0iを予め計
測しておく。さて図6のように、ある分布をもつ電流I
(r* )(rに付した* はrがベクトルであることを意
味する)が流れたときのセンサSi の出力Vi は、 Vi =〓V0i×(R0 /|r* −rsi* |)×(I(r* )/I0 )dr * =(V0i×R0 /I0 )〓(I(r* )/|r* −rsi* |)dr* =ai 〓(I(r* )/|r* −rsi* |)dr* ( 2) となる。ただし、ai =V0i×R0 /I0 (定数)であ
り、予め行う計測によって得られる値である。
【0029】(2)重心位置の算出 既述したように、図7のような4個のセンサS1 〜S4
があれば、電流Iの重心位置(x,y)(近似値である
が、中心付近にある場合はかなり精度がよい。)は、式
(1)から求めることができる。
【0030】(3)プロファイルの計測 プロファイルの計測方法には種々の方法があるが、ここ
では2つの例をあげて説明する。
【0031】ガウス分布近似方法 求めるパルス電流分布をガウス分布と仮定すると、電流
Iはピーク電流値Ip、x,y方向の標準偏差σx ,σ
y 、重心位置(x,yに引いた下線は上線
【数1】 となる。結局、Vi はIp 、σx 、σy の5つ
の変数で決まり、 Vi (Ip ,σx ,σy ) である。このとき残差関数Aを A=Σi i (vi −Vi 2 ( 4) を定義する(Σに付したi は、Σの下に付す記号であ
る)。Σi は全てのセンサの出力での和を表す。wi
重み関数、vi はセンサSi の出力(すなわち測定
値)、Vi は式(3)でIp , σx , σy , , を仮
定したときの計算値である。
【0032】式(4)のAが最小になるように最小二乗
法等でIp ,σx ,σy を決定する。因みに、
センサ4個で10°おきにセンサヘッドを360°回転
させると、(4)式は144個の和となる。このとき
x,yの初期値に(2)で求めた値を使えば、収束性は
かなり良いと考えられる。
【0033】メッシュ分割方法 空間を図8に示すようにメッシュ状に分割し、ポイント
(i,j)を流れる電流をIi,j とする。このときセン
サSk の出力Vk は式(3)より Vk =ak Σi,j (Ii,j /〓((xi −xsk2
(yj −ysk2 ))(5) となる(Σに付したi,j はΣの下に付す記号である)。
このときも(4)式のように残差関数Aを定義すれば、
最小二乗法等により各メッシュ上での電流Ii,jを求め
ることができる。
【0034】このように本パルス電流プロファイル計測
装置によれば、センサヘッド自体を動かし、各点のデー
タを取り込むことによって、空間内を流れるパルス電流
のプロファイルを非破壊で計測し、その計測結果をパー
ソナルコンピュータ上の画面に画像化することができ
る。この場合において、による方法は、のようにガ
ウス分布近似をしていないので、精度の高いプロファイ
ルを計測することができる。なお、本パルス電流プロフ
ァイル計測装置によっても重心位置が検出できることは
勿論である。
【0035】
【発明の効果】請求項1に記載のパルス電流センサヘッ
ドによれば、センサ素子にチップ状またはワイヤ状の高
透磁率素子を用いたので、トロイダルコアを用いた場合
に比して、被測定系を乱さず、高精度に電流検出を行う
ことができる。また、センサ素子がチップ状またはワイ
ヤ状をしているから、トロイダルコアを用いる場合に比
して材料費を安くでき構造も簡素化できる。
【0036】請求項2に記載のパルス電流位置検出装置
によれば、チップ状またはワイヤ状の高透磁率素子を4
個のセンサに用いたので、高精度にパルス電流の重心位
置を求めることができる。
【0037】請求項3に記載のパルス電流プロファイル
計測装置によれば、パルス電流位置を検出できるだけで
なく、パルス電流センサヘッドを動かすことによってパ
ルス電流プロファイルを計測でき、しかも、従来のよう
にアルミナスクリーンを用いて画像を取り込む場合と異
なり、非破壊で電流プロファイルを計測することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のパルス電流センサヘッドの実施例を説
明するための概略構成図。
【図2】本実施例によるパルス電流検出の説明図。
【図3】本発明のパルス電流位置検出装置の実施例を説
明するためのシステム構成図。
【図4】本発明のパルス電流プロファイル計測装置を説
明するためのセンサヘッド部の構成図。
【図5】本実施例のプロファイル計測を説明するための
センサ配置図。
【図6】本実施例のプロファイル計測を説明するための
分布電流測定図。
【図7】本実施例のプロファイル計測を説明するための
重心位置測定図。
【図8】本実施例のプロファイル計測を説明するための
メッシュ方式測定図。
【図9】従来例のパルス電流センサヘッドを示す部分断
面図。
【図10】図9に示すパルス電流センサヘッドを構成す
るセンサの構成図。
【図11】従来例のパルス電流プロファイル計測の説明
図。
【符号の説明】
12 ハウジング 13 センサ 14 高透磁率素子 15 ピックアップコイル
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年9月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】(1)モニタの校正 各センサSについてパルス状の線電流Iが流れたと
きの距離Rでのピックアップコイル出力Voiを予め
計測しておく。さて図6のように、ある分布をもつ電流
I(r*)(rに付した*はrがベクトルであることを
意味する)が流れたときのセンサSの出力Vは、 となる。ただし、a=Voi×R/I(定数)で
あり、予め行う計測によって得られる値である。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】メッシュ分割方法 空間を図8に示すようにメッシュ状に分割し、ポイント
(i,j)を流れる電流をIi,jとする。このときセ
ンサSの出力Vは式(3)より となる(Σに付したi,jはΣの下に付す記号であ
る)。このときも(4)式のように残差関数Aを定義す
れば、最小二乗法等により各メッシュ上での電流I
i,jを求めることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 利明 茨城県那珂郡東海村白方91 やよい宿舎 302 (72)発明者 古澤 孝弘 茨城県那珂郡東海村白方91 やよい宿舎 104 (72)発明者 上田 徹 茨城県那珂郡瓜連町平野1800−3518 (72)発明者 宮 健三 茨城県那珂郡東海村白方91 やよい宿舎 301 (72)発明者 上坂 充 茨城県那珂郡東海村白方91 やよい宿舎 403 (72)発明者 小林 仁 茨城県石岡市南台1−30−7 (72)発明者 田川 精一 大阪府茨箕面市小野原東4丁目3番 3− 201 (72)発明者 吉田 陽一 神奈川県藤沢市片瀬山5−8−4

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】空間を流れるパルス電流を通過させるハウ
    ジングと、 該ハウジングに少なくとも1個設けられ上記パルス電流
    により生じる磁界を通すチップ状またはワイヤ状の高透
    磁率素子と、 該高透磁率素子に巻かれ上記磁界の変化に比例した電圧
    を取り出すピックアップコイルとを有するパルス電流セ
    ンサヘッド。
  2. 【請求項2】空間を流れるパルス電流を通過させるハウ
    ジングと、該ハウジングの周方向に沿って90°間隔で
    4個設けられ上記パルス電流により生じる磁界を通すチ
    ップ状またはワイヤ状の高透磁率素子と、該高透磁率素
    子に巻かれ上記磁界の変化に比例した電圧を取り出すピ
    ックアップコイルとを有するパルス電流センサヘッド
    と、 該パルス電流センサヘッドのピックアップコイルから検
    出される電圧(周方向に沿って順にV1 、V2 、V3
    4 とする)から、次式 x=R(V1 −V3 )/(V1 +V3 ) y=R(V2 −V4 )/(V2 +V4 ) に基づいてパルス電流位置(x,y)を求める演算器と
    を備えたパルス電流位置検出装置。
  3. 【請求項3】請求項1に記載のパルス電流センサヘッド
    と、 該パルス電流センサヘッドを周方向に回転させるθステ
    ージおよび、径方向に移動させるX−Y軸ステージと、 これらθステージ、X−Yステージによって上記パルス
    電流センサヘッドを動かしたとき、動かした各点におけ
    る上記ピックアップコイルから検出される電圧に基づい
    てパルス電流プロファイルを求める演算器とを備えたパ
    ルス電流プロファイル計測装置。
  4. 【請求項4】上記高透磁率素子がアモルファスで構成さ
    れている請求項1に記載のパルス電流センサヘッド、請
    求項2に記載のパルス電流位置検出装置、または請求項
    3に記載のパルス電流プロファイル計測装置。
JP23108694A 1994-09-27 1994-09-27 パルス電流センサヘッド、パルス電流位置検出装置、およびパルス電流プロファイル計測装置 Pending JPH0896993A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115236721A (zh) * 2022-08-09 2022-10-25 中国科学院近代物理研究所 一种脉冲带电粒子束团实时监测装置

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