JPH09103508A - パルス電磁放射を使用して乾癬を治療する方法および装置 - Google Patents
パルス電磁放射を使用して乾癬を治療する方法および装置Info
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- JPH09103508A JPH09103508A JP8254790A JP25479096A JPH09103508A JP H09103508 A JPH09103508 A JP H09103508A JP 8254790 A JP8254790 A JP 8254790A JP 25479096 A JP25479096 A JP 25479096A JP H09103508 A JPH09103508 A JP H09103508A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的長い時間効果的な症状軽減をもたらす
乾癬を治療する方法および装置。 【解決手段】 乾癬を治療する方法および装置はインコ
ヒーレント電磁エネルギーの発生源を含む。そのエネル
ギーを治療すべき組織の領域に導く。健康な組織の加熱
やエネルギーの浸透深さなど治療パラメータを制御し、
治療を最適化するために、パルス持続時間およびパルス
の数を選択する。また、放射スペクトルおよび浸透深さ
を制御するために、放射をフィルタリングする。フィル
タリングは、放射スペクトルの紫外部および所望の治療
帯域幅以下のスペクトルの部分を減衰させるステップを
含む。大きいまたは小さいスポットサイズ用の光ガイド
を使用して、光を皮膚に導く。他の実施形態では、治療
すべき皮膚に冷却ゲルを塗布する。ゲルは、皮膚に塗布
する前かまたは後に冷却できる。
乾癬を治療する方法および装置。 【解決手段】 乾癬を治療する方法および装置はインコ
ヒーレント電磁エネルギーの発生源を含む。そのエネル
ギーを治療すべき組織の領域に導く。健康な組織の加熱
やエネルギーの浸透深さなど治療パラメータを制御し、
治療を最適化するために、パルス持続時間およびパルス
の数を選択する。また、放射スペクトルおよび浸透深さ
を制御するために、放射をフィルタリングする。フィル
タリングは、放射スペクトルの紫外部および所望の治療
帯域幅以下のスペクトルの部分を減衰させるステップを
含む。大きいまたは小さいスポットサイズ用の光ガイド
を使用して、光を皮膚に導く。他の実施形態では、治療
すべき皮膚に冷却ゲルを塗布する。ゲルは、皮膚に塗布
する前かまたは後に冷却できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に乾癬を治療
する方法および装置に関する。さらに詳細には、本発明
は、乾癬斑に可視電磁放射および近赤外電磁放射を照射
することによって乾癬を治療する方法に関する。
する方法および装置に関する。さらに詳細には、本発明
は、乾癬斑に可視電磁放射および近赤外電磁放射を照射
することによって乾癬を治療する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】乾癬は、人口の数パーセントに現れる比
較的普通の皮膚病である。従来技術の乾癬斑の治療法
は、一般に、局所薬剤を使用する技法（すなわち、外部
から皮膚に塗布する薬剤）と、乾癬斑に光を当てる技法
の二つの種類に分けられる。しかしながら、これらの従
来技術の技法の多くは、限られた時間しか患者の症状を
軽減することができない共通の根本的欠点を有する。
較的普通の皮膚病である。従来技術の乾癬斑の治療法
は、一般に、局所薬剤を使用する技法（すなわち、外部
から皮膚に塗布する薬剤）と、乾癬斑に光を当てる技法
の二つの種類に分けられる。しかしながら、これらの従
来技術の技法の多くは、限られた時間しか患者の症状を
軽減することができない共通の根本的欠点を有する。
【０００３】局所薬剤治療法は、コールタール／木ター
ルジスラノールおよびコルチコステロイドによる治療法
を含む。これらの治療法は、容認できる結果をもたらす
が、これはわずか数週間しか持続しない。洗髪剤、サリ
チル酸軟膏も使用されるが、それらもその効率および患
者に対する症状軽減時間の長さが制限される。
ルジスラノールおよびコルチコステロイドによる治療法
を含む。これらの治療法は、容認できる結果をもたらす
が、これはわずか数週間しか持続しない。洗髪剤、サリ
チル酸軟膏も使用されるが、それらもその効率および患
者に対する症状軽減時間の長さが制限される。
【０００４】光を利用する治療法では、一般に電磁スペ
クトルの一部を使用する。例えば、紫外Ａ域および紫外
Ｂ域の紫外光が広く使用される。この治療法は、患者に
対する症状軽減が極めて制限され、極めて頻繁な（一般
に一週間に一回）処置方式で使用される。さらに、この
治療法では、臨床改善が制限され、また紫外放射を使用
するために皮膚癌の危険がある。また、ＣＯ2レーザ光
を使用する乾癬治療法も試みられたが、成果は限られた
ものであった。
クトルの一部を使用する。例えば、紫外Ａ域および紫外
Ｂ域の紫外光が広く使用される。この治療法は、患者に
対する症状軽減が極めて制限され、極めて頻繁な（一般
に一週間に一回）処置方式で使用される。さらに、この
治療法では、臨床改善が制限され、また紫外放射を使用
するために皮膚癌の危険がある。また、ＣＯ2レーザ光
を使用する乾癬治療法も試みられたが、成果は限られた
ものであった。
【０００５】ごく最近の従来技術の乾癬治療法では、波
長５８５ｎｍで動作するパルス持続時間０．４ミリ秒、
フルエンス６〜１０Ｊ／ｃｍ2を有するパルス色素レー
ザを使用する。この治療法は一般に効果的であったが、
一つの大きな欠点は、パルス色素レーザのスポットサイ
ズが小さい（５ｍｍ程度）ことである。乾癬は一般に皮
膚の広い領域上に現れるので、スポットサイズが小さい
と治療が非常に非効率的になる。したがって、この治療
法は、患者に対して時間のかかる手順になる。パルス色
素レーザは、乾癬を治療するのに使用した場合、このレ
ーザの固定の比較的短いパルスおよびこのレーザの有限
の調整可能度に関連する他の欠点を有する。
長５８５ｎｍで動作するパルス持続時間０．４ミリ秒、
フルエンス６〜１０Ｊ／ｃｍ2を有するパルス色素レー
ザを使用する。この治療法は一般に効果的であったが、
一つの大きな欠点は、パルス色素レーザのスポットサイ
ズが小さい（５ｍｍ程度）ことである。乾癬は一般に皮
膚の広い領域上に現れるので、スポットサイズが小さい
と治療が非常に非効率的になる。したがって、この治療
法は、患者に対して時間のかかる手順になる。パルス色
素レーザは、乾癬を治療するのに使用した場合、このレ
ーザの固定の比較的短いパルスおよびこのレーザの有限
の調整可能度に関連する他の欠点を有する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】したがって、比較的長
い時間効果的な症状軽減をもたらす乾癬を治療する方法
および装置が望まれる。さらに、この方法および装置
は、皮膚の比較的広い領域を治療するのに効率的である
ことが好ましい。この治療法では、スペクトルの可視部
および近赤外部のパルス電磁放射を使用し、従来技術の
治療法の欠点を克服することが好ましい。
い時間効果的な症状軽減をもたらす乾癬を治療する方法
および装置が望まれる。さらに、この方法および装置
は、皮膚の比較的広い領域を治療するのに効率的である
ことが好ましい。この治療法では、スペクトルの可視部
および近赤外部のパルス電磁放射を使用し、従来技術の
治療法の欠点を克服することが好ましい。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第一の様態によ
れば、乾癬を治療する方法は、インコヒーレント電磁エ
ネルギーの一つまたは複数のパルスを発生させるステッ
プ、およびそのエネルギーを治療すべき組織の領域に導
くステップを含む。このパルスは、５Ｊ／ｃｍ2〜２０
０Ｊ／ｃｍ2のエネルギーフルエンスを有する。他の実
施形態では、治療パラメータを制御し、治療を最適化す
るために、パルス持続時間およびパルスの数を選択す
る。制御されるパラメータは、健康な組織の加熱および
エネルギーの浸透深さを含む。他の代替例では、放射を
フィルタリングし、それにより放射スペクトルと浸透深
さを制御する。フィルタリングは、放射スペクトルの紫
外部を減衰させるステップを含む。一実施形態では、広
域乾癬斑を治療するために大きいスポットサイズを生成
する。他の実施形態では、治療すべき皮膚に冷却ゲルを
塗布する。ゲルは、皮膚に塗布する前かまたは後に冷却
する。
れば、乾癬を治療する方法は、インコヒーレント電磁エ
ネルギーの一つまたは複数のパルスを発生させるステッ
プ、およびそのエネルギーを治療すべき組織の領域に導
くステップを含む。このパルスは、５Ｊ／ｃｍ2〜２０
０Ｊ／ｃｍ2のエネルギーフルエンスを有する。他の実
施形態では、治療パラメータを制御し、治療を最適化す
るために、パルス持続時間およびパルスの数を選択す
る。制御されるパラメータは、健康な組織の加熱および
エネルギーの浸透深さを含む。他の代替例では、放射を
フィルタリングし、それにより放射スペクトルと浸透深
さを制御する。フィルタリングは、放射スペクトルの紫
外部を減衰させるステップを含む。一実施形態では、広
域乾癬斑を治療するために大きいスポットサイズを生成
する。他の実施形態では、治療すべき皮膚に冷却ゲルを
塗布する。ゲルは、皮膚に塗布する前かまたは後に冷却
する。
【０００８】本発明の第二の様態によれば、乾癬斑を治
療する装置は、窓を有するハウジングを含む。可視およ
び近赤外波長範囲のインコヒーレント放射を生成する光
源がハウジング内に配置される。反射器は窓からの光を
反射し、治療する必要がある斑に導く。フィルタは、紫
外域の光など、スペクトルの不要な部分を除去する。フ
ィルタシステムは、紫外光を減衰させる固定フィルタ
と、選択可能な波長以下の光を減衰させる可変フィルタ
とを含む。あるいは、可変フィルタは選択した帯域幅を
通すものでもよい。他の実施形態では、光ガイドが窓と
治療すべき皮膚の間に配置され、光を皮膚に導く。光ガ
イドは、スポットサイズが小さい場合にはフレキシブル
光ガイドを使用し、スポットサイズが大きい場合には石
英光ガイドを使用する。さらに、光ガイドは、スペクト
ルの一部をフィルタリングできる。一実施形態では、光
源を電力投入するために、パルス発生器を含む電源が備
えられる。他の実施形態では、マイクロプロセッサが電
源およびパルス持続時間およびパルス遅延を制御する。
また、マイクロプロセッサは、指示治療パラメータを表
示するディスプレイを含む。
療する装置は、窓を有するハウジングを含む。可視およ
び近赤外波長範囲のインコヒーレント放射を生成する光
源がハウジング内に配置される。反射器は窓からの光を
反射し、治療する必要がある斑に導く。フィルタは、紫
外域の光など、スペクトルの不要な部分を除去する。フ
ィルタシステムは、紫外光を減衰させる固定フィルタ
と、選択可能な波長以下の光を減衰させる可変フィルタ
とを含む。あるいは、可変フィルタは選択した帯域幅を
通すものでもよい。他の実施形態では、光ガイドが窓と
治療すべき皮膚の間に配置され、光を皮膚に導く。光ガ
イドは、スポットサイズが小さい場合にはフレキシブル
光ガイドを使用し、スポットサイズが大きい場合には石
英光ガイドを使用する。さらに、光ガイドは、スペクト
ルの一部をフィルタリングできる。一実施形態では、光
源を電力投入するために、パルス発生器を含む電源が備
えられる。他の実施形態では、マイクロプロセッサが電
源およびパルス持続時間およびパルス遅延を制御する。
また、マイクロプロセッサは、指示治療パラメータを表
示するディスプレイを含む。
【０００９】本発明の第三の様態は、乾癬の治療中に表
皮の領域を保護する方法である。保護は、表皮の領域に
ゲルを塗布して表皮を冷却することによって実施され
る。ゲルは、表皮に塗布する前または後に冷却する。
皮の領域を保護する方法である。保護は、表皮の領域に
ゲルを塗布して表皮を冷却することによって実施され
る。ゲルは、表皮に塗布する前または後に冷却する。
【００１０】本発明の他の主要な特徴および利点は、以
下の図面、詳細な説明および首記の請求の範囲を検討す
れば当業者に明らかになろう。
下の図面、詳細な説明および首記の請求の範囲を検討す
れば当業者に明らかになろう。
【００１１】本発明の少なくとも一つの実施形態を詳細
に説明する前に、本発明は、以下の説明に示されたまた
は図面に示された構成の詳細および構成部品の配置にそ
の用途が限定されないことを理解されたい。本発明は、
他の実施形態も可能であり、様々な方法で実施または実
行できる。また、本願で使用した術語および用語は説明
のためのものであり、限定的なものと考えてはならない
ことを理解されたい。
に説明する前に、本発明は、以下の説明に示されたまた
は図面に示された構成の詳細および構成部品の配置にそ
の用途が限定されないことを理解されたい。本発明は、
他の実施形態も可能であり、様々な方法で実施または実
行できる。また、本願で使用した術語および用語は説明
のためのものであり、限定的なものと考えてはならない
ことを理解されたい。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明は、乾癬を治療する新しい
方法および装置に関する。一般に、本発明では、可視域
の、好ましくはインコヒーレントなパルス光を使用し
て、乾癬斑を除去する。一つの好ましい実施形態によれ
ば、この装置は、皮膚中に浸透し、１ｍｍ程度またはそ
れ以上の深さに達する電磁放射を供給する光源を含む。
光のフルエンスは、病変または異常な細胞に供給する血
管が凝固できるように十分であることが好ましい。光
は、他の形では熱伝導によって生じる不健康な組織を囲
む健康な組織の損傷を制限するのに役立つようにパルス
の形で皮膚に当てる。また、光のスポットサイズは、例
えば、皮膚の広い領域を効率的に治療できるように、セ
ンチメートル範囲で十分大きいことが好ましい。
方法および装置に関する。一般に、本発明では、可視域
の、好ましくはインコヒーレントなパルス光を使用し
て、乾癬斑を除去する。一つの好ましい実施形態によれ
ば、この装置は、皮膚中に浸透し、１ｍｍ程度またはそ
れ以上の深さに達する電磁放射を供給する光源を含む。
光のフルエンスは、病変または異常な細胞に供給する血
管が凝固できるように十分であることが好ましい。光
は、他の形では熱伝導によって生じる不健康な組織を囲
む健康な組織の損傷を制限するのに役立つようにパルス
の形で皮膚に当てる。また、光のスポットサイズは、例
えば、皮膚の広い領域を効率的に治療できるように、セ
ンチメートル範囲で十分大きいことが好ましい。
【００１３】本発明の一つの好ましい実施形態による装
置は、フラッシュランプなど高エネルギーパルスインコ
ヒーレント光源を含む。（一般に線形構成の）適切なフ
ラッシュランプは、可視および近赤外波長範囲のパルス
光を発生する。この装置は、放射スペクトルを遮断し、
それにより皮膚に達する損傷波長の電磁放射の量を少な
くする固定フィルタシステムを含む。また、一実施形態
では、所与の波長以上の放射を皮膚に透過させる低域遮
断フィルタを有する可変フィルタシステムが設けられ
る。あるいは、低域遮断フィルタは、選択した波長帯域
幅を皮膚に透過させる。可変フィルタ（したがって透過
光の波長）を選択することにより最適治療が実施でき
る。
置は、フラッシュランプなど高エネルギーパルスインコ
ヒーレント光源を含む。（一般に線形構成の）適切なフ
ラッシュランプは、可視および近赤外波長範囲のパルス
光を発生する。この装置は、放射スペクトルを遮断し、
それにより皮膚に達する損傷波長の電磁放射の量を少な
くする固定フィルタシステムを含む。また、一実施形態
では、所与の波長以上の放射を皮膚に透過させる低域遮
断フィルタを有する可変フィルタシステムが設けられ
る。あるいは、低域遮断フィルタは、選択した波長帯域
幅を皮膚に透過させる。可変フィルタ（したがって透過
光の波長）を選択することにより最適治療が実施でき
る。
【００１４】一実施形態では、光は、フラッシュランプ
およびフィルタシステムを含むハウジング内の開口を通
して皮膚へ導かれる。他の実施形態では、ハウジングに
結合され、皮膚に接触するまたは皮膚の近くにある光ガ
イドを使用して、光を治療領域に導く。このシステム
は、どちらの実施形態でも、平方センチメートル当たり
最大数ジュールから数百ジュールのフルエンスを皮膚上
に生成する。
およびフィルタシステムを含むハウジング内の開口を通
して皮膚へ導かれる。他の実施形態では、ハウジングに
結合され、皮膚に接触するまたは皮膚の近くにある光ガ
イドを使用して、光を治療領域に導く。このシステム
は、どちらの実施形態でも、平方センチメートル当たり
最大数ジュールから数百ジュールのフルエンスを皮膚上
に生成する。
【００１５】場合によっては、結合ゲルを使用して、皮
膚に結合する光を増大させ、治療中に表皮をよりよく冷
却することができる。
膚に結合する光を増大させ、治療中に表皮をよりよく冷
却することができる。
【００１６】本発明に従って作成した装置は、乾癬の治
療に有用である。高エネルギーパルス光は、正常な皮膚
を損傷することなく血管および不健康な組織の他の部分
を選択的に光熱分解する効果的な手段である。さらに、
本発明に従って作成した装置は安全であり、オペレータ
および患者の偶然の損傷の危険がほとんどない。
療に有用である。高エネルギーパルス光は、正常な皮膚
を損傷することなく血管および不健康な組織の他の部分
を選択的に光熱分解する効果的な手段である。さらに、
本発明に従って作成した装置は安全であり、オペレータ
および患者の偶然の損傷の危険がほとんどない。
【００１７】図１を参照すると、本発明に従って作成し
た皮膚６の領域を治療する治療装置１０が概略的に示さ
れており、ハウジング５内に配置されたフラッシュラン
プ１および反射器２を含む。好ましい実施形態では、フ
ラッシュランプ１は線形形状を有するが、他の形状も使
用できる。
た皮膚６の領域を治療する治療装置１０が概略的に示さ
れており、ハウジング５内に配置されたフラッシュラン
プ１および反射器２を含む。好ましい実施形態では、フ
ラッシュランプ１は線形形状を有するが、他の形状も使
用できる。
【００１８】フラッシュランプ１は、パルスモードで動
作し、ミリメートル深さまたはそれよりも深く組織中に
浸透できる光放射を生成する。パルス速度および遅延速
度は、治療面上に高い放射密度が供給され、また熱伝導
プロセスにより周囲の健康な組織が過熱するのを回避で
きるように選択する。皮膚６の表面上の数平方センチメ
ートルの領域にわたって、数ジュールから数十ジュール
以上までのフルエンスが、好ましくは５Ｊ／ｃｍ2から
数百Ｊ／ｃｍ2までのフルエンス（例えば、２００Ｊ／
ｃｍ2）がフラッシュランプ１によって供給される。光
源は、スポットサイズが少なくとも数センチメートルか
ら数ミリメートルまで変えられることが好ましい。
作し、ミリメートル深さまたはそれよりも深く組織中に
浸透できる光放射を生成する。パルス速度および遅延速
度は、治療面上に高い放射密度が供給され、また熱伝導
プロセスにより周囲の健康な組織が過熱するのを回避で
きるように選択する。皮膚６の表面上の数平方センチメ
ートルの領域にわたって、数ジュールから数十ジュール
以上までのフルエンスが、好ましくは５Ｊ／ｃｍ2から
数百Ｊ／ｃｍ2までのフルエンス（例えば、２００Ｊ／
ｃｍ2）がフラッシュランプ１によって供給される。光
源は、スポットサイズが少なくとも数センチメートルか
ら数ミリメートルまで変えられることが好ましい。
【００１９】反射器２は光ビームを形成し、それを光ガ
イド４へ反射する。一実施形態では、反射器２は金属反
射器である。一般に、容易に機械加工できる反射器であ
り、かつスペクトルの可視域において非常に高い反射率
を有する研磨したアルミニウムが使用できる。他の裸金
属または被覆金属も使用できる。反射器２は、フラッシ
ュランプ１によって生じた光を、光ガイド４の近方端ま
たは治療すべき皮膚６の表面上など所望の位置に集中さ
せる形状および断面を有することが好ましい。一つのそ
のような反射器が、参照により本明細書の一部となる米
国特許第５４０５３６８号に記載されている。
イド４へ反射する。一実施形態では、反射器２は金属反
射器である。一般に、容易に機械加工できる反射器であ
り、かつスペクトルの可視域において非常に高い反射率
を有する研磨したアルミニウムが使用できる。他の裸金
属または被覆金属も使用できる。反射器２は、フラッシ
ュランプ１によって生じた光を、光ガイド４の近方端ま
たは治療すべき皮膚６の表面上など所望の位置に集中さ
せる形状および断面を有することが好ましい。一つのそ
のような反射器が、参照により本明細書の一部となる米
国特許第５４０５３６８号に記載されている。
【００２０】フィルタシステム３はハウジング５内に開
口または窓１１に隣接して配置される。したがって、フ
ィルタシステム３は、フラッシュランプ１から光ガイド
４または皮膚６へ導かれる光の経路中に配置され、装置
１０によって供給される光のスペクトルに影響を及ぼ
す。フィルタシステム３は、皮膚を損傷するまたは皮膚
の浅い層を過熱する波長を有する電磁放射（紫外域の光
など）を減衰させる一つまたは複数の固定フィルタを含
む。また、一実施形態では、フィルタシステム３は、低
域遮断フィルタを有し、かつ所与の波長以上の放射を皮
膚に透過させる一つまたは複数の可変フィルタを含む。
他の実施形態では、可変フィルタは選択した波長帯域幅
を皮膚に透過させ、したがって固定フィルタは不要であ
る。
口または窓１１に隣接して配置される。したがって、フ
ィルタシステム３は、フラッシュランプ１から光ガイド
４または皮膚６へ導かれる光の経路中に配置され、装置
１０によって供給される光のスペクトルに影響を及ぼ
す。フィルタシステム３は、皮膚を損傷するまたは皮膚
の浅い層を過熱する波長を有する電磁放射（紫外域の光
など）を減衰させる一つまたは複数の固定フィルタを含
む。また、一実施形態では、フィルタシステム３は、低
域遮断フィルタを有し、かつ所与の波長以上の放射を皮
膚に透過させる一つまたは複数の可変フィルタを含む。
他の実施形態では、可変フィルタは選択した波長帯域幅
を皮膚に透過させ、したがって固定フィルタは不要であ
る。
【００２１】治療光が組織または皮膚６中に浸透する深
さは、（以下に詳細に説明するように）入射光の波長に
依存する。したがって、浸透深さは、フィルタを選択す
ることによって調整できる。したがって、可変フィルタ
（したがって透過光の波長）の選択は、治療を最適化す
るために行われる。
さは、（以下に詳細に説明するように）入射光の波長に
依存する。したがって、浸透深さは、フィルタを選択す
ることによって調整できる。したがって、可変フィルタ
（したがって透過光の波長）の選択は、治療を最適化す
るために行われる。
【００２２】さらに、他の実施形態では、フラッシュラ
ンプ１に供給されるパルスのパラメータを制御すること
によってスペクトル制御を達成する。例えば、フラッシ
ュランプ内のアーク電流を小さくすることによって、よ
り長い波長を有するスペクトルが得られる。
ンプ１に供給されるパルスのパラメータを制御すること
によってスペクトル制御を達成する。例えば、フラッシ
ュランプ内のアーク電流を小さくすることによって、よ
り長い波長を有するスペクトルが得られる。
【００２３】電源８は、パルス光出力を生成するために
フラッシュランプ１に電力を供給する。電源８は、パル
ス間の遅延が数ミリ秒から数百ミリ秒まで変化する単一
パルスまたは複数パルスを供給することが好ましい。治
療領域への全フルエンスは、パルスの数とパルス当たり
のフルエンスとの積であり、平方センチメートル当たり
数百ジュールの値に達することが好ましい。好ましい実
施形態では、パルス持続時間は数百マイクロ秒から数十
ミリ秒まで変化し、パルス当たりのフルエンスは平方セ
ンチメートル当たり数ジュールから数百ジュールまで変
化する。電源８は、米国特許第５４０５３６８号に記載
されているような所望のパルスを生成するパルス形成ネ
ットワーク、あるいはその他の回路を含む。
フラッシュランプ１に電力を供給する。電源８は、パル
ス間の遅延が数ミリ秒から数百ミリ秒まで変化する単一
パルスまたは複数パルスを供給することが好ましい。治
療領域への全フルエンスは、パルスの数とパルス当たり
のフルエンスとの積であり、平方センチメートル当たり
数百ジュールの値に達することが好ましい。好ましい実
施形態では、パルス持続時間は数百マイクロ秒から数十
ミリ秒まで変化し、パルス当たりのフルエンスは平方セ
ンチメートル当たり数ジュールから数百ジュールまで変
化する。電源８は、米国特許第５４０５３６８号に記載
されているような所望のパルスを生成するパルス形成ネ
ットワーク、あるいはその他の回路を含む。
【００２４】好ましい実施形態では、パルスパラメータ
はマイクロプロセッサをベースとするコントローラ９に
よって制御される。マイクロプロセッサをベースとする
コントローラ９は、タイミング機能を提供し、電源８に
フラッシュランプ１へ電力のパルスを送達させるトリガ
信号をプロンプトする。一実施形態では、電源８および
コントローラ９はハウジング５内に配置される。
はマイクロプロセッサをベースとするコントローラ９に
よって制御される。マイクロプロセッサをベースとする
コントローラ９は、タイミング機能を提供し、電源８に
フラッシュランプ１へ電力のパルスを送達させるトリガ
信号をプロンプトする。一実施形態では、電源８および
コントローラ９はハウジング５内に配置される。
【００２５】他の実施形態では、マイクロプロセッサを
ベースとするコントローラ９は、ディスプレイスクリー
ンとキーボード、ボタン、マウス、またはその他の入力
装置などユーザインタフェースを含み、またパーソナル
コンピュータでもよい。コントローラ９は、治療パラメ
ータを選択する際に役立つ情報がその中に記憶されてい
る。医師は治療に必要な深さなど患者情報を入力し、マ
イクロプロセッサは、波長、フィルタ選択、パルス幅、
およびパルス遅延など、指示治療パラメータを提供す
る。医師は、これらの指示パラメータを変更することが
できるが、指示パラメータのための操作指針を再度参照
する必要はない。この代用例では、紫外線レーザやパル
スレーザなど、フラッシュランプ以外の光源とともに使
用できる。
ベースとするコントローラ９は、ディスプレイスクリー
ンとキーボード、ボタン、マウス、またはその他の入力
装置などユーザインタフェースを含み、またパーソナル
コンピュータでもよい。コントローラ９は、治療パラメ
ータを選択する際に役立つ情報がその中に記憶されてい
る。医師は治療に必要な深さなど患者情報を入力し、マ
イクロプロセッサは、波長、フィルタ選択、パルス幅、
およびパルス遅延など、指示治療パラメータを提供す
る。医師は、これらの指示パラメータを変更することが
できるが、指示パラメータのための操作指針を再度参照
する必要はない。この代用例では、紫外線レーザやパル
スレーザなど、フラッシュランプ以外の光源とともに使
用できる。
【００２６】光ガイド４は、皮膚６上の治療領域に光を
導く。治療すべき領域がアクセスすることが困難な対象
または小さい斑の場合、光ガイド４は、数ミリメートル
のスポットサイズを有するフレキシブル光ガイドを使用
する。あるいは、広い領域を治療する場合、光ガイド４
は、数センチメートルのスポットサイズを有する幅広の
石英光ガイドを使用するか、または光ガイドをまったく
使用しない。
導く。治療すべき領域がアクセスすることが困難な対象
または小さい斑の場合、光ガイド４は、数ミリメートル
のスポットサイズを有するフレキシブル光ガイドを使用
する。あるいは、広い領域を治療する場合、光ガイド４
は、数センチメートルのスポットサイズを有する幅広の
石英光ガイドを使用するか、または光ガイドをまったく
使用しない。
【００２７】他の一実施形態では、光ガイド４はスペク
トル制御に使用できる。スペクトル制御は、その中に溶
解した吸収色素を有する材料から光ガイドを作成するこ
とによって達成できる。したがって、光ガイドによって
伝送された光は、吸収色素によって決定されるスペクト
ルを有する。
トル制御に使用できる。スペクトル制御は、その中に溶
解した吸収色素を有する材料から光ガイドを作成するこ
とによって達成できる。したがって、光ガイドによって
伝送された光は、吸収色素によって決定されるスペクト
ルを有する。
【００２８】治療は、ヘモグロビンの凝固および異常な
色素沈着による組織の過熱によって達成される。しかし
ながら、正常な表皮の過熱を回避し、痛みを軽減するた
めに、透明ゲル７を治療した皮膚表面６上に塗布する。
色素沈着による組織の過熱によって達成される。しかし
ながら、正常な表皮の過熱を回避し、痛みを軽減するた
めに、透明ゲル７を治療した皮膚表面６上に塗布する。
【００２９】代表的な寸法ｄおよび拡散度を有する表皮
の冷却時間ｔは ｔ＝ｄ2／ａ と書ける。
の冷却時間ｔは ｔ＝ｄ2／ａ と書ける。
【００３０】表皮は０．１ｍｍ以下の代表的な断面を有
する。拡散度は約ａ＝３×１０-7ｍ 2／秒である。ゲル
を塗布した場合、表皮の代表的な冷却時間は、３０ミリ
秒程度である。光パルス持続時間が表皮の冷却時間とほ
ぼ同じ場合、塗布により表皮がパルスの間冷却され、悪
影響が回避できる。ゲルは、冷却効果を増すために前も
って冷却しておく。あるいは、ゲルは、皮膚に塗布した
後で冷却してもよい。
する。拡散度は約ａ＝３×１０-7ｍ 2／秒である。ゲル
を塗布した場合、表皮の代表的な冷却時間は、３０ミリ
秒程度である。光パルス持続時間が表皮の冷却時間とほ
ぼ同じ場合、塗布により表皮がパルスの間冷却され、悪
影響が回避できる。ゲルは、冷却効果を増すために前も
って冷却しておく。あるいは、ゲルは、皮膚に塗布した
後で冷却してもよい。
【００３１】上述のように、適切な波長範囲を選択する
ことによって浸透の深さを調整できる。皮膚中への実効
浸透深さは、光の散乱および吸収を考慮した真皮の実効
減衰係数を使用して推定できる。Ｓ．Ｌ．Ｊａｃｑｕｅ
ｓ、Ｒｏｌｅ ｏｆ Ｓｋｉｎ Ｏｐｔｉｃｓ ｉｎ
Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃ ａｎｄ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉ
ｃ Ｕｓｅｓ ｏｆ Ｌａｓｅｒｓ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ
−Ｖｅｒｌａｇ、１９９１、ｐｐ．１−２１に記載され
ているように、皮膚の実効減衰係数は μeff＝[３μa（μa＋μs（１−ｇ））］1/2 上式で、μaは真皮の吸収係数、μsは真皮の散乱係数、
ｇはある散乱事象に対する散乱角度の平均余弦として定
義される異方性ファクタである。実効浸透深さは ｄ＝１／μeff から推定でき、これを４００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長
の関数として図２に示す。図示のように、長い波長を有
する放射は、短い波長の放射よりも皮膚中により深く浸
透する。
ことによって浸透の深さを調整できる。皮膚中への実効
浸透深さは、光の散乱および吸収を考慮した真皮の実効
減衰係数を使用して推定できる。Ｓ．Ｌ．Ｊａｃｑｕｅ
ｓ、Ｒｏｌｅ ｏｆ Ｓｋｉｎ Ｏｐｔｉｃｓ ｉｎ
Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃ ａｎｄ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉ
ｃ Ｕｓｅｓ ｏｆ Ｌａｓｅｒｓ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ
−Ｖｅｒｌａｇ、１９９１、ｐｐ．１−２１に記載され
ているように、皮膚の実効減衰係数は μeff＝[３μa（μa＋μs（１−ｇ））］1/2 上式で、μaは真皮の吸収係数、μsは真皮の散乱係数、
ｇはある散乱事象に対する散乱角度の平均余弦として定
義される異方性ファクタである。実効浸透深さは ｄ＝１／μeff から推定でき、これを４００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長
の関数として図２に示す。図示のように、長い波長を有
する放射は、短い波長の放射よりも皮膚中により深く浸
透する。
【００３２】実効浸透深さｄは、皮膚に当たるフルエン
スが皮膚の表面上で１／ｅの値に達する深さと定義され
る。図２に示すように、波長が５００ｎｍから６００ｎ
ｍに増大すると、浸透はほぼ二倍になる。波長８００ｎ
ｍでは、２ｍｍの浸透深さが達成できる。したがって、
好ましい実施形態では、皮膚６に達する光のスペクトル
は、４００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にわたって、特に
５００ｎｍから６００ｎｍまで、最大８００ｎｍの選択
可能な波長を有する。上述のように、スペクトルは、フ
ィルタ、光ガイド、またはパルス幅を使用して調整でき
る。したがって、適切なフィルタリングおよびゲルの使
用では、放射の所望のスペクトルを選択し、より浅い皮
膚層を冷却することによって、治療の選択度が達成でき
る。
スが皮膚の表面上で１／ｅの値に達する深さと定義され
る。図２に示すように、波長が５００ｎｍから６００ｎ
ｍに増大すると、浸透はほぼ二倍になる。波長８００ｎ
ｍでは、２ｍｍの浸透深さが達成できる。したがって、
好ましい実施形態では、皮膚６に達する光のスペクトル
は、４００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にわたって、特に
５００ｎｍから６００ｎｍまで、最大８００ｎｍの選択
可能な波長を有する。上述のように、スペクトルは、フ
ィルタ、光ガイド、またはパルス幅を使用して調整でき
る。したがって、適切なフィルタリングおよびゲルの使
用では、放射の所望のスペクトルを選択し、より浅い皮
膚層を冷却することによって、治療の選択度が達成でき
る。
【００３３】したがって、本発明によれば、上記の目的
および利点を完全に満足する乾癬を治療する方法および
装置が提供されたことが明らかであろう。以上、本発明
についてその特定の実施形態に関連して説明したが、多
数の代用、修正および変形が当業者には明らかであるこ
とは明白である。したがって、首記の請求の範囲の精神
および広い範囲内に入るそのようなすべての代用、修正
および変形が包含されるものとする。
および利点を完全に満足する乾癬を治療する方法および
装置が提供されたことが明らかであろう。以上、本発明
についてその特定の実施形態に関連して説明したが、多
数の代用、修正および変形が当業者には明らかであるこ
とは明白である。したがって、首記の請求の範囲の精神
および広い範囲内に入るそのようなすべての代用、修正
および変形が包含されるものとする。
【図１】本発明の一つの好ましい実施形態の概略図であ
る。
る。
【図２】血管の無い皮膚（真皮）中への光の実効浸透深
さの４００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長の関数としてのグ
ラフである。
さの４００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長の関数としてのグ
ラフである。
１ フラッシュランプ ２ 反射器 ３ フィルタシステム ４ 光ガイド ５ ハウジング ６ 皮膚 ７ 透明ゲル ８ 電源 ９ コントローラ １０ 治療装置 １１ 開
Claims (20)
- 【請求項１】 窓を含むハウジングと、ハウジング内に
配置され、可視および近赤外波長範囲のインコヒーレン
ト放射を生成する光源と、ハウジング内に配置され、さ
らに窓を通して光を導くように配置された反射器と、放
射の経路中に配置されたフィルタリングシステムとを含
む乾癬斑を治療する装置。 - 【請求項２】 光源と電気的に通信するパルス発生器を
有し、パルス発生器を制御する複数の信号を受信する制
御入力を含む電源をさらに含み、かつ制御入力と電気的
に通信する制御出力を有するマイクロプロセッサをさら
に含む請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 マイクロプロセッサが、指示治療パラメ
ータを表示する手段を含む請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】 フィルタリングシステムが、紫外域で放
射を減衰させる固定フィルタを含む請求項１から３のい
ずれか一項に記載の装置。 - 【請求項５】 フィルタシステムが、選択可能な波長以
下の放射を減衰させる可変フィルタを含む請求項１から
４のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項６】 フィルタシステムが、選択した帯域幅の
外側の放射を減衰させる可変フィルタを含む請求項１か
ら５のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項７】 窓に隣接して配置され、放射を治療領域
に導くことができる光ガイドを含む請求項１から６のい
ずれか一項に記載の装置。 - 【請求項８】 光ガイドが石英光ガイドである請求項７
に記載の装置。 - 【請求項９】 光ガイドが放射スペクトルの一部をフィ
ルタリングする請求項８に記載の装置。 - 【請求項１０】 インコヒーレント電磁エネルギーの少
なくとも一つのパルスを発生するステップと、電磁エネ
ルギーのパルスを治療すべき乾癬組織の領域に導くステ
ップを含む乾癬を治療する方法。 - 【請求項１１】 複数のパルスを供給するステップと、
パルス持続時間を選択するステップと、治療パラメータ
を制御するためにパルスの数を選択するステップとをさ
らに含む請求項１０に記載の方法。 - 【請求項１２】 健康な組織の過熱を防ぐためにパルス
持続時間およびパルスの数を選択するステップとをさら
に含む請求項１０または１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 浸透深さを制御するためにパルス持続
時間およびパルスの数を選択するステップとをさらに含
む請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１４】 浸透深さを制御するために電磁放射を
フィルタリングして放射スペクトルを制御するステップ
を含む請求項１０から１３のいずれか一項に記載の方
法。 - 【請求項１５】 広域乾癬斑を治療するために大きいス
ポットサイズを生成するステップを含む請求項１０から
１４のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１６】 少なくとも一つのパルスが複数のパル
スを含む請求項１０に記載の方法。 - 【請求項１７】 少なくとも一つのパルスが５Ｊ／ｃｍ
2〜２００Ｊ／ｃｍ2のエネルギーフルエンスを有する請
求項１０から１６のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１８】 組織を冷却するために、組織の領域に
ゲルを塗布するステップを含む請求項１０から１７のい
ずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１９】 ゲルを塗布するステップの前にゲルを
冷却するステップを含む請求項１８に記載の方法。 - 【請求項２０】 ゲルを塗布するステップの後にゲルを
冷却するステップを含む請求項１８または１９に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/535,705 US5836999A (en) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | Method and apparatus for treating psoriasis using pulsed electromagnetic radiation |
| US535705 | 1995-09-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09103508A true JPH09103508A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=24135424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8254790A Pending JPH09103508A (ja) | 1995-09-28 | 1996-09-26 | パルス電磁放射を使用して乾癬を治療する方法および装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5836999A (ja) |
| EP (1) | EP0765674A3 (ja) |
| JP (1) | JPH09103508A (ja) |
| KR (1) | KR970014787A (ja) |
| AU (1) | AU705382B2 (ja) |
| CA (1) | CA2185197A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008023355A (ja) * | 1997-05-15 | 2008-02-07 | Palomar Medical Technologies Inc | 皮膚科的治療方法及び装置 |
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| US7267675B2 (en) | 1996-01-05 | 2007-09-11 | Thermage, Inc. | RF device with thermo-electric cooler |
| US7141049B2 (en) | 1999-03-09 | 2006-11-28 | Thermage, Inc. | Handpiece for treatment of tissue |
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| US7452358B2 (en) | 1996-01-05 | 2008-11-18 | Thermage, Inc. | RF electrode assembly for handpiece |
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