JPH09107022A - 回転保持装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水平度を良好に維持しながら被処理物を浮上
させて回転させることが可能であり、また、回転中の被
処理物の水平方向の変位を規制することができる被処理
物の回転保持装置を提供する。 【解決手段】 被処理物Ｗを保持するチャック面１０３
が端部に形成された回転可能な回転体１０２を備えてい
る。チャック面１０３の外周縁１０４近傍にガス滞留溝
１０５を周設する。このガス滞留溝１０５の内周縁１０
７よりも内側のチャック面１０３にガス滞留溝１０５と
同心にガス噴出口１０８を周設する。回転体１０２の内
部にガス噴出口１０８と連通しチャック面１０３に対し
て傾斜した分岐通路１１０を有するガス供給通路１０９
を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の回転保
持装置に係わり、特に、半導体製造用のウェハのような
板状の被処理物を保持しつつ回転させて薬液による洗浄
やウェットエッチングを行うための被処理物の回転保持
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体の製造工程の中には、薬液による
ウェハの洗浄やウェットエッチング等の処理を実施する
工程がある。このような処理をウェハ面内で均一に行う
ために、ウェハを回転させながら処理する方法がある。

【０００３】図７は、真空吸着によってウェハを保持し
て回転させる従来の回転保持装置１を示している。この
従来の回転保持装置１は、ウェハＷをチャックするため
のチャック部２を上端に有する回転体３を備え、チャッ
ク部２のチャック面４には溝５が形成されている。回転
体３の内部には排気通路６が形成されており、この排気
通路６の一端はチャック面４の中心部に第１の開口７を
形成し、他端は回転体３の側周面に第２の開口８を形成
している。第１の開口７はチャック面４に形成された溝
５に連通している。回転体３はシール材９を介して軸受
け１０によって回転自在に支持されており、回転駆動手
段（図示を省略）によって回転させることができる。軸
受け１０の内周面には第２の開口８に連通する環状溝１
１が全周にわたって形成されている。軸受け１０の外周
面には真空用配管１２の一端が取り付けられており、こ
の真空用配管１２は開口１３を介して環状溝１１に連通
している。真空用配管１２の他端は真空排気装置（図示
を省略）に接続されている。

【０００４】このような構成を備えた従来の回転保持装
置１においては、チャック面４にウェハＷを載置した後
に真空排気装置によって真空引きを行う。すると、ウェ
ハＷの裏面（保持面）及び溝５によって形成された空間
中の空気が排気されて真空状態となり、ウェハＷがチャ
ック面４に吸着保持される。この状態で回転駆動手段に
よって回転体３を回転させ、薬液による洗浄処理やウェ
ットエッチング処理を行う。

【０００５】しかしながら、上述した従来の回転保持装
置１は、チャック面４とウェハＷの裏面とが接触した状
態でウェハＷを保持するものであるため、チャック面４
上のパーティクルがウェハＷの裏面に付着するという問
題があり、特にウェハの洗浄処理においてはウェハの表
面のみならず裏面をも清浄な状態にする必要があるため
に問題は深刻であった。

【０００６】そこで、非接触状態でウェハＷを保持する
回転保持装置として、ベルヌーイの原理を応用した回転
保持装置が提案されている。図８は、このベルヌーイの
原理を応用した従来の回転保持装置２０を示しており、
この回転保持装置２０は、ウェハＷをチャックするため
のチャック部２１を上端に有する回転体２２を備えてお
り、チャック部２１のチャック面２３には、ウェハＷの
直径よりもやや小さな直径で全周にわたってガス噴出口
２４が形成されている。回転体２２の内部にはガス供給
通路２５が形成されており、このガス供給通路２５の一
端は、上方に向かって傾斜して延びる分岐通路２６を介
してガス噴出口２４にその全周にわたって連通してい
る。一方、ガス供給通路２５の他端は、回転体２２の側
周面にガス供給口２７を形成している。回転体２２はシ
ール材２８を介して軸受け２９によって回転自在に支持
されており、回転駆動手段（図示を省略）によって回転
させることができる。軸受け２９の内周面にはガス供給
口２７に連通する環状溝３０が全周にわたって形成され
ている。軸受け２９の外周面にはガス供給配管３１の一
端が取り付けられており、このガス供給配管３１は開口
３２を介して環状溝３０に連通している。ガス供給配管
３１の他端は窒素ガスを供給するためのガス供給手段
（図示を省略）に接続されている。

【０００７】このような構成を備えた従来の回転保持装
置２０においては、ガス供給手段からの窒素ガスをガス
供給通路２５及び分岐通路２６に供給し、この窒素ガス
をガス噴出口２４から噴射させる。この状態で搬送手段
（図示を省略）によってウェハＷをチャック面２３の上
方に正確に位置決めして移送する。すると、ウェハＷは
その裏面に噴射された窒素ガスの噴出圧力によって浮上
した状態となり、同時に、窒素ガスの流速によってウェ
ハＷの裏面とチャック面２３との間隙の中央部分Ｃが負
圧状態となってウェハＷが吸着保持される。この状態で
回転駆動手段によって回転体２２を回転させ、薬液によ
る洗浄処理やウェットエッチング処理を行う。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したベ
ルヌーイの原理を応用した従来の回転保持装置２０は、
ガス供給通路２５に導入された窒素ガスを、分岐通路２
６によってガス噴出口２４の全周にわって分配して噴出
させるものであるため、図９に示したようにウェハＷの
外周へ向かう窒素ガスＧの圧力と流量の円周方向の分布
が不均一になる傾向があった。このように窒素ガスＧの
圧力と流量の円周方向の分布が不均一になると、図９に
示したように浮上しているウェハＷが傾斜してしまって
正確な水平度が維持できなくなる。傾斜したウェハＷの
表面にノズル３３から薬液Ｌを供給すると、図１０に示
したように薬液Ｌが傾斜方向に向かって偏流してしま
い、洗浄、エッチング等の処理の面内均一性が悪化する
という問題があった。

【０００９】また、上記従来の回転保持装置２０は、ベ
ルヌーイの原理で生じた負圧による吸着力のみでウェハ
Ｗを保持するようにしているので、ウェハＷの水平方向
への動き（ウェハの飛び出し）を規制することができ
ず、このため、ウェハＷが水平方向に変位してしまうと
いう問題があった。

【００１０】そこで、本発明の目的は、上記問題点を解
消し、水平度を良好に維持しながら被処理物を浮上させ
て回転させることができる被処理物の回転保持装置を提
供することにある。また、本発明の他の目的は、回転中
の被処理物の水平方向の変位を規制することができる被
処理物の回転保持装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
被処理物を保持するチャック面が端部に形成された回転
可能な回転体を備え、前記チャック面の外周縁近傍にガ
ス滞留溝を周設し、このガス滞留溝の内周縁よりも内側
の前記チャック面に前記ガス滞留溝と同心にガス噴出口
を周設し、前記回転体の内部に前記ガス噴出口と連通し
前記チャック面に対して傾斜した分岐通路を有するガス
供給通路を形成したことを特徴とする被処理物の回転保
持装置。

【００１２】請求項２記載の発明は、前記ガス噴出口は
周方向に連続した開口によって形成されていることを特
徴とする。

【００１３】請求項３記載の発明は、前記ガス噴出口は
周方向に穿設された複数の孔によって形成されているこ
とを特徴とする。

【００１４】請求項４記載の発明は、前記回転体に前記
被処理物の外縁を挟持しうる複数の可動挟持爪を有する
挟持手段を設けたことを特徴とする。

【００１５】請求項５記載の発明は、前記挟持手段は前
記回転体を回転させた場合に前記複数の可動挟持爪が挟
持方向に付勢されるようにしたことを特徴とする。

【００１６】請求項６記載の発明は、請求項４記載の被
処理物の回転保持装置を使用して、前記ガス噴出口から
ガスを噴出させた状態で、前記複数の可動挟持爪を解放
位置とし、前記被処理物を前記チャック面の上方に移送
し、前記ガスによって前記被処理物の保持面と前記チャ
ック面との間に生成される負圧を利用して前記被処理物
を前記チャック面に接触させることなく浮上させた状態
で保持し、前記複数の可動挟持爪を挟持位置に移動させ
て前記被処理物を挟持し、前記回転体を回転させて前記
被処理物を回転させることを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】第１の実施形態 以下、本発明の第１の実施形態について図面を参照して
説明する。図１は本実施形態による被処理物の回転保持
装置１００を示しており、この回転保持装置１００はベ
ルヌーイの原理を応用してウェハＷを保持して回転させ
るものである。

【００１８】回転保持装置１００は、ウェハＷをチャッ
クするためのチャック部１０１を上端に有する回転体１
０２を備えており、チャック部１０１のチャック面１０
３は、図１及び図２に示したようにウェハＷの直径より
もやや大きな直径を有する円形を成している。チャック
面１０３には、その外周縁１０４からやや内側にガス滞
留溝１０５が全周にわたって連続的に形成されており、
このガス滞留溝１０５の外周縁１０６はウェハＷの外周
縁Ｗａよりも僅かに内側に位置している。また、ガス滞
留溝１０５の内周縁１０７のやや内側には全周にわたっ
て連続的にガス噴出口１０８が形成されており、この円
周状のガス噴出口１０８はウェハＷの直径の約半分の直
径を有している。回転体１０２の内部にはガス供給通路
１０９が形成されており、このガス供給通路１０９のチ
ャック面１０３側の端部は、上方に向かって傾斜して延
びる分岐通路１１０を介してガス噴出口１０８にその全
周にわたって連通している。一方、ガス供給通路１０９
の他方の端部は、回転体１０２の側周面にガス供給口１
１１を形成している。

【００１９】回転体１０２はシール材１１２を介して軸
受け１１３によって回転自在に支持されており、回転駆
動手段１１４及びその伝達機構１１５によって回転させ
ることができる。軸受け１１３の内周面にはガス供給口
１１１に連通する環状溝１１６が全周にわたって形成さ
れている。軸受け１１３の外周面にはガス供給配管１１
７の一端が取り付けられており、このガス供給配管１１
７は軸受け１１３の外周面に形成されたガス導入口１１
８を介して環状溝１１６に連通している。ガス供給配管
１１７の他端は窒素ガスを供給するためのガス供給手段
（図示を省略）に接続されている。

【００２０】図３は上述した回転保持装置１００が組み
込まれたウェハ処理装置２００の概略を示しており、こ
のウェハ処理装置２００は、回転保持装置１００のチャ
ック面１０３の上方にウェハＷを正確に位置決めして搬
送し、また搬出するための搬送手段２０１を備えてい
る。また、ウェハ処理装置２００は、薬液供給系２０２
を備えており、この薬液供給系２０２は、ウェハＷの表
面に薬液を供給するノズル２０３を有し、このノズル２
０３はモータ２０４を有するノズル駆動機構２０５によ
って駆動される。ノズル２０３は薬液供給配管２０６を
介して薬液タンク２０７に接続されており、薬液供給配
管２０６の途中にはバルブ２０８及び輸送ポンプ２０９
が介装されている。薬液タンク２０７は配管２１０を介
して薬液貯蔵タンク２１１に接続されている。

【００２１】次に、本実施形態の作用及び効果について
説明する。まず、ガス供給手段（図示を省略）からの窒
素ガスをガス供給通路１０９及び分岐通路１１０に供給
し、この窒素ガスをガス噴出口１０８から噴出させる。
ここで、分岐通路１１０は回転体１０２の中心から外側
方向に向けて上りの傾斜を有しているので、窒素ガスは
ガス噴射口１０８から斜め上方外側に向けて吹き出され
る。なお、ガス噴射口１０８から噴射する窒素ガスの流
量は、例えば３０〜５０リットル／分とする。

【００２２】このようにガス噴射口１０８から窒素ガス
を噴射させた状態で、搬送手段２０１によってウェハＷ
をチャック面１０３の上方に正確に位置決めして移送す
る。すると、ガス噴射口１０８から吹き出している窒素
ガスがウェハＷの裏面に衝突し、ウェハＷは窒素ガスの
噴出圧力によってチャック面１０３に接触することなく
浮上した状態となり、同時に、窒素ガスの流速によって
ウェハＷの裏面とチャック面１０３との間隙の中心付近
が負圧状態となってウェハＷが吸着保持される。ここ
で、ウェハＷの裏面（保持面）とチャック面１０３との
間隙から外側に流出する窒素ガスの流速を３ｍ／分以上
を確保するようにする。

【００２３】このようにウェハＷが吸着保持された状態
において、ガス噴出口１０８から吹き出した窒素ガス
は、ウェハＷの裏面の半径方向中程の部分に衝突し、そ
の後にチャック面１０３に形成されたガス滞留溝１０５
に流れ込む。ガス滞留溝１０５に流れ込んだ窒素ガス
は、ウェハＷの裏面の外周端部とチャック面１０３の外
周端部との間に形成された狭隘な間隙ｄを介して外部に
流出する。このように、ガス噴出口１０８から吹き出し
た窒素ガスが、ウェハＷの裏面の半径方向中程の部分に
衝突し、ガス滞留溝１０５に流れ込んだ後に間隙ｄを介
して外部に流出するようにすれば、ガス滞留溝１０５に
おいて窒素ガスの圧力及び流量が安定化し、ひいてはガ
ス噴出口１０８における圧力とガス滞留溝１０５におけ
る圧力との差圧も安定化し、ウェハＷの裏面に対して円
周方向に均一に窒素ガスが噴射され、チャック面１０３
とウェハＷの裏面との間隙ｄから流出する窒素ガスの圧
力及び流量も安定化して外周方向に均一となり、このた
め、ウェハＷはチャック面１０３の上方に極めて良好な
水平度で保持される。

【００２４】このようにウェハＷを水平に保持した状態
で、回転駆動手段１１４を駆動させ、伝達機構１１５を
介して回転体１０２を回転させ、この回転体１０２と一
体にウェハＷを回転させる。そして、ノズル駆動機構２
０５のモータ２０４を作動させ、ノズル２０３からウェ
ハＷの表面の中心部分に薬液を供給する。ウェハＷの表
面の中心部分に供給された薬液は、ウェハＷの回転によ
ってウェハＷの外周縁に向かって拡散する。ここで、上
述したようにウェハＷは極めて良好な水平度で保持され
ているので、薬液はウェハＷの中心から外周縁に向かっ
て均一に拡散し、このため、薬液によるウェハＷの表面
の洗浄、エッチング等の処理を極めて高い面内均一性で
行うことができる。また、チャック面１０３とウェハＷ
の裏面との間隙ｄの距離を例えば０．５〜１ｍｍとすれ
ば、間隙ｄから吹き出す窒素ガスによって、ウェハＷの
裏面に回り込もうとする薬液を吹き飛ばすことができる
ので、ウェハＷの裏面の薬液による汚損や不必要なエッ
チングを防止することができる。

【００２５】また、本実施形態におけるガス噴出口１０
８は全周にわたって連続的に形成されているが、ガス噴
出口の構成はこれに限られるものではなく、例えば複数
の孔を全周にわたって等間隔で穿設してガス噴出口を形
成することもできる。そして、このような構成よりなる
ガス噴出口を備えた回転保持装置においても、上述した
第１の実施形態と同様の作用及び効果を奏することがで
きる。第２の実施形態 次に、本発明による被処理物の回転保持装置の第２実施
形態について図面を参照して説明する。なお、本実施形
態は、上述した第１実施形態に対して、ウェハＷの水平
方向の動き（飛び出し）を防止するための手段を追加し
て設けたものである。そこで、以下の説明においては、
上記第１実施形態と同一部材には同一符号を付して詳細
な説明は省略する。

【００２６】図４は本実施形態による被処理物の回転保
持装置３００を示しており、この回転保持装置３００
は、ウェハＷをチャックするためのチャック部１０１を
上端に有する回転体１０２を備えている。チャック部１
０１の外周部には、図５に示したように等間隔で３個の
回転板３０１、３０１、３０１が回動可能に設けられて
おり、各回転板３０１、３０１、３０１の上面にはその
回動中心から偏心させて挟持爪３０２、３０２、３０２
が立設されている。各回転板３０１、３０１、３０１の
裏面にはその回動中心から偏心させて各リンク機構３０
３、３０３、３０３の一端が接続されており、各リンク
機構３０３、３０３、３０３の他端は、回転体１０２の
外周に回動自在にはめ込まれた回転筒体３０４の各取付
片３０５、３０５、３０５に接続されている。各回転板
３０１、３０１、３０１は、各挟持爪３０２、３０２、
３０２がウェハＷを挟持する方向へ回転するように付勢
手段（図示を省略）によって押圧付勢されている。回転
筒体３０４には押圧片３０６が突設されており、この押
圧片３０６はシリンダー３０７の出力軸３０８の先端部
によって押圧できるようになっている。

【００２７】次に、本実施形態の作用及び効果について
説明する。まず、図５の示したようにシリンダー３０７
を駆動させてその出力軸３０８を図中矢視Ａ方向に進出
させ、その先端部で押圧片３０６を付勢手段（図示を省
略）の付勢力に抗して押圧する。すると、回転筒体３０
４が図中矢視Ｂ方向に回転し、各リンク機構３０３、３
０３、３０３が図中矢視Ｃ方向に同時に引っ張られ、各
リンク機構３０３、３０３、３０３に接続された各回転
板３０１、３０１、３０１が図中矢視Ｄ方向に同時に回
転する。すると、各回転板３０１、３０１、３０１の上
面に設けられた各挟持爪３０２、３０２、３０２がウェ
ハＷを解放する方向（解放位置方向）へ移動してウェハ
Ｗの挟持状態が解除される。この解放状態において、図
３に示した搬送手段２０１によって処理済みのウェハＷ
を取り出し、未処理のウェハＷを上記第１の実施形態に
おいて説明したような方法でチャック面１０３の上方に
浮上させて水平に保持する。

【００２８】次に、図６に示したようにシリンダー３０
７の出力軸３０８を図中矢視Ｅ方向に退避させ、押圧片
３０６の押圧を解除する。すると、付勢手段（図示を省
略）の付勢力によって回転筒体３０４が図中Ｆ方向に回
転し、各リンク機構３０３、３０３、３０３が図中矢視
Ｇ方向に同時に移動し、各回転板３０１、３０１、３０
１が図中矢視Ｈ方向に同時に回転する。各回転板３０
１、３０１、３０１が矢視Ｈ方向に回転すると、それら
の上面に設けられた各挟持爪３０２、３０２、３０２が
ウェハＷを挟持する方向（挟持位置方向）へ移動してウ
ェハＷが挟持される。なお、シリンダー３０７の出力軸
３０８は回転体１０２から十分に離れた位置まで退避し
ており、回転体１０２が回転した場合に押圧片３０６が
出力軸３０８に接触しないようにしている。

【００２９】このようにウェハＷを水平に保持した状態
で、図１に示した回転駆動手段１１４を駆動させ、伝達
機構１１５を介して回転体１０２を回転させる。する
と、この回転体１０２と共に回転筒体３０４も回転し、
ウェハＷを挟持している各回転板３０１、３０１、３０
１もウェハＷと一体に図６中矢視Ｉ方向に回転する。こ
こで、ウェハＷは各回転板３０１、３０１、３０１の各
挟持爪３０２、３０２、３０２によって挟持されている
ので、水平方向の移動は規制されており、回転中にウェ
ハＷが飛び出すようなことはない。また、図６から分か
るように、矢視Ｉ方向への回転によって、各リンク機構
３０３はその遠心力によって各回転板３０１、３０１、
３０１を図中矢視Ｈ方向に回転させる方向へ付勢され
る。したがって、回転中のウェハＷは各挟持爪３０２、
３０２、３０２によって確実に挟持される。

【００３０】そして、図３に示したノズル駆動機構２０
５のモータ２０４を作動させ、ノズル２０３から回転し
ているウェハＷの表面の中心部分に薬液を供給する。ウ
ェハＷの表面の中心部分に供給された薬液は、ウェハＷ
の回転によってウェハＷの外周縁に向かって拡散する。
ここで、ウェハＷは極めて良好な水平度で保持されてい
るので、薬液はウェハＷの中心から外周縁に向かって均
一に拡散し、このため、薬液によるウェハＷの表面の洗
浄、エッチング等の処理を極めて高い面内均一性で行う
ことができる。また、チャック面１０３とウェハＷの裏
面との間隙ｄの距離を例えば０．５〜１ｍｍとすれば、
間隙ｄから吹き出す窒素ガスによって、ウェハＷの裏面
に回り込もうとする薬液を吹き飛ばすことができるの
で、ウェハＷの裏面の薬液による汚損や不必要なエッチ
ングを防止することができる。

【００３１】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、チャ
ック面の外周縁近傍にガス滞留溝を周設し、このガス滞
留溝の内周縁よりも内側のチャック面にガス滞留溝と同
心にガス噴出口を周設し、回転体の内部にガス噴出口と
連通しチャック面に対して傾斜した分岐通路を有するガ
ス供給通路を形成したので、被処理物を極めて良好な水
平度で保持することが可能であり、このため、薬液は被
処理物全体に均一に供給され、薬液による被処理物の表
面の洗浄、エッチング等の処理を極めて高い面内均一性
で行うことができる。また、チャック面と被処理物の保
持面との間隙から吹き出すガスによって被処理物の保持
面に回り込もうとする薬液を吹き飛ばすことができるの
で、被処理物の保持面の薬液による汚損や不必要なエッ
チングを防止することができる。

【００３２】また、本発明によれば、回転体に被処理物
の外縁を挟持しうる複数の可動挟持爪を有する挟持手段
を設け、好ましくはこの挟持手段は回転体を回転させた
場合に複数の可動挟持爪が挟持方向に付勢されるように
したので、被処理物は可動挟持爪によって水平方向の移
動が規制され、回転中の被処理物が飛び出すようなこと
はなく、また、回転体の回転に伴って挟持方向に付勢さ
れた各挟持爪によって被処理物はより確実に保持され
る。

【００３３】また、本発明によれば、請求項４記載の被
処理物の回転保持装置を使用して、ガス噴出口からガス
を噴出させた状態で、このガスによって被処理物の保持
面とチャック面との間に生成される負圧を利用して被処
理物をチャック面に接触させることなく浮上させた状態
で保持するようにしたので、チャック面との接触によっ
て被処理物の保持面がパーティクル等によって汚損され
ることがないばかりでなく、被処理物を極めて良好な水
平度で保持することが可能であり、このため、薬液は被
処理物全体に均一に供給され、薬液による被処理物の表
面の洗浄、エッチング等の処理を極めて高い面内均一性
で行うことができる。また、チャック面と被処理物の保
持面との間隙から吹き出すガスによって被処理物の保持
面に回り込もうとする薬液を吹き飛ばすことができるの
で、被処理物の保持面の薬液による汚損や不必要なエッ
チングを防止することができる。さらに、被処理物は可
動挟持爪によって水平方向の移動が規制され、回転中の
被処理物の飛び出しを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による被処理物の回転保持装置の第１実
施形態を示した縦断面図。

【図２】同実施形態の要部を示した平面図。

【図３】同実施形態を組み込んだ処理装置を示した概略
図。

【図４】本発明による被処理物の回転保持装置の第２実
施形態を示した縦断面図。

【図５】同実施形態を示した平面図。

【図６】同実施形態のウェハ挟持状態を示した平面図。

【図７】従来の回転保持装置を示した縦断面図。

【図８】他の従来の回転保持装置を示した縦断面図。

【図９】同回転保持装置の窒素ガスの吹き出し状態を示
した説明図。

【図１０】同回転保持装置によって保持されたウェハの
傾斜状態を示した説明図。

【符号の説明】

１００、３００ 回転保持装置 １０１ チャック部 １０２ 回転体 １０３ チャック面 １０４ チャック面の外周縁 １０５ ガス滞留溝 １０７ ガス滞留溝の内周縁 １０８ ガス噴出口 １０９ ガス供給通路 １１０ 分岐通路 １１４ 回転駆動手段 ２００ ウェハ処理装置 ２０１ 搬送手段 ２０２ 薬液供給系 ２０３ ノズル ３０１ 回転板 ３０２ 挟持爪 ３０３ リンク機構 ３０４ 回転筒体 ３０５ 取付片 ３０６ 押圧片 ３０７ シリンダー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 社 浦 肇 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地１ 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被処理物を保持するチャック面が端部に形
   成された回転可能な回転体を備え、前記チャック面の外
   周縁近傍にガス滞留溝を周設し、このガス滞留溝の内周
   縁よりも内側の前記チャック面に前記ガス滞留溝と同心
   にガス噴出口を周設し、前記回転体の内部に前記ガス噴
   出口と連通し前記チャック面に対して傾斜した分岐通路
   を有するガス供給通路を形成したことを特徴とする被処
   理物の回転保持装置。
2. 【請求項２】前記ガス噴出口は周方向に連続した開口に
   よって形成されていることを特徴とする請求項１記載の
   被処理物の回転保持装置。
3. 【請求項３】前記ガス噴出口は周方向に穿設された複数
   の孔によって形成されていることを特徴とする請求項１
   記載の被処理物の回転保持装置。
4. 【請求項４】前記回転体に前記被処理物の外縁を挟持し
   うる複数の可動挟持爪を有する挟持手段を設けたことを
   特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の被処
   理物の回転保持装置。
5. 【請求項５】前記挟持手段は前記回転体を回転させた場
   合に前記複数の可動挟持爪が挟持方向に付勢されるよう
   にしたことを特徴とする請求項４記載の被処理物の回転
   保持装置。
6. 【請求項６】請求項４記載の被処理物の回転保持装置を
   使用して、前記ガス噴出口からガスを噴出させた状態
   で、前記複数の可動挟持爪を解放位置とし、前記被処理
   物を前記チャック面の上方に移送し、前記ガスによって
   前記被処理物の保持面と前記チャック面との間に生成さ
   れる負圧を利用して前記被処理物を前記チャック面に接
   触させることなく浮上させた状態で保持し、前記複数の
   可動挟持爪を挟持位置に移動させて前記被処理物を挟持
   し、前記回転体を回転させて前記被処理物を回転させる
   ことを特徴とする被処理物の回転保持方法。