JPH09110667A - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
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- JPH09110667A JPH09110667A JP26742295A JP26742295A JPH09110667A JP H09110667 A JPH09110667 A JP H09110667A JP 26742295 A JP26742295 A JP 26742295A JP 26742295 A JP26742295 A JP 26742295A JP H09110667 A JPH09110667 A JP H09110667A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 次の一般式(1)
【化1】
(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜4
0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、炭素数1〜
12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−
ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただし、R3 が
単結合のときはR4 は水素原子である。)で表わされる
アミド誘導体及び有機酸又はその塩を含有する化粧料。 【効果】 優れた水分保持能力を示し、肌荒れや炎症を
予防・治療し、皮膚の老化を防止する。また、毛髪及び
頭皮を保護し、毛髪の感触が良い。
0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、炭素数1〜
12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−
ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただし、R3 が
単結合のときはR4 は水素原子である。)で表わされる
アミド誘導体及び有機酸又はその塩を含有する化粧料。 【効果】 優れた水分保持能力を示し、肌荒れや炎症を
予防・治療し、皮膚の老化を防止する。また、毛髪及び
頭皮を保護し、毛髪の感触が良い。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は角質層の水分保持機
能を高め、肌荒れ改善効果に優れる化粧料に関する。
能を高め、肌荒れ改善効果に優れる化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、肌に潤いを与え、肌を柔軟にする
には、角質層の水分が重要であることが知られている。
そして当該水分の保持は、角質層に含まれている水溶性
成分、即ち、遊離アミノ酸、有機酸、尿素又は無機イオ
ンによるものとされている。
には、角質層の水分が重要であることが知られている。
そして当該水分の保持は、角質層に含まれている水溶性
成分、即ち、遊離アミノ酸、有機酸、尿素又は無機イオ
ンによるものとされている。
【0003】かかる観点から、これらの物質を単独であ
るいは組合わせて薬用皮膚外用剤あるいは化粧料に配合
することにより肌荒れ改善又は予防が図られている。ま
た、上記物質以外にも、水と親和性が高い多くの保湿性
物質が開発され、肌荒れ改善の目的で使用されている。
るいは組合わせて薬用皮膚外用剤あるいは化粧料に配合
することにより肌荒れ改善又は予防が図られている。ま
た、上記物質以外にも、水と親和性が高い多くの保湿性
物質が開発され、肌荒れ改善の目的で使用されている。
【0004】しかしながら、これら保湿性物質を皮膚に
適用した場合、その作用は皮膚角質層上にあって水分を
角質に供給するというもので、しかもその効果は一時的
であり、根本的に角質層自体の水分保持能力を改善し、
肌荒れを本質的に予防、治療するものとは言えないもの
であった。
適用した場合、その作用は皮膚角質層上にあって水分を
角質に供給するというもので、しかもその効果は一時的
であり、根本的に角質層自体の水分保持能力を改善し、
肌荒れを本質的に予防、治療するものとは言えないもの
であった。
【0005】そこで、本出願人は、先に、根本的に角質
層の水分保持能力を改善する効果を有する皮膚外用剤と
して、下記式(6)で表わされるアミド誘導体を含有す
る皮膚外用剤〔特公平1−42934号公報(特開昭6
2−228048号公報)〕を提案した。
層の水分保持能力を改善する効果を有する皮膚外用剤と
して、下記式(6)で表わされるアミド誘導体を含有す
る皮膚外用剤〔特公平1−42934号公報(特開昭6
2−228048号公報)〕を提案した。
【0006】
【化6】
【0007】(式中、R1bは炭素数10〜26の直鎖若
しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基、R2b
は炭素数9〜25の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは
不飽和の炭化水素基を示す。)
しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基、R2b
は炭素数9〜25の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは
不飽和の炭化水素基を示す。)
【0008】更に、本出願人は同様の効果を有するアミ
ド誘導体を含有する皮膚外用剤を、特開昭63−216
812号公報、特開昭63−218609号公報、特開
昭63−222107号公報、特開昭63−22751
3号公報、特開昭64−29347号公報及び特開昭6
4−31752号公報等において提案した。
ド誘導体を含有する皮膚外用剤を、特開昭63−216
812号公報、特開昭63−218609号公報、特開
昭63−222107号公報、特開昭63−22751
3号公報、特開昭64−29347号公報及び特開昭6
4−31752号公報等において提案した。
【0009】更に、本出願人は、下記式(7)で表わさ
れるアミド誘導体を含有する毛髪化粧料が、毛髪に浸透
してその保護効果を高め、また頭皮の白化を防止し、ま
た毛髪の感触を向上することができることを見出し、特
開昭64−9913号公報において提案した。
れるアミド誘導体を含有する毛髪化粧料が、毛髪に浸透
してその保護効果を高め、また頭皮の白化を防止し、ま
た毛髪の感触を向上することができることを見出し、特
開昭64−9913号公報において提案した。
【0010】
【化7】
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のアミド誘導体は、上記の優れた効果をもたらすもので
あるが、高融点、高結晶性、基剤に対する低溶解性等の
性質を有するため、皮膚外用剤、毛髪化粧料等の化粧料
に配合する場合に、皮膚及び毛髪への浸透の面でなお問
題が残されている。
のアミド誘導体は、上記の優れた効果をもたらすもので
あるが、高融点、高結晶性、基剤に対する低溶解性等の
性質を有するため、皮膚外用剤、毛髪化粧料等の化粧料
に配合する場合に、皮膚及び毛髪への浸透の面でなお問
題が残されている。
【0012】従って、本発明の目的は、角質層の水分保
持能力を根本的に改善(維持・補強)する効果を有し、
かつ皮膚外用剤、毛髪化粧料等の化粧料に配合する場合
に、低融点化、低結晶化又は基剤に対する溶解性の向上
等の改善により、皮膚及び毛髪への浸透性等が向上した
アミド誘導体及び有機酸又はその塩の存在によりラメラ
液晶を形成させ、これを皮膚に適用することにより、角
質層の水分保持能力が改善され、肌荒れや炎症を予防・
治療し、更には皮膚の老化を予防することのできる皮膚
外用剤及び優れた毛髪及び頭皮の保護・維持性能を有
し、毛髪の感触を向上させることのできる毛髪化粧料等
の化粧料を提供することにある。
持能力を根本的に改善(維持・補強)する効果を有し、
かつ皮膚外用剤、毛髪化粧料等の化粧料に配合する場合
に、低融点化、低結晶化又は基剤に対する溶解性の向上
等の改善により、皮膚及び毛髪への浸透性等が向上した
アミド誘導体及び有機酸又はその塩の存在によりラメラ
液晶を形成させ、これを皮膚に適用することにより、角
質層の水分保持能力が改善され、肌荒れや炎症を予防・
治療し、更には皮膚の老化を予防することのできる皮膚
外用剤及び優れた毛髪及び頭皮の保護・維持性能を有
し、毛髪の感触を向上させることのできる毛髪化粧料等
の化粧料を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、下記の一般式(1)〜(4)で表わされ
る新規アミド誘導体及び有機酸又はその塩を含有する化
粧料が上記目的を達成するものであることを見出し、本
発明を完成するに至った。
を重ねた結果、下記の一般式(1)〜(4)で表わされ
る新規アミド誘導体及び有機酸又はその塩を含有する化
粧料が上記目的を達成するものであることを見出し、本
発明を完成するに至った。
【0014】すなわち、本発明は、次の成分(A)及び
(B): (A)次の一般式(1)、(2)、(3)及び(4)
(B): (A)次の一般式(1)、(2)、(3)及び(4)
【0015】
【化8】
【0016】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただ
し、R3 が単結合のときはR4 は水素原子である。)
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただ
し、R3 が単結合のときはR4 は水素原子である。)
【0017】
【化9】
【0018】(式中、R1aは炭素数4〜40のヒドロキ
シル化されていてもよい炭化水素基を示し、R3aは炭素
数3〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示し、
R4aは炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基
を示す。)
シル化されていてもよい炭化水素基を示し、R3aは炭素
数3〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示し、
R4aは炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基
を示す。)
【0019】
【化10】
【0020】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3aは炭素数3〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基を示し、R4aは炭素数1〜12の直鎖
又は分岐鎖のアルコキシ基を示す。)
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3aは炭素数3〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基を示し、R4aは炭素数1〜12の直鎖
又は分岐鎖のアルコキシ基を示す。)
【0021】
【化11】
【0022】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、R4bは水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−エポキシプロピルオキシ基を示す。ただし、
R3 が単結合のときR4bは水素原子である。)で表わさ
れるアミド誘導体から選ばれる1種又は2種以上 (B)有機酸又はその塩、を含有する化粧料を提供する
ものである。
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、R4bは水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−エポキシプロピルオキシ基を示す。ただし、
R3 が単結合のときR4bは水素原子である。)で表わさ
れるアミド誘導体から選ばれる1種又は2種以上 (B)有機酸又はその塩、を含有する化粧料を提供する
ものである。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の(A)成分の一般式
(1)で表わされるアミド誘導体(1)において、R1
及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜40の直鎖又は
分岐鎖の飽和若しくは不飽和のヒドロキシル化されてい
てもよい炭化水素基を示す。R1 及びR2としては、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、ヘンエイコシル、ドコシル、ノナコシル、トリ
アコンチル、イソステアリル、イソヘプタデシル、2−
エチルヘキシル、1−エチルヘプチル、8−ヘプタデシ
ル、8−ヘプタデセニル、8,11−ヘプタデカジエニ
ル、2−ヘプチルウンデシル、9−オクタデセニル、1
−ヒドロキシノニル、1−ヒドロキシペンタデシル、2
−ヒドロキシペンタデシル、15−ヒドロキシペンタデ
シル、11−ヒドロキシヘプタデシル及び11−ヒドロ
キシ−8−ヘプタデセニル等が挙げられる。
(1)で表わされるアミド誘導体(1)において、R1
及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜40の直鎖又は
分岐鎖の飽和若しくは不飽和のヒドロキシル化されてい
てもよい炭化水素基を示す。R1 及びR2としては、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、ヘンエイコシル、ドコシル、ノナコシル、トリ
アコンチル、イソステアリル、イソヘプタデシル、2−
エチルヘキシル、1−エチルヘプチル、8−ヘプタデシ
ル、8−ヘプタデセニル、8,11−ヘプタデカジエニ
ル、2−ヘプチルウンデシル、9−オクタデセニル、1
−ヒドロキシノニル、1−ヒドロキシペンタデシル、2
−ヒドロキシペンタデシル、15−ヒドロキシペンタデ
シル、11−ヒドロキシヘプタデシル及び11−ヒドロ
キシ−8−ヘプタデセニル等が挙げられる。
【0024】R1 としては炭素数8〜26の直鎖又は分
岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基が好ましく、例え
ばオクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、ドコシル、トリアコンチル、イ
ソステアリル、2−エチルヘキシル、2−ヘプチルウン
デシル及び9−オクタデセニル等が挙げられる。R1と
して特に好ましい炭化水素基は炭素数12〜22の直鎖
又は分岐鎖のアルキル基であり、例えばドデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコシル及び
メチル分岐イソステアリル基等が挙げられる。
岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基が好ましく、例え
ばオクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、ドコシル、トリアコンチル、イ
ソステアリル、2−エチルヘキシル、2−ヘプチルウン
デシル及び9−オクタデセニル等が挙げられる。R1と
して特に好ましい炭化水素基は炭素数12〜22の直鎖
又は分岐鎖のアルキル基であり、例えばドデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコシル及び
メチル分岐イソステアリル基等が挙げられる。
【0025】R2 としては炭素数9〜25の直鎖又は分
岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基が好ましく、例え
ばノニル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル、ノナコシ
ル、イソヘプタデシル、1−エチルヘプチル、8−ヘプ
タデシル、8−ヘプタデセニル、8,11−ヘプタデカ
ジエニル、1−ヒドロキシノニル、1−ヒドロキシペン
タデシル、2−ヒドロキシペンタデシル、15−ヒドロ
キシペンタデシル、11−ヒドロキシヘプタデシル及び
11−ヒドロキシ−8−ヘプタデセニル等が挙げられ
る。R2 として特に好ましい炭化水素基は炭素数11〜
21の直鎖及び分岐鎖のアルキル基であり、例えばウン
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
プタデシル、ヘンエイコシル及びメチル分岐イソヘプタ
デシル基等が挙げられる。
岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基が好ましく、例え
ばノニル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル、ノナコシ
ル、イソヘプタデシル、1−エチルヘプチル、8−ヘプ
タデシル、8−ヘプタデセニル、8,11−ヘプタデカ
ジエニル、1−ヒドロキシノニル、1−ヒドロキシペン
タデシル、2−ヒドロキシペンタデシル、15−ヒドロ
キシペンタデシル、11−ヒドロキシヘプタデシル及び
11−ヒドロキシ−8−ヘプタデセニル等が挙げられ
る。R2 として特に好ましい炭化水素基は炭素数11〜
21の直鎖及び分岐鎖のアルキル基であり、例えばウン
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
プタデシル、ヘンエイコシル及びメチル分岐イソヘプタ
デシル基等が挙げられる。
【0026】R3 は炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖のア
ルキレン基又は単結合を示し、アルキレン基としては例
えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、1−メチルエチ
レン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレ
ン、1,1−ジメチルエチレン、1−エチルエチレン、
1−メチルテトラメチレン、2−エチルトリメチレン等
が挙げられる。R3 としては炭素数1〜6の直鎖のアル
キレン基が好ましく、このうちメチレン、エチレン及び
トリメチレンが特に好ましい。
ルキレン基又は単結合を示し、アルキレン基としては例
えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、1−メチルエチ
レン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレ
ン、1,1−ジメチルエチレン、1−エチルエチレン、
1−メチルテトラメチレン、2−エチルトリメチレン等
が挙げられる。R3 としては炭素数1〜6の直鎖のアル
キレン基が好ましく、このうちメチレン、エチレン及び
トリメチレンが特に好ましい。
【0027】R4 は水素原子、炭素数1〜12の直鎖又
は分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−ジヒドロキシプロ
ピルオキシ基を示し、アルコキシ基としては例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキ
シ、オクチルオキシ、デシルオキシ、1−メチルエトキ
シ及び2−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。R 4
としては水素原子、炭素数1〜8のアルコキシ基及び
2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が好ましく、こ
のうち水素原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ、1−メチルエトキシ、2−エチルヘキシルオキ
シ及び2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が特に好
ましい。
は分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−ジヒドロキシプロ
ピルオキシ基を示し、アルコキシ基としては例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキ
シ、オクチルオキシ、デシルオキシ、1−メチルエトキ
シ及び2−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。R 4
としては水素原子、炭素数1〜8のアルコキシ基及び
2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が好ましく、こ
のうち水素原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ、1−メチルエトキシ、2−エチルヘキシルオキ
シ及び2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が特に好
ましい。
【0028】本発明の(A)成分のアミド誘導体(1)
を皮膚外用剤及び毛髪化粧料に配合する場合、特に好ま
しい化合物は、一般式中のR1 、R2 、R3 及びR4 が
それぞれ上述の特に好ましい範囲の基である場合を組合
わせた化合物である。
を皮膚外用剤及び毛髪化粧料に配合する場合、特に好ま
しい化合物は、一般式中のR1 、R2 、R3 及びR4 が
それぞれ上述の特に好ましい範囲の基である場合を組合
わせた化合物である。
【0029】本発明の(A)成分の一般式(2)で表わ
されるアミド製造中間体(2)において、R1aとしては
アミド誘導体(1)のR1aからメチル、エチル及びプロ
ピルを除いた基が挙げられ、R1 と同様の基が好まし
い。R3aとしてはアミド誘導体(1)のR3 において例
示したアルキレン基からメチレン及びエチレンを除いた
基が挙げられる。R3aとしては炭素数3〜6の直鎖のア
ルキレン基が好ましく、このうちトリメチレンが特に好
ましい。R4aのアルコキシ基としては、アミド誘導体
(1)のR4 と同様の基が挙げられ、同様の基が好まし
い。
されるアミド製造中間体(2)において、R1aとしては
アミド誘導体(1)のR1aからメチル、エチル及びプロ
ピルを除いた基が挙げられ、R1 と同様の基が好まし
い。R3aとしてはアミド誘導体(1)のR3 において例
示したアルキレン基からメチレン及びエチレンを除いた
基が挙げられる。R3aとしては炭素数3〜6の直鎖のア
ルキレン基が好ましく、このうちトリメチレンが特に好
ましい。R4aのアルコキシ基としては、アミド誘導体
(1)のR4 と同様の基が挙げられ、同様の基が好まし
い。
【0030】また、本発明の(A)成分の一般式(3)
で表わされるアミド中間体(3)において、R1 、
R2 、R3a及びR4aは上記と同様の意味を示し、同様の
基が好ましい。
で表わされるアミド中間体(3)において、R1 、
R2 、R3a及びR4aは上記と同様の意味を示し、同様の
基が好ましい。
【0031】また、本発明の(A)成分の一般式(4)
で表わされるアミド誘導体製造中間体(4)において、
R1 、R2 及びR3 は上記と同様の意味を示し、R4bは
水素原子、炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアル
コキシ基又は2,3−エポキシプロピルオキシ基を示
す。R1 、R2 及びR3 として具体的には、アミド誘導
体(1)と同様の基が挙げられ、同様の基が好ましい。
R4bの炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキ
シ基としては、アミド誘導体(1)のR4 と同様の基が
挙げられ、水素原子、R4 と同様のアルコキシ基及び
2,3−エポキシプロピルオキシ基が好ましい。
で表わされるアミド誘導体製造中間体(4)において、
R1 、R2 及びR3 は上記と同様の意味を示し、R4bは
水素原子、炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアル
コキシ基又は2,3−エポキシプロピルオキシ基を示
す。R1 、R2 及びR3 として具体的には、アミド誘導
体(1)と同様の基が挙げられ、同様の基が好ましい。
R4bの炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキ
シ基としては、アミド誘導体(1)のR4 と同様の基が
挙げられ、水素原子、R4 と同様のアルコキシ基及び
2,3−エポキシプロピルオキシ基が好ましい。
【0032】本発明の(A)成分のアミド誘導体(1)
は、例えば次の製造法によって得ることができる。
は、例えば次の製造法によって得ることができる。
【0033】
【化12】
【0034】
【化13】
【0035】(式中、R1 、R2 及びR3 は前記と同様
の意味を示し、R4fは水素原子又は炭素数1〜12の直
鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基を示す。ただし、R3
が単結合のときはR4fは水素原子である。R6 、R8 、
R10及びR11は炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖の飽和若
しくは不飽和の炭化水素基を示すが、好ましくは炭素数
1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基で、特に好ましく
はメチル基である。R9は水素原子、アルカリ金属原子
又はCOR8基を示し、R7 及びR12はハロゲン原子、メシ
レート基、トシレート基等の脱離基を示す。R7 として
は、入手の容易さ等の点から塩素原子及び臭素原子、特
に塩素原子が好ましく、R12としては、入手の容易さ等
の点からメシレート基及びトシレート基が好ましい。)
の意味を示し、R4fは水素原子又は炭素数1〜12の直
鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基を示す。ただし、R3
が単結合のときはR4fは水素原子である。R6 、R8 、
R10及びR11は炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖の飽和若
しくは不飽和の炭化水素基を示すが、好ましくは炭素数
1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基で、特に好ましく
はメチル基である。R9は水素原子、アルカリ金属原子
又はCOR8基を示し、R7 及びR12はハロゲン原子、メシ
レート基、トシレート基等の脱離基を示す。R7 として
は、入手の容易さ等の点から塩素原子及び臭素原子、特
に塩素原子が好ましく、R12としては、入手の容易さ等
の点からメシレート基及びトシレート基が好ましい。)
【0036】上記製造法の各工程の反応条件は次のとお
りである。
りである。
【0037】工程1)グリシジルエーテル(7)とアミ
ン(8F)を、無溶媒で、あるいは水又はメタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、あるいは
これらの任意の混合溶媒中等において、室温〜150℃
で反応させることにより、アミノアルコール誘導体(2
F)を製造することができる。
ン(8F)を、無溶媒で、あるいは水又はメタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、あるいは
これらの任意の混合溶媒中等において、室温〜150℃
で反応させることにより、アミノアルコール誘導体(2
F)を製造することができる。
【0038】工程2)アミノアルコール誘導体(2F)
に、脂肪酸エステル(9)好ましくは脂肪酸メチルエス
テル、脂肪酸エチルエステル等の脂肪酸低級アルキルエ
ステルを、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアル
カリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類
金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、
炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−te
rt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコラート等の塩
基性触媒の存在下、常圧〜0.01mmHgの減圧下に室温
〜150℃で反応させることにより、アミド誘導体(3
F)を製造することができる。この際、塩基性触媒の使
用量はアミノアルコール誘導体(2F)に対して0.0
1〜0.2当量が好ましく、また反応により生じるアル
コールを系外に除去しながら行うと、反応が速く進行す
るので好ましい。
に、脂肪酸エステル(9)好ましくは脂肪酸メチルエス
テル、脂肪酸エチルエステル等の脂肪酸低級アルキルエ
ステルを、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアル
カリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類
金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、
炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−te
rt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコラート等の塩
基性触媒の存在下、常圧〜0.01mmHgの減圧下に室温
〜150℃で反応させることにより、アミド誘導体(3
F)を製造することができる。この際、塩基性触媒の使
用量はアミノアルコール誘導体(2F)に対して0.0
1〜0.2当量が好ましく、また反応により生じるアル
コールを系外に除去しながら行うと、反応が速く進行す
るので好ましい。
【0039】工程3)アミド誘導体(3F)はまた、ア
ミノアルコール誘導体(2F)に脂肪酸クロライド(1
0)を、無溶媒であるいはクロロホルム、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、あるいはこれらの任意の混合溶媒中等において、ピ
リジン、トリエチルアミン等の第三級アミン等の塩基の
存在下又は無存在下、室温〜100℃で反応させてアミ
ド−エステル誘導体(11F)に変換後、
ミノアルコール誘導体(2F)に脂肪酸クロライド(1
0)を、無溶媒であるいはクロロホルム、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、あるいはこれらの任意の混合溶媒中等において、ピ
リジン、トリエチルアミン等の第三級アミン等の塩基の
存在下又は無存在下、室温〜100℃で反応させてアミ
ド−エステル誘導体(11F)に変換後、
【0040】工程4)そのエステル基を、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。
【0041】工程5)アミド誘導体(3F)に1〜20
当量のエポキシド(12)、好ましくはエピクロルヒド
リンを、無溶媒であるいは水又はテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれらの任意の混合
溶媒中等において、1〜10当量の水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カル
シウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土
類金属炭酸塩の存在下、室温〜150℃で反応させるこ
とによりアミド誘導体(4F)を製造することができ
る。この際、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラブチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアン
モニウムクロライド、ビステトラオキシエチレンステア
リルメチルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニ
ウム塩やラウリルジメチルカルボキシアンモニウムベタ
イン等のベタイン等の相間移動触媒の存在下で反応を行
うことが収率の面等で好ましい。
当量のエポキシド(12)、好ましくはエピクロルヒド
リンを、無溶媒であるいは水又はテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれらの任意の混合
溶媒中等において、1〜10当量の水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カル
シウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土
類金属炭酸塩の存在下、室温〜150℃で反応させるこ
とによりアミド誘導体(4F)を製造することができ
る。この際、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラブチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアン
モニウムクロライド、ビステトラオキシエチレンステア
リルメチルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニ
ウム塩やラウリルジメチルカルボキシアンモニウムベタ
イン等のベタイン等の相間移動触媒の存在下で反応を行
うことが収率の面等で好ましい。
【0042】工程6)アミド誘導体(4F)を、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化
物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム
等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性条件下又は硫
酸、塩酸等の鉱酸、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のル
イス酸、酢酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸等のカ
ルボン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の
酸性条件下、あるいは塩基−酸混合条件下で、室温〜3
00℃で水和することにより、アミド誘導体(1F)を
製造することができる。
カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化
物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム
等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性条件下又は硫
酸、塩酸等の鉱酸、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のル
イス酸、酢酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸等のカ
ルボン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の
酸性条件下、あるいは塩基−酸混合条件下で、室温〜3
00℃で水和することにより、アミド誘導体(1F)を
製造することができる。
【0043】工程7)アミド誘導体(1F)はまた、ア
ミド誘導体(4F)にカルボン酸誘導体(13)、好ま
しくは酢酸等の低級脂肪酸、酢酸ナトリウム等の低級脂
肪酸アルカリ金属塩、無水酢酸等の低級脂肪酸無水物を
単独あるいは組合わせて、トリエチルアミン等の第三級
アミン等の塩基性触媒の存在下又は無存在下で、反応さ
せて、エステル−アミド誘導体(14F)に変換後、
ミド誘導体(4F)にカルボン酸誘導体(13)、好ま
しくは酢酸等の低級脂肪酸、酢酸ナトリウム等の低級脂
肪酸アルカリ金属塩、無水酢酸等の低級脂肪酸無水物を
単独あるいは組合わせて、トリエチルアミン等の第三級
アミン等の塩基性触媒の存在下又は無存在下で、反応さ
せて、エステル−アミド誘導体(14F)に変換後、
【0044】工程8)そのエステル基を、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。
【0045】工程9)アミド誘導体(1F)はまた、ア
ミド誘導体(4F)にカルボニル化合物(15)、好ま
しくはアセトン、メチルエチルケトン等の低級脂肪族ケ
トンを、硫酸、塩酸、リン酸等の鉱酸、酢酸等のカルボ
ン酸、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のルイス酸等の酸
触媒の存在下に反応させて、1,3−ジオキソラン−ア
ミド誘導体(16F)に変換後、
ミド誘導体(4F)にカルボニル化合物(15)、好ま
しくはアセトン、メチルエチルケトン等の低級脂肪族ケ
トンを、硫酸、塩酸、リン酸等の鉱酸、酢酸等のカルボ
ン酸、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のルイス酸等の酸
触媒の存在下に反応させて、1,3−ジオキソラン−ア
ミド誘導体(16F)に変換後、
【0046】工程10)硫酸、塩酸、リン酸等の鉱酸、
酢酸等のカルボン酸、p−トルエンスルホン酸等のスル
ホン酸等の酸性条件下等で脱ケタール化することによっ
ても製造することができる。
酢酸等のカルボン酸、p−トルエンスルホン酸等のスル
ホン酸等の酸性条件下等で脱ケタール化することによっ
ても製造することができる。
【0047】工程11)1,3−ジオキソラン−アミド
誘導体(16F)はまた、アミド誘導体(3F)にグリ
セロール誘導体(17)を、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム
等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等のアル
カリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属
炭酸塩、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物等
の塩基の存在下で、無溶媒であるいはN,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性
極性溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、あるいはこれらの任意の混合溶媒中等において、反
応させることによっても製造することができる。
誘導体(16F)はまた、アミド誘導体(3F)にグリ
セロール誘導体(17)を、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム
等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等のアル
カリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属
炭酸塩、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物等
の塩基の存在下で、無溶媒であるいはN,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性
極性溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、あるいはこれらの任意の混合溶媒中等において、反
応させることによっても製造することができる。
【0048】このようにして得られる本発明の(A)成
分のアミド誘導体(1)は、公知の方法により精製する
ことができる。アミド誘導体(1)を皮膚外用剤及び毛
髪化粧料に配合する場合、純度100%に精製した精製
物でも、特に精製を行わずに中間体や反応副生成物を含
んだ純度70〜100%の混合物でも、効果、性能に優
れ、かつ安全性にも問題がないものである。また本発明
の(A)成分の化合物には水和物に代表される溶媒和物
も含まれる。
分のアミド誘導体(1)は、公知の方法により精製する
ことができる。アミド誘導体(1)を皮膚外用剤及び毛
髪化粧料に配合する場合、純度100%に精製した精製
物でも、特に精製を行わずに中間体や反応副生成物を含
んだ純度70〜100%の混合物でも、効果、性能に優
れ、かつ安全性にも問題がないものである。また本発明
の(A)成分の化合物には水和物に代表される溶媒和物
も含まれる。
【0049】上記製造法によって得られる本発明の
(A)成分の一般式(1)で表わされるアミド誘導体と
しては、例えば次のものが挙げられる。
(A)成分の一般式(1)で表わされるアミド誘導体と
しては、例えば次のものが挙げられる。
【0050】
【化14】
【0051】
【化15】
【0052】本発明の(B)成分の有機酸又はその塩
は、特に制限されないが、有機酸としてはグリコール
酸、乳酸、クエン酸、2−ヒドロキシオクタン酸等の炭
素数2〜28のオキシカルボン酸、コハク酸、フマル
酸、マレイン酸、マロン酸、1,3−プロパンジカルボ
ン酸等の炭素数2〜12のジカルボン酸;ステアリン
酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、イソステアリン酸、
リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の炭素数10
〜24のモノカルボン酸、アスパラギン酸、アスパラギ
ン、グリシン、グルタミン酸、グルタミン、γ−アミノ
酪酸、アルギニン、システイン、アラニン等のアミノ
酸;コハク酸オクチル、マレイン酸メチル等のジカルボ
ン酸モノエステル及び一般式(5)
は、特に制限されないが、有機酸としてはグリコール
酸、乳酸、クエン酸、2−ヒドロキシオクタン酸等の炭
素数2〜28のオキシカルボン酸、コハク酸、フマル
酸、マレイン酸、マロン酸、1,3−プロパンジカルボ
ン酸等の炭素数2〜12のジカルボン酸;ステアリン
酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、イソステアリン酸、
リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の炭素数10
〜24のモノカルボン酸、アスパラギン酸、アスパラギ
ン、グリシン、グルタミン酸、グルタミン、γ−アミノ
酪酸、アルギニン、システイン、アラニン等のアミノ
酸;コハク酸オクチル、マレイン酸メチル等のジカルボ
ン酸モノエステル及び一般式(5)
【0053】
【化16】
【0054】で表わされるステリン誘導体が挙げられ
る。
る。
【0055】上記ステリン誘導体としては、一般式
(5)中に、lが2〜5のものが、RYはヘキサデケニ
ル、オクタデケニルが、RZ はコレステリル、シトステ
リルが好ましい。かかる(B)成分の有機酸としては、
グリコール酸、乳酸、クエン酸、コハク酸、ステリン誘
導体が特に好ましい。
(5)中に、lが2〜5のものが、RYはヘキサデケニ
ル、オクタデケニルが、RZ はコレステリル、シトステ
リルが好ましい。かかる(B)成分の有機酸としては、
グリコール酸、乳酸、クエン酸、コハク酸、ステリン誘
導体が特に好ましい。
【0056】また、(B)成分の有機酸の塩としては、
特に制限されないが、例えば乳酸、クエン酸、コハク酸
の塩が挙げられ有機酸が塩基性基を有する場合は、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の酸付加塩が挙げられ
る。
特に制限されないが、例えば乳酸、クエン酸、コハク酸
の塩が挙げられ有機酸が塩基性基を有する場合は、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の酸付加塩が挙げられ
る。
【0057】更に、本発明の化粧料には、ポリオールを
併用することが好ましい。かかるポリオールとしては、
グリセリン、1,3−ブチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、1,3−プロパンジオール、ソルビット、ポ
リオキシアルキレンアルキルグルコシドが挙げられ、こ
のうちグリセリン、1,3−プロパンジオールが好まし
い。
併用することが好ましい。かかるポリオールとしては、
グリセリン、1,3−ブチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、1,3−プロパンジオール、ソルビット、ポ
リオキシアルキレンアルキルグルコシドが挙げられ、こ
のうちグリセリン、1,3−プロパンジオールが好まし
い。
【0058】本発明の化粧料において、(A)成分のア
ミド誘導体は、1種を単独で、又は2種以上を組合わせ
て用いることができ、その配合量は、特に制限されない
が、全組成中、0.001〜50重量%(以下、単に
「%」で示す)が好ましく、特に0.1〜20%の範囲
とすることが、角質層の水分保持機能を高め、肌荒れ改
善の面から好ましい。
ミド誘導体は、1種を単独で、又は2種以上を組合わせ
て用いることができ、その配合量は、特に制限されない
が、全組成中、0.001〜50重量%(以下、単に
「%」で示す)が好ましく、特に0.1〜20%の範囲
とすることが、角質層の水分保持機能を高め、肌荒れ改
善の面から好ましい。
【0059】また、本発明の化粧料において、(B)成
分の有機酸又はその塩は、1種を単独で又は2種以上を
組合わせて用いることができ、その配合量は、特に制限
されないが、全組成中、0.00001〜30%が好ま
しく、特に0.001〜20%の範囲とするのが、角質
層の水分保持機能を高め、肌荒れ改善の面から好まし
い。
分の有機酸又はその塩は、1種を単独で又は2種以上を
組合わせて用いることができ、その配合量は、特に制限
されないが、全組成中、0.00001〜30%が好ま
しく、特に0.001〜20%の範囲とするのが、角質
層の水分保持機能を高め、肌荒れ改善の面から好まし
い。
【0060】更に、本発明の化粧料において、ポリオー
ルは1種を単独で又は2種以上を組合わせて用いること
ができ、その配合量は、特に制限されないが、全組成
中、0.001〜50%が好ましく、特に、0.1〜2
0%の範囲とするのが、から好ましい。
ルは1種を単独で又は2種以上を組合わせて用いること
ができ、その配合量は、特に制限されないが、全組成
中、0.001〜50%が好ましく、特に、0.1〜2
0%の範囲とするのが、から好ましい。
【0061】本発明の化粧料は、皮膚外用剤、皮膚化粧
料及び毛髪化粧料を含むものである。皮膚外用剤又は皮
膚化粧料とする場合は、必要に応じて界面活性剤を併用
することができる。界面活性剤としては非イオン界面活
性剤、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤の何れをも
使用できる。非イオン界面活性剤としては、例えばポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセライ
ド、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチ
レンヒマシ油、ホリグリセリン脂肪酸エステル、ショ糖
脂肪酸エステル、グリセリルエーテル等が挙げられる。
その中でも、次の一般式(8):
料及び毛髪化粧料を含むものである。皮膚外用剤又は皮
膚化粧料とする場合は、必要に応じて界面活性剤を併用
することができる。界面活性剤としては非イオン界面活
性剤、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤の何れをも
使用できる。非イオン界面活性剤としては、例えばポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセライ
ド、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチ
レンヒマシ油、ホリグリセリン脂肪酸エステル、ショ糖
脂肪酸エステル、グリセリルエーテル等が挙げられる。
その中でも、次の一般式(8):
【0062】
【化17】
【0063】(式中、R13は炭素数8〜24のアルキル
基を示す。)で表わされるグリセリルエーテル、このう
ちR13が次式(9):
基を示す。)で表わされるグリセリルエーテル、このう
ちR13が次式(9):
【0064】
【化18】
【0065】(式中、pは4〜10の整数、qは5〜1
1の整数を示し、p+q=11〜17、q=8を頂点と
する分布を有する。)で表わされるものが特に好まし
い。
1の整数を示し、p+q=11〜17、q=8を頂点と
する分布を有する。)で表わされるものが特に好まし
い。
【0066】また、アニオン界面活性剤としては、直鎖
又は分岐鎖のアルキルベンゼンスルホン酸塩、直鎖又は
分岐鎖のアルキル又はアルケニルエーテル硫酸塩、アル
キル基又はアルケニル基を有するアルキル又はアルケニ
ル硫酸塩、オレフィンスルホン酸塩、アルカンスルホン
酸塩、不飽和脂肪酸塩、アルキル又はアルケニルエーテ
ルカルボン酸塩、アルキル基又はアルケニル基を有する
α−スルホ脂肪酸塩又はエステル、アシル基及び遊離カ
ルボン酸残基を有するN−アシルアミノ酸型界面活性
剤、アルキル基又はアルケニル基を有するリン酸モノ又
はジエステル型界面活性剤等が挙げられる。両性イオン
界面活性剤としては、アルキル基、アルケニル基又はア
シル基を有するイミダゾリン系両性界面活性剤、カルボ
ベタイン系、アミドベタイン系、スルホベタイン系、ヒ
ドロキシスルホベタイン系又はアミドスルホベタイン系
両性界面活性剤等が挙げられる。
又は分岐鎖のアルキルベンゼンスルホン酸塩、直鎖又は
分岐鎖のアルキル又はアルケニルエーテル硫酸塩、アル
キル基又はアルケニル基を有するアルキル又はアルケニ
ル硫酸塩、オレフィンスルホン酸塩、アルカンスルホン
酸塩、不飽和脂肪酸塩、アルキル又はアルケニルエーテ
ルカルボン酸塩、アルキル基又はアルケニル基を有する
α−スルホ脂肪酸塩又はエステル、アシル基及び遊離カ
ルボン酸残基を有するN−アシルアミノ酸型界面活性
剤、アルキル基又はアルケニル基を有するリン酸モノ又
はジエステル型界面活性剤等が挙げられる。両性イオン
界面活性剤としては、アルキル基、アルケニル基又はア
シル基を有するイミダゾリン系両性界面活性剤、カルボ
ベタイン系、アミドベタイン系、スルホベタイン系、ヒ
ドロキシスルホベタイン系又はアミドスルホベタイン系
両性界面活性剤等が挙げられる。
【0067】本発明の皮膚外用剤又は皮膚化粧料におい
て、界面活性剤の配合量は、全組成の0.01〜20
%、特に0.1〜5%が好ましい。
て、界面活性剤の配合量は、全組成の0.01〜20
%、特に0.1〜5%が好ましい。
【0068】皮膚外用剤としては、例えば薬効成分を含
有する各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤として
は、油性基剤をベースとするもの、油/水、水/油型の
乳化系基剤をベースとするもののいずれであってもよ
い。油性基剤としては、特に制限はなく、例えば植物
油、動物油、合成油、脂肪酸及び天然又は合成のグリセ
ライド等が挙げられる。また薬効成分としては、特に制
限はなく、例えば鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌消毒剤、収
斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応じて適宜使
用することができる。
有する各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤として
は、油性基剤をベースとするもの、油/水、水/油型の
乳化系基剤をベースとするもののいずれであってもよ
い。油性基剤としては、特に制限はなく、例えば植物
油、動物油、合成油、脂肪酸及び天然又は合成のグリセ
ライド等が挙げられる。また薬効成分としては、特に制
限はなく、例えば鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌消毒剤、収
斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応じて適宜使
用することができる。
【0069】また、化粧料として使用する場合は、必須
成分の他に化粧料成分として一般に使用されている油
分、保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール類、キレート
剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料等を任意に組合わせて
配合することができる。
成分の他に化粧料成分として一般に使用されている油
分、保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール類、キレート
剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料等を任意に組合わせて
配合することができる。
【0070】化粧料としては、種々の形態、例えば水/
油、油/水型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧
水、油性化粧料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄剤
等の皮膚化粧料とすることができる。
油、油/水型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧
水、油性化粧料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄剤
等の皮膚化粧料とすることができる。
【0071】本発明の毛髪化粧料において、(A)成分
及び(B)成分の配合量は、特に制限されるものではな
いが、シャンプー等にあっては0.001〜5%、リン
ス、トリートメント、コンディショナー等にあっては
0.1〜20%、ヘアリキッド、ヘアトニック等にあっ
ては0.01〜5%程度配合することが好ましい。
及び(B)成分の配合量は、特に制限されるものではな
いが、シャンプー等にあっては0.001〜5%、リン
ス、トリートメント、コンディショナー等にあっては
0.1〜20%、ヘアリキッド、ヘアトニック等にあっ
ては0.01〜5%程度配合することが好ましい。
【0072】本発明の毛髪化粧料としては、これがシャ
ンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリ
ートメント等であるときに配合される界面活性剤として
は、アニオン界面活性剤、両性イオン界面活性剤、非イ
オン界面活性剤及びカチオン界面活性剤が挙げられる。
アニオン界面活性剤及び両性イオン界面活性剤として
は、前記皮膚外用剤に配合するものと同様のものが例示
される。非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチ
レンアルキル又はアルケニルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン
アルキル又はアルケニルエーテル、ポリオキシブチレン
アルキル又はアルケニルエーテル、エチレンオキサイド
とプロピレンオキサイド又はエチレンオキサイドとブチ
レンオキサイドを付加した非イオン界面活性剤、高級脂
肪酸アルカノールアミド又はそのアルキレンオキサイド
付加物、ショ糖脂肪酸エステル、脂肪酸グリセリンモノ
エステル、アルキルアミンオキサイド等が挙げられる。
カチオン界面活性剤としては、モノ−又はジ−長鎖アル
キル第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
ンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリ
ートメント等であるときに配合される界面活性剤として
は、アニオン界面活性剤、両性イオン界面活性剤、非イ
オン界面活性剤及びカチオン界面活性剤が挙げられる。
アニオン界面活性剤及び両性イオン界面活性剤として
は、前記皮膚外用剤に配合するものと同様のものが例示
される。非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチ
レンアルキル又はアルケニルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン
アルキル又はアルケニルエーテル、ポリオキシブチレン
アルキル又はアルケニルエーテル、エチレンオキサイド
とプロピレンオキサイド又はエチレンオキサイドとブチ
レンオキサイドを付加した非イオン界面活性剤、高級脂
肪酸アルカノールアミド又はそのアルキレンオキサイド
付加物、ショ糖脂肪酸エステル、脂肪酸グリセリンモノ
エステル、アルキルアミンオキサイド等が挙げられる。
カチオン界面活性剤としては、モノ−又はジ−長鎖アル
キル第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
【0073】これらの界面活性剤のアニオン性残基の対
イオンとしてはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属
イオン、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金
属イオン、アンモニウムイオン、炭素数2又は3のアル
カノール基を1〜3個有するアルカノールアミン(例え
ばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン、トリイソプロパノールアミンなど)を
挙げることができる。また、カチオン性残基の対イオン
としては塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンイオン及びメ
トサルフェート、サッカリネートイオンを挙げることが
できる。
イオンとしてはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属
イオン、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金
属イオン、アンモニウムイオン、炭素数2又は3のアル
カノール基を1〜3個有するアルカノールアミン(例え
ばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン、トリイソプロパノールアミンなど)を
挙げることができる。また、カチオン性残基の対イオン
としては塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンイオン及びメ
トサルフェート、サッカリネートイオンを挙げることが
できる。
【0074】シャンプー等においては、これらの界面活
性剤のうち、特にアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫
酸塩、オレフィンスルホン酸塩等のアニオン界面活性剤
が主活性剤として好ましい。好適な例としてはポリオキ
シエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム(エチレン
オキサイド平均2〜3モル付加)、ラウリル硫酸トリエ
タノールアミン、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム
(平均炭素数12〜14)等が挙げられる。
性剤のうち、特にアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫
酸塩、オレフィンスルホン酸塩等のアニオン界面活性剤
が主活性剤として好ましい。好適な例としてはポリオキ
シエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム(エチレン
オキサイド平均2〜3モル付加)、ラウリル硫酸トリエ
タノールアミン、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム
(平均炭素数12〜14)等が挙げられる。
【0075】これらの界面活性剤は、シャンプー等にお
いては、組成物中に合計量で5〜30%、好ましくは1
0〜20%の範囲で、また、ヘアリンス、ヘアトリート
メント、ヘアコンディショナー等においては非イオン界
面活性剤又はカチオン界面活性剤を組成物中に0.1〜
50%、好ましくは0.5〜20%の範囲で配合され
る。
いては、組成物中に合計量で5〜30%、好ましくは1
0〜20%の範囲で、また、ヘアリンス、ヘアトリート
メント、ヘアコンディショナー等においては非イオン界
面活性剤又はカチオン界面活性剤を組成物中に0.1〜
50%、好ましくは0.5〜20%の範囲で配合され
る。
【0076】また、毛髪化粧料がヘアリンス、ヘアトリ
ートメント、ヘアコンディショナーである場合には、更
に毛髪に良好な感触を付与するため長鎖アルキル四級ア
ンモニウム塩及び油脂類を配合することができる。長鎖
アルキル四級アンモニウム塩の例としては、次の一般式
(10):
ートメント、ヘアコンディショナーである場合には、更
に毛髪に良好な感触を付与するため長鎖アルキル四級ア
ンモニウム塩及び油脂類を配合することができる。長鎖
アルキル四級アンモニウム塩の例としては、次の一般式
(10):
【0077】
【化19】
【0078】(式中、R14〜R17の1又は2個は炭素数
8〜24の直鎖又は分岐長鎖アルキル基を、残余は炭素
数1〜3のアルキル若しくはヒドロキシアルキル基又は
ベンジル基を示し、Xはハロゲン原子又は炭素数1若し
くは2のアルキル硫酸基を示す。)で表わされる長鎖ア
ルキル四級アンモニウム塩が挙げられ、これらは一種又
は二主以上使用される。上記式(10)で表わされる長
鎖アルキル四級アンモニウム塩のうち、長鎖アルキル基
が分岐鎖であるものは分岐高級脂肪酸又は分岐高級アル
コールを原料として、公知の方法によって合成される。
これらの原料は天然物でも合成品でもよく、天然原料と
してはイソ酸、アンテイソ酸等のラノリン脂肪酸、フア
ルネソール等のテルペンアルコール等が、また合成原料
としてはオレフィンを原料としてオキソ法で得られるオ
キソアルコール、あるいはアルコール、アルデヒドを原
料としてゲルベ縮合又はアルドール縮合で得られるゲル
ベアルコール、2−アルキルアルカノール等が挙げられ
る。例えば、オキソアルコールの場合には、原料がα−
オレフィンのときは生成する高級アルコールの分岐率は
小さく、内部オレフィンのときは当該分岐率は大きくな
り、また分岐オレフィンのときは当該分岐率は100%
となる。
8〜24の直鎖又は分岐長鎖アルキル基を、残余は炭素
数1〜3のアルキル若しくはヒドロキシアルキル基又は
ベンジル基を示し、Xはハロゲン原子又は炭素数1若し
くは2のアルキル硫酸基を示す。)で表わされる長鎖ア
ルキル四級アンモニウム塩が挙げられ、これらは一種又
は二主以上使用される。上記式(10)で表わされる長
鎖アルキル四級アンモニウム塩のうち、長鎖アルキル基
が分岐鎖であるものは分岐高級脂肪酸又は分岐高級アル
コールを原料として、公知の方法によって合成される。
これらの原料は天然物でも合成品でもよく、天然原料と
してはイソ酸、アンテイソ酸等のラノリン脂肪酸、フア
ルネソール等のテルペンアルコール等が、また合成原料
としてはオレフィンを原料としてオキソ法で得られるオ
キソアルコール、あるいはアルコール、アルデヒドを原
料としてゲルベ縮合又はアルドール縮合で得られるゲル
ベアルコール、2−アルキルアルカノール等が挙げられ
る。例えば、オキソアルコールの場合には、原料がα−
オレフィンのときは生成する高級アルコールの分岐率は
小さく、内部オレフィンのときは当該分岐率は大きくな
り、また分岐オレフィンのときは当該分岐率は100%
となる。
【0079】これらの分岐型長鎖アルキル四級アンモニ
ウム塩の中でも、その分岐アルキル基が次の一般式(1
1):
ウム塩の中でも、その分岐アルキル基が次の一般式(1
1):
【0080】
【化20】
【0081】(式中、R18は炭素数5〜13の直鎖アル
キル基を示す。)で表わされる2−メチルアルキル基が
好ましく、好ましい具体例としては、例えば2−メチル
オクチル、2−メチルデシル、2−メチルウンデシル、
2−メチルドデシル、2−メチルトリデシル、2−メチ
ルテトラデシル、2−メチルヘプタデシル基等が挙げら
れる。これらの2−メチルアルキル基は通常オキソアル
コールに由来するものであり、当該オキソアルコールは
一般に直鎖アルコールとの混合物として得られる。
キル基を示す。)で表わされる2−メチルアルキル基が
好ましく、好ましい具体例としては、例えば2−メチル
オクチル、2−メチルデシル、2−メチルウンデシル、
2−メチルドデシル、2−メチルトリデシル、2−メチ
ルテトラデシル、2−メチルヘプタデシル基等が挙げら
れる。これらの2−メチルアルキル基は通常オキソアル
コールに由来するものであり、当該オキソアルコールは
一般に直鎖アルコールとの混合物として得られる。
【0082】これら分岐アルキル基を有する分岐型長鎖
アルキル四級アンモニウム塩としては、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロリド、ジアルキルジメチルアンモ
ニウムクロリド、アルキルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロリド、アルキルトリメチルアンモニウムブロミ
ド、アルキルトリメチルアンモニウムメトサルフェー
ト、ジアルキルメチルヒドロキシメチルクロリド等が挙
げられる。その中でも特に好ましいものは式(11)で
表わされる2−メチルアルキル基を有するものであり、
例えば2−メチルデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、2−メチルドデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、2−メチルテトラデシルアンモニウムクロリド等の
分岐型モノ−長鎖アルキル四級アンモニウム塩;2−メ
チルデシルウンデシルジメチルアンモニウムクロリド、
2−メチルドデシルトリデシルジメチルアンモニウムク
ロリド、2−メチルテトラデシルペンタデシルジメチル
アンモニウムクロリド等の一方の長鎖アルキル基が分岐
している分岐型ジ−長鎖アルキル四級アンモニウム塩;
及びジ(2−メチルデシル)ジメチルアンモニウムクロ
リド、ジ(2−メチルドデシル)ジメチルアンモニウム
クロリド、ジ−(2−メチルテトラデシル)ジメチルア
ンモニウムクロリド等の両方の長鎖アルキル基が分岐し
ている分岐型ジ−長鎖アルキルアンモニウム塩が挙げら
れる。
アルキル四級アンモニウム塩としては、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロリド、ジアルキルジメチルアンモ
ニウムクロリド、アルキルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロリド、アルキルトリメチルアンモニウムブロミ
ド、アルキルトリメチルアンモニウムメトサルフェー
ト、ジアルキルメチルヒドロキシメチルクロリド等が挙
げられる。その中でも特に好ましいものは式(11)で
表わされる2−メチルアルキル基を有するものであり、
例えば2−メチルデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、2−メチルドデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、2−メチルテトラデシルアンモニウムクロリド等の
分岐型モノ−長鎖アルキル四級アンモニウム塩;2−メ
チルデシルウンデシルジメチルアンモニウムクロリド、
2−メチルドデシルトリデシルジメチルアンモニウムク
ロリド、2−メチルテトラデシルペンタデシルジメチル
アンモニウムクロリド等の一方の長鎖アルキル基が分岐
している分岐型ジ−長鎖アルキル四級アンモニウム塩;
及びジ(2−メチルデシル)ジメチルアンモニウムクロ
リド、ジ(2−メチルドデシル)ジメチルアンモニウム
クロリド、ジ−(2−メチルテトラデシル)ジメチルア
ンモニウムクロリド等の両方の長鎖アルキル基が分岐し
ている分岐型ジ−長鎖アルキルアンモニウム塩が挙げら
れる。
【0083】また、長鎖アルキル基が直鎖であるものの
例としては、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オク
タデシル、エイコサニル基等が挙げられる。
例としては、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オク
タデシル、エイコサニル基等が挙げられる。
【0084】また、油脂類としては、一般に用いられて
いるものを使用することができ、例えば流動パラフィ
ン、グリセリド、高級アルコール、ラノリン誘導体、エ
ステル類、高級脂肪酸等が挙げられる。グリセリドとし
ては炭素数12〜24の飽和又は不飽和の直鎖又は分岐
鎖の脂肪酸由来のモノグリセリドが使用される。これら
の油脂類の中で、炭素数12〜26の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を有する高級アルコールが
特に好ましく、その好ましい具体例としては、セチルア
ルコール、ステアリルアルコール、アラキンアルコー
ル、ベヘニルアルコール、カラナービルアルコール、セ
リルアルコール等が挙げられる。
いるものを使用することができ、例えば流動パラフィ
ン、グリセリド、高級アルコール、ラノリン誘導体、エ
ステル類、高級脂肪酸等が挙げられる。グリセリドとし
ては炭素数12〜24の飽和又は不飽和の直鎖又は分岐
鎖の脂肪酸由来のモノグリセリドが使用される。これら
の油脂類の中で、炭素数12〜26の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を有する高級アルコールが
特に好ましく、その好ましい具体例としては、セチルア
ルコール、ステアリルアルコール、アラキンアルコー
ル、ベヘニルアルコール、カラナービルアルコール、セ
リルアルコール等が挙げられる。
【0085】これら長鎖アルキル四級アンモニウム塩及
び油脂類の好ましい配合量は、それぞれ0.01〜20
%及び0.1〜30%である。
び油脂類の好ましい配合量は、それぞれ0.01〜20
%及び0.1〜30%である。
【0086】更に、毛髪化粧料がヘアリキッド、ヘアト
ニック等である場合は、非イオン界面活性剤を併用する
こともできる。この非イオン性界面活性剤としては、前
記皮膚外用剤に配合するものと同様のものが例示され
る。
ニック等である場合は、非イオン界面活性剤を併用する
こともできる。この非イオン性界面活性剤としては、前
記皮膚外用剤に配合するものと同様のものが例示され
る。
【0087】上記非イオン界面活性剤は、全組成中、
0.01〜20%、特に0.1〜5%配合することが好
ましい。
0.01〜20%、特に0.1〜5%配合することが好
ましい。
【0088】成分(A)及び成分(B)又は、更にポリ
オールを配合した本発明の毛髪化粧料は、水溶液、エタ
ノール溶液、エマルジョン、サスペンジョン、ゲル、固
型、エアゾール、粉末等の剤型とすることができ、特に
制限はない。また、必要に応じ、上記成分の他に化粧料
成分として前記皮膚化粧料に配合するものと同様の成分
を配合することができる。
オールを配合した本発明の毛髪化粧料は、水溶液、エタ
ノール溶液、エマルジョン、サスペンジョン、ゲル、固
型、エアゾール、粉末等の剤型とすることができ、特に
制限はない。また、必要に応じ、上記成分の他に化粧料
成分として前記皮膚化粧料に配合するものと同様の成分
を配合することができる。
【0089】
【発明の効果】本発明の皮膚外用剤は、優れた水分保持
能力を示す。また、肌荒れや炎症を予防・治療し、皮膚
の老化を予防する。また本発明の毛髪化粧料は優れた毛
髪及び頭皮の保護・維持性能を有し、毛髪の感触を向上
させる。
能力を示す。また、肌荒れや炎症を予防・治療し、皮膚
の老化を予防する。また本発明の毛髪化粧料は優れた毛
髪及び頭皮の保護・維持性能を有し、毛髪の感触を向上
させる。
【0090】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。な
お、本実施例における肌荒れ改善効果についての評価方
法を以下に示す。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。な
お、本実施例における肌荒れ改善効果についての評価方
法を以下に示す。
【0091】(試験方法)冬期に頬部に肌荒れを起こし
ている20〜50才の女性10名を被験者とし、左右の
頬に異なる皮膚外用剤を2週間塗布する。2週間の塗布
が終了した翌日に次の項目につき試験を行った。
ている20〜50才の女性10名を被験者とし、左右の
頬に異なる皮膚外用剤を2週間塗布する。2週間の塗布
が終了した翌日に次の項目につき試験を行った。
【0092】(1)皮膚コンダクタンス 37℃の温水にて洗顔後、温度20℃、湿度40%の部
屋で20分間安静にした後、角質層の水分含有量を皮膚
コンダクタンスメータ(IBS社製)にて測定した。コ
ンダクタンス値は値が小さいほど皮膚は肌荒れしてお
り、5以下ではひどい肌荒れである。一方この値が20
以上であれば肌荒れはほとんど認められない。
屋で20分間安静にした後、角質層の水分含有量を皮膚
コンダクタンスメータ(IBS社製)にて測定した。コ
ンダクタンス値は値が小さいほど皮膚は肌荒れしてお
り、5以下ではひどい肌荒れである。一方この値が20
以上であれば肌荒れはほとんど認められない。
【0093】(2)肌荒れスコア 肌荒れを肉眼で観測し、下記基準により判定した。スコ
アは平均値で示した。
アは平均値で示した。
【0094】 0:肌荒れを認めない 1:かすかな肌荒れを認める 2:肌荒れを認める 3:ややひどい肌荒れを認める 4:ひどい肌荒れを認める
【0095】実施例1 次に示す組成のO/W型クリームを調製し、それぞれに
ついて連続塗布による肌荒れ改善効果の評価を行った。
使用したアミド誘導体の構造、有機酸又はその塩及びポ
リオールならびに配合量を表1〜4に示し、肌荒れ改善
効果の評価結果を表6に示す。
ついて連続塗布による肌荒れ改善効果の評価を行った。
使用したアミド誘導体の構造、有機酸又はその塩及びポ
リオールならびに配合量を表1〜4に示し、肌荒れ改善
効果の評価結果を表6に示す。
【0096】
【表1】
【0097】
【表2】
【0098】
【表3】
【0099】
【表4】
【0100】
【表5】 (組成) (%) (1)アミド誘導体(表1〜4) 表1〜4 (2)有機酸及び塩(表1〜4) 表1〜4 (3)ポリオール(表1〜4) 表1〜4 (4)ポリオキシエチレン(10)硬化ヒマシ油 1.0 (5)モノステアリン酸ソルビタン 0.5 (6)ステアロイルメチルタウリンナトリウム 0.5 (7)ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム 0.5 (8)コレステロール 1.3 (9)セトステアリルアルコール 2.0 (10)コレステリルイソステアレート 1.0 (11)スクワラン 2.0 (12)ジカプリン酸ネオペンチルグリコール 8.0 (13)メチルポリシロキサン*1 4.0 (14)環状シリコーン*2 4.0 (15)防腐剤 適量 (16)精製水 残量 (17)エタノール 3.0(18)香料 適量 100 *1:シリコーンKF96A(6cs),信越化学工業社製 *2:シリコーンSH-244,SH-245又はSH-244とSH-245の3:2(重量比)混合物 ,東レ・ダウコーニング・シリコーン社製
【0101】(製法)油相成分〔(1)、(4)、
(5)、(7)〜(14)、(2)は化合物によっては
水相〕を80℃で加熱溶解したものに攪拌しながら80
℃に加熱した水相成分〔(3)、(6)、(15)、
(16)〕を加えて乳化した後、50℃まで攪拌冷却
し、次いで〔(17)、(18)〕を加え、更に攪拌し
ながら室温まで冷却し、O/Wクリームを調製した。
(5)、(7)〜(14)、(2)は化合物によっては
水相〕を80℃で加熱溶解したものに攪拌しながら80
℃に加熱した水相成分〔(3)、(6)、(15)、
(16)〕を加えて乳化した後、50℃まで攪拌冷却
し、次いで〔(17)、(18)〕を加え、更に攪拌し
ながら室温まで冷却し、O/Wクリームを調製した。
【0102】
【表6】
【0103】実施例2 以下に示す組成のW/Oクリームを調製した。これは角
質層の水分保持能力を改善し、肌荒れを予防及び治癒す
る効果に優れるものであった。
質層の水分保持能力を改善し、肌荒れを予防及び治癒す
る効果に優れるものであった。
【0104】
【表7】 (組成) (%) (1)アミド誘導体(表1〜4における本発明品1) 3.5 (2)クエン酸 0.5 (3)グリセリン 1.0 (4)コレステロール 0.5 (5)コレステリルイソステアレート 0.5 (6)ポリエーテル変性シリコーン*4 2.0 (7)環状シリコーン*5 20.0 (8)メチルフェニルポリシロキサン*6 5.0 (9)硫酸マグネシウム 0.5 (10)精製水 残量 (11)防腐剤 適量(12)香料 適量 100 *4:シリコーンKF-6015,信越化学工業社製 *5:シリコーンSH-244とSH-245の3:2(重量比)混合物, 東レ・ダウコーニング・シリコーン社製 *6:シリコーンSF-557,東レ・ダウコーニング・シリコーン社製
【0105】(製法)油相成分〔(1)、(4)〜
(6)、(8)〕を80℃で加熱溶解したものに、攪拌
しながら80℃に加熱した水相成分〔(2)、(3)、
(9)〜(11)〕を加えて乳化した後、50℃まで攪
拌冷却後(7)、(12)を加え、更に攪拌しながら室
温まで冷却し、W/Oクリームを調製した。
(6)、(8)〕を80℃で加熱溶解したものに、攪拌
しながら80℃に加熱した水相成分〔(2)、(3)、
(9)〜(11)〕を加えて乳化した後、50℃まで攪
拌冷却後(7)、(12)を加え、更に攪拌しながら室
温まで冷却し、W/Oクリームを調製した。
【0106】実施例3 以下に示す組成のヘアトニックを調製した。これは角質
層の水分保持能力を改善し、毛髪及び頭皮を保護し、毛
髪の感触が良かった。
層の水分保持能力を改善し、毛髪及び頭皮を保護し、毛
髪の感触が良かった。
【0107】
【表8】 (組成) (%) (1)アミド誘導体(表1〜4における本発明品1) 1.0 (2)ステリン誘導体*7 1.0 (3)1,3−ブチレングリコール 3.0 (4)ピロリドンカルボン酸−アルミニウム塩 0.5 (5)エタノール 55.0 (6)水 残量(7)香料 適量 100 *7:一般式(5)中、l=2、Rz =コレステリル
【0108】(製法)(6)に攪拌下、(1)、(2)
を均一に分散させ、次いで(3)、(4)、(5)、
(7)を加えよく混合してヘアトニックを調製した。
を均一に分散させ、次いで(3)、(4)、(5)、
(7)を加えよく混合してヘアトニックを調製した。
Claims (7)
- 【請求項1】 次の成分(A)及び(B): (A)次の一般式(1)、(2)、(3)及び(4) 【化1】 (式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜4
0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、炭素数1〜
12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−
ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただし、R3 が
単結合のときはR4 は水素原子である。) 【化2】 (式中、R1aは炭素数4〜40のヒドロキシル化されて
いてもよい炭化水素基を示し、R3aは炭素数3〜6の直
鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示し、R4aは炭素数
1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基を示す。) 【化3】 (式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜4
0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、R3aは炭素数3〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基を示し、R4aは炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖
のアルコキシ基を示す。) 【化4】 (式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜4
0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、R4bは水素原子、炭素数1〜
12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−
エポキシプロピルオキシ基を示す。ただし、R3 が単結
合のときR4bは水素原子である。)で表わされるアミド
誘導体から選ばれる1種又は2種以上 (B)有機酸又はその塩、を含有することを特徴とする
化粧料。 - 【請求項2】 成分(B)の有機酸がグリコール酸、乳
酸、クエン酸、2−ヒドロキシオクタン酸、コハク酸、
フマル酸、マレイン酸、マロン酸、1,3−プロパンジ
カルボン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン
酸、イソステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、アラ
キドン酸、アスパラギン酸、アスパラギン、グリシン、
グルタミン酸、グルタミン、γ−アミノ酪酸、アルギニ
ン、システイン、アラニン、ジカルボン酸モノエステル
及び一般式(5) 【化5】 で表わされるステリン誘導体から選ばれる1種又は2種
以上である請求項1記載の化粧料。 - 【請求項3】 更にポリオールを含有する請求項1又は
2記載の化粧料。 - 【請求項4】 ポリオールがグリセリン、1,3−ブチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、ソルビット及びポリオキシアルキレンアル
キルグルコシドから選ばれる1種又は2種以上である請
求項3記載の化粧料。 - 【請求項5】 成分(A)を0.001〜50重量%、
成分(B)を0.00001〜30重量%を含有する請
求項1又は2記載の化粧料。 - 【請求項6】 皮膚化粧料である請求項1〜5のいずれ
か1項記載の化粧料。 - 【請求項7】 毛髪化粧料である請求項1〜5のいずれ
か1項記載の化粧料。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26742295A JP3526355B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 化粧料 |
| TW085112531A TW453881B (en) | 1995-10-16 | 1996-10-14 | Cosmetic composition comprising amide derivatives |
| EP96933648A EP0805674B1 (en) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Skin and hair cosmetic compositions |
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| CN96191220A CN1115143C (zh) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | 化妆品组合物 |
| PCT/JP1996/002982 WO1997014401A1 (en) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Skin and hair cosmetic compositions |
| DE69626629T DE69626629T2 (de) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Kosmetisches haut-und haarpflegemittel |
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|---|---|---|---|
| JP26742295A JP3526355B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 化粧料 |
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|---|---|
| JPH09110667A true JPH09110667A (ja) | 1997-04-28 |
| JP3526355B2 JP3526355B2 (ja) | 2004-05-10 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26742295A Expired - Fee Related JP3526355B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 化粧料 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3526355B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001002553A (ja) * | 1999-06-23 | 2001-01-09 | Kose Corp | 水中油型乳化化粧料 |
| JP2016222586A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 花王株式会社 | 頭皮用化粧料 |
| CN115010949A (zh) * | 2022-07-12 | 2022-09-06 | 华熙生物科技股份有限公司 | 促渗物、护肤品组合物以及化妆品 |
-
1995
- 1995-10-16 JP JP26742295A patent/JP3526355B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001002553A (ja) * | 1999-06-23 | 2001-01-09 | Kose Corp | 水中油型乳化化粧料 |
| JP2016222586A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 花王株式会社 | 頭皮用化粧料 |
| CN115010949A (zh) * | 2022-07-12 | 2022-09-06 | 华熙生物科技股份有限公司 | 促渗物、护肤品组合物以及化妆品 |
| CN115010949B (zh) * | 2022-07-12 | 2024-02-13 | 华熙生物科技股份有限公司 | 促渗物、护肤品组合物以及化妆品 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3526355B2 (ja) | 2004-05-10 |
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