JPH09106538A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH09106538A JPH09106538A JP7264196A JP26419695A JPH09106538A JP H09106538 A JPH09106538 A JP H09106538A JP 7264196 A JP7264196 A JP 7264196A JP 26419695 A JP26419695 A JP 26419695A JP H09106538 A JPH09106538 A JP H09106538A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 非磁性基体上のＣＳＳ領域のレーザースポッ
ト隆起部に生じた異常突起等を除去した高品質の磁気記
録媒体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 平面ポリッシュ加工を施した非磁性基体
１を用い、そのＣＳＳ領域１２に多数のレーザースポッ
ト状隆起部１４を形成するレーザーテクスチャー加工を
行い、しかる後、スポット状隆起部１４の頂部を丸み付
けする砥粒を用いたテープテクスチャー加工を行う。レ
ーザーテクスチャー加工時に生じた異常突起が除去され
ると共に、ディスク円周方向に粗さの小さな機械的テク
スチャー加工溝１５が多数形成される。第２段目の機械
的テクスチャー加工により異常突起等が除去されるた
め、その異常突起等による不良やディフェクトエラーを
抑制でき、高品質の高密度記録の媒体を得ることができ
る。また、データ領域での磁性膜の結晶方向性の付与及
びヘッド吸着現象の抑制を同時に達成できる。
ト隆起部に生じた異常突起等を除去した高品質の磁気記
録媒体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 平面ポリッシュ加工を施した非磁性基体
１を用い、そのＣＳＳ領域１２に多数のレーザースポッ
ト状隆起部１４を形成するレーザーテクスチャー加工を
行い、しかる後、スポット状隆起部１４の頂部を丸み付
けする砥粒を用いたテープテクスチャー加工を行う。レ
ーザーテクスチャー加工時に生じた異常突起が除去され
ると共に、ディスク円周方向に粗さの小さな機械的テク
スチャー加工溝１５が多数形成される。第２段目の機械
的テクスチャー加工により異常突起等が除去されるた
め、その異常突起等による不良やディフェクトエラーを
抑制でき、高品質の高密度記録の媒体を得ることができ
る。また、データ領域での磁性膜の結晶方向性の付与及
びヘッド吸着現象の抑制を同時に達成できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
ハードディスク装置などに使用される磁気ディスク等の
磁気記録媒体及びその製造方法に関し、特に、媒体表面
に凹凸面を反映させるための非磁性基体表面のテクスチ
ャー加工技術に関する。
ハードディスク装置などに使用される磁気ディスク等の
磁気記録媒体及びその製造方法に関し、特に、媒体表面
に凹凸面を反映させるための非磁性基体表面のテクスチ
ャー加工技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置に用いられている
一般的な磁気記録媒体の層構成は、図６に示す如く、デ
ィスク状の非磁性基板１ａ上に非磁性金属層１ｂを形成
して非磁性基体１とし、この非磁性基体１の上に非磁性
金属下地層２を積層した後、この金属下地層２上に、強
磁性合金体であるＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ（コバルト−クロム
−タンタル）、またはＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ（コバルト−ク
ロム−白金）などにより磁性層３を薄膜状に積層形成
し、更に、この磁性層３上にカーボン保護層４を形成し
て成る。そして、この保護層４の上に、必要に応じて液
体潤滑剤からなる潤滑層５を塗布して磁気ディスク１０
が作製されている。
一般的な磁気記録媒体の層構成は、図６に示す如く、デ
ィスク状の非磁性基板１ａ上に非磁性金属層１ｂを形成
して非磁性基体１とし、この非磁性基体１の上に非磁性
金属下地層２を積層した後、この金属下地層２上に、強
磁性合金体であるＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ（コバルト−クロム
−タンタル）、またはＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ（コバルト−ク
ロム−白金）などにより磁性層３を薄膜状に積層形成
し、更に、この磁性層３上にカーボン保護層４を形成し
て成る。そして、この保護層４の上に、必要に応じて液
体潤滑剤からなる潤滑層５を塗布して磁気ディスク１０
が作製されている。
【０００３】非磁性基体１としては、例えばＡｌ−Ｍｇ
合金の非磁性基板１ａに無電解メッキによりＮｉ−Ｐメ
ッキ層の非磁性金属層１ｂを形成したもの、アルマイト
基体、ガラス基体、セラミック基体などが用いられる。
そして、この非磁性基体１を必要に応じて研磨（ポリッ
シュ仕上げ）し、その表面にテクスチャー加工法で凹凸
粗さ面を付与する。その後、この非磁性基体１を約200
°Ｃに加熱しながらＡｒ雰囲気下のスパッタリングによ
り層厚約200nm のＣｒからなる非磁性金属下地層２、層
厚約30nmのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａなどからなる磁性層３、お
よび層厚約15nmのカーボンからなる保護層４を順次スパ
ッタ法により積層形成する。そして、保護層４上に、フ
ロロカーボン系の液体潤滑剤を塗布して層厚約２nmの潤
滑層５を形成し、磁気ディスク１０を製造する。
合金の非磁性基板１ａに無電解メッキによりＮｉ−Ｐメ
ッキ層の非磁性金属層１ｂを形成したもの、アルマイト
基体、ガラス基体、セラミック基体などが用いられる。
そして、この非磁性基体１を必要に応じて研磨（ポリッ
シュ仕上げ）し、その表面にテクスチャー加工法で凹凸
粗さ面を付与する。その後、この非磁性基体１を約200
°Ｃに加熱しながらＡｒ雰囲気下のスパッタリングによ
り層厚約200nm のＣｒからなる非磁性金属下地層２、層
厚約30nmのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａなどからなる磁性層３、お
よび層厚約15nmのカーボンからなる保護層４を順次スパ
ッタ法により積層形成する。そして、保護層４上に、フ
ロロカーボン系の液体潤滑剤を塗布して層厚約２nmの潤
滑層５を形成し、磁気ディスク１０を製造する。
【０００４】このような磁気ディスク１０が図７に示す
ハードディスク装置などに実装されると、装置の磁気ヘ
ッド２０との接触動作を繰り返すこととなる。これは、
一般に、ハードディスク装置などにおいて、停止時に磁
気ヘッド２０と磁気ディスク１０の表面のディスク内周
領域で接触する状態であり、この状態から稼動時のみに
ヘッド２０が磁気ディスク１０表面から僅かに浮上し
て、ディスク外周側のデータ領域で情報の読み取り動作
又は書込み動作が行われるＣＳＳ（コンタクト・スター
ト・ストップ）方式が採用されているためである。従っ
て、電源のオン・オフに伴いヘッド２０と磁気ディスク
１０はディスク内周領域のＣＳＳ領域で摺動状態となる
ため、媒体表面の耐磨耗性や潤滑性が不十分な場合、こ
の摺動が繰り返されることによって表面が磨滅し、程度
のひどい場合には磁性層３が破損して記録再生が不可能
となる。この対策として、耐磨耗性を向上させる目的
で、非磁性金属層（Ｎｉ−Ｐメッキ）１２表面のＣＳＳ
領域上に円周方向にテクスチャー加工溝を施して粗さ
（凹凸）を付与し、その粗さを保護層４の表面にまで反
映させるようにしている。媒体表面のＣＳＳ領域の粗さ
（凹凸溝）が大きければ大きい程、ヘッドと媒体の接触
面積が減少する。このため、一般に、テクスチャー加工
の第１段目の加工では、大きな砥粒のテープ（ベースフ
ィルム上に砥粒とバインダを接着したもの）で擦り付け
るテープテクスチャー加工を施すか、大きな砥粒のスラ
リーでスラリーテクスチャー加工（パッドに砥粒と研磨
液を滴下してテクスチャー加工すること）を施し、非磁
性基体１に粗さ面を付与した後、第２段目のテクスチャ
ー加工では、小さな砥粒のテープ又はスラリーを用いて
初段加工時（第１段目）に発生した異常突起を除去する
ようにしている。
ハードディスク装置などに実装されると、装置の磁気ヘ
ッド２０との接触動作を繰り返すこととなる。これは、
一般に、ハードディスク装置などにおいて、停止時に磁
気ヘッド２０と磁気ディスク１０の表面のディスク内周
領域で接触する状態であり、この状態から稼動時のみに
ヘッド２０が磁気ディスク１０表面から僅かに浮上し
て、ディスク外周側のデータ領域で情報の読み取り動作
又は書込み動作が行われるＣＳＳ（コンタクト・スター
ト・ストップ）方式が採用されているためである。従っ
て、電源のオン・オフに伴いヘッド２０と磁気ディスク
１０はディスク内周領域のＣＳＳ領域で摺動状態となる
ため、媒体表面の耐磨耗性や潤滑性が不十分な場合、こ
の摺動が繰り返されることによって表面が磨滅し、程度
のひどい場合には磁性層３が破損して記録再生が不可能
となる。この対策として、耐磨耗性を向上させる目的
で、非磁性金属層（Ｎｉ−Ｐメッキ）１２表面のＣＳＳ
領域上に円周方向にテクスチャー加工溝を施して粗さ
（凹凸）を付与し、その粗さを保護層４の表面にまで反
映させるようにしている。媒体表面のＣＳＳ領域の粗さ
（凹凸溝）が大きければ大きい程、ヘッドと媒体の接触
面積が減少する。このため、一般に、テクスチャー加工
の第１段目の加工では、大きな砥粒のテープ（ベースフ
ィルム上に砥粒とバインダを接着したもの）で擦り付け
るテープテクスチャー加工を施すか、大きな砥粒のスラ
リーでスラリーテクスチャー加工（パッドに砥粒と研磨
液を滴下してテクスチャー加工すること）を施し、非磁
性基体１に粗さ面を付与した後、第２段目のテクスチャ
ー加工では、小さな砥粒のテープ又はスラリーを用いて
初段加工時（第１段目）に発生した異常突起を除去する
ようにしている。
【０００５】しかしながら、上記のテープテクスチャー
加工又はスラリーテクスチャー加工等の砥粒を用いた機
械的テクスチャー加工では、初段テクスチャー加工で基
体１表面に粗さを付与した後、第２段目のテクスチャー
加工で初段テクスチャー加工の際に生じた異常突起を除
去しているため、最低２回の機械的テクスチャー加工を
必要としている。
加工又はスラリーテクスチャー加工等の砥粒を用いた機
械的テクスチャー加工では、初段テクスチャー加工で基
体１表面に粗さを付与した後、第２段目のテクスチャー
加工で初段テクスチャー加工の際に生じた異常突起を除
去しているため、最低２回の機械的テクスチャー加工を
必要としている。
【０００６】そこで、最近ではデータ領域の粗さを小さ
くして記録密度を上げると共に、ＣＳＳ領域に必要な粗
さを確保するために、図８に示すように、レーザー加工
により基体１表面のＣＳＳ領域１２に多数の散在したレ
ーザースポット状隆起部１４を形成して表面粗さ出しを
行うレーザーテクスチャー加工が提案されている。この
レーザーテクスチャー加工法によると、ＣＳＳ領域１２
のデイスク円周方向に多数のスポット状隆起部１４から
成る隆起列が形成され、通称３．５インチの磁気ディス
クの場合、スポット状隆起部１４は片面当たり最多で10
8 個程度にも及ぶ。スポット状隆起部１４はクレータ状
を呈しており、中央窪み１４ａとその周りに輪状端部１
４ｂとを有している。このようなスポット状隆起部１４
の形成メカニズムは、基体１表面にレーザースポットを
照射すると、その照射スポット面の空気が瞬間的に昇温
して爆発的に断熱膨張することにより生じる衝撃波で基
体１表面がスポット的に打ち凹むものと考えられてい
る。
くして記録密度を上げると共に、ＣＳＳ領域に必要な粗
さを確保するために、図８に示すように、レーザー加工
により基体１表面のＣＳＳ領域１２に多数の散在したレ
ーザースポット状隆起部１４を形成して表面粗さ出しを
行うレーザーテクスチャー加工が提案されている。この
レーザーテクスチャー加工法によると、ＣＳＳ領域１２
のデイスク円周方向に多数のスポット状隆起部１４から
成る隆起列が形成され、通称３．５インチの磁気ディス
クの場合、スポット状隆起部１４は片面当たり最多で10
8 個程度にも及ぶ。スポット状隆起部１４はクレータ状
を呈しており、中央窪み１４ａとその周りに輪状端部１
４ｂとを有している。このようなスポット状隆起部１４
の形成メカニズムは、基体１表面にレーザースポットを
照射すると、その照射スポット面の空気が瞬間的に昇温
して爆発的に断熱膨張することにより生じる衝撃波で基
体１表面がスポット的に打ち凹むものと考えられてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
テクスチャー加工にレーザーテクスチャー加工法を用い
る磁気記録媒体の製造方法にあっては、次のような問題
点がある。
テクスチャー加工にレーザーテクスチャー加工法を用い
る磁気記録媒体の製造方法にあっては、次のような問題
点がある。
【０００８】 レーザーテクスチャー加工法を用いて
スポット状隆起部１４を形成した場合、図８及び図９に
誇張して示す如く、輪状端部１４ｂの頂部に基体１表面
の異物や残渣等を要因として異常突起Ｃが生じることが
ある。この異常突起Ｃが基体表面に残されたまま、非磁
性金属下地層２、磁性層３、保護層４、及び潤滑層５が
積層形成されてしまうと、最終的には異常突起不良或い
はこの異常突起を成膜後処理のヘッドバニッシュ等によ
り削り取った跡部がディフェクトエラーとして検出され
てしまい、高密度磁気記録の品質が得られ難くなる。
スポット状隆起部１４を形成した場合、図８及び図９に
誇張して示す如く、輪状端部１４ｂの頂部に基体１表面
の異物や残渣等を要因として異常突起Ｃが生じることが
ある。この異常突起Ｃが基体表面に残されたまま、非磁
性金属下地層２、磁性層３、保護層４、及び潤滑層５が
積層形成されてしまうと、最終的には異常突起不良或い
はこの異常突起を成膜後処理のヘッドバニッシュ等によ
り削り取った跡部がディフェクトエラーとして検出され
てしまい、高密度磁気記録の品質が得られ難くなる。
【０００９】 他方、基体１のＣＳＳ領域１２では多
数のスポット状隆起部１４が形成されており、データ領
域１６では殆ど平坦面となっているため、その境界部１
８では強い段差を呈している。このため、磁気ディスク
の回転により生じるディスク表面空気膜の作用で浮上し
た磁気ヘッド２０がその境界部１８を通過する際にその
付近の異常気流（乱流）によってヘッド浮上特性が不安
定となり、境界部１８での記録再生特性の劣化や、最悪
の場合ヘッドクラッシュ等の修復不能な障害をもたらす
おそれがある。
数のスポット状隆起部１４が形成されており、データ領
域１６では殆ど平坦面となっているため、その境界部１
８では強い段差を呈している。このため、磁気ディスク
の回転により生じるディスク表面空気膜の作用で浮上し
た磁気ヘッド２０がその境界部１８を通過する際にその
付近の異常気流（乱流）によってヘッド浮上特性が不安
定となり、境界部１８での記録再生特性の劣化や、最悪
の場合ヘッドクラッシュ等の修復不能な障害をもたらす
おそれがある。
【００１０】そこで上記問題点に鑑み、本発明の第１の
課題は、非磁性基体の上にレーザーテクスチャー加工の
外、機械的テクスチャー加工をも施すことにより、レー
ザースポット隆起部に生じた異常突起等を除去した磁気
記録媒体及びその製造方法を提供することにある。ま
た、本発明の第２の課題は、ＣＳＳ領域とデータ領域と
の境界部での異常気流の発生を抑制することにより、境
界部での記録再生特性の劣化やヘッドクラッシュ等の修
復不能な障害を防止できる磁気記録媒体及びその製造方
法を提供することにある。
課題は、非磁性基体の上にレーザーテクスチャー加工の
外、機械的テクスチャー加工をも施すことにより、レー
ザースポット隆起部に生じた異常突起等を除去した磁気
記録媒体及びその製造方法を提供することにある。ま
た、本発明の第２の課題は、ＣＳＳ領域とデータ領域と
の境界部での異常気流の発生を抑制することにより、境
界部での記録再生特性の劣化やヘッドクラッシュ等の修
復不能な障害を防止できる磁気記録媒体及びその製造方
法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記第１の課題を解決す
るために、本発明の講じた第１の手段は、レーザーテク
スチャー加工の後に、レーザースポット状隆起部の丸み
付けに適した機械的テクスチャー加工を施したところに
ある。即ち、本発明の第１の手段は、非磁性基体の表面
に非磁性金属下地層，磁性層，保護層を順次積層し、そ
の保護層の上に液体潤滑層を塗布して成る磁気記録媒体
において、上記非磁性基体の表面のＣＳＳ領域に形成さ
れた多数のレーザースポット状隆起部と、上記ＣＳＳ領
域及びデータ領域に形成された機械的テクスチャー加工
溝とを併有して成ることを特徴とする。ここで、レーザ
ースポット状隆起部の隆起高さｈとしては５〜100 nmで
あることが好ましく、且つ、上記隆起高さｈと上記機械
的テクスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの比Ｒａ
／ｈは2.1 ×10-2〜40×10-2であることが好ましい。特
に、比Ｒａ／ｈは8.0 ×10-2〜16×10-2であることが望
ましい。
るために、本発明の講じた第１の手段は、レーザーテク
スチャー加工の後に、レーザースポット状隆起部の丸み
付けに適した機械的テクスチャー加工を施したところに
ある。即ち、本発明の第１の手段は、非磁性基体の表面
に非磁性金属下地層，磁性層，保護層を順次積層し、そ
の保護層の上に液体潤滑層を塗布して成る磁気記録媒体
において、上記非磁性基体の表面のＣＳＳ領域に形成さ
れた多数のレーザースポット状隆起部と、上記ＣＳＳ領
域及びデータ領域に形成された機械的テクスチャー加工
溝とを併有して成ることを特徴とする。ここで、レーザ
ースポット状隆起部の隆起高さｈとしては５〜100 nmで
あることが好ましく、且つ、上記隆起高さｈと上記機械
的テクスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの比Ｒａ
／ｈは2.1 ×10-2〜40×10-2であることが好ましい。特
に、比Ｒａ／ｈは8.0 ×10-2〜16×10-2であることが望
ましい。
【００１２】このような磁気記録媒体を得る製造方法と
しては、上記テクスチャー加工工程として、ＣＳＳ領域
に多数のスポット状隆起部を形成するレーザーテクスチ
ャー加工を行った後に、少なくともＣＳＳ領域に上記ス
ポット状隆起部の頂部を丸み付けする砥粒を用いた機械
的テクスチャー加工を行う。
しては、上記テクスチャー加工工程として、ＣＳＳ領域
に多数のスポット状隆起部を形成するレーザーテクスチ
ャー加工を行った後に、少なくともＣＳＳ領域に上記ス
ポット状隆起部の頂部を丸み付けする砥粒を用いた機械
的テクスチャー加工を行う。
【００１３】上記第２の課題を解決するために、本発明
の講じた第２の手段は、ＣＳＳ領域のデータ領域側にレ
ーザースポット状隆起部の高さがＣＳＳ領域からデータ
領域にかけて漸減する隆起高さ勾配部を有して成ること
を特徴とする。
の講じた第２の手段は、ＣＳＳ領域のデータ領域側にレ
ーザースポット状隆起部の高さがＣＳＳ領域からデータ
領域にかけて漸減する隆起高さ勾配部を有して成ること
を特徴とする。
【００１４】このような磁気記録媒体を得る製造方法と
しては、レーザーテクスチャー加工後の機械的テクスチ
ャー加工において、テーパ状ローラを用い、ＣＳＳ領域
のデータ領域側にスポット状隆起部の高さをＣＳＳ領域
からデータ領域にかけて漸減させるように施すテープテ
クスチャー加工とすることが好ましい。
しては、レーザーテクスチャー加工後の機械的テクスチ
ャー加工において、テーパ状ローラを用い、ＣＳＳ領域
のデータ領域側にスポット状隆起部の高さをＣＳＳ領域
からデータ領域にかけて漸減させるように施すテープテ
クスチャー加工とすることが好ましい。
【００１５】〔作用〕非磁性基体の表面のＣＳＳ領域に
レーザーテクスチャー加工を施した後、レーザースポッ
ト状隆起部の丸み付けに適した機械的テクスチャー加工
を施すると、そのレーザースポット隆起部に生じた異常
突起等が除去される。このため、その異常突起等による
不良やディフェクトエラーを抑制でき、高密度記録の媒
体を得ることができる。また、データ領域も同時に機械
的テクスチャー加工を施す場合には、データ領域上の細
かな円周方向のテクスチャー溝に沿って磁性膜の結晶方
向性が円周方向に揃うことにより磁気特性の改善に寄与
すると共に、多少の細かな凹凸面によってヘッド吸着現
象が抑制される。
レーザーテクスチャー加工を施した後、レーザースポッ
ト状隆起部の丸み付けに適した機械的テクスチャー加工
を施すると、そのレーザースポット隆起部に生じた異常
突起等が除去される。このため、その異常突起等による
不良やディフェクトエラーを抑制でき、高密度記録の媒
体を得ることができる。また、データ領域も同時に機械
的テクスチャー加工を施す場合には、データ領域上の細
かな円周方向のテクスチャー溝に沿って磁性膜の結晶方
向性が円周方向に揃うことにより磁気特性の改善に寄与
すると共に、多少の細かな凹凸面によってヘッド吸着現
象が抑制される。
【００１６】そして、レーザースポット状隆起部の隆起
高さｈを５〜100 nmとし、且つ、隆起高さｈと機械的テ
クスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの比Ｒａ／ｈ
を2.1 ×10-2〜40×10-2とすると、ＣＳＳ領域でのヘッ
ドとの接触面積が少なく、耐磨耗性が良好であり、ま
た、磁気特性も不具合なく、ヘッド吸着現象も充分に抑
制できることが判明した。
高さｈを５〜100 nmとし、且つ、隆起高さｈと機械的テ
クスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの比Ｒａ／ｈ
を2.1 ×10-2〜40×10-2とすると、ＣＳＳ領域でのヘッ
ドとの接触面積が少なく、耐磨耗性が良好であり、ま
た、磁気特性も不具合なく、ヘッド吸着現象も充分に抑
制できることが判明した。
【００１７】また、ＣＳＳ領域のデータ領域側に隆起高
さ勾配部を設けた磁気記録媒体によれば、境界部には急
峻な段差がないので、その付近での異常気流を抑制でき
る。
さ勾配部を設けた磁気記録媒体によれば、境界部には急
峻な段差がないので、その付近での異常気流を抑制でき
る。
【００１８】このため、そこを通過する磁気ヘッドの動
きを安定させることができるので、記録再生特性の劣化
やヘッドクラッシュ等を防止できる。
きを安定させることができるので、記録再生特性の劣化
やヘッドクラッシュ等を防止できる。
【００１９】
【００２０】
【実施例】以下に添付図面を参照して、本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【００２１】〔第１実施例〕本例の磁気記録媒体は、図
６に示す如く、Ａｌ製の非磁性基板１ａとこの上に形成
したＮｉ−Ｐ無電解メッキの非磁性金属層１ｂからなる
非磁性基体（ディスク板）１を用い、その表面に平面ポ
リッシュ加工を施した後、後述するようなテクスチャー
加工を行い、しかる後、そのテクスチャー加工が施され
た非磁性基体１の表面に、Ｃｒ等の非磁性金属下地層
２、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａなどからなる強磁性合金体の磁性
層３、及びカーボン保護層４を順次積層形成し、その保
護層４の表面に液体潤滑剤の潤滑層５を形成したもので
ある。
６に示す如く、Ａｌ製の非磁性基板１ａとこの上に形成
したＮｉ−Ｐ無電解メッキの非磁性金属層１ｂからなる
非磁性基体（ディスク板）１を用い、その表面に平面ポ
リッシュ加工を施した後、後述するようなテクスチャー
加工を行い、しかる後、そのテクスチャー加工が施され
た非磁性基体１の表面に、Ｃｒ等の非磁性金属下地層
２、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａなどからなる強磁性合金体の磁性
層３、及びカーボン保護層４を順次積層形成し、その保
護層４の表面に液体潤滑剤の潤滑層５を形成したもので
ある。
【００２２】図１に示すように、本例のテクスチャー加
工では、まず、非磁性基体１の表面に対し、ＣＳＳ領域
１２に多数のレーザースポット状隆起部１４を形成する
レーザーテクスチャー加工（ドット加工）を行う。ここ
で、図２に示す如く、スポット状隆起部１４の中央窪み
１４ａの深さｄ、輪状端部１４ｂの直径φ、輪状端部１
４ｂの隆起高さｈ、隣接する隆起部１４同士の間隔Ｐを
変えたときの適正条件を表１に掲げる。
工では、まず、非磁性基体１の表面に対し、ＣＳＳ領域
１２に多数のレーザースポット状隆起部１４を形成する
レーザーテクスチャー加工（ドット加工）を行う。ここ
で、図２に示す如く、スポット状隆起部１４の中央窪み
１４ａの深さｄ、輪状端部１４ｂの直径φ、輪状端部１
４ｂの隆起高さｈ、隣接する隆起部１４同士の間隔Ｐを
変えたときの適正条件を表１に掲げる。
【００２３】
【表１】
【００２４】そして、この後、スポット状隆起部１４の
頂部を丸み付けする砥粒を用いた機械的テクスチャー加
工を行う。本例では図４に示すように、細かな砥粒のテ
ープ（ベースフィルム上に砥粒とバインダを接着したも
の）２３をローラ２４（本例では図５（ａ）の段付きロ
ーラ２１）を用いて非磁性基体１に擦り付けるテープテ
クスチャー加工を行った。これによって、レーザーテク
スチャー加工時に生じた図８に示す如くの異常突起Ｃが
除去されると共に、図１に示す如くディスク円周方向に
粗さの小さな機械的テクスチャー加工溝１５が多数形成
される。異常突起等が除去されるため、その異常突起等
による不良やディフェクトエラーを抑制でき、高密度記
録の媒体を得ることができる。本例ではデータ領域１６
も同時にテープテクスチャー加工が施されるので、デー
タ領域１６上の細かな機械的テクスチャー溝１５によっ
て、その後の成膜過程における磁性膜の結晶方向性が揃
い磁気特性の改善に寄与すると共に、データ領域１６上
の細かな凹凸面がヘッド吸着現象を抑制する効果をもた
らす。なお、異常突起Ｃの除去のみを達成するには、Ｃ
ＳＳ領域１２のみに機械的テクスチャー加工を施すよう
にすれば良い。
頂部を丸み付けする砥粒を用いた機械的テクスチャー加
工を行う。本例では図４に示すように、細かな砥粒のテ
ープ（ベースフィルム上に砥粒とバインダを接着したも
の）２３をローラ２４（本例では図５（ａ）の段付きロ
ーラ２１）を用いて非磁性基体１に擦り付けるテープテ
クスチャー加工を行った。これによって、レーザーテク
スチャー加工時に生じた図８に示す如くの異常突起Ｃが
除去されると共に、図１に示す如くディスク円周方向に
粗さの小さな機械的テクスチャー加工溝１５が多数形成
される。異常突起等が除去されるため、その異常突起等
による不良やディフェクトエラーを抑制でき、高密度記
録の媒体を得ることができる。本例ではデータ領域１６
も同時にテープテクスチャー加工が施されるので、デー
タ領域１６上の細かな機械的テクスチャー溝１５によっ
て、その後の成膜過程における磁性膜の結晶方向性が揃
い磁気特性の改善に寄与すると共に、データ領域１６上
の細かな凹凸面がヘッド吸着現象を抑制する効果をもた
らす。なお、異常突起Ｃの除去のみを達成するには、Ｃ
ＳＳ領域１２のみに機械的テクスチャー加工を施すよう
にすれば良い。
【００２５】ここで、第２段目の機械的テクスチャー加
工によるテクスチャー溝１５の粗さ度を、レーザーテク
スチャーによるスポット状隆起部１４の隆起高さｈとの
関係で表１に併せて掲げてある。ＣＳＳ領域でのスポッ
ト状隆起部１４の凹凸に重畳した機械的テクスチャー溝
１５の凹凸高さΔｈとしてはデータ領域における中心線
平均粗さＲａに相当している。なお、中心線平均粗さＲ
ａはデータ領域１６において径方向に測定した値であ
る。機械的テクスチャー溝１５の中心線平均粗さＲａ
は、ＣＳＳ領域で異常突起Ｃを除去できる点、データ領
域で磁性膜の結晶方向性を持たせる点、データ領域でヘ
ッド吸着現象を抑制する凹凸を付与する点で重要であ
る。粗さＲａが小さすぎると、結晶方向性の付与及びヘ
ッド吸着現象の抑制が減じ、粗さＲａが大きすぎると、
異常突起の除去効果が薄れる。スポット状隆起部群の隆
起高さｈは粗さに関係しているので、表１から、隆起高
さｈと機械的テクスチャー加工溝１５の粗さＲａとの比
Ｒａ／ｈを採ると、ｈが５〜10nmではＲａ／ｈが8.0 〜
40×10-2、10〜30nmでは2.6 〜45×10-2、30〜60nmでは
2.5 〜23×10 -2 、60〜100nm では2.0 〜16×10-2であ
る。従って、許容できるＲａ／ｈの範囲は2.1 〜40×10
-2 で、望ましくは8.0 〜16×10 -2 と判明した。
工によるテクスチャー溝１５の粗さ度を、レーザーテク
スチャーによるスポット状隆起部１４の隆起高さｈとの
関係で表１に併せて掲げてある。ＣＳＳ領域でのスポッ
ト状隆起部１４の凹凸に重畳した機械的テクスチャー溝
１５の凹凸高さΔｈとしてはデータ領域における中心線
平均粗さＲａに相当している。なお、中心線平均粗さＲ
ａはデータ領域１６において径方向に測定した値であ
る。機械的テクスチャー溝１５の中心線平均粗さＲａ
は、ＣＳＳ領域で異常突起Ｃを除去できる点、データ領
域で磁性膜の結晶方向性を持たせる点、データ領域でヘ
ッド吸着現象を抑制する凹凸を付与する点で重要であ
る。粗さＲａが小さすぎると、結晶方向性の付与及びヘ
ッド吸着現象の抑制が減じ、粗さＲａが大きすぎると、
異常突起の除去効果が薄れる。スポット状隆起部群の隆
起高さｈは粗さに関係しているので、表１から、隆起高
さｈと機械的テクスチャー加工溝１５の粗さＲａとの比
Ｒａ／ｈを採ると、ｈが５〜10nmではＲａ／ｈが8.0 〜
40×10-2、10〜30nmでは2.6 〜45×10-2、30〜60nmでは
2.5 〜23×10 -2 、60〜100nm では2.0 〜16×10-2であ
る。従って、許容できるＲａ／ｈの範囲は2.1 〜40×10
-2 で、望ましくは8.0 〜16×10 -2 と判明した。
【００２６】かかる範囲では異常突起の除去，結晶方向
性の付与及びヘッド吸着現象の抑制を同時に達成でき
た。
性の付与及びヘッド吸着現象の抑制を同時に達成でき
た。
【００２７】〔第２実施例〕本例は、図５（ｂ）に示す
テーパ状ローラ２２を用いて第２段目のテープテクスチ
ャー加工を行い、図２に示す如くスポット状隆起部１４
の隆起高さｈ0 が一様のＣＳＳ領域１２とデータ領域１
６との境界部において、隆起部の高さｈ1 がＣＳＳ領域
１２からデータ領域１６にかけて漸減する隆起高さ勾配
部１７を形成する。ここで、勾配部１７の領域幅は、例
えば最小で0.05mm、最大で20mmとし、勾配部１７の外周
側と内周側の隆起高さの高低差は、例えば最小で５nm、
最大で95nmとする。なお、ＣＳＳ領域の全体が隆起高さ
勾配部となっていても良い。
テーパ状ローラ２２を用いて第２段目のテープテクスチ
ャー加工を行い、図２に示す如くスポット状隆起部１４
の隆起高さｈ0 が一様のＣＳＳ領域１２とデータ領域１
６との境界部において、隆起部の高さｈ1 がＣＳＳ領域
１２からデータ領域１６にかけて漸減する隆起高さ勾配
部１７を形成する。ここで、勾配部１７の領域幅は、例
えば最小で0.05mm、最大で20mmとし、勾配部１７の外周
側と内周側の隆起高さの高低差は、例えば最小で５nm、
最大で95nmとする。なお、ＣＳＳ領域の全体が隆起高さ
勾配部となっていても良い。
【００２８】このように、本例ではＣＳＳ領域１２とデ
ータ領域１６との境界部の隆起部１４の高さが勾配を以
て連絡しているため、磁気ヘッド２０が境界部を通過す
る際、その付近での異常気流が抑制されるため、磁気ヘ
ッド２０の動き（シーク動作など）を安定させることが
できる。これにより、記録再生特性の劣化やヘッドクラ
ッシュ等を防止できる。
ータ領域１６との境界部の隆起部１４の高さが勾配を以
て連絡しているため、磁気ヘッド２０が境界部を通過す
る際、その付近での異常気流が抑制されるため、磁気ヘ
ッド２０の動き（シーク動作など）を安定させることが
できる。これにより、記録再生特性の劣化やヘッドクラ
ッシュ等を防止できる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、非磁性
基体の表面のＣＳＳ領域にレーザーテクスチャー加工を
施した後、レーザースポット状隆起部の丸み付けに適し
た機械的テクスチャー加工を施して成ることを特徴とす
る。従って、次のような効果を奏する。
基体の表面のＣＳＳ領域にレーザーテクスチャー加工を
施した後、レーザースポット状隆起部の丸み付けに適し
た機械的テクスチャー加工を施して成ることを特徴とす
る。従って、次のような効果を奏する。
【００３０】 機械的テクスチャー加工によって、レ
ーザースポット隆起部に生じた異常突起等が除去され
る。このため、その異常突起等による不良やディフェク
トエラーを抑制でき、高密度記録の媒体を得ることがで
きる。また、データ領域も同時に機械的テクスチャー加
工を施す場合には、データ領域上の細かなテクスチャー
溝によって磁性膜の結晶方向性が揃い磁気特性の改善に
寄与すると共に、多少の細かな凹凸面でヘッド吸着現象
が抑制される。
ーザースポット隆起部に生じた異常突起等が除去され
る。このため、その異常突起等による不良やディフェク
トエラーを抑制でき、高密度記録の媒体を得ることがで
きる。また、データ領域も同時に機械的テクスチャー加
工を施す場合には、データ領域上の細かなテクスチャー
溝によって磁性膜の結晶方向性が揃い磁気特性の改善に
寄与すると共に、多少の細かな凹凸面でヘッド吸着現象
が抑制される。
【００３１】 特に、レーザースポット状隆起部の隆
起高さ（平均）ｈを５〜100 nmとし、且つ、隆起高さｈ
と機械的テクスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの
比Ｒａ／ｈを2.1 〜40×10 -2 とすると、ＣＳＳ領域で
のヘッドとの接触面積が少なく、耐磨耗性が良好であ
り、また、磁気特性も不具合なく、ヘッド吸着現象も充
分に抑制できることが判明した。特に、8.0 〜16×10
-2 の場合、異常突起の除去，データ領域での磁性膜の
結晶方向性の付与及びヘッド吸着現象の抑制を同時に達
成できた。
起高さ（平均）ｈを５〜100 nmとし、且つ、隆起高さｈ
と機械的テクスチャー加工溝の中心線平均粗さＲａとの
比Ｒａ／ｈを2.1 〜40×10 -2 とすると、ＣＳＳ領域で
のヘッドとの接触面積が少なく、耐磨耗性が良好であ
り、また、磁気特性も不具合なく、ヘッド吸着現象も充
分に抑制できることが判明した。特に、8.0 〜16×10
-2 の場合、異常突起の除去，データ領域での磁性膜の
結晶方向性の付与及びヘッド吸着現象の抑制を同時に達
成できた。
【００３２】 更に、ＣＳＳ領域のデータ領域側に隆
起高さ勾配部を設けた構成によれば、境界部を通過する
磁気ヘッドの動きを安定させることができるので、記録
再生特性の劣化やヘッドクラッシュ等を防止できる。
起高さ勾配部を設けた構成によれば、境界部を通過する
磁気ヘッドの動きを安定させることができるので、記録
再生特性の劣化やヘッドクラッシュ等を防止できる。
【図１】本発明の第１実施例に係る磁気ディスクの非磁
性基体上のテクスチャー加工面を表す説明図である。
性基体上のテクスチャー加工面を表す説明図である。
【図２】第１実施例の磁気ディスクの非磁性基体表面の
様子を示す拡大断面図である。
様子を示す拡大断面図である。
【図３】本発明の第２実施例に係る磁気ディスクの非磁
性基体上の隆起高勾配部を示す部分断面図である。
性基体上の隆起高勾配部を示す部分断面図である。
【図４】本発明の第１及び第２実施例におけるテープテ
クスチャー加工法を示す説明図である。
クスチャー加工法を示す説明図である。
【図５】（ａ）は本発明の第１実施例におけるテープテ
クスチャー加工法に用いる段付きローラを示す斜視図、
（ｂ）本発明の第２実施例におけるテープテクスチャー
加工法に用いるテーパ状ローラを示す斜視図である。
クスチャー加工法に用いる段付きローラを示す斜視図、
（ｂ）本発明の第２実施例におけるテープテクスチャー
加工法に用いるテーパ状ローラを示す斜視図である。
【図６】一般的な磁気ディスクの層構造を示す模式的斜
視図である。
視図である。
【図７】一般的な固定磁気ディスク装置の概念を示す斜
視図である。
視図である。
【図８】従来の磁気デイスクの非磁性基体上のテクスチ
ャー加工面を表す説明図である。
ャー加工面を表す説明図である。
【図９】図８に示す非磁性基体上のスポット状隆部の段
差部を示す部分断面図である。
差部を示す部分断面図である。
１…基体 １ａ…非磁性基板 １ｂ…非磁性金属層 ２…金属下地層 ３…磁性層 ４…保護層 ５…潤滑層 １０…磁気ディスク １２…ＣＳＳ領域 １４…レーザースポット状隆起部 １４ａ…中央窪み １４ｂ…輪状端部 １５…機械的テクスチャー溝 １６…データ領域 １７…隆起高さ勾配部 ２０…磁気ヘッド ２１…段付きローラ ２２…テーパ状ローラ ２３…テープ ２４…ローラ Ｃ…異常突起。
Claims (7)
- 【請求項１】 非磁性基体の表面に非磁性金属下地層，
磁性層，保護層を順次積層し、その保護層の上に液体潤
滑層を塗布して成る磁気記録媒体において、 前記非磁性基体の表面のＣＳＳ領域に形成された多数の
レーザースポット状隆起部と、前記ＣＳＳ領域及びデー
タ領域に形成された機械的テクスチャー加工溝とを併有
して成ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１において、前記レーザースポッ
ト状隆起部の隆起高さｈは５〜100 nmであって、前記隆
起高さｈと前記機械的テクスチャー加工溝の中心線平均
粗さＲａとの比Ｒａ／ｈは2.1 ×10-2〜40×10-2である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 請求項２において、前記比Ｒａ／ｈは8.
0 ×10-2〜16×10-2であることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に
おいて、前記ＣＳＳ領域の前記データ領域側に前記レー
ザースポット状隆起部の高さが前記ＣＳＳ領域から前記
データ領域にかけて漸減する隆起高さ勾配部を有して成
ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項５】 非磁性基体の表面に非磁性金属下地層，
磁性層，保護層を順次積層し、その保護層の上に液体潤
滑層を塗布して成る磁気記録媒体において、 前記非磁性基体の表面のＣＳＳ領域に形成された多数の
レーザースポット状隆起部と、前記ＣＳＳ領域のデータ
領域側に前記レーザースポット状隆起部の高さが前記Ｃ
ＳＳ領域から前記データ領域にかけて漸減する隆起高さ
勾配部とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項６】 非磁性基体の表面にテクスチャー加工を
施してから、金属下地層，磁性層，保護層を順次積層
し、その保護層の上に液体潤滑層を塗布して成る磁気記
録媒体の製造方法において、 前記テクスチャー加工工程は、ＣＳＳ領域に多数のスポ
ット状隆起部を形成するレーザーテクスチャー加工工程
と、しかる後、少なくともＣＳＳ領域に前記スポット状
隆起部の頂部を丸み付けする砥粒を用いた機械的テクス
チャー加工工程とを有することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項７】 請求項６において、前記機械的テクスチ
ャー加工工程は、テーパ状ローラを用い、前記ＣＳＳ領
域のデータ領域側に前記スポット状隆起部の高さを前記
ＣＳＳ領域から前記データ領域にかけて漸減させるよう
に施すテープテクスチャー加工工程であることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7264196A JPH09106538A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7264196A JPH09106538A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106538A true JPH09106538A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17399822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7264196A Pending JPH09106538A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09106538A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6530258B2 (en) | 2001-07-23 | 2003-03-11 | International Business Machines Corporation | Disk drive laser melt bump disk for accurate glide calibration and certification processing |
-
1995
- 1995-10-12 JP JP7264196A patent/JPH09106538A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6530258B2 (en) | 2001-07-23 | 2003-03-11 | International Business Machines Corporation | Disk drive laser melt bump disk for accurate glide calibration and certification processing |
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