JPH089790B2 - 銅の電解精製法 - Google Patents

銅の電解精製法

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JPH089790B2 JP62170266A JP17026687A JPH089790B2 JP H089790 B2 JPH089790 B2 JP H089790B2 JP 62170266 A JP62170266 A JP 62170266A JP 17026687 A JP17026687 A JP 17026687A JP H089790 B2 JPH089790 B2 JP H089790B2
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保彦 三宅
雅幸 小野瀬
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は銅の電解精製法に関し、特に硫酸銅と硝酸銅
を主成分とする水溶液を電解液にすることによって電析
物への不純物の混入を防止するようにした銅の電解精製
法に関する。
〔従来の技術〕
従来の銅の電解精製法として、電解浴に硫酸銅と硫酸
を主成分とする硫酸銅浴を使用する方法がある。この方
法は安価で管理し易く、比較的良質の電析物が得られ
る。電解条件を制御することにより現在99.999%の純度
の銅が得られている。電解精製後の帯溶精製の回数を増
加すると電析Cu中に吸蔵される硫黄の量を減少させるこ
とができる。
一方、近年、先端技術の分野の拡大に伴い、超高純度
の銅材の需要が増加しており、99.999%以上の純度の銅
材の経済的製法の確立が急務となっている。銅純度の指
標として残留抵抗比RRR(=室温での比抵抗/4.2゜Kでの
比抵抗)が用いられるが、99.9999%以上の純度を得る
ためにはRRR値を少なくとも7000以上にする必要があ
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来の硫酸銅浴を使用した銅の電解精製方法
では、硫酸イオン(SO4 --)による電析Cu中へのSの混
入のため、上記の純度を実現することは極めて困難であ
る。そのうえ、帯溶精製によるSの排除にも限界があ
り、電析Cu中のSの量が一定水準よりも多いと、帯溶精
製の回数を増加させても一定値以下に減少させることは
困難であるばかりか、工数増による製造コストの上昇を
招くという不都合がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、工数の増
加による製造コストの上昇を伴わずに電析Cu中のSの量
を減らして高純度の銅を得る銅の電解精製法を提供す
る。
即ち、本発明の銅の電解精製法は硝酸銅と硫酸銅を主
成分とする水溶液を電解液とするものであり、以下の工
程を備えている。
(1)電解液を作成する工程 純水中に高純度に精製した硝酸銅結晶(Cu(NO3
・3H2O)と硫酸銅結晶(CuSO4・5H2O)を所定のモル比
m(0.23<m<150)で溶解させる。モル比mが0.23よ
り小さいと電解液中の硫酸イオン(SO4 --)が多くな
り、そのため電析Cu中のSの量が多くなり銅の純度が低
下する。モル比mが150より大きくなると電析Cuが樹枝
状晶になり易く電解後の洗浄が煩雑になり、ひいては銅
の純度の低下を招く。銅イオン濃度から電析Cuの結晶の
形状を見ると、30g/以下では樹枝状晶になり易く、15
0g/以上ではこぶ状になり易い。30g/〜150g/の範
囲では平滑で緻密な結晶が得られる。
(2)電解精製の工程 純度99.996%の無酸素銅を陽極とし、陰極電流密度を
3.4A/dm2、液温を25℃で電解精製を行う。
以下、本発明の銅の電解精製法を詳細に説明する。
〔実施例〕
本発明の実施例は以下の通りである。
純水中に予め高純度に精製した硝酸銅結晶(Cu(N
O3・3H2O)と硫酸銅結晶(CuSO4・5H2O)を第1表
に示したモル比で溶解した水溶液1を電解液とする。
純度99.996%の無酸素銅を陽極とし、電流密度3.4A/d
m2、液温25℃で電解精製を行い、陰極から精製銅を得
た。電解精製した銅は真空溶解後帯溶精製し、直径10mm
の丸棒とした。この丸棒を伸線して直径0.5mmの線材と
し、550℃で焼鈍後、残留抵抗比RRRを測定した。第1表
は本発明と従来の電解精製法によ る電析Cuの結晶の形状と残留抵抗比RRR値を比較したも
のである。第1表から判るように、モル比mが大きくな
るにつれて、電析物はより平滑に、より緻密になるが、
一定値以上になると再び平滑度、緻密度は低下し、形状
は悪くなる。電析物はモル比mが大きくなるにつれてRR
R値は増加し、純度が向上することが判る。しかし、モ
ル比mがm>150(供試浴No.11のm=1.5/0.01=150)
では再び減少傾向が著しくなる。硝酸銅を添加すると、
硫酸銅濃度が相対的に減少することによって電析物への
Sの混入が減少し、銅の純度が向上する。一方、添加量
が一定値を越えた場合に再度純度の低下がみられるの
は、電析物の析出状態が悪化して樹枝状晶となり易く、
その結果、電解液の捕捉量の増加による汚染が生じたも
のと考えられる。
尚、比較のために純硫酸銅浴および純硫酸銅浴による
電解精製の結果を示したが、本発明の実施例に比べいず
れもRRR値は小さい。また、電析物の結晶の形状は純硫
酸銅浴では、概して平滑、緻密であるが、本発明の実施
例による電析物は更に平滑、緻密である。一方、純硝酸
銅浴からの電析物は典型的な樹枝状晶であり、形状的に
は著しく悪い。硝酸銅の硝酸イオン(NO3 -)によるNは
事実上Cuに固溶度を持たないので硝酸塩が混入してもS
と比べ汚染の原因とはならないが、洗浄効率の低下は工
数増を招くためコストアップの要素になる。
〔発明の効果〕
以上説明した通り、本発明の銅の電解精製法によれ
ば、硝酸銅と硫酸銅を主成分とする特定の組成の水溶液
を電解液としたため、工数の増加による製造コストの上
昇を伴わずに電析Cu中のSの量を減らして高純度の銅を
得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野瀬 雅幸 茨城県日立市川尻町1500番地 日立電線株 式会社豊浦工場内 (72)発明者 関田 克男 茨城県日立市川尻町1500番地 日立電線株 式会社豊浦工場内 (72)発明者 瀬谷 武司 茨城県日立市川尻町1500番地 日立電線株 式会社豊浦工場内 (56)参考文献 特開 昭49−39532(JP,A) 特開 昭49−72122(JP,A)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被精製材としての銅を陽極とし、銅イオン
    を含む水溶液を電解液とし、陰極に精製された銅を析出
    させる銅の電解精製法において、前記電解液が硫酸銅と
    硝酸銅を主成分とする水溶液にしてモル比で0.23〜150
    の硝酸銅と硫酸銅を含み且つ30g/〜150g/の銅イオ
    ン濃度を有することを特徴とする銅の電解精製法。
  2. 【請求項2】前記電解液によって電解精製した銅を無酸
    化雰囲気または真空中で溶解し、鋳塊としたのち、これ
    を帯溶精製することを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の銅の電解精製法。
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JPS5417301B2 (ja) * 1972-08-21 1979-06-28
JPS4972122A (ja) * 1972-09-27 1974-07-12

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