JPH091046A - 積層体の製造方法 - Google Patents

積層体の製造方法

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JPH091046A
JPH091046A JP15457995A JP15457995A JPH091046A JP H091046 A JPH091046 A JP H091046A JP 15457995 A JP15457995 A JP 15457995A JP 15457995 A JP15457995 A JP 15457995A JP H091046 A JPH091046 A JP H091046A
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JP
Japan
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coating
laminate
metal alkoxide
environment
relative humidity
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JP15457995A
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English (en)
Inventor
Miyuki Miyazaki
幸 宮崎
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐熱性の低い基材に、金属アルコキシド系塗
料の硬化体からなる、屈折率などの光学的性質の安定性
が高い被膜が積層された積層体を容易に製造し得る方法
を提供する。 【構成】 金属アルコキシド(例、テトラエトキシシラ
ン)系塗料を基材(例、ポリカーボネート板)上に塗布
し、相対湿度70%以上の環境下に置くことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基材上に金属アルコキ
シド系塗料の硬化体からなる被膜が積層された積層体に
関する。特に耐熱性の低い基材に、金属アルコキシド系
塗料が低温で硬化された硬化体からなる、屈折率などの
光学的性質の安定性が高い被膜が積層された積層体に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、透明プラスチック材料が、軽量
性、易加工性、耐衝撃性の特徴を生かし、ガラスに代わ
って、液晶表示素子、光学レンズ、メガネレンズ、建築
物の窓等に広く利用されているが、これらの材料は屈折
率が高いものが多く外部光線が反射し、映り込みのため
に光学的な障害が生じる。
【0003】透明プラスチックス材料が外部光線を反射
する原因は、光が空気中から透明プラスチックス材料に
入射される際、空気と透明プラスチックス材料との屈折
率の差により界面で光の反射が起こるからである。
【0004】上記の光の反射を軽減させるために、透明
プラスチックス材料に、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、スパッタリング法などを用いて屈折率の異なる
薄膜を多層積層させる方法があった。この方法は膜厚制
御や、広い波長範囲で反射防止効果が得られる等の利点
があるが、薄膜の製造に際し、ある限られた空間で薄膜
を製造する必要があるため、大面積の基材には適さず、
コスト面から工業的には不向きであり、また、複雑な形
状の基材には適用できないという問題点があった。
【0005】他の方法として、金属アルコキシド系塗料
を用いて種々の屈折率の薄膜を透明プラスチックス材料
に積層する方法があった。この方法は、ゾル−ゲル法と
呼ばれる技術に基づくものであり、この方法によれば連
続生産が可能なのでコスト的に有利であるし、形状対応
性があるので、複雑な形状を有する基材にも反射防止性
能を付与することができる。この金属アルコキシド系塗
料は、金属アルコキシドに溶媒および水などを添加し
て、アルコキシ基の加水分解、重縮合過程を経ることに
より得られるものであり、これを基材に塗布し熱硬化す
ることにより無機質被膜が得られる。しかし、この無機
質被膜の屈折率などの光学的性質を安定化させるために
は、残存アルコキシ基、残存水酸基、残存溶媒、残存水
を極限まで除去する必要がある。このためには、熱硬化
温度は数百℃以上が必要となり、耐熱性の低い基材に
は、適用しにくいという問題があった。このため硬化温
度を低くすると、例えば、樹脂からなる基材上にオルガ
ノアルコキシシラン系塗料を塗布し、80℃程度で硬化
させた場合、得られた積層体を高湿度環境下や熱衝撃環
境下等の過酷な環境下に放置すると、被膜の屈折率が経
時変化し、反射防止性能が安定しないという問題が起こ
る。
【0006】上記の問題を解決する手段として可能性の
ある公知技術としては、シリコーン重合用の触媒等を
添加して、塗料中のオルガノアルコキシシランの反応性
をあげたり(特開平3−31380号公報、特開平3−
52977号公報)、塗料中のオルガノアルコキシシ
ランの分子量を大きくし、分子内に残存するシラノール
基量を少なくすることなどが考えられる。
【0007】しかしながら、これらの方法で常温におけ
る反応性を向上させると、塗料の貯蔵安定性が低下し、
ポットライフが短くなる可能性がある。また、これらの
技術を用いて得られる被膜でも、100℃前後の硬化温
度では光学的な安定性が不十分である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの問
題点を解決するものであり、その目的は、耐熱性の低い
基材に、金属アルコキシド系塗料の硬化体からなる、屈
折率などの光学的性質の安定性が高い被膜が積層された
積層体を容易に製造し得る方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明でいう金属アルコ
キシド系塗料とは、下記一般式(1)で表される金属ア
ルコキシドをアルコール等の有機溶媒中で加水分解、重
縮合させて塗料としたものである。 Rn M(OR1 m ・・・(1) 式中、Rはアルキル基に代表される有機基、R1 はアル
キル基、Mは金属原子である。n及びmは自然数である
が、nとmの和は金属原子Mの原子価に等しいものとす
る。
【0010】金属アルコキシドとしては、例えば、下記
一般式(2)で表されるアルコキシシラン、下記一般式
(3)で表されるアルコキシチタンなどが挙げられる。 Rn Si(OR1 m ・・・(2) Ti(OR1 4 ・・・(3) 式中、R、R1 、n及びmは前記のものと同様である。
【0011】上記アルコキシシランとしては、例えば、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシ
シラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec
−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラ
ン、モノメチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシラン、モノメチルトリ−n−プロポキシシラ
ン、モノメチルトリ−iso−プロポキシシラン、モノ
メチルトリ−n−ブトキシシラン、モノメチルトリ−s
ec−ブトキシシラン、モノメチルトリ−tert−ブ
トキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル
ジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジ−iso−プロ
ポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラン、ジメ
チルジ−sec−ブトキシシラン、ジメチルジ−ter
t−ブトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、トリ
メチルモノメトキシシラン、トリメチルモノエトキシシ
ラン、トリメチルモノ−n−プロポキシシラン、トリメ
チルモノ−iso−プロポキシシラン、トリメチルモノ
−n−ブトキシシラン、トリメチルモノ−sec−ブト
キシシラン、トリメチルモノ−tert−ブトキシシラ
ン、トリエチルエトキシシランなどが挙げられ、加水分
解、重縮合の反応性の点からテトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、モノメチルトリエトキシシランが
好ましく、特にテトラエトキシシランが好ましく用いら
れる。
【0012】上記アルコキシチタンとしては、テトラ−
iso−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタ
ンなどが加水分解、重縮合の反応性の点から好ましく用
いられる。
【0013】金属アルコキシド系塗料の硬化方法として
は、熱硬化が一般的であり、例えば、(2)式で表され
るアルコキシシランの硬化過程を模式的に表すと以下の
ようになる。
【0014】
【化1】
【0015】すなわち、アルコキシシラン系塗料を基材
に塗布し熱硬化させると、上記のような反応過程を経て
シリカ被膜が得られる。しかし、このシリカ被膜は、微
細孔を有する多孔体であり、また、多くの未反応残存基
を有するので、その光学的性質を安定化させるために
は、残存アルコキシ基、残存水酸基、残存溶媒、残存水
を極限まで除去する必要がある。このために、本発明で
は、熱硬化の代わりに相対湿度70%以上の環境下に置
くことを特徴とする。
【0016】本発明において、上記の相対湿度70%以
上の環境下としては、好ましくは、相対湿度80%以
上、更に好ましくは、相対湿度95%以上の環境下がよ
い。この相対湿度が70%未満では、残存未反応基など
の除去効果が得られない。
【0017】上記の相対湿度70%以上の環境下に置く
際の温度は、特には限定されないが、温度が低くなる
と、処理に時間がかかり、温度が高くなると有機質基材
では基材の変形が起こり易くなるので、40〜100℃
が好ましく、50〜90℃が特に好ましい。
【0018】上記の相対湿度70%以上の環境下に置く
際の時間は、相対湿度にもよるが、時間が短くなると、
残存未反応基の除去効果が得られなくなり、時間が長す
ぎても時間に応じた効果が得られなくなるので、通常5
0〜1200時間が好ましく、100〜1000時間が
より好ましい。
【0019】また、上記の高湿度環境下に置いた後、基
材の変形温度以下で適当な熱処理を行うと、被膜と基材
との密着性が向上するので好ましい。
【0020】本発明で使用される基材としては、金属ア
ルコキシド系塗料の塗布が可能な基材であれば特に限定
されず、例えば、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリウレ
タン、ポリエチレンテレフタレート、三酢酸セルロース
等からなる有機基材;ケイ酸ガラス、ケイ酸アルカリガ
ラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛石灰ガラ
ス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラス等のケイ酸塩ガ
ラス等からなる無機基材が挙げられるが、前述のように
本発明は低温硬化が可能なので、特に有機基材の場合に
効果が発揮される。
【0021】有機基材においては、ポリカーボネート、
アクリル樹脂が好ましい。
【0022】また、基材の形状は、特に限定されるもの
ではない。
【0023】また、金属アルコキシド系塗料の塗布方法
は、特に限定されず、通常使用されてきた方法が適用で
き、例えば、刷毛、スプレーコート、ディップコート、
スピンコート、ロールコート、流し塗り等による方法な
どが挙げられる。
【0024】
【作用】金属アルコキシド系塗料を基材上に塗布し、相
対湿度70%以上の環境下に置くことにより、被膜中の
残存アルコキシ基の加水分解反応、残存水酸基の重縮合
反応を促進させ、さらに被膜を形成する微粒子構造を安
定化させるので、光学的性質の安定性が高い被膜が積層
された積層体が得られる。
【0025】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。なお、結
果に示した積層体に関する各物性の評価方法は次の通り
であった。
【0026】(1) 屈折率及び膜厚 得られた積層体の被膜の屈折率及び膜厚をエリプソメー
ター(溝尻光学工業所製、DVA−36L)を用いて測
定した。 (2) 経時変化試験1 積層体を−40℃の雰囲気下に30分保持した後、取り
出し、その直後に80℃の雰囲気下に30分保持する。
これを1サイクルとして、次いで、取り出し、その直後
に再び−40℃の雰囲気下に置いて2サイクル目を開始
する。このような熱衝撃試験を210サイクル行った。
上記、熱衝撃試験の終了後、前記屈折率及び膜厚の測定
を行った。 (3) 経時変化試験2 積層体を温度60℃、相対湿度95%の環境下に1週間
放置した後、取り出し、前記屈折率及び膜厚の測定を行
った。
【0027】(実施例1)イソプロピルアルコール15
モルに対し、テトラエトキシシラン1モル及び0.3重
量%の割合で塩酸を含む水6モルを2時間攪拌、混合し
たゾルを、更にイソプロピルアルコールで希釈し固形分
濃度2.0重量%の金属アルコキシド系塗料を得た。な
お、固形分濃度とは、上記塗料中のSi原子が全てSi
2 になると考えた場合の塗料中の該SiO2 の重量百
分率である。
【0028】得られた塗料に、ポリカーボネート板(帝
人社製、商品名「テイジンパンライト」、100mm×
40mm×1mm。なお、製膜性をよくするために、ポ
リカーボネート板には、予めコロナ放電処理を、電極と
基材間の距離を5mm、供給電力4.5kW、処理時間
1秒の条件で行った。)を浸漬し、300mm/分の引
き上げ速度でディップコーティングを行った。得られた
塗布物を温度80℃、相対湿度95%の環境下に250
時間放置し、積層体を得た。得られた積層体を用いて、
前記の評価方法により各物性を評価し、結果を表1に示
した。
【0029】(実施例2)塗布物を温度60℃、相対湿
度95%の環境下に500時間放置したことの他は、実
施例1と同様にして積層体を得、前記の評価方法により
各物性を評価し、結果を表1に示した。
【0030】(実施例3)イソプロピルアルコール30
0モルに対し、テトラエトキシシラン3モル及び0.0
4重量%の割合で塩酸を含む水9モルを3時間攪拌、混
合した。次いで、この混合物にテトラ−iso−プロポ
キシチタン7モルを加え、3時間攪拌、混合したゾル
を、更にイソプロピルアルコールで希釈し固形分濃度
2.0重量%の金属アルコキシド系塗料を得た。なお、
固形分濃度とは、上記塗料中のSi原子が全てSiO2
に、及びTi原子が全てTiO2 になると考えた場合
の、SiO 2 とTiO2 の和の塗料中の重量百分率であ
る。
【0031】得られた塗料に、実施例1と同様のポリカ
ーボネート板を浸漬し、240mm/分の引き上げ速度
でディップコーティングを行った。得られた塗布物を温
度80℃、相対湿度80%の環境下に250時間放置
し、積層体を得た。得られた積層体を用いて、前記の評
価方法により各物性を評価し、結果を表1に示した。
【0032】(比較例1)塗布物を高湿度環境下に放置
せずに、温度100℃、相対湿度5%以下の環境下に1
時間放置したことの他は、実施例1と同様にして積層体
を得、前記の評価方法により各物性を評価し、結果を表
1に示した。。
【0033】(比較例2)塗布物を高湿度環境下に放置
せずに、温度80℃、相対湿度50%の環境下に250
時間放置したことの他は、実施例1と同様にして積層体
を得、前記の評価方法により各物性を評価し、結果を表
1に示した。。
【0034】
【表1】
【0035】
【発明の効果】本発明の積層体の製造方法は、金属アル
コキシド系塗料を基材上に塗布し、相対湿度70%以上
の環境下に置くので、被膜中の残存アルコキシ基の加水
分解反応、残存水酸基の重縮合反応を促進させ、さらに
被膜を形成する微粒子構造を安定化させるので、光学的
性質の安定性が高い被膜が積層された積層体が得られ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属アルコキシド系塗料を基材上に塗布
    し、相対湿度70%以上の環境下に置くことを特徴とす
    る積層体の製造方法。
JP15457995A 1995-06-21 1995-06-21 積層体の製造方法 Pending JPH091046A (ja)

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JP15457995A JPH091046A (ja) 1995-06-21 1995-06-21 積層体の製造方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006342340A (ja) * 2005-05-09 2006-12-21 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜、シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法及び積層体
JP2009161672A (ja) * 2008-01-08 2009-07-23 Seiko Instruments Inc 高分子樹脂材料からなる成形体の表面改質方法

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