JPH0911131A - 研掃対象物の研掃方法 - Google Patents

研掃対象物の研掃方法

Info

Publication number
JPH0911131A
JPH0911131A JP17968695A JP17968695A JPH0911131A JP H0911131 A JPH0911131 A JP H0911131A JP 17968695 A JP17968695 A JP 17968695A JP 17968695 A JP17968695 A JP 17968695A JP H0911131 A JPH0911131 A JP H0911131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
blast
dry ice
active agent
gel
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17968695A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2632142B2 (ja
Inventor
Hiroshi Okanoe
宏 岡上
Takashi Kosugi
峻 小杉
Yukiyoshi Matsushita
幸義 松下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sho Bond Corp
Original Assignee
Sho Bond Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sho Bond Corp filed Critical Sho Bond Corp
Priority to JP17968695A priority Critical patent/JP2632142B2/ja
Publication of JPH0911131A publication Critical patent/JPH0911131A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2632142B2 publication Critical patent/JP2632142B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 研掃対象物の表面に付着している錆、油脂、
その他の汚れ等の汚染物質を除去する方法に関し、特に
ドライアイス粒を用いたドライブラスト法において、研
掃効果を高め、かつ、研掃対象物から生ずる粉塵を除去
することを目的とする。 【構成】 研掃対象物の表面にドライアイス粒と界面活
性剤混合物のゲル状物とを混合して投射することにより
行う研掃対象物の研掃方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、構造物等の研掃対象物
の表面に付着している錆、油脂、その他の汚れ等の汚染
物質を除去する研掃方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から多用されている研掃方法として
は、グラインダー法、サンダー法等の動力工具法、ワイ
ヤーブラシ法等の手動工具法、サンドブラスト法、ショ
ットブラスト法等のブラスト法及び高圧水洗法等々があ
る。このうち、ブラスト法は代表的な研掃方法の一つで
優れた効果を有している。
【0003】しかしながら、ブラスト法の欠点は、研掃
対象物の表面に鋼粒、砂粒、樹脂等の研掃材を投射する
方法であるため、研掃材や研掃対象物の粉砕材等の粒塵
が問題となる。
【0004】そこで、かかる問題点を除去するための方
法として、ドライアイス粒を研掃材として研掃対象物の
表面に投射する方法が出現した。この方法によれば、投
射されたドライアイス粒は、こののち昇華して気体(炭
酸ガス)となるので、研掃材そのものによる粉塵の発生
は極めて少ない。そのため研掃対象物から生じる粉塵に
ついて考慮すればよい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ドライ
アイス粒は、その硬度が鋼粒、砂粒等に比べて低いの
で、研掃範囲は限られてしまう。たとえば、鋼材面の場
合、黒錆、ミルスケールは除去しにくく、コンクリート
面の場合はトンネル内面等の頑固な排気ガスの沈着は除
去しにくい。そこで、ドライアイス粒の硬度の低さを補
うため、鋼粒や砂粒等の研掃材の併用も考えられるが、
やはり研掃材そのものの粉塵が問題となる。本発明は、
このような課題を以下述べるところにより解決しようと
するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、研掃対象物の
表面の研掃を研掃対象物の表面にドライアイス粒と界面
活性剤の混合物のゲル状物とを混合して投射することに
より行い、上記課題を解決しようとするものである。
【0007】
【作用】上記手段において、研掃対象物の表面にドライ
アイス粒と界面活性剤の混合物のゲル状物とを混合して
投射を行うと、ドライアイス粒による物理的な研掃効果
と界面活性剤による化学的な洗浄効果とが相乗して研掃
対象物の表面の頑固な汚れも除去される。また、研掃に
よって生じる研掃対象物からの粉塵は、界面活性剤の混
合物のゲル状物に吸収されて除去される。
【0008】
【実施例】つぎに、本発明の実施例を図に基いて説明す
る。図1は研掃方法の一例を示すものである。1はブラ
スト装置で、ブラスト装置1は、ドライアイス粒噴射ガ
ン2と界面活性剤混合物のゲル状物の噴射部3とこれを
空気圧にて噴射させるエアーホース4とからなってい
る。
【0009】研掃対象物5の表面へのドライアイス粒と
界面活性剤混合物のゲル状物の投射は、ドライアイス粒
がドライアイス粒噴射ガン2の作動により、界面活性剤
混合物のゲル状物の投射は、界面活性剤混合物のゲル状
物の噴射部3とエアーホース4との作動により行われ
る。このとき、ドライアイス粒と界面活性剤混合物のゲ
ル状物の混合は、噴出口で行う。かくしてドライアイス
粒と界面活性剤混合物のゲル状物との混合物を投射する
ことによる研掃対象物の表面の研掃が実施される。
【0010】この実施例では、ドライアイス粒と界面活
性剤混合物のゲル状物との混合は噴出口で行っている
が、はじめから混合して噴出してもよいことはもちろん
である。
【0011】なお、本発明は、従来のブラスト法におけ
る研掃材である鋼粒、砂粒等を併用しないことを原則と
するが、これらを併用することを妨げるものではない。
【0012】
【発明の効果】本発明は、上述のようにしてなるのでつ
ぎの効果を有する。本発明は、研掃対象物の表面に、ド
ライアイス粒と界面活性剤の混合物のゲル状物とを混合
して投射することにより研掃対象物の表面を研掃する方
法なので、ドライアイス粒による物理的な研掃効果と界
面活性剤による化学的な洗浄効果が相乗して研掃対象物
の表面の頑固な汚れを除去することができる。したがっ
て、鋼粒や砂粒等の研掃材を用いることなくドライアイ
ス粒の硬度の低さを充分に補うことができる。また、研
掃によって研掃物から生じる粉塵は、界面活性剤の混合
物のゲル状物に吸収されて除去されるので、粉塵除去の
ための排水の発生がない。本発明は、このように優れた
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
1 ブラスト装置 2 ドライアイス粒噴射ガン 3 界面活性剤混合物のゲル状物噴射部 4 エアーホース 5 研掃対象物

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研掃対象物の表面にドライアイス粒と界
    面活性剤混合物のゲル状物とを混合して投射することに
    より、研掃対象物の表面を研掃することを特徴とする研
    掃対象物の研掃方法。
JP17968695A 1995-06-23 1995-06-23 研掃対象物の研掃方法 Expired - Fee Related JP2632142B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17968695A JP2632142B2 (ja) 1995-06-23 1995-06-23 研掃対象物の研掃方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17968695A JP2632142B2 (ja) 1995-06-23 1995-06-23 研掃対象物の研掃方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0911131A true JPH0911131A (ja) 1997-01-14
JP2632142B2 JP2632142B2 (ja) 1997-07-23

Family

ID=16070105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17968695A Expired - Fee Related JP2632142B2 (ja) 1995-06-23 1995-06-23 研掃対象物の研掃方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2632142B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6558473B2 (en) * 2000-12-05 2003-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Dry ice cleaning method, dry ice cleaning apparatus, and part or unit cleaned by dry ice

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6558473B2 (en) * 2000-12-05 2003-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Dry ice cleaning method, dry ice cleaning apparatus, and part or unit cleaned by dry ice

Also Published As

Publication number Publication date
JP2632142B2 (ja) 1997-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102447790B1 (ko) Cmp 동안의 인 시튜 부산물 제거 및 플래튼 냉각을 위한 시스템 및 프로세스
KR100789358B1 (ko) 연마장치의 연마면 세정방법 및 세정장치
US6994612B2 (en) Methods for conditioning surfaces of polishing pads after chemical-mechanical polishing
KR20110105772A (ko) 실리콘 전극 연마를 용이하게 하는 플래튼 및 어댑터 어셈블리
JP6384758B2 (ja) 付着物除去方法
JP2632141B2 (ja) 研掃方法
JPH0483567A (ja) 飛翔体を用いた清掃方法および清掃装置
US20030216112A1 (en) Cleaning device and method for cleaning polishing cloths used for polishing semiconductor wafers
US20100018029A1 (en) Rinsing Wafers Using Composition-Tunable Rinse Water in Chemical Mechanical Polish
JP2001237204A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2632142B2 (ja) 研掃対象物の研掃方法
JP2004106100A (ja) 表面清浄処理装置及びその方法
CN110625528B (zh) 一种抛光垫的修整装置及修整方法
JPH10244458A (ja) 研磨パッドのドレッシング装置
TWI768329B (zh) 半導體晶圓之物理乾式表面處理方法及其表面處理用組成物
JP2006218553A (ja) 研磨パッドのドレッシング方法
KR100744222B1 (ko) 화학적 기계적 연마 시스템
JPH11291155A (ja) 脆性材料研磨用定盤の掃除方法及びその装置並びに研磨装置
JP2001150348A (ja) 鋼管内面のスケール除去方法及び装置
JPH04206725A (ja) 半導体ウェーハの洗浄方法及び装置
JP3139616B2 (ja) 研磨パッドのドレッシング装置
JPH0698575B2 (ja) 床面の研掃方法
JP2002001249A (ja) コンクリート構造物表面処理システム
JPH06297334A (ja) 管壁面研掃方法及び装置
KR100914694B1 (ko) 정반세정장치

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970128

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080425

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425

Year of fee payment: 13

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425

Year of fee payment: 13

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425

Year of fee payment: 14

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120425

Year of fee payment: 15

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees